CN103619209A - 毛发去除和再生抑制装置 - Google Patents

Abstract

一种毛发去除和再生抑制装置（10），该装置包括：控制回路（70）；毛发去除和抑制头（20）；扩展器组件（23），其偶联到所述毛发去除和抑制头（20）上，并远离头（20）的壁朝向端部延伸，扩展器组件在其端部处从所述毛发去除和抑制头（20）壁中去除的开口（17）；辐照元件（40），其固定到头（20）上并响应于所述控制回路（70）；反射器（90），其设置在头（20）上，在辐照元件（40）和头（20）之间；以及切割元件（110），其固定到头（20）上，并布置成当开口（17）与具有从皮肤向外延伸的毛发（150）的皮肤部分（140）并置时便切割毛发，其中，反射器（90）布置成基本上反射朝向开口（17）输出的电磁辐射。可供选择的是，辐照元件（40）在第一和第二位置之间规则地平移，以加热和切割毛发而不损害皮肤。

Description

毛发去除和再生抑制装置

相关申请的交互参照

本申请要求对以下两专利申请的优先权益：2011年6月22日提交的美国临时专利申请S/N61/499,714，其题为“修改的家庭用的去毛发装置”；以及2011年6月22日提交的美国临时专利申请S/N61/499,713，其题为“毛发处理和去毛发装置”，本文以参见方式引入各专利的全部内容。

技术领域

本发明总的涉及毛发去除和再生抑制的领域，其使用加热元件，并可供选择地附加提供辐射元件来提高光热分解作用。

背景技术

从身体上去除不希望的毛发可用机械手段来实现，例如，剃毛器、镊子或石蜡，所有这些方法用起来不舒服，刺激皮肤和/或损伤皮肤。另一种去除毛发的形式是将毛发生长加热到足以切断毛发的温度，然而，去除毛发的装置涉及到热量问题，过度的热量会有损伤皮肤的危险。2004年11月30日发表的授予Shalev等人的美国专利6,825,445致力于一种电剃毛器，其包括发热器和一个或多个加热到足以切断毛发的温度的加热元件，发热器布置成防止在足够长时间将热量连续地施加到单一区域上而致使皮肤损伤，本文以参见方式引入该专利的全部内容。

2007年1月30日发表的授予Shalev等人的美国专利7,170,034致力于一种电剃毛器，其包括加热到足以切断毛发的温度的加热元件，加热元件的加热是脉冲的，以防止在足够长时间将热量连续地施加到单一区域上而致使皮肤损伤，本文以参见方式引入该专利的全部内容。

2007年4月10日发表的授予Shalev等人的美国专利7,202,446致力于一种电剃毛器，其包括加热到能够切断毛发的温度的细长元件和其上安装有细长元件的振动结构，该振动结构布置成防止皮肤受损伤，本文以参见方式引入该专利的全部内容。

2009年8月20日出版的授予Shalev等人的美国专利申请公开S/N2009/0205208致力于一种毛发切除器，其包括探测器、毛发切割去除和抑制头和控制器，该探测器适于探测布置成切割毛发的剃毛器加热丝的运动，毛发切割去除和抑制头具有适于加热从皮肤生长出的毛发和切割毛发的加热丝，控制器布置成：响应于探测到运动或没有探测到运动，在毛发切割位置和缩回位置之间移动该毛发切割去除和抑制头。

已经知道，加热毛发小囊会影响毛发生长率。经验表明，反复使用基于热量的毛发去除装置，诸如由纽约州Orangeburg市Radiancy公司出品的一些certain no!

产品，会显著地降低毛发生长率。尽管毛发生长率通过上述产品得以降低，但毛发生长率的降低只是副产物，因此不是最佳的。

在2001年出版的“外科和医学中的激光”杂志中，由G.B.Altshuler等人所著的文章描述了选择性光热分解理论和选择性光热分解的拓展性理论。根据选择性光热分解理论，用合适波长和脉冲时间的电磁辐射（EMR）来辐照皮肤，导致目标结构永久性热损伤，而留出周围组织完好无损。当施加到毛发小囊上时，所施加的EMR的脉冲宽度比毛发小囊的热松弛时间短得多，因此，导致毛发小囊内产生的热量不流出，直到毛发小囊变得完全损坏为止，同时使周围表皮的损伤减到最小。

选择性光热分解的拓展性理论表明，应选择EMR波长，使着色区域的吸收系数和目标周围组织的吸收系数之间的反差最大。此外，应限制EMR功率，防止着色区域内的吸收损失，同时确保有颜色区域的温度足以达到高于目标损伤温度。最后，脉冲宽度应小于或等于热损伤时间（TDT），这里，TDT被定义为目标不可逆的损坏而保护周围组织无损所需要的时间。应指出的是，TDT可显著地大于全部目标的TRT。

有可能希望使选择性光热分解理论的某些方面适合改进毛发切割和剃毛装置的结果。

发明内容

因此，本发明的主要目的是克服现有技术的至少某些缺点。在某些实施例中，这是通过提供一体化的装置来达到，该装置包括剃毛器，剃毛器使用切割元件和辐照元件，该辐照元件布置成辐照皮肤部分，近红外辐射提供到毛发小囊或靠近小囊的内皮肤层，而没有因过度热量而损伤外皮肤层。在一个实施例中，切割元件是加热元件，而在另一实施例中，切割元件和辐照元件被提供为一体的元件。

在一个独立的实施例中，能够使用毛发去除和再生抑制装置，该装置包括：控制回路；至少一个固定到外壳上的去除和抑制头；至少一个扩展器组件，其偶联到至少一个去除和抑制头上，并远离至少一个去除和抑制头的壁延伸，该至少一个扩展器组件在其端部处限定从至少一个去除和抑制头壁中去除的开口；至少一个辐照元件，其固定到至少一个去除和抑制头上并响应于控制回路；至少一个反射器，其固定到至少一个去除和抑制头，该至少一个辐照元件设置在至少一个反射器和开口之间；以及至少一个切割元件，其固定到至少一个去除和抑制头，并布置成当开口与具有从皮肤向外延伸的毛发的皮肤部分并置时便切割毛发，其中，至少一个反射器布置成基本上朝向开口反射从至少一个辐照元件输出的电磁辐射。

在一个实施例中，毛发去除和再生抑制装置还包括与控制回路连通的运动传感器，其中，控制回路布置成：响应于由运动传感器探测到的相对运动，控制至少一个辐照元件的输出。在另一实施例中，毛发去除和再生抑制装置还包括与控制回路连通的运动传感器，其中，控制回路布置成：响应于由运动传感器探测到的比第一预定值大的相对运动速率，使至少一个辐照元件工作，而响应于由运动传感器探测到的比第二预定值小的相对运动速率，使至少一个辐照元件不工作。

在一个实施例中，毛发去除和再生抑制装置还包括与控制回路连通的运动传感器，其中，控制回路布置成：响应于由运动传感器探测到的相对运动，控制由至少一个辐照元件输出的辐照量。在另一实施例中，毛发去除和再生抑制装置还包括运动传感器，其中，至少一个切割元件包括丝和带之一种，其中，控制回路布置成：响应于由运动传感器探测到的比第三预定值大的相对运动速率，便提供功率将至少一个切割元件加热到足以切割毛发的温度，而响应于由运动传感器探测到的比第四预定值小的相对运动速率，便停止对至少一个切割元件提供功率。在另一实施例中，足以切割毛发的温度是400°-1900℃。

在一个实施例中，外壳显现有排热口，允许热量从辐照元件输出到外壳周围的环境空气中。在另一实施例中，至少一个辐照元件是细长矩形的立方形。

在一个实施例中，至少一个辐照元件是细长的圆柱形。在另一实施例中，至少一个切割元件是刀片和加热元件之一种。

在一个实施例中，至少一个反射器布置成：大量反射在1000纳米处接收到的辐射的至少98％。在另一实施例中，至少一个辐照元件布置成输出电磁能，在500-5000纳米之间的光谱内显现为其能量的至少95％。在另一实施例中，至少一个辐照元件布置成输出电磁能，在500-1000纳米之间的光谱内显现为小于其能量的10％。

在一个实施例中，至少一个辐照元件布置成输出功率在0.5-20瓦之间的电磁能。在另一实施例中，至少一个辐照元件布置成输出功率在1-10瓦之间的电磁能。

在一个实施例中，控制回路布置成提供功率来加热至少一个辐照元件，其中，由至少一个辐照元件输出的辐射响应于至少一个辐照元件的加热。在另一实施例中，根据权利要求1所述的毛发去除和再生抑制装置还包括至少一个固定到外壳上的平移机构，其中，至少一个去除和抑制头的开口布置成与皮肤表面并置，其中，至少一个平移结构布置成在第一位置和第二位置之间平移以下中的至少一个：至少一个去除和抑制头和至少一个切割元件，该第一位置比第二位置更靠近皮肤表面；其中，控制回路布置成控制至少一个平移机构，以在第一和第二位置之间有规则地平移至少一个切割元件。

在另一实施例中，至少一个平移机构还布置成在第三位置和第四位置之间平移至少一个辐照元件，该第三位置比第四位置更靠近皮肤表面；其中，控制回路布置成控制至少一个平移机构，以在第三和第四位置之间有规则地平移至少一个辐照元件。在还有另一实施例中。控制回路还布置成提供功率到至少一个辐照元件，以将该至少一个辐照元件加热到一温度，使得至少一个辐照元件输出辐射，将辐照元件定期地放置在第三位置中持续一定的时间，这样，多次平移到第三位置辐照与开口并置的皮肤部分。

在另一实施例中，控制回路还布置成提供功率到至少一个切割元件，以将该至少一个切割元件加热到一温度，将至少一个切割元件定期地放置在第一位置中持续一定的时间，这样，多次平移到第一位置切割通过开口突出出来的毛发。在还有另一实施例中，至少一个切割元件是细长矩形的立方形。

在还有另一实施例中，毛发去除和再生抑制装置还包括与控制回路连通的运动传感器，其中，控制回路布置成：响应于由运动传感器探测到的相对运动，控制至少一个切割元件规则平移的速率。在另一实施例中，毛发去除和再生抑制装置还包括与控制回路连通的运动传感器，其中，控制回路布置成：响应于由运动传感器探测到的比第一预定值大的相对运动速率，便能使至少一个切割元件有规则地平移，而响应于由运动传感器探测到的比第二预定值小的相对运动速率，便停止至少一个切割元件的规则平移。

在另一实施例中，毛发去除和再生抑制装置还包括与控制回路连通的运动传感器，其中，控制回路布置成：响应于由运动传感器探测到的相对运动，控制至少一个切割元件的工作循环。在另一实施例中，控制回路还布置成提供功率到至少一个切割元件，以将该至少一个切割元件加热到一温度，其中，由至少一个切割元件输出的温度是400°-1900℃。在还有另一实施例中，由至少一个切割元件输出的温度是1000°-1900℃。

在另一实施例中，第一位置中的至少一个切割元件和与至少一个扩展器组件的开口并置的皮肤表面之间的距离小于3mm。在还有另一实施例中，第一位置中的至少一个切割元件和与至少一个扩展器组件的开口并置的皮肤表面之间的距离在0.1-1mm之间。

在另一实施例中，第一位置中的至少一个切割元件接触与至少一个扩展器组件的开口并置的皮肤表面。在另一实施例中，处于第一位置中的至少一个切割元件的工作循环大于50％。

在另一实施例中，处于第一位置中的至少一个切割元件的工作循环约为60％。在还有另一实施例中，相对于开口，第一位置和第二位置之间的距离是2和20mm之间。

在另一实施例中，相对于开口，处理位置和冷却位置之间的距离是5mm。在另一实施例中，规则平移到第一位置的频率是2和2000Hz之间。在还有另一实施例中，规则平移到第一位置的频率是约5Hz。

在另一实施例中，将至少一个辐照元件和至少一个切割元件设置为至少一个一体的辐照和切割元件。在还有另一实施例中，至少一个一体的辐照和切割元件包括多个一体的辐照和切割元件，其中，至少一个反射器包括多个反射器，每个一体的辐照和切割元件设置这些反射器的具体一个和开口之间，其中，至少一个平移机构包括多个平移机构，每个平移机构布置成在第一位置和第二位置之间平移这些一体的辐照和切割元件的具体一个。

在还有另一实施例中，至少一个去除和抑制头包括多个去除和抑制头，其中，至少一个扩展器组件包括多个扩展器组件，每个组件偶联到这些去除和抑制头的具体一个上，其中，每个一体的辐照和切割元件固定到这些去除和抑制头的具体一个上，其中，每个反射器固定到去除和抑制头的具体一个上。

在另一独立实施例中，提供一种毛发去除和再生抑制的方法，该方法包括：用电磁辐射辐照皮肤表面的一部分；提供反射器，其布置成基本上朝向皮肤表面的那部分反射电磁辐射；以及同时地切割从皮肤表面的部分突出出来的毛发，由此在皮肤表面部分上提供毛发的去除和长时间的毛发生长缩减，其中，辐射包括：用电磁辐射直接辐照皮肤表面的部分；以及用电磁辐射辐照所提供的反射器，以朝向皮肤表面的部分反射。

在一个实施例中，该方法还包括：提供去除和抑制头；以及探测该去除和抑制头的相对运动，其中，辐照是响应于探测到的相对运动。在另一实施例中，该方法还包括：提供去除和抑制头以及探测所提供的去除和抑制头的相对运动速率，其中，辐照皮肤表面的部分是响应于探测到的大于第一预定值的相对运动速率而开始，且响应于探测到的小于第二预定值的相对运动速率而停止。

在一个实施例中，该方法还包括：提供去除和抑制头；以及探测所提供的去除和抑制头的相对运动速率，其中，辐照皮肤表面的部分的辐射量是响应于所探测到的相对运动速率。在另一实施例中，该方法还包括：提供去除和抑制头；以及探测所提供的去除和抑制头的相对运动速率，其中，切割毛发包括对毛发提供热量，使其温度足以切割毛发，其中，提供热量是响应于所探测到的大于第三预定值的相对运动速率而开始，并响应于所探测到的小于第四预定值的相对运动速率而停止。在另一实施例中，足以切割毛发的温度是400-1900℃。

在一个实施例中，该方法还包括从皮肤表面部分排除热量。在另一实施例中，电磁辐射在500和5000纳米之间的波长光谱内显现出其能量的至少95%。

在一个实施例中，电磁辐射在500和1000纳米之间的波长光谱内显现出小于其能量的10%。在另一实施例中，该方法还包括加热辐射元件，其中，辐射是响应于该加热。

在另一实施例中，该方法还包括：在相对于皮肤表面的部分的第一位置和相对于皮肤表面的部分的第二位置之间，规则地平移辐射元件，其中，皮肤表面的部分和处于第一位置的辐射元件之间的距离，小于皮肤表面的部分和处于第二位置的辐射元件之间的距离。在另一实施例中，切割包括对皮肤表面的部分提供热量，其中，所提供的热量使所达到的温度足以切割从皮肤表面的部分突出出来的毛发。

在还有另一实施例中，该方法还包括：提供去除和抑制头；以及探测所提供的去除和抑制头的相对运动速率，其中，辐照元件的规则平移的速率是响应于所探测到的相对运动。在还有另一实施例中，该方法还包括：提供去除和抑制头；以及探测所提供的去除和抑制头的相对运动速率，其中，辐射元件的规则平移是响应于所探测到的大于第一预定值的相对运动速率而开始，并响应于所探测到的小于第二预定值的相对运动速率而停止。

在还有另一实施例中，该方法还包括：提供去除和抑制头；以及探测所提供的去除和抑制头的相对运动速率，其中，辐射元件平移到第一位置中而显示工作循环，该工作循环是响应于探测到的相对运动速率。在还有另一实施例中，辐射元件平移到第一位置中加热而显示工作循环，该工作循环大于50%。

在还有另一实施例中，工作循环约为60%。在还有另一实施例中，规则平移到第一位置中的频率是在2-2000Hz之间。在还有另一实施例中，规则平移到第一位置中的频率约是5Hz。

从以下的附图和描述中，将会明白到其他附加的特征和优点。

附图说明

为了更好地理解本发明和显示如何可实施本发明，现将参照附图，附图纯粹是借助于实例，在附图中，相同的附图标记通篇表示对应的元件或部分。

现详细参照附图，应该强调的是，所示的特点仅是举例而已，目的只是在于说明性地讨论本发明的优选实施例，并在提供被认为是最有用的且容易理解本发明原理的描述和本发明概念方面的过程中，呈现出这些特点。在这一点上，并不企图超过基本理解本发明所必需的详细程度来显示本发明结构的细节，结合附图所作的描述，使本技术领域内技术人员明白如何可在实践中实施本发明的几种形式。在附图中：

图1A-1G示出根据某些实施例的毛发去除和再生长抑制装置各种部件的多个视图，该装置包括辐射元件和切割元件；

图2A示出图1A-1G的毛发去除和再生长抑制装置的高位侧视剖视图，该装置还包括根据某些实施例的规则平移机构；

图2B示出图表，显示图2A的毛发去除和再生长抑制装置对表皮和毛发小囊温度的作用；

图3A-3D示出毛发去除和再生长抑制装置的各种高位侧视剖视图，该装置包括根据某些实施例的平移反射器；

图4A-4B示出毛发去除和再生长抑制装置的各种高位侧视剖视图，该装置具有根据某些实施例的固定反射器；

图5A-5B示出毛发去除和再生长抑制装置的各种高位侧视剖视图，该装置包括根据某些实施例的辐射元件和切割元件，还包括用于各个元件的分开的平移机构；

图6示出毛发去除和再生长抑制装置的高位侧视剖视图，该装置包括根据某些实施例的固定辐射元件、切割元件和平移机构，该平移机构布置成使切割元件平移在第一与第二位置之间；

图7A-7B示出毛发去除和再生长抑制装置的各种高位侧视剖视图，该装置包括多个辐射和切割元件以及多个平移机构；

图8A示出毛发去除和再生长抑制装置的高位侧视剖视图，该装置包括多个辐射和切割元件、多个平移机构和排热口；

图8B示出一图表，该图表描述图8A的毛发去除和再生长抑制装置的运行；

图9示出毛发去除和再生长抑制装置的高位侧视剖视图，该装置包括多个辐射和切割元件、多个平移机构以及单个的去除和抑制头；

图10示出毛发去除和再生长抑制装置运行的第一方法的高位流程图，该装置包括根据某些实施例的辐射元件、反射器以及切割元件；

图11示出毛发去除和再生长抑制装置运行的第二方法的高位流程图，该方法包括图10的某些阶段；

图12示出毛发去除和再生长抑制方法的高位流程图，根据某些实施例，该方法包括辐照一部分的皮肤表面和切割从皮肤表面突出出来的毛发；

图13示出毛发去除和再生长抑制方法的高位流程图，根据某些实施例，该方法包括规则地加热和冷却一部分皮肤表面。

具体实施方式

在详细解释本发明至少一个实施例之前，应该理解到，本发明不局限于其应用于以下描述中所阐述或附图中所图示的部件的构造和布置细节。本发明适用于其他实施例，或以各种方式实践或实施。还有，应该理解到，文中所用的词汇和术语只是为了描述而已，不应认为是限制的。

图1A-1G示出毛发去除和再生长抑制装置10的各种部件的多个视图。具体来说，图1A-1C各示出毛发去除和再生长抑制装置10的去除和抑制头20的立体图；图1D-1F各示出毛发去除和再生长抑制装置10的高位侧视剖视图；以及图1G示出根据某些实施例的辐射元件40和反射器90的立体图。图1D还示出毛发去除和再生长抑制装置10的某些电气部件的高位示意图。图1A-1G将一起进行描述。毛发去除和再生长抑制装置10包括：外壳15，其呈现有开口17；用户输入装置18；用户报警装置19；呈现有壁22的去除和抑制头20；扩展器组件23，其由一对臂25组成，扩展器组件23呈现有第一端27、第二端29和纵向端28；电源30；辐照元件40；一对第一连接器50；驱动器60；控制回路70；运动传感器80；反射器90；一对第二连接器100；切割元件110；以及驱动器120。

在一非限制性实施例中，用户输入装置18包括推钮/触摸屏和开关之一种。在一非限制性实施例中，用户报警装置19包括LED、声音报警和屏幕显示器之一种。在一个实施例中，扩展器组件23显现出低的热导率。在一个实施例中，扩展器组件23由陶瓷材料组成。在一个实施例中，扩展器组件23的纵向端28包括多个齿，由此提供最小的表面面积。在一个实施例中，扩展器组件23的内面24由反射材料组成，反射材料布置成基本上反射显现波长为500-5000nm的EMR。在一个实施例中，每个面24由氧化铝构成，在另一个实施例中，氧化铝的纯度在90-99.5%之间。在一个实施例中，每个面24的反射率在1000nm时至少为98%。在一个实施例中，每个面24的反射表面基本上是光滑的。在一个实施例中，电源30布置成通过电源线连接到电力线上。在一个实施例中，电源30是可充电电源。

在一个实施例中，辐照元件40包括线缆。在另一个实施例中，辐照元件40包括带子。在一个实施例中，辐照元件40包括镍铬合金。在另一实施例中，辐照元件40包括镍铬耐热合金。在另一实施例中，辐照元件40包括二硅化钼合金。在另一实施例中，辐照元件40包括铁素体铁-铬-铝合金。在一个实施例中，辐照元件40布置成输出EMR，EMR在500-5000nm的光谱内显现其能量的约95%，在一具体实施例中，EMR在500-1000nm的光谱内显现小于其能量的10%。在一个实施例中，在波长1000nm附近，输出的EMR显现其能量的约95%。在一个实施例中，辐照元件40布置成：响应于流过其中的合适电流而加热到400℃-1900℃的温度。在一个具体实施例中，辐照元件布置成加热到1000℃-1900℃的温度。在另一个实施例中，辐照元件40布置成：响应于流过其中的合适电流而加热到约1900℃的温度。在另一实施例中，辐照元件40布置成加热到大于1900℃的温度。在一个实施例中，辐照元件40是细长的方形立方体形。在另一实施例中，辐照元件40是细长的矩形立方体形。在一个实施例中，辐照元件40的长度是其宽度的1-100倍。在一个具体的实施例中，辐照元件40的长度是其宽度的5倍。在另一实施例中，辐照元件40的长度是其宽度的100倍以上。在另一实施例中，如图1D所示，辐照元件40是圆柱形。

在一个实施例中，第一连接器对50的第一连接器和第二连接器对100的第一连接器由单一一体的连接器组成，而第一连接器对50的第二连接器和第二连接器对100的第二连接器由单一一体的连接器组成。

在一个实施例中，将驱动器60和驱动器120设置为单个驱动器。在一个实施例中，驱动器60是电流驱动器，而在另一实施例中，驱动器60是电压驱动器。在一个实施例中，驱动器120是电流驱动器，而在另一实施例中，驱动器120是电压驱动器。在一个实施例中，运动传感器80包括多种标准运动传感器中的任何一种，包括但不限于：光学传感器、磁传感器、机械传感器，以及超声传感器。在一个具体的实施例中，运动传感器80包括滚子，滚子布置成与皮肤表面相接触。控制回路70布置成：计算外壳15沿着皮肤表面140响应于运动传感器80的相对运动速率。在一个实施例中，如图1D所示，反射器90是细长的凹入形。在另一个实施例中，如图1E所示，反射器90是细长v形。在另一个实施例中，反射器90是细长敞开梯形。在另一个实施例中，反射器90是细长抛物线形。

在一个实施例中，反射器90由反射材料构成，反射材料布置成基本上反射呈现500-5000nm波长的EMR。在一个实施例中，反射器90由氧化铝构成，在另一个实施例中，氧化铝的纯度在90-99.5%之间。在一个实施例中，反射器90的反射率在1000nm时至少为98%。在一个实施例中，反射器90的反射表面基本上是光滑的。在一个实施例中，反射器90的热导率约为35W/mK°，因此提供优良的传热特性。

在一个实施例中，切割元件110包括细长形的丝。在另一个实施例中，切割元件110包括带子。在另一个实施例中，切割元件110包括镍铬合金。在一个实施例中，切割元件110包括镍铬耐热合金。在另一实施例中，辐照元件40包括二硅化钼合金。在另一实施例中，辐照元件40包括铁素体铁-铬-铝合金。在一个实施例中，切割元件110布置成：响应于流过其中的合适电流而加热到400℃-1900℃的温度。在一个具体实施例中，切割元件110布置成：响应于流过其中的合适电流而加热到1000℃-1900℃的温度。可供选择的是，提供热传感器（未示出）与切割元件110连通，将热传感器的输出反馈到控制回路70。在如此的实施例中，控制回路70布置成：保持对切割元件110温度的监督控制并防止切割元件110温度超过预定的最大值，可供选择的是，还确保在运行过程中切割元件110的温度不下落到低于预定最小值。

扩展器组件23从去除和抑制头20的壁22上的特定部位向外朝向纵向端28延伸，并布置成与皮肤表面的一部分相遇。在一个实施例中，扩展器组件23由一对平行臂25组成，平行臂25彼此移位，使内表面24彼此面对。平行臂25形成纵向端28之间的开口26。在一个实施例中（未示出），扩展器组件23包括封闭物的相对壁，该封闭物从去除和抑制头20的前壁22向外朝向纵向端28延伸。

第一连接器50中的一个连接器从去除和抑制头20的前壁22向外延伸，面向第一端27处的平行臂25之间的开口。第一连接器50中的另一个连接器从去除和抑制头20的前壁22向外延伸，面向第二端29处的平行臂25之间的开口。第二连接器100中的一个连接器从去除和抑制头20的前壁22向外延伸，面向第一端27处的平行臂25之间的开口。第二连接器100中的另一个连接器从去除和抑制头20向外延伸，面向第二端29处的平行臂25之间的开口。

辐照元件40的每一端连接到具体的第一连接器50。在一个实施例中，其中，辐照元件40是细长的矩形立方体形，辐照元件40面向去除和抑制头20的壁22的边缘以及平行于其的边缘，比平行于所述平行臂25的边缘狭窄。在另一实施例（未示出）中，其中，辐照元件40是细长的矩形立方体形，辐照元件40面向去除和抑制头20的壁22的边缘以及平行于其的边缘，比平行于所述平行臂25的边缘宽。在一个实施例中，辐照元件40和开口26之间的距离在0.1-80mm之间。在一个实施例中，反射器90设置在去除和抑制头20上，介于平行臂25之间并相对于壁22固定。在一个实施例中，反射器90的壁延伸通过辐照元件40朝向开口26。在一个实施例中，提供多个反射器90并设置在平行臂25的面24上。

切割元件110的每端连接到具体的第二连接器100。在一个实施例中，切割元件110位于辐照元件40和开口26之间。在一个实施例中，切割元件110沿着去除和抑制头20的壁22的方向从开口26位移不到5mm，在一个具体实施例中，位移小于3mm。在一非限制性实施例中，辐照元件40和切割元件110在垂直于开口26的平面内彼此平行。

在一个实施例中，电源30、驱动器60、控制回路70以及驱动器120位于外壳15内。去除和抑制头20位于由开口17形成的外壳15的腔穴16内，使去除和抑制头20的开口26面向外壳15的开口17。控制回路70的第一输入连接到运动传感器80的输出，而控制回路70的第二输入连接到电源30的输出。驱动器60的电源输入连接到电源30的相应输出，驱动器60的控制输入连接到控制回路70的相应输出。驱动器60的输出连接到辐照元件40。在一个实施例中，驱动器60通过成对的第一连接器50连接到辐照元件40。驱动器120（未示出）的电源输入连接到电源30的相应的输出，而驱动器120的控制输入连接到控制回路70的相应的输出。驱动器120的输出连接到切割元件110。在一个实施例中，驱动器120通过成对的第二连接器100连接到切割元件110。用户输入装置18的输出连接到控制回路70的第三输入，用户报警装置19的输入连接到控制回路70相应的输出。

在一个实施例中，去除和抑制头20是这样连接到外壳15的，用户可从外壳15中拆下去除和抑制头20，并用不同的去除和抑制头20来更换。

在运行中，外壳15的一部分开口17与皮肤表面140的部分130并置，在一个实施例中，用户可抓住该外壳15。响应于用户在用户输入装置18处的输入，控制回路70控制驱动器60以驱动电流通过辐照元件40，由此辐照元件40开始产生电磁辐射（EMR），由于对其加热的缘故，辐射是沿多个方向的。在一个实施例中，一部分热量和EMR沿开口26的方向辐射，大部分热量和EMR沿反射器90的方向辐射。EMR沿开口26的大致方向从反射器90反射出。因此，从辐照元件40辐射出的大部分EMR通过开口26到达皮肤表面140的部分130，并辐照毛发小囊和/或皮肤表面140的部分130下方的内皮肤层。穿透皮肤表面140的EMR最好是这样的波长，其布置成被毛发小囊和/或直接在其周围的物质所吸收，由此，加热毛发小囊，同时由表皮得到最小的吸收。在一个实施例中，EMR按照以上提及的有选择的光热分解拓展理论布置，以便充分地加热毛发小囊而造成毛发损坏，同时，限制对表皮的加热而不造成表皮的损伤。在一个实施例中，辐照元件40和反射器90布置成：使由辐照元件40输出的EMR折射，而沿着平行于辐照元件40的直线聚焦在皮肤表面140下方0.5-10mm的深度处。在一个实施例中，辐照元件40和反射器90布置成：使EMR沿着大致垂直于皮肤表面140部分130的直线聚焦，从而最大程度地穿透皮肤和减小EMR离开皮肤表面140的反射。

在一个实施例中，驱动器60布置成驱动辐照元件40输出功率在0.5-20W之间的EMR，在一个具体的实施例中，功率为1-10W之间。在一个实施例中，驱动器60布置成驱动辐照元件40以输出通量在1-10J/cm²之间的EMR，其在开口26处测得，在一个具体的实施例中，该通量约为3J/cm²。

有利的是，如上所述，小于EMR能量的10%是在500-1000nm的光谱内。因此，要限制表皮的加热，因为表皮内的黑色素主要是由小于1000nm的波长加热的。此外，EMR能量的非常小部分是在紫外（UV）光谱内。因此，最小伤害的UV辐射到达皮肤，不需要UV过滤器。此外，波长大于1000nm的辐射，即，红外（IR）辐射，不易从皮肤散射和反射。此外，与波长小于1000nm的辐射相比，IR辐射更好地在皮肤内层被吸收，诸如是在真皮内，那里，有毛发小囊分布。

沿反射器90方向从辐照元件40辐射的热代表着辐照元件40输出的大部分热量，该热量被吸收，由此，在一个实施例中，通过对流而被传导和/或传送通过反射器90。沿扩展器组件23的第一端27和第二端29方向从辐照元件40辐射的热在开口之间退出。因此，辐照元件40辐射的热量仅有一小部分到达皮肤表面140的部分130。尤其是，在辐照元件40是矩形长方体形的实施例中，辐照元件40输出的大部分热量到达反射器90，仅有小部分达到开口26。由于仅有小部分输出的热量到达皮肤表面140的部分130，所以，皮肤任何的温升都受到限制。在一个实施例中，正如下面将要参照图8A和9描述的，设置一个或多个排热口，它们布置成从皮肤表面140排热。

为了执行剃毛或其它的毛发切割，使用者沿着皮肤表面140移动去除和抑制头20。在一个实施例中，响应于运动传感器80的输出，该输出表示外壳15相对于皮肤表面140作相对运动，运动速率大于第一预定最小值，控制回路70布置成：控制驱动器120以驱动电流通过切割元件110，由此，切割元件110产生热量。在一个实施例中，还提供一个机械定位机构（未示出），用来将切割元件110移动到邻近皮肤表面140的位置，可供选择地，移动到离皮肤表面140小于3mm的距离处。在一个实施例中，仅在电流被驱动通过切割元件110时，控制回路70才驱动电流通过辐照元件40。在另一个实施例中，不管运动传感器80的输出，电流被驱动通过辐照元件40。在还有另一个实施例中，响应于运动传感器80检测到的超过第一限值的相对运动速率，驱动电流通过辐照元件40，并响应于运动传感器80检测到的超过第二限值的相对运动速率，驱动电流通过切割元件110，所述第二限值大于第一限值。从皮肤表面140的部分130中突出出来的毛发150接触到切割元件110，毛发被加热的切割元件110切割下来，诸如通过烧毛过程进行切割。有利的是，切割元件110直径足够小，使得由此输出的热量在到达皮肤表面140的部分130之前基本上已经耗散掉。此外，切割元件110的小直径是有利的，可对切割元件110提供低的热质量，因此，在相对运动速率下落到低于预定的运行限值且切割元件110断电时，防止皮肤表面140不希望的烧灼。在一个实施例中，切割元件110直径在10-300μη之间。

在一个实施例中，如果运动传感器80探测到外壳15相对运动速率低于预定限值，那么，控制回路70布置成控制驱动器120停止电流流过切割元件110。可供选择地，同样，驱动器60停止电流通过辐照元件40。在一个优选实施例中，如下面参照图2A-2B将要描述的，去除和抑制头20平移离开皮肤。在另一个实施例中，切割元件110平移离开皮肤，而不平移去除和抑制头20。在一个实施例中，用户报警装置19输出应该增加外壳15相对运动速率的指示。替代地，如上所述，对驱动器60和驱动器120中的每一个提供不同的限值。因此，小于上述第二限值的相对运动速率，导致停止电流流向切割元件110，使切割元件110的运动可供选择地移离皮肤表面140，而小于上述第一限值的相对运动速率，导致停止电流流向辐照元件40，使辐照元件的运动可供选择地移离皮肤表面140。替代地，通过辐照元件40的电流是探测到的相对运动速率的函数，辐照元件40响应于探测到的相对运动速率值提供输出辐照的范围。在一个实施例中，控制电流通过辐照元件40和切割元件110的每一个，这样，当与开口26并置时，皮肤表面140的部分130的温度是40°-46℃。

在另一实施例中，如果运动传感器80没探测到外壳15的运动，或相对运动低于预定的安全阈值，则控制回路70控制驱动器60、120中的一个或两个，以中断电流流过辐照元件40和切割元件110中的相应一个。在一个优选实施例中，如下面参照图2A-2B将要描述的，去除和抑制头20平移离开皮肤。在另一个实施例中，切割元件110平移离开皮肤，而不平移去除和抑制头20。较佳地，如果在某一预定时间段内没有探测到相对运动，则控制回路70布置成控制驱动器60，以中断电流流过辐照元件40，并控制驱动器120以中断电流流过切割元件110。在一个实施例中，用户报警装置19输出应该增加外壳15相对运动速率的指示。

在一个实施例中，控制回路70布置成控制驱动器60以脉冲地驱动电流通过辐照元件40。在实施例中，其中，控制回路70布置成：响应于来自运动传感器探测得到的输入，计算外壳15在皮肤表面140上相对运动的速率，可供选择地，驱动器60的工作循环是探测到的相对运动速率的函数。当外壳15的相对运动速率增加时，驱动器60的工作循环增加，而当外壳15的相对运动速率减小时，驱动器60的工作循环减小。在一个实施例中，调整驱动器60的工作循环，这样，当与开口26并置时，皮肤表面140的部分130的温度是40°-46℃。在一个实施例中，调整驱动器60的工作循环以提供脉冲，其长度是

T=X/V   公式1

其中，X是平行臂25的纵向端28之间的间距，其定义开口26，而V是探测到的外壳15的相对运动速率。

在一个实施例中，控制回路70布置成控制驱动器120以脉冲地驱动电流通过切割元件110。在实施例中，其中，控制回路70布置成：响应于运动传感器80的探测，计算外壳15在皮肤表面140上相对运动的速率，可供选择地，驱动器110的工作循环是探测到的相对运动速率的函数。当外壳15的相对运动速率增加时，驱动器110的工作循环增加，而当外壳15的相对运动速率减小时，驱动器110的工作循环减小。

以上在切割元件110是加热元件的实施例中进行了描述，然而，这绝不意味着限制。在另一个实施例中，切割元件110提供为刀片，在去除和抑制头20相对于毛发运动过程中，刀片布置成切割与其接触的毛发。

图2A示出毛发去除和再生长抑制装置300的高位侧视剖视图，而图2B示出图表，显示毛发去除和再生长抑制装置300在表皮和毛发小囊上运行的结果，其中，x轴代表时间，而y轴代表温度，两轴的单位为任意单位，两图一起进行描述。毛发去除和再生长抑制装置300在所有方面类似于图1A-1E毛发去除和再生长抑制装置10，但毛发去除和再生长抑制装置300还包括平移机构330。在一个实施例中，未提供反射器90。在一个实施例（未示出）中，未提供运动传感器80。为简化起见，用户输入装置18、用户报警装置19、电源30、辐照元件40、驱动器60、控制回路70和驱动器120未予示出。在一非限制性实施例中，平移机构330包括：凸轮350，其显示缩短的半径部分360和伸长的半径部分370；多个弹簧380；以及多个弹簧连接器390。在一个实施例（未示出）中，凸轮350包括多个机械零件，允许调整缩短的半径部分360和伸长的半径部分370。在另一个实施例（未示出）中，平移机构330包括机械摇架。在另一个实施例（未示出）中，平移机构330包括摆动杠杆，其布置成作交替的直线运动。

每个弹簧380通过相应的弹簧连接器390，其一端连接到去除和抑制头20，第二端连接到外壳15。去除和抑制头20的壁21，与去除和抑制头20的壁22相对，并远离外壳15的开口17位移，这样的壁21布置成与凸轮350接触。凸轮350通过电动机（未示出）转动，电动机与控制回路70和电源30连通。

在运行中，外壳15的开口17的一部分与皮肤表面140的部分130并置，在一个实施例中，由使用者抓住外壳15。首先，响应于使用者在用户输入装置18处的输入，凸轮350的伸长半径部分370与去除和抑制头20相接触，由此，去除和抑制头20相对于外壳15的开口17平移到处理位置，处理位置在这里也被称作第一位置。在一个实施例中，在处理位置中，切割元件110和开口17之间的距离h（t）小于3mm，在一个具体的实施例中，该距离为0.1-1mm之间。在另一个实施例中，在处理位置中，切割元件110与外壳15的开口17齐平。控制回路70控制驱动器60和120，以驱动电流分别通过辐照元件40（未示出）和切割元件110。如上所述，从辐照元件40输出热量和EMR，使大部分辐射到达皮肤表面140的部分130并加热其中的毛发小囊。热量从切割元件110输出，如上所述，切割元件110布置成切割与其接触的任何毛发部分。此外，控制回路70布置成控制凸轮350而开始转动。图2B的曲线400代表皮肤表面140的部分130表皮的温度，而图2B的曲线410代表位于皮肤表面140的部分130表皮下面的毛发小囊温度。如曲线400和410所示，毛发小囊的温度上升得快于表皮的温度上升，因此，通过随时间提升温度可影响毛发小囊，而表皮表面所经历的温度上升很低。

在时间T1，当凸轮350转动而使伸长的半径部分370不再与去除和抑制头20相接触时，弹簧380致使去除和抑制头20朝向凸轮350前进，具体地朝向凸轮350的缩短的半径部分360。去除和抑制头20因此从处理位置平移到冷却位置，冷却位置也被称作第二位置，由此增大距离h（t）。在一个实施例中，去除和抑制头20的处理和冷却位置之间的距离是在2-20mm之间，在一具体的实施例中该距离是5mm。在一个实施例中，尽管去除和抑制头20处于冷却位置中，但控制回路70布置成控制电流驱动器120，以停止电流流过切割元件110，由此，允许切割元件110冷却。在一个实施例中，控制回路70布置成控制电流驱动器60，以停止电流流过辐照元件40，由此，允许辐照元件40冷却。如曲线400和410所示，表皮温度下降显著大于毛发小囊的温度下降，因为表皮的热松弛时间显著低于毛发小囊的热松弛时间。

在时间T2，凸轮350完成一周转动而使伸长的半径部分370又与去除和抑制头20相接触，去除和抑制头20朝向外壳15的开口17前进。去除和抑制头20因此平移到处理位置，如上所述，由此，提升皮肤表面140的部分130的毛发小囊和表皮的温度。在流过切割元件110的电流被停止而同时处于冷却位置的实施例中，控制回路70布置成控制电流驱动器120，以在时间T2处，恢复电流流过切割元件110。在流过辐照元件40的电流被停止而同时处于冷却位置的实施例中，控制回路70布置成控制电流驱动器60，以在时间T2处，恢复电流流过辐照元件40。在时间T3处，当凸轮350的伸长半径部分370不再接触去除和抑制头20时，去除和抑制头20又平移到冷却位置。如曲线400和410所示，毛发小囊在时间T3的温度显著高于时间T1的温度，然而，表皮在时间T3的温度不显著高于时间T1的温度。在时间T4处，凸轮350完成第二周的转动，伸长半径部分370又接触去除和抑制头20，去除和抑制头20又如上关于时间T2所述平移到处理位置。在时间T5处，伸长半径部分370不再接触去除和抑制头20，去除和抑制头20又平移到冷却位置，由此，重复如上关于时间T3所述的过程。

有利的是，毛发小囊加热到高的足以损坏的温度，由此降低毛发的生长，同时表皮外部的总体温升不显著，因此不造成表皮任何损伤。此外，通过切割元件110的重复加热作用，与切割元件110接触的毛发150端部被进一步切割。

在一个实施例中，去除和抑制头20每次后续定期平移入处理位置内之间的时间是0.5-500ms之间，在一个具体的实施例中，该定期时间是约200ms。具体来说，在一个实施例中，凸轮350的转动频率在2-2000Hz之间，在一个具体的实施例中，该频率约为5Hz。在一个实施例中，去除和抑制头20的处理位置的工作循环大于50%，即，去除和抑制头20保持在处理位置中的时间量大于去除和抑制头20保持在冷却位置中的时间量。具体来说，凸轮350的伸长半径部分370的周长大于缩短的半径部分360的周长。在一个实施例中，去除和抑制头20的处理位置的工作循环约为60%。在一个优选的实施例中，去除和抑制头20的处理位置的工作循环和凸轮350的转动频率布置成：皮肤表面140的部分130不因过度热量而损伤。

在一个非限制性的实施例中，以上的操作是响应于运动传感器80的输出，该输出表示去除和抑制头20处于运动中，尤其是，相对于皮肤表面140的相对运动，该相对运动速率大于预定最小值。如果运动传感器80探测到外壳15的相对运动速率低于预定限值，则控制回路70控制驱动器60和120，分别停止电流流过辐照元件40和切割元件110。在一个实施例中，控制回路70还布置成：在凸轮的转动使缩短的半径部分360开始与去除和抑制头20接触，因此确保去除和抑制头20处于冷却位置之时，停止凸轮350转动。较佳地，仅当运动传感器80探测到外壳15的相对运动速率低于预定限值（即，安全阈值）以求更长的预定时间周期时，才停止凸轮350的转动和电流流过辐照元件40和切割元件110的流动。在一个具体的实施例中，该预定的限值刚好在零之上，因此，仅在没有探测到相对运动时才发生关闭。

在一个非限制性的实施例中，处理工作循环是所探测到的外壳15相对运动速率的函数。因此，仅在去除和抑制头20处于处理位置的一部分时间内，对辐照元件40通电以提供辐射。这里的处理工作循环应被理解为意指对辐照元件40供电以提供辐射时的去除和抑制头20总循环时间的百分比值。当外壳15的相对运动速率增大时，处理工作循环增加，而当外壳15的相对运动速率减小时，处理工作循环减小。

在一个实施例中，调整去除和抑制头20的工作循环，以在凸轮350的各个循环过程中，去除和抑制头20处于处理位置中的时间量是：

T=Y/V   公式2

其中，Y是去除和抑制头20的开口26的宽度，而V是探测到的外壳15的相对运动速率。具体来说，在一个具体的实施例中，为了调整去除和抑制头20的工作循环，在缩短的半径部分360与去除和抑制头20接触的时间过程中，以及在伸长的半径部分370与去除和抑制头20接触的时间过程中，单独地调整凸轮350的转速。

图3A示出毛发去除和再生长抑制装置500的高位侧视剖视图，该装置包括处于冷却位置中的去除和抑制头20；图3B示出毛发去除和再生长抑制装置500的高位侧视剖视图，该装置包括处于处理位置中的去除和抑制头20；图3C示出毛发去除和再生长抑制装置500的高位侧视剖视图，该装置包括处于冷却位置中的去除和抑制头20，并还示出扩展器组件23的纵向端28的齿；图3D示出毛发去除和再生长抑制装置500的高位侧视剖视图，该装置包括处于处理位置中的去除和抑制头20，并还示出扩展器组件23的纵向端28的齿。毛发去除和再生长抑制装置500在所有方面类似于图2A的毛发去除和再生长抑制装置300，但添加滚子510附连到外壳15上，并在外壳15的开口17与皮肤表面140并置时，滚子布置成与皮肤表面140相接触。为简化起见，平移机构330的细节未予示出。如以上参照图2A-2B所述，去除和抑制头20规则地在处理位置（如图3A和3C所示）和冷却位置（如图3B和3D所示）之间平移。毛发去除和再生长抑制装置500的操作在所有方面类似于图3A的毛发去除和再生长抑制装置300。有利的是，滚子510和扩展器组件23纵向端28的齿允许横贯皮肤表面140较为光滑地运动。此外，扩展器组件23的齿提供扩展器组件23与皮肤表面140减小的表面面积的接触，由此，较少的热量从扩展器组件23传递到皮肤表面140。在图3A-3D的实施例中，辐照元件40的平移关联到切割元件110的平移，然而，这并绝不意味着加以限制。可提供用于各个辐照元件40和切割元件110的独立的平移机构，而不会超出本发明的范围。

图4A示出毛发去除和再生长抑制装置600的高位侧视剖视图，该装置包括处于冷却位置中的去除和抑制头20；图4B示出毛发去除和再生长抑制装置600的高位侧视剖视图，该装置包括处于处理位置中的去除和抑制头20。毛发去除和再生长抑制装置600在所有方面类似于图3A-3D的毛发去除和再生长抑制装置500，例外之处在于，反射器90设置在外壳15上，不是设置在去除和抑制头20上。具体来说，反射器90设置在外壳15面向开口17的壁610上。在一个非限制性的实施例中，反射器90分为两个，让平移机构330定位在该两个半部之间。如上所述，去除和抑制头20规则地平移在处理位置（如图4A所示）和冷却位置（如图4B所示）之间平移。不管去除和抑制头20的位置如何，反射器90总相对于外壳15保持在固定位置中。

图5A示出毛发去除和再生长抑制装置700的高位侧视剖视图，该装置包括处于冷却位置中的去除和抑制头20；图5B示出毛发去除和再生长抑制装置700的高位侧视剖视图，该装置包括处于处理位置中的去除和抑制头20。毛发去除和再生长抑制装置700在所有方面类似于图3A-3B的毛发去除和再生长抑制装置500，例外之处在于，对各个辐照元件40和切割元件110提供分开的平移机构330。毛发去除和再生长抑制装置700的操作在所有方面类似于毛发去除和再生长抑制装置500的操作，例外之处在于，切割元件110独立于去除和抑制头20的平移而平移。在一个实施例中，当去除和抑制头20处于处理位置中时，切割元件110进一步朝向皮肤表面140的部分130平移，以使切割元件110和皮肤表面140之间的距离小于辐照元件40和皮肤表面140之间的距离。在一个实施例中，不管去除和抑制头20的位置如何，切割元件110总保持在离皮肤表面140的部分130小于3mm的距离处。如果运动传感器80探测到外壳15的相对运动小于预定值，则控制回路70布置成控制相应的平移机构330，以使切割元件110远离皮肤表面140平移到如上所述的冷却位置。

图6示出毛发去除和再生长抑制装置800的高位侧视剖视图，该装置包括处于处理位置中的去除和抑制头20。毛发去除和再生长抑制装置800在所有方面类似于图4A-4B的毛发去除和再生长抑制装置600，例外之处在于，辐照元件40相对于外壳15的壁810固定。如上所述，去除和抑制头20规则地平移在处理位置和冷却位置之间。不管去除和抑制头20的位置如何，辐照元件40和反射器90相对于外壳15保持固定。在一个实施例中，不管去除和抑制头20的位置如何，控制回路70布置成控制驱动器60以保持电流流过辐照元件40，由此，皮肤表面140的部分130恒定地得到辐照。

图7A-7B示出毛发去除和再生长抑制装置900的高位侧视剖视图，附图一起进行描述。毛发去除和再生长抑制装置900在所有方面类似于图3A-3B的毛发去除和再生长抑制装置500，例外之处在于，提供一对去除和抑制头20；用辐照和切割元件910代替辐照元件40和切割元件110。对每个去除和抑制头20提供平移机构330，在一个实施例中，其如上关于图2A所述布置。在一个实施例（未示出）中，对每个辐照和切割元件910提供驱动器60，并布置成驱动电流通过其中。在另一个实施例中，仅提供单个驱动器60并布置成驱动电流通过每个辐照和切割元件910。在一个实施例中，如图7A所示，每个反射器90是细长的凹入形。在另一个实施例中，如图7B所示，反射器90是梯形的细长开口。在一个具体的实施例中，该梯形开口形状是具有宽底开口的等腰梯形。

在一个实施例中，辐照和切割元件910包括镍铬合金。在另一个实施例中，辐照和切割元件910包括镍铬耐热合金。在另一实施例中，辐照和切割元件910包括二硅化钼合金。在另一实施例中，辐照和切割元件910包括铁素体铁-铬-铝合金。在一个实施例中，辐照和切割元件910布置成输出EMR，EMR在500-5000nm的光谱内显现其能量的约95%，在一具体实施例中，EMR在500-1000nm的光谱内显现小于其能量的10%。在一个实施例中，在波长1000nm附近，输出的EMR显现其能量的约95%。在一个实施例中，辐照和切割元件910布置成：响应于流过其中的合适电流而加热到400℃-1900℃的温度。在一个特殊的实施例中，辐照和切割元件910布置成加热到1000℃-1900℃的温度。在另一个实施例中，辐照和切割元件910布置成：响应于流过其中的合适电流而加热到约1900℃的温度。在另一实施例中，辐照和切割元件910布置成加热到大于1900℃的温度。

在一个实施例中，辐照和切割元件910是细长的矩形立方体形。在一实施例中，如图7A所示，辐照和切割元件910面向去除和抑制头20的壁22的边缘，以及平行于其的边缘，比平行于平行臂25的边缘宽，如以上参照图1A-1C所描述。在另一个实施例中，如图7B所示，辐照和切割元件910面向去除和抑制头20的壁22的边缘，以及平行于其的边缘，比平行于平行臂25的边缘窄。在一个实施例中，辐照和切割元件910的长度是其宽度的1-100倍。在一个特殊的实施例中，辐照和切割元件910的长度是其宽度的5倍。在另一个实施例中，辐照和切割元件910的长度是其宽度的100倍以上。在另一个实施例中，辐照和切割元件910是圆柱形。在另一个实施例中，辐照和切割元件910是细长的正方形立方形。

在运行中，如上所述，每个去除和抑制头20规则地平移在处理位置和冷却位置之间。在处理位置中，驱动器60布置成驱动电流通过辐照和切割元件910，由此，如以上对于辐照元件40和切割元件110所描述的，辐照皮肤表面140的部分130以及切割从其中突出出来的毛发。在一个实施例中，在冷却位置中，驱动器60布置成停止电流通过辐照和切割元件910。在一个实施例中，去除和抑制头20交替地平移到处理位置，每一个去除和抑制头20仅当另一去除和抑制头20处于冷却位置时才平移到处理位置。在另一个实施例中，两个去除和抑制头20的处理时间，即，各个去除和抑制头20处于处理位置中的时间段，至少部分地重迭。在一个实施例中，两个去除和抑制头20的工作循环（即，各个去除和抑制头20的时间百分比是在处理位置中）是相等的。在一个实施例中，各个去除和抑制头20的工作循环约为60%。在另一个实施例中，各个去除和抑制头20的工作循环小于50%。在一个实施例中，如以上关于图2A-2B的毛发去除和再生抑制装置300所描述的，响应于探测到的外壳15相对运动的速率，控制各个去除和抑制头20的工作循环。在一个实施例中，各个辐照和切割元件910的驱动脉冲时间TK是：

TK=XK/V   公式2

其中，XK是各个辐照和切割元件910的宽度，而V是探测到的外壳15的相对运动速率。在一个实施例中，各个辐照和切割元件910的尺寸和去除和抑制头20的位置布置成：在去除和抑制头20的两个开口26之间存在间隙。有利的是，在间隙与皮肤表面140的部分130并置过程中，即，在部分130不暴露于任一辐照和切割元件910的时间过程中，皮肤表面140的部分130冷却。以上已经在提供两个去除和抑制头20的实施例中进行了描述，然而，这绝不意味着限制，可提供任何数量的去除和抑制头20，而不超越本发明范围。

图8A示出毛发去除和再生长抑制装置1000的高位侧视剖视图，图8B示出描述毛发去除和再生长抑制装置1000运行的图表，其中，x轴代表任意单位的时间，而y轴代表任意单位的皮肤面积，两图一起进行描述。毛发去除和再生长抑制装置1000在所有方面类似于图7A-7B的毛发去除和再生长抑制装置900，例外之处在于：提供四个去除和抑制头20；提供排热口1010，其包括风扇1020；以及提供多个弹簧1030。排热口1010从外壳15的腔16延伸到外壳15外部的环境空气。风扇1020位于排热口1010内。各个弹簧1030的第一端连接到外壳15，各个弹簧1030的第二端连接到特定的去除和抑制头20。毛发去除和再生长抑制装置1000的操作在所有方面类似于图7A-7B的毛发去除和再生长抑制装置900的操作。有利的是，排热口1010布置成从皮肤表面140排走热量。在一个实施例中，风扇1020布置成连续运行，以辅助排热。在一个实施例中，如图8B中图表所示，去除和抑制头20这样布置和运行：由两个去除和抑制头20辐照皮肤表面140的各部分130。

曲线1040示出第一去除和抑制头20辐照的皮肤表面140的面积，其中，虚线表示第一去除和抑制头20未通电，而实线表示第一去除和抑制头20已通电。曲线1050示出第二去除和抑制头20辐照的皮肤表面140的面积，其中，虚线表示第一去除和抑制头20未通电，而实线表示第一去除和抑制头20已通电。曲线1060示出第三去除和抑制头20辐照的皮肤表面140的面积，其中，虚线表示第一去除和抑制头20未通电，而实线表示第一去除和抑制头20已通电。曲线1070示出第四去除和抑制头20辐照的皮肤表面140的面积，其中，虚线表示第一去除和抑制头20未通电，而实线表示第一去除和抑制头20已通电。

在时间TO处，第一和第三去除和抑制头20平移到处理位置，如上所述，皮肤表面140的部分130用X4表示，该部分由第一去除和抑制头20的辐照和切割元件910进行辐照，直到时间T1。在T1至T2的时间过程中，由第三去除和抑制头20的辐照和切割元件910所辐照的皮肤表面140的部分未在图8B中示出。皮肤表面140的面积X1-X3未受辐照，因此，允许其冷却。在时间T1处，第一和第三去除和抑制头20平移到冷却位置，面积X4开始冷却。在时间T2处，第二和第四去除和抑制头20平移到处理位置，如上所述，皮肤表面140的部分130用X3表示，该部分由第二去除和抑制头20的辐照和切割元件910进行辐照，直到时间T3。在T2至T3的时间过程中，由第四去除和抑制头20的辐照和切割元件910所辐照的皮肤表面140的部分未在图8B中示出。面积X1、X2和X4未受辐照，因此，允许其冷却。在时间T3处，第二和第四去除和抑制头20平移到冷却位置，面积X3开始冷却。

在时间T4处，第一和第三去除和抑制头20平移到处理位置。皮肤表面140的部分130用X6表示，该部分由第一去除和抑制头20的辐照和切割元件910进行辐照，皮肤表面140的部分130用X2表示，该部分由第三去除和抑制头20的辐照和切割元件910进行辐照，直到时间T5。在时间T5处，第一和第三去除和抑制头20平移到冷却位置，面积X2和X6开始冷却。在时间T6处，第二和第四去除和抑制头20平移到处理位置。皮肤表面140的部分130用X5表示，该部分由第二去除和抑制头20的辐照和切割元件910进行辐照，皮肤表面140的部分130用X1表示，该部分由第四去除和抑制头20的辐照和切割元件910进行辐照，直到时间T7。在时间T7处，第二和第四去除和抑制头20平移到冷却位置，面积X1和X5开始冷却。

在时间T8处，第一和第三去除和抑制头20平移到处理位置。皮肤表面140的部分130用X8表示，该部分由第一去除和抑制头20的辐照和切割元件910进行辐照，皮肤表面140的部分X4由第三去除和抑制头20的辐照和切割元件910进行辐照，直到时间T9。如上所述，在TO和T1之间的时间间隔期间，部分X4被辐照。因此，又提供处理到部分X4。在时间T9处，第一和第三去除和抑制头20平移到冷却位置，面积X4和X8开始冷却。在时间T10处，第二和第四去除和抑制头20平移到处理位置。皮肤表面140的部分130用X7表示，该部分由第二去除和抑制头20的辐照和切割元件910进行辐照，皮肤表面140的部分130用X3表示，该部分由第四去除和抑制头20的辐照和切割元件910进行辐照，直到时间T11。如上所述，在T2和T3之间的时间间隔期间，部分X3被辐照。因此，又提供处理到部分X3。在时间T11处，第二和第四去除和抑制头20平移到冷却位置，面积X3和X7开始冷却。

在时间T12处，第一和第三去除和抑制头20平移到处理位置。皮肤表面140的部分X6由第三去除和抑制头20的辐照和切割元件910进行辐照，直到时间T13。如上所述，在T4和T5之间的时间间隔期间，部分X6被辐照。因此，又提供处理到部分X6。在T12和T13之间的时间间隔期间，由第一去除和抑制头20的辐照和切割元件910所辐照的皮肤表面140的部分130未予示出。时间T13处，第一和第三去除和抑制头20平移到冷却位置，面积X6开始冷却。在时间T14处，第二和第四去除和抑制头20平移到处理位置。皮肤表面140的部分X5由第四去除和抑制头20的辐照和切割元件910进行辐照，直到时间T15。如上所述，在T6和T7之间的时间间隔期间，部分X5被辐照。因此，又提供处理到部分X5。在T14和T15之间的时间间隔期间，由第二去除和抑制头20的辐照和切割元件910所辐照的皮肤表面140的部分130未予示出。在时间T15处，第二和第四去除和抑制头20平移到冷却位置，面积X5开始冷却。

有利的是，毛发去除和再生抑制装置1000的布置和操作对皮肤表面140提供了多种处理，使每个去除和抑制头20显现的工作循环率小于50%。在一个实施例中，在相应平移机构330发生故障时，各个弹簧1030布置成将去除和抑制头20从处理位置平移到冷却位置。

图9示出毛发去除和再生长抑制装置1100的高位侧视剖视图。毛发去除和再生长抑制装置1100在所有方面类似于图8A的毛发去除和再生长抑制装置1000，例外之处在于：仅提供单个去除和抑制头20。与去除和抑制头20相关联的各辐照和切割元件910和反射器90连接到相应的平移机构330。各个弹簧1030的第一端连接到相应的反射器90，各个弹簧1030的第二端连接到去除和抑制头20。提供多个排热口1010，每个排热口与相应的辐照和切割元件910相关联。

图10示出毛发去除和再生长抑制装置的第一运行方法的高位流程图，该毛发去除和再生长抑制装置包括根据某些实施例的辐照元件、反射器和切割元件。在阶段2000，提供辐照元件。在一个实施例中，辐照元件包括金属丝。在另一实施例中，辐照元件包括带子。在一个实施例中，辐照元件包括镍铬合金。在另一实施例中，辐照元件包括镍铬耐热合金。在另一实施例中，辐照元件包括二硅化钼合金。在另一实施例中，辐照元件包括铁素体铁-铬-铝合金。在一个实施例中，辐照元件布置成输出EMR，EMR在500-5000nm的光谱内显现其能量的约95%，在一特殊实施例中，EMR在500-1000nm的光谱内显现小于其能量的10%。在一个实施例中，在波长1000nm附近，输出的EMR显现其能量的约95%。在一个实施例中，辐照元件布置成：响应于流过其中的合适电流而加热到400℃-1900℃的温度,响应于对辐照元件的加热输出EMR。在一个特殊的实施例中，辐照元件布置成加热到1000℃-1900℃的温度，在另一个实施例中，响应于流过其中的合适电流，加热到约1900℃的温度。在另一个实施例中，辐照元件布置成加热到大于1900℃的温度。

在一个实施例中，辐照元件是细长的正方形立方体形。在另一实施例中，辐照元件是细长的矩形立方体形。在另一个实施例中，辐照元件是圆柱形。在一个实施例中，辐照元件的长度是其宽度的1-100倍。在一个特殊的实施例中，辐照元件的长度是其宽度的5倍。在另一实施例中，辐照元件的长度是其宽度的100倍以上。

在阶段2010，提供切割元件。在一个实施例中，切割元件包括以下之一：细长形丝、带子、刀片和加热元件。在一个实施例中，切割元件包括镍铬合金。在另一实施例中，切割元件包括镍铬耐热合金。在另一实施例中，切割元件包括二硅化钼合金。在另一实施例中，切割元件包括铁素体铁-铬-铝合金。

在阶段2020，提供去除和抑制头，每个提供的阶段2000和2010的辐照元件和切割元件固定到头上，使反射器设置在所提供的去除和抑制头上。术语“固定”不局限于固定的连接，在一个实施例中，所提供的辐照元件和提供的切割元件中的至少一个，相对于所提供的以上参照图5A、5B和9所述的去除和抑制头平移。在一个实施例中，反射器由反射材料组成，其布置成基本上反射显现波长在500-5000nm之间的EMR。在一个实施例中，反射器由氧化铝构成，在另一个实施例中，氧化铝的纯度在90-99.5%之间。在一个实施例中，反射器的反射率在1000nm时至少为98%。在一个实施例中，反射器的热导率约为35W/mK°。在阶段2030，阶段2000的辐照元件定位在阶段2020反射器的前面，以使辐照元件定位在反射器和皮肤表面之间，这将在下文中进一步描述。

在阶段2040，所提供的阶段2020的去除和抑制头与皮肤表面的一部分并置。在阶段2050，辐照元件响应于致使其加热而流过其中的电流输出EMR。在一个实施例中，如上所述，输出的EMR在500-5000nm的光谱内显现其能量的约95%，在一特殊实施例中，EMR在500-1000nm的光谱内显现小于其能量的10%。在一个实施例中，在波长1000nm附近，输出的EMR显现其能量的约95%。在一个实施例中，辐照元件布置成输出显现功率为0.5-20W之间的EMR，在一个特殊的实施例中，功率在1-10W之间。在一个实施例中，输出的EMR显现通量在1-10J/cm²之间，其在与阶段2020的去除和抑制头并置的皮肤表面部分处测得，在一个特殊的实施例中，该通量约为3J/cm²。由辐照元件输出的EMR朝向与头的凹入并置的皮肤表面部分从反射器反射出。有利地是，由辐照元件输出的热量基本上不朝向皮肤表面从反射器反射出。

在阶段2060，将阶段2010的切割元件加热到足以切割毛发的温度。在一个实施例中，将切割元件加热到温度400°-1900℃，在一个特殊的实施例中，加热到温度1000°-1900℃。

在可选阶段2070，提供运动传感器。在一个实施例中，该运动传感器布置成：响应于阶段2020的外壳相对于并置的皮肤表面的相对运动，输出信号。在一个实施例中，如果由运动传感器探测到的相对运动比第一预定值大，则使阶段2000的所提供的辐照元件进行辐照，而如果由运动传感器探测到的相对运动比第二预定值小，则中断辐照。在一个实施例中，第一预定值和第二预定值相同。如果由运动传感器探测到的相对运动大于第三预定值，则将阶段2010的切割元件加热到足以切割毛发的温度，并可供选择地进一步移至毛发切割位置。如果由运动传感器探测到的相对运动小于第四预定值，则中断对切割元件的供电，并可供选择地进一步移至毛发非切割位置。在一个实施例中，第三预定值和第四预定值相同。在一个实施例中，第一预定值小于第三预定值。

在可选阶段2080，响应于运动传感器，控制通过阶段2000的辐照元件和阶段2010的切割元件的功率。在一个实施例中，随着阶段2020的去除和抑制头相对运动速率增加，增大工作循环，并随着去除和抑制头相对运动速率减小，减小工作循环。在一个实施例中，随着去除和抑制头相对运动速率增大，流过辐照元件和切割元件的电流也增加，并随着去除和抑制头相对运动速率减小，流过辐照元件和切割元件的电流也减小。

以上已经在切割元件是细长加热元件的实施例中进行了描述，然而，这绝不意味着限制。在另一个实施例中，切割元件是刀片。

图11示出毛发去除和再生长抑制装置的第二运行方法的高位流程图，该毛发去除和再生长抑制装置是根据某些实施例的图10的阶段2000-2030之后的装置。在阶段3000，如图10的阶段2040中所述，阶段2020的去除和抑制头与皮肤表面一部分并置。在阶段3010，阶段2000的辐照元件平移到处理位置。如上所述，辐照元件响应于流过其中而致使其加热的电流，输出EMR。在一个实施例中，输出的EMR在500-5000nm的光谱内显现其能量的约95%，在一特殊实施例中，EMR在500-1000nm的光谱内显现小于其能量的10%。在一个实施例中，在波长1000nm附近，输出的EMR显现其能量的约95%。在一个实施例中，辐照元件输出功率为0.5-20W的EMR，在一个特殊的实施例中，功率在1-10W之间。在一个实施例中，输出的EMR显现通量在1-10J/cm²之间，其在与阶段2020的去除和抑制头并置的皮肤表面部分处测得，在一个特殊的实施例中，该通量约为3J/cm²。由辐照元件输出的EMR朝向与去除和抑制头的凹入并置的皮肤表面部分从阶段2020的反射器反射出。有利地是，热量基本上不朝向皮肤表面从反射器反射出。

在阶段3020，将阶段2010的切割元件加热到足以切割毛发的温度。在一个实施例中，将切割元件加热到温度400°-1900℃，在一个特殊的实施例中，切割元件被加热到温度1000°-1900℃。在一个实施例中，处于处理位置的切割元件和皮肤表面之间的距离小于3mm，在一个特殊的实施例中，该距离为0.1-1mm。在另一个实施例中，切割元件与皮肤接触。

在阶段3030，辐照元件从阶段3010的处理位置平移到冷却位置。在一个实施例中，处理位置和冷却位置之间的距离是2-20mm，而在一个特殊的实施例中，距离约为5mm。在一个实施例中，辐照元件布置成停止主动发热，因此，当平移到冷却位置中时，停止主动地产生EMR。在阶段3040，辐照元件规则地平移在阶段3010的处理位置和阶段3030的冷却位置。在一个实施例中，辐照元件在其后平移到处理位置之间的循环是2-2000Hz,较佳地约5Hz。在一个实施例中，辐照元件的工作循环，即，辐照元件在处理位置中的时间百分比约为60％。在可选阶段3050，阶段2010的切割元件与阶段2000的辐照元件一起平移在处理位置和冷却位置之间。在一个实施例中，在冷却位置中，切割元件停止主动地发热。

在可选阶段3060，提供运动传感器。在一个实施例中，该运动传感器布置成：响应于阶段2020的去除和抑制头的相对运动，输出信号。在一个实施例中，如果由运动传感器探测到的相对运动速率比第一预定值大，则辐照元件规则地平移在阶段3010的处理位置和阶段3030的冷却位置之间，而如果由运动传感器探测到的相对运动速率比第二预定值小，则中断规则的平移。在一个实施例中，中断由阶段2000的辐照元件的发热和由此的电磁波发生。在一个实施例中，辐照元件平移到冷却位置。在另一个实施例中，阶段2010的切割元件也平移到冷却位置，并停止主动发热。在一个实施例中，第一预定值和第二预定值相同。

在可选阶段3070，响应于阶段3060所提供的运动传感器，控制阶段3040的辐照元件的工作循环。在一个实施例中，随着阶段2020的去除和抑制头相对运动速率增加，增大工作循环，并随着去除和抑制头相对运动速率减小，减小工作循环。此外可供选择地是，响应于所提供的运动传感器，控制辐照元件的输出。在一个实施例中，随着去除和抑制头相对运动速率增大，流过辐照元件的电流也增加，并随着去除和抑制头相对运动速率减小，流过辐照元件的电流也减小。可供选择地是，随着去除和抑制头相对运动速率增大，流过阶段2010的切割元件的电流也增加，并随着去除和抑制头相对运动速率减小，流过阶段2010的切割元件的电流也减小。

图12示出毛发去除和再生长抑制装置的方法的高位流程图，该毛发去除和再生长抑制装置包括：根据某些实施例，辐照皮肤表面的一部分，以及切割从其中突出出来的毛发。在阶段4000，用EMR辐照皮肤表面的一部分。在一个实施例中，EMR在500-5000nm的光谱内显现其能量的约95%，在一特殊实施例中，EMR在500-1000nm的光谱内显现小于其能量的10%。在一个实施例中，在波长1000nm附近，EMR显现其能量的约95%。在一个实施例中，EMR的通量在1-10J/cm²之间，其在皮肤表面的所述部分处测得，在另一个实施例中，该通量约为3J/cm²。有利地是，提供长期的毛发生长减少。在一个实施例中，如上对于辐照元件40所描述的，通过加热元件来输出EMR。在阶段4010，从皮肤表面的部分突出出来的毛发被切割，由此，形成毛发的去除。在一个实施例中，通过提供加热的元件来切割毛发。在一个实施例中，所提供的加热的元件温度是400-1900℃。

在可选阶段4020，提供反射器，其布置成基本上朝向皮肤表面的部分反射辐射。在一个实施例中，阶段4000的辐照包括：直接辐照皮肤表面的部分，以及用EMR辐照所提供的反射器，该EMR朝向皮肤表面的部分反射。

在操作阶段4030，提供去除和抑制头，如以上关于去除和抑制头20所描述的，从所提供的去除和抑制头的开口中，提供阶段4000的辐照和阶段4010的切割。在可选阶段4040，探测阶段4030所提供的去除和抑制头相对于与其并置的皮肤表面的相对运动，或相对运动不存在。在一个实施例中，阶段4000的辐照是响应于所探测的相对运动。在一个实施例中，当探测到去除和抑制头的相对运动时便开始阶段4000的辐照，而当未探测到相对运动时便停止辐照。在可选阶段4050，探测可供选择的阶段4030所提供的去除和抑制头的相对运动速率。在一个实施例中，阶段4000的辐照是响应于所探测到的相对运动。在一个实施例中，响应于探测到的大于第一预定值的相对运动速率便开始辐照，而响应于探测到的小于第二预定值的相对运动速率便停止辐照。在一个实施例中，第一预定值和第二预定值相同。在一个实施例中，EMR量是响应于探测到的相对运动速率，响应于增加的探测到的相对运动速率，便增加EMR量，响应于减小的探测到的相对运动速率，便减小EMR量。

在可选阶段4060，探测可供选择的阶段4030所提供的去除和抑制头的相对运动速率。在一个实施例中，阶段4010的切割包括：对足以切割毛发的加热元件提供电能，响应于探测到的大于第三预定值的相对运动速率，开始加热，而响应于探测到的小于第四预定值的相对运动速率，停止加热。在一个实施例中，第三预定值和第四预定值相同。在操作阶段4070，从皮肤表面的所述部分排走热量。在一个实施例中，通过提供通过可选阶段4030所提供的去除和抑制头的至少一个排热口，排走热量。

图13示出毛发去除和再生长抑制的方法的高位流程图，该方法包括：根据某些实施例，规则地处理和冷却皮肤表面的一部分。在阶段5000，皮肤表面的一部分规则地被处理和冷却。在一个实施例中，该处理包括提供热量到皮肤表面的该部分。在一个实施例中，该提供的热量是足以切割毛发的温度。在一个实施例中，提供的温度在400°‐1900℃之间，在一特殊实施例中，提供的温度在1000°‐1900℃，以及在另一个实施例中，提供的温度约为1900℃。在一个实施例中，加热工作循环，即，规则加热和冷却的正在加热的时间的百分比，大于50％，在另一个实施例中，加热工作循环约为60％。在一个实施例中，规则加热的频率在2-2000Hz之间，在另一个实施例中，该频率约为5Hz。

在阶段5010，用EMR辐照皮肤表面的一部分。在可选阶段5020，提供去除和抑制头，从所提供的去除和抑制头的开口，提供阶段5000的处理和冷却以及可供选择的阶段5010的可供选择的辐照。在可选阶段5030，探测可供选择的阶段5020所提供的去除和抑制头相对于与其并置的皮肤表面的相对运动速率。在一个实施例中，阶段5000的规则处理和冷却是响应于所探测到的相对运动的速率。在一个实施例中，响应于大于第一预定值的相对运动的速率，开始规则的处理和冷却，而响应于小于第二预定值的相对运动的速率，停止该规则处理和冷却。在一个实施例中，第一预定值和第二预定值相同。在一个实施例中，阶段5010中提供的EMR量是响应于探测到的相对运动的速率。在一个实施例中，EMR量响应于所探测到的相对运动速率的增加而增加，且响应于所探测到的相对运动速率的减小而减小。在可选阶段5040，探测可供选择的阶段5020所提供的去除和抑制头的相对运动速率。在一个实施例中，阶段5000的规则处理和冷却速率是响应于所探测到的相对运动速率。在可供选择的阶段5050，探测可供选择的阶段5020所提供的去除和抑制头的相对运动速率。在一个实施例中，处理工作循环是响应于所探测到的相对运动速率。在一个实施例中，处理工作循环响应于探测到的相对运动速率的增加而增加，并响应于探测到的相对运动速率的减小而减小。

应该认识到，本发明的某些特征为了清晰起见在各个实施例的情景中进行描述，这些特征也可在单一实施例中组合地提供。相反，本发明的各种特征为了简明扼要起见在单一实施例的情景中进行描述，这些特征也可分别地或合适的子组合地提供。在本申请的权利要求书和本发明的描述中，除了由于表达语言或必要的暗示而需要另外形式的情景之外，词语“包括”或各种变体可以任何包含的含义使用，即，规定所陈述特征的存在，但在本发明的各种实施例中，不排除其它特征的存在或添加。

除了另有定义，否则，本文所用的所有科技术语具有与本发明所属技术领域内的技术人员普遍理解的相同的含义。尽管类似于或等价于文中所述方法的各种方法，可在本发明的实践或试验中使用，但文中也描述了其它合适的方法。

本文以参见方式引入了所有出版物、专利申请、专利和其它提及的参考资料的全部内容。在有冲突的情形中，本专利说明书包括定义将是主宰的。此外，材料、方法和实例仅是说明性的，无意加以限制。并不认同任何的参考资料构成现有技术。参考资料的讨论陈述其作者的断言，申请人保留对所引用文献正确性和相关性挑战的权利。将会清楚地理解到，尽管文中参考了许多现有技术的复杂性，但该参考不构成以下的承诺：任何这些文献形成任何国家内该行业内共同普通的认识。

本技术领域内技术人员将会认识到，本发明不局限于以上具体示出和描述的内容。相反，本发明的范围由附后的权利要求书予以定义，本发明的范围包括以上描述的各种特征组合和子组合，以及这些特征的变化和修改，它们都是本技术领域内技术人员在阅读以上描述之后将会想到的特征变化和修改。

Claims (57)

1.一种毛发去除和再生抑制装置，该装置包括：

控制回路；

至少一个固定到外壳上的去除和抑制头；

至少一个扩展器组件，其偶联到所述至少一个去除和抑制头上，并远离所述至少一个去除和抑制头的壁延伸，所述至少一个扩展器组件在其端部处限定从所述至少一个去除和抑制头的壁去除的开口；

至少一个辐照元件，其固定到所述至少一个去除和抑制头上并响应于所述控制回路；

至少一个反射器，其固定到所述至少一个去除和抑制头，所述至少一个辐照元件设置在所述至少一个反射器和所述开口之间；以及

至少一个切割元件，其固定到所述至少一个去除和抑制头，并布置成当所述开口与具有从皮肤向外延伸的毛发的皮肤部分并置时便切割毛发，

其中，所述至少一个反射器布置成基本上将从所述至少一个辐照元件输出的电磁辐射朝向所述开口反射。

2.如权利要求1所述的毛发去除和再生抑制装置，其特征在于，还包括与所述控制回路连通的运动传感器，其中，所述控制回路布置成：响应于由所述运动传感器探测到的相对运动，控制所述至少一个辐照元件的输出。

3.如权利要求1所述的毛发去除和再生抑制装置，其特征在于，还包括与所述控制回路连通的运动传感器，其中，所述控制回路布置成：响应于由所述运动传感器探测到的比第一预定值大的相对运动速率，使所述至少一个辐照元件工作，而响应于由所述运动传感器探测到的比第二预定值小的相对运动速率，使所述至少一个辐照元件不工作。

4.如权利要求1所述的毛发去除和再生抑制装置，其特征在于，还包括与所述控制回路连通的运动传感器，其中，所述控制回路布置成：响应于由所述运动传感器探测到的相对运动，控制由所述至少一个辐照元件输出的辐照量。

5.如权利要求1所述的毛发去除和再生抑制装置，其特征在于，还包括运动传感器，其中，所述至少一个切割元件包括丝和带之一种，其中，所述控制回路布置成：响应于由所述运动传感器探测到的比第三预定值大的相对运动速率，提供功率以将所述至少一个切割元件加热到足以切割毛发的温度，而响应于由所述运动传感器探测到的比第四预定值小的相对运动速率，便停止对所述至少一个切割元件提供功率。

6.如权利要求5所述的毛发去除和再生抑制装置，其特征在于，足以切割毛发的温度是400°-1900℃。

7.如权利要求1所述的毛发去除和再生抑制装置，其特征在于，所述外壳显现有排热口，允许热量从所述辐照元件输出到所述外壳周围的环境空气中。

8.如权利要求1所述的毛发去除和再生抑制装置，其特征在于，所述至少一个辐照元件是细长矩形的立方形。

9.如权利要求1所述的毛发去除和再生抑制装置，其特征在于，所述至少一个辐照元件是细长的圆柱形。

10.如权利要求1所述的毛发去除和再生抑制装置，其特征在于，所述至少一个切割元件是刀片和加热元件之一种。

11.如权利要求1所述的毛发去除和再生抑制装置，其特征在于，所述至少一个反射器布置成：基本上反射在1000纳米接收到的辐射的至少98％。

12.如权利要求1所述的毛发去除和再生抑制装置，其特征在于，所述至少一个辐照元件布置成输出电磁能，在500-5000纳米之间的光谱内显现为其能量的至少95％。

13.如权利要求12所述的毛发去除和再生抑制装置，其特征在于，所述至少一个辐照元件布置成输出电磁能，在500-1000纳米之间的光谱内显现为小于其能量的10％。

14.如权利要求1所述的毛发去除和再生抑制装置，其特征在于，所述至少一个辐照元件布置成输出功率在0.5-20瓦之间的电磁能。

15.如权利要求1所述的毛发去除和再生抑制装置，其特征在于，所述至少一个辐照元件布置成输出功率在1-10瓦之间的电磁能。

16.如权利要求1所述的毛发去除和再生抑制装置，其特征在于，所述控制回路布置成提供功率来加热所述至少一个辐照元件，其中，由所述至少一个辐照元件输出的辐射响应于所述至少一个辐照元件的加热。

17.根据权利要求1所述的毛发去除和再生抑制装置，还包括至少一个固定到所述外壳上的平移机构，

其中，所述至少一个去除和抑制头的所述开口布置成与皮肤表面并置，

其中，所述至少一个平移机构布置成在第一位置和第二位置之间平移所述至少一个去除和抑制头和所述至少一个切割元件中的至少一个，所述第一位置比所述第二位置更靠近皮肤表面；

其中，所述控制回路布置成控制所述至少一个平移机构，以在所述第一和第二位置之间有规则地平移所述至少一个切割元件。

18.如权利要求17所述的毛发去除和再生抑制装置，其特征在于，所述至少一个平移机构还布置成在第三位置和第四位置之间平移所述至少一个辐照元件，所述第三位置比所述第四位置更靠近皮肤表面；

其中，所述控制回路布置成控制所述至少一个平移机构，以在所述第三和第四位置之间有规则地平移所述至少一个辐照元件。

19.如权利要求18所述的毛发去除和再生抑制装置，其特征在于，所述控制回路还布置成提供功率到所述至少一个辐照元件，以将所述至少一个辐照元件加热到一温度，使得所述至少一个辐照元件输出辐射，将所述辐照元件定期地放置在所述第三位置中持续一定的时间，这样，多次平移到所述第三位置，辐照与所述开口并置的皮肤部分。

20.如权利要求17或18所述的毛发去除和再生抑制装置，其特征在于，所述控制回路还布置成提供功率到所述至少一个切割元件，以将所述至少一个切割元件加热到一温度，将所述至少一个切割元件规则地放置在所述第一位置中持续一定的时间，这样，多次平移到所述第一位置，切割通过开口突出出来的毛发。

21.如权利要求17-18中任一项所述的毛发去除和再生抑制装置，其特征在于，所述至少一个切割元件是细长矩形的立方形。

22.如权利要求17-18中任一项所述的毛发去除和再生抑制装置，其特征在于，还包括与所述控制回路连通的运动传感器，其中，所述控制回路布置成：响应于由所述运动传感器探测到的相对运动，控制所述至少一个切割元件的所述规则平移的速率。

23.如权利要求17-18中任一项所述的毛发去除和再生抑制装置，其特征在于，还包括与所述控制回路连通的运动传感器，其中，所述控制回路布置成：响应于由所述运动传感器探测到的比第一预定值大的相对运动速率，能使所述至少一个切割元件有规则地平移，而响应于由所述运动传感器探测到的比第二预定值小的相对运动速率，便停止所述至少一个切割元件的所述规则平移。

24.如权利要求17-18中任一项所述的毛发去除和再生抑制装置，其特征在于，还包括与所述控制回路连通的运动传感器，其中，所述控制回路布置成：响应于由所述运动传感器探测到的相对运动，控制所述至少一个切割元件的工作循环。

25.如权利要求17-18中任一项所述的毛发去除和再生抑制装置，其特征在于，所述控制回路还布置成提供功率到所述至少一个切割元件，以将所述至少一个切割元件加热到一温度，其中，由所述至少一个切割元件输出的温度是400°-1900℃。

26.如权利要求25所述的毛发去除和再生抑制装置，其特征在于，由所述至少一个切割元件输出的温度是1000°-1900℃。

27.如权利要求17-18中任一项所述的毛发去除和再生抑制装置，其特征在于，第一位置中的所述至少一个切割元件和与所述至少一个扩展器组件的所述开口并置的皮肤表面之间的距离小于3mm。

28.如权利要求17-18中任一项所述的毛发去除和再生抑制装置，其特征在于，第一位置中的所述至少一个切割元件和与所述至少一个扩展器组件的所述开口并置的皮肤表面之间的距离在0.1-1mm之间。

29.如权利要求17-18中任一项所述的毛发去除和再生抑制装置，其特征在于，第一位置中的所述至少一个切割元件接触与所述至少一个扩展器组件的所述开口并置的皮肤表面。

30.如权利要求17-18中任一项所述的毛发去除和再生抑制装置，其特征在于，处于所述第一位置中的所述至少一个切割元件的工作循环大于50％。

31.如权利要求17-18中任一项所述的毛发去除和再生抑制装置，其特征在于，处于所述第一位置中的所述至少一个切割元件的工作循环约为60％。

32.如权利要求17-18中任一项所述的毛发去除和再生抑制装置，其特征在于，相对于所述开口，第一位置和第二位置之间的距离是2和20mm之间。

33.如权利要求17-18中任一项所述的毛发去除和再生抑制装置，其特征在于，相对于所述开口，处理位置和冷却位置之间的距离约是5mm。

34.如权利要求17-18中任一项所述的毛发去除和再生抑制装置，其特征在于，所述定期平移到第一位置的频率是2和2000Hz之间。

35.如权利要求34所述的毛发去除和再生抑制装置，其特征在于，所述定期平移到第一位置的频率是约5Hz。

36.如权利要求17-18中任一项所述的毛发去除和再生抑制装置，其特征在于，将所述至少一个辐照元件和所述至少一个切割元件设置为至少一个一体的辐照和切割元件。

37.如权利要求36所述的毛发去除和再生抑制装置，其特征在于，所述至少一个一体的辐照和切割元件包括多个一体的辐照和切割元件，

其中，所述至少一个反射器包括多个反射器，每个所述一体的辐照和切割元件设置在所述多个反射器的具体的一个和所述开口之间，

其中，所述至少一个平移机构包括多个平移机构，每个所述平移机构布置成在所述第一位置和所述第二位置之间平移所述多个一体的辐照和切割元件的具体的一个。

38.如权利要求37所述的毛发去除和再生抑制装置，其特征在于，

所述至少一个去除和抑制头包括多个去除和抑制头，

其中，所述至少一个扩展器组件包括多个扩展器组件，每个组件偶联到所述多个去除和抑制头的具体的一个上，

其中，每个所述一体的辐照和切割元件固定到所述多个去除和抑制头的具体的一个上，以及

其中，每个所述反射器固定到所述多个去除和抑制头的具体的一个上。

39.一种毛发去除和再生抑制的方法，该方法包括：

用电磁辐射辐照皮肤表面的一部分；

提供反射器，其布置成基本上朝向皮肤表面的所述部分反射电磁辐射；以及

同时地切割从皮肤表面的所述部分突出出来的毛发，

由此在皮肤表面的所述部分上提供毛发的去除和长时间的毛发生长减少，

其中，所述辐射包括：

用电磁辐射直接辐照皮肤表面的所述部分；以及

用电磁辐射辐照所述提供的反射器，以朝向皮肤表面的所述部分反射。

40.如权利要求39所述的方法，还包括：

提供去除和抑制头；以及

探测所述去除和抑制头的相对运动，

其中，所述辐照是响应于所述探测到的相对运动。

41.如权利要求39所述的方法，还包括：

提供去除和抑制头；以及

探测所述提供的去除和抑制头的相对运动速率，

其中，所述辐照皮肤表面的所述部分是响应于探测到的大于第一预定值的相对运动速率而开始，且响应于探测到的小于第二预定值的相对运动速率而停止。

42.如权利要求39所述的方法，还包括：

提供去除和抑制头；以及

探测所述提供的去除和抑制头的相对运动速率，

其中，辐照皮肤表面的所述部分的辐射量是响应于所述探测到的相对运动速率。

43.如权利要求39所述的方法，还包括：

提供去除和抑制头；以及

探测所述提供的去除和抑制头的相对运动速率，

其中，所述切割毛发包括对毛发提供热量，使其温度足以切割毛发，以及

其中，所述提供热量是响应于所探测到的大于第三预定值的相对运动速率而开始，并响应于所探测到的小于第四预定值的运动速率而停止。

44.如权利要求43所述的方法，足以切割毛发的温度是400-1900℃。

45.如权利要求39所述的方法，还包括：从皮肤表面的所述部分排除热量。

46.如权利要求39所述的方法，电磁辐射在500和5000纳米之间的波长光谱内显现出其能量的至少95%。

47.如权利要求39所述的方法，电磁辐射在500和1000纳米之间的波长光谱内显现出小于其能量的10%。

48.如权利要求39所述的方法，还包括加热辐射元件，

其中，所述辐射是响应于所述加热。

49.如权利要求48所述的方法，还包括：

在相对于皮肤表面的所述部分的第一位置和相对于皮肤表面的所述部分的第二位置之间，规则地平移辐照元件，

其中，皮肤表面的所述部分和处于所述第一位置的辐照元件之间的距离，小于皮肤表面的所述部分和处于所述第二位置的辐照元件之间的距离。

50.如权利要求48所述的方法，所述切割包括对皮肤表面的所述部分提供热量，

其中，所述提供的热量使所达到的温度足以切割从皮肤表面的所述部分突出出来的毛发。

51.如权利要求49-50中任一项所述的方法，还包括：

提供去除和抑制头；以及

探测所述提供的去除和抑制头的相对运动速率，

其中，辐照元件的所述规则平移速率是响应于所述探测到的相对运动。

52.如权利要求49-50中任一项所述的方法，还包括：

提供去除和抑制头；以及

探测所述提供的去除和抑制头的相对运动速率，

其中，辐射元件的所述规则平移是响应于所探测到的大于第一预定值的相对运动速率而开始，并响应于所探测到的小于第二预定值的相对运动速率而停止。

53.如权利要求49-50中任一项所述的方法，还包括：

提供去除和抑制头；以及

探测所述提供的去除和抑制头的相对运动速率，

其中，辐射元件平移到所述第一位置中显示工作循环，该工作循环是响应于所述探测到的相对运动速率。

54.如权利要求49-50中任一项所述的方法，其特征在于，辐射元件平移到所述第一位置中加热显示工作循环，该工作循环大于50%。

55.如权利要求49-50中任一项所述的方法，工作循环约为60%。

56.如权利要求49-50中任一项所述的方法，所述规则平移到所述第一位置中的频率是在2-2000Hz之间。

57.如权利要求49-50中任一项所述的方法，所述规则平移到所述第一位置的频率约是5Hz。

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