JP2014508373A - 電極およびこれを含む電子素子 - Google Patents
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Abstract
【選択図】図1
Description
本発明は、電極およびこれを含む電子素子に関する。より具体的には、本発明は、補助電極を含む電極およびこれを含む電子素子に関する。
[数学式1]
0≦α<Arc[(1−0.01×β)]
1)基材上に導電性パターンを含む補助電極を形成するステップ、および
2)前記補助電極の少なくとも一部上に備えられ、前記補助電極と電気的に接続された主電極を形成するステップ
を含む電極の製造方法を提供する。
[数学式1]
0≦α<Arc[(1−0.01×β)]
[数学式2]
(1−0.01×β)×D0≦D=D0cos(α)≦D0
Cu金属をスパッタリング工程を利用して約100nm厚さで蒸着した後、この上にLG412DF PRを利用して厚さ1マイクロメーターのフォトレジストを形成した。その次、前記フォトレジストを約125℃の温度でソフトベークした後、各々、オキソン(Oxxon)系エッチング液(自体製造)および過酸化水素水を基にしたエッチング液(ENF社のCu etchant)でエッチングした後、LGS100ストリッパー(stripper)で洗浄した。その次、ITOスパッタ(sputter)装置を利用してITOを各々の基板に約200nmの厚さで蒸着し、その結果は図15に示す通りである。
エッチング液として、過酸化水素を基にしたエッチング液(ENF社のCu etchant)を用いたことを除いては、実施例と同様に実施した。その結果を図16に示す。図15に比べてITOのスタックカバレッジが良くなく、銅(Cu)で形成された補助電極の末端部(tail)が不規則なエッチング形状(etching morphology)によって不均一な主電極蒸着形状が観察された。
20:補助電極
30:主電極
40:有機物層または追加の電極
Claims (16)
- 導電性パターンを含む補助電極、および前記補助電極の少なくとも一部上に備えられ、前記補助電極と電気的に接続された主電極を含む電極。
- 前記電極上に備えられる要素の許容厚さ偏差がβ%である場合、前記補助電極の導電性パターンのテーパー角αは、下記数学式1で表されることを特徴とする、請求項1に記載の電極。
[数学式1]
0≦α<Arc[(1−0.01×β)] - 前記電極上に備えられる要素の許容厚さ偏差は、10%以下であることを特徴とする、請求項2に記載の電極。
- 前記補助電極の導電性パターンのテーパー角は、0度超過25度以下であることを特徴とする、請求項1〜3の何れか1項に記載の電極。
- 前記補助電極の導電性パターンは、銀、アルミニウム、銅、ネオジム、モリブデンまたはこれらの合金を含むことを特徴とする、請求項1〜4の何れか1項に記載の電極。
- 前記主電極は、透明導電性材料を含むことを特徴とする、請求項1〜5の何れか1項に記載の電極。
- 前記主電極は、補助電極の上部面および側面を全て覆った構造であることを特徴とする、請求項1〜6の何れか1項に記載の電極。
- 請求項1〜7のいずれか1項に記載の電極を含む電子素子。
- 前記電子素子は、タッチパネル、有機発光素子または表示装置であることを特徴とする、請求項8に記載の電子素子。
- 1)基材上に導電性パターンを含む補助電極を形成するステップ、および
2)前記補助電極の少なくとも一部上に備えられ、前記補助電極と電気的に接続された主電極を形成するステップ
を含む電極の製造方法。 - 前記電極上に備えられる要素の許容厚さ偏差がβ%である場合、前記補助電極の導電性パターンのテーパー角αは、下記数学式1で表されることを特徴とする、請求項10に記載の電極の製造方法。
[数学式1]
0≦α<Arc[(1−0.01×β)] - 前記補助電極の導電性パターンのテーパー角は、0度超過25度以下であることを特徴とする、請求項11に記載の電極の製造方法。
- 前記補助電極はフォトリソグラフィ法によって形成され、前記補助電極の形成時、フォトレジスト材料のソフトベーク温度を110℃以下に調節することを特徴とする、請求項10〜12の何れか1項に記載の電極の製造方法。
- 前記補助電極は間接印刷法によって形成され、前記補助電極の形成時、フォトレジスト材料のソフトベーク温度を80〜90℃に調節することを特徴とする、請求項10〜12の何れか1項に記載の電極の製造方法。
- 前記補助電極はフォトリソグラフィ法または間接印刷法によって形成され、前記補助電極の形成時、前記補助電極の材料が銅を含む場合、エッチング液としてオキソン(Oxxon)系エッチング液を用いることを特徴とする、請求項10〜12の何れか1項に記載の電極の製造方法。
- 前記補助電極は、リバースオフセット印刷法またはグラビアオフセット印刷法によって形成されることを特徴とする、請求項10〜12の何れか1項に記載の電極の製造方法。
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