KR100871075B1 - 인쇄용 페이스트 조성물 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 인쇄용 페이스트 조성물에 관한 것으로, 특히 a) 아크릴레이트 고분자 수지 5 내지 30 중량%; b) 비점이 적어도 200 ℃ 이상인 고비점 용제 5 내지 35 중량%; c) 비점이 200 ℃ 미만인 저비점 용제 5 내지 35 중량%; 및 d) 금속 분말 50 내지 85 중량%를 포함하는 것을 특징으로 하는 인쇄용 페이스트 조성물에 관한 것이다.
본 발명에 따른 인쇄용 페이스트 조성물은 그라비아 옵셋 인쇄에 특히 적합하며, 종래 포토리소그라피 방법을 이용한 플라즈마 디스플레이 패널의 전극 패턴이나 전자파 차폐용 메쉬 필터의 전극 제조시 발생하는 재료의 재처리 문제점을 원천적으로 해결할 수 있으며, 동시에 적절한 옵셋 인쇄 특성 발휘를 위하여 각각이 인쇄공정에 요구되는 페이스트 조성물의 다양한 요구 물성을 충족시킬 수 있다.
페이스트

Description

인쇄용 페이스트 조성물 {PASTE COMPOSITION FOR PRINTING}
도 1은 본 발명의 일실시예 및 비교예에 따라 제조한 인쇄용 페이스트 조성물을 이용하여 그라비아 옵셋 인쇄 후의 최소선폭을 나타낸 사진이다.
본 발명은 인쇄용 페이스트 조성물에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 그라비아 옵셋 인쇄에 특히 적합하며, 종래 포토리소그라피 방법을 이용한 플라즈마 디스플레이 패널의 전극 패턴이나 전자파 차폐용 메쉬 필터의 전극 제조시 발생하는 재료의 재처리 문제점을 해결할 수 있으며, 동시에 적절한 옵셋 인쇄 특성 발휘를 위하여 각각이 인쇄공정에 요구되는 페이스트 조성물의 다양한 요구 물성을 충족시킬 수 있는 인쇄용 페이스트 조성물에 관한 것이다.
최근, 디스플레이 장치들에 있어서, 대형화, 고밀도화, 고정밀화, 및 고신뢰성의 요구가 높아짐에 따라, 여러 가지 패턴 가공 기술의 개발이 이루어지고 있으며, 또한 이러한 다양한 패턴 가공 기술에 적합한 각종의 미세 전극 형성용 조성물에 대한 연구가 활발히 이루어지고 있다.
플라즈마 디스플레이 패널 (이하, 'PDP'라 칭함)은 액정 패널과 비교할 때에 응답속도가 빠르고, 대형화가 용이하여 현재 다양한 분야에 이용되고 있다. 종래에 이러한 PDP 상에 전극을 형성하는 방법으로는, 일반적으로 스크린 인쇄법을 이용한 전극 재료의 패터닝 방법이 사용되어 왔다. 그러나, 종래의 스크린 인쇄법은 고도의 숙련도를 요하고, 스크린 인쇄를 행할 시에 점도가 낮아 기판 상에서 페이스트가 흘러내릴 수 있으며, 스크린에 의한 정밀도가 떨어지기 때문에 스크린 인쇄법을 이용하여 PDP에 요구되는 고정밀도의 대화면 패턴을 얻기가 힘들다. 또한, 종래의 스크린 인쇄법에는 인쇄시 스크린에 의한 단락 또는 단선이 생길 수 있는 단점이 있었다.
한편, 최근에는 대면적에 적합한 고정밀의 전극회로를 형성하기 위하여 감광성 수지 조성물을 이용한 포토리소그라피법이 개발되었다. 이는, 미세 도전성 분말이 분산된 감광성 수지 조성물을 이용하여, 인쇄법을 통하여 균일한 후막을 형성하고, 형성된 후막을 원하는 형상의 마스크를 사용하여 노광한 다음, 알칼리 현상액을 사용하여 필요한 패턴을 구현하는 방법이다.
그러나, 상기와 같은 포토리소그라피법을 이용하여 패턴을 형성할 경우 제조비용 절감을 위해 현상 공정시 제거되는 재료의 재처리가 요구되었으며 이에 대한 많은 논의가 진행되고 있다.
상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 종래 인쇄산업에서 널리 사용되고 있는 그라비아 옵셋 인쇄법이나 잉크젯 프린팅 방식과 같이 기재에 원하는 패턴을 직접 형성하는 방법에 대한 연구가 진행되고 있다.
상기와 같은 종래기술의 문제점을 해결하고자, 본 발명은 미세 패턴을 직접 형성할 수 있는 그라비아 옵셋 인쇄방식에 적절하며, 종래 포토리소그라피 방법을 이용한 플라즈마 디스플레이 패널의 전극 패턴이나 전자파 차폐용 메쉬 필터 형성시 제조비용 절감을 위해 현상 공정시 발생되는 재료의 재처리 문제점을 해결할 수 있는 인쇄용 페이스트 조성물 및 상기 페이스트 조성물을 이용한 플라즈마 패널 디스플레이 전극형성방법 또는 전자파 차폐용 메쉬 필터의 전극제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 다른 목적은 적절한 옵셋 인쇄 특성 발휘를 위하여 각각이 인쇄공정 절차에 요구되는 조성물의 다양한 요구 물성을 충족시킬 수 있는 인쇄용 페이스트 조성물 및 상기 페이스트 조성물을 이용한 플라즈마 패널 디스플레이 전극형성방법 또는 전자파 차폐용 메쉬 필터의 전극제조방법을 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 인쇄용 페이스트 조성물에 있어서,
a) 아크릴레이트 고분자 수지 5 내지 30 중량%;
b) 비점이 적어도 200 ℃ 이상인 고비점 용제 5 내지 35 중량%;
c) 비점이 200 ℃ 미만인 저비점 용제 5 내지 35 중량%; 및
d) 금속 분말 50 내지 85 중량%;
을 포함하는 것을 특징으로 하는 인쇄용 페이스트 조성물을 제공한다.
또한 본 발명은 상기 인쇄용 페이스트 조성물을 이용하여 그라비아 옵셋 인쇄법으로 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 플라즈마 패널 디스플레이 전극형성방 법을 제공한다.
또한 본 발명은 상기 인쇄용 페이스트 조성물을 이용하여 그라비아 옵셋 인쇄법으로 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 전자파 차폐용 메쉬 필터의 전극형성방법을 제공한다.
이하 본 발명을 상세하게 설명한다.
본 발명자들은 각각의 인쇄공정 절차에 요구되는 조성물의 다양한 요구 물성을 충족시킬 수 있는 그라비아 옵셋 인쇄용 페이스트 조성물을 제조하고자 오프(off) 공정에서 요구되는 조성물의 적절한 탄성특성 발휘를 위해 적절한 분자량의 아크릴레이트 고분자를 사용하고, 셋(set) 공정에서 유리한 소성 특성을 제공하기 위하여 적절한 휘발성 용제를 사용한 결과, 그라비아 옵셋 인쇄법에 적합한 인쇄용 페이스트 조성물을 제조할 수 있음을 확인하고, 이를 토대로 본 발명을 완성하게 되었다.
본 발명의 인쇄용 페이스트 조성물은 a) 아크릴레이트 고분자 수지 5 내지 30 중량%; b) 비점이 적어도 200 ℃ 이상인 고비점 용제 5 내지 35 중량%; c) 비점이 200 ℃ 미만인 저비점 용제 5 내지 35 중량%; 및 d) 금속 분말 50 내지 85 중량%를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 사용되는 상기 a)의 아크릴레이트 고분자 수지는 통상의 아크릴레이트 고분자 수지를 사용할 수 있음은 물론이며, 바람직하게는 본 발명에서 사용하 는 아크릴레이트 고분자 수지는 불포화 카르본산 단량체, 방향족 단량체, 및 기타 단량체를 중합하여 제조할 수 있다.
상기 불포화 카르본산 단량체는 고분자 내의 수소 결합을 통해 고분자의 탄성을 증가시키는 작용을 하며, 구체적으로 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산, 말레산, 푸마르산, 비닐초산, 또는 이들의 산 무수물 형태 등을 사용할 수 있다.
상기 불포화 카르본산 단량체는 아크릴레이트 고분자 수지 제조시 사용되는 총 단량체에 20 내지 50 중량%로 포함되는 것이 바람직하며, 함량이 상기 범위 내인 경우 고분자의 탄성 특성, 중합시 겔화의 방지, 및 중합도 조절을 모두 만족시킬 수 있어 좋다.
상기 방향족 단량체는 기판과의 밀착성과 안정적인 패턴을 형성시키는 작용을 하며, 구체적으로 스티렌, 벤질메타크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 페닐아크릴레이트, 페닐메타크리레이트, 2-니트로페닐아크릴레이트, 4-니트로페닐아크릴레이트, 2-니트로페닐메타크릴레이트, 4-니트로페닐메타크릴레이트, 2-니트로벤질메타크릴레이트, 4-니트로벤질메타크릴레이트, 2-클로로페닐아크릴레이트, 4-클로로페닐아크릴레이트, 2-클로로페닐메타크릴레이트, 또는 4-클로로페닐메타크릴레이트 등을 사용할 수 있다.
상기 방향족 단량체는 아크릴레이트 고분자 수지 제조시 사용되는 총 단량체에 10 내지 30 중량%로 포함되는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 15 내지 20 중량%로 포함되는 것이 좋다. 함량이 상기 범위 내인 경우 기판과의 밀착성, 패턴의 접착력, 형성된 패턴의 직진성, 안정적인 패턴 구현, 소성 공정시 용이한 제거 를 모두 만족시킬 수 있어 좋다.
상기 불포화 카르본산 단량체와 방향족 단량체 이외에 아크릴레이트 고분자 수지 제조시 사용되는 기타 단량체는 고분자의 유리전이온도와 극성을 조절하는 작용을 한다.
상기 기타 단량체는 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시옥틸(메타)아크릴레이트, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 또는 n-부틸아크릴레이트 등을 사용할 수 있으며, 그 함량은 고분자의 유리전이온도, 내열성, 기재와의 친밀성 등을 고려하여 아크릴레이트 고분자 수지 제조시 사용되는 총 단량체에 20 내지 60 중량%로 포함되는 것이 좋다.
상기와 같은 단량체들을 중합하여 제조되는 아크릴레이트 고분자 수지는 불포화 카르본산 단량체, 방향족 단량체, 및 기타 단량체의 겔화를 방지하고, 옵셋 인쇄공정시 적절한 휘발성을 제어할 수 있도록 용매하에서 중합하여 제조할 수 있다.
상기 용매로는 프필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르프로피오네이트, 에틸에테르프로피오네이트, 터핀올, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디메틸아미노 포름알데히드, 메틸에틸케톤, 부틸카비톨, 부틸카비톨 아세테이트, 감마부티로락톤, 또는 에틸락테이트 등을 단독 또는 2 종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
상기와 같은 단량체들을 용매의 존재하에서 중합하여 얻어진 상기 아크릴레이트 고분자 수지는 중량평균분자량이 10,000 내지 100,000인 것이 바람직하며, 더 욱 바람직하게는 20,000 내지 50,000인 것이 좋다. 중량평균분자량이 상기 범위 내인 경우 고분자 수지의 유리전이온도가 낮아 고분자의 유동특성이 증가하여 오프 공정시 그라비아 홈으로부터 블랑킷으로의 패턴 전달이 어려울 수 있는 문제점과 고분자 수지의 과다한 탄성 특성으로 인해 그라비아 홈으로의 조성물 투입이 어렵다는 문제점을 동시에 해결할 수 있다.
상기 아크릴레이트 고분자 수지는 본 발명의 인쇄용 페이스트 조성물의 5 내지 30 중량%로 포함되는 것이 바람직하다. 상기 함량이 5 중량% 미만일 경우에는 조성물의 탄성 감소로 인해 오프 공정시 문제가 발생할 수 있는 가능성이 있으며, 30 중량%를 초과할 경우에는 형성된 패턴의 전기저항이 증가하게 된다는 문제점이 있다.
또한 본 발명은 b) 비점이 적어도 200 ℃ 이상인 고비점 용제를 포함한다. 상기 고비점 용제는 비점이 200 ℃ 이상이면 특별히 한정되지 않으며, 구체적인 예로서 감마부티로락톤, 부틸카비톨아세테이트, 카비톨, 메톡시메틸에테르프로피오네이트, 또는 테핀올(terpinol) 등을 사용할 수 있다.
상기 고비점 용제는 본 발명의 인쇄용 페이스트 조성물에 5 내지 35 중량%로 포함되는 것이 바람직하다. 상기 함량이 5 중량% 미만일 경우에는 용제의 유동성 감소 속도가 급속하게 빨라져 인쇄공정 중 오프 공정에서 패턴의 전이가 용이하지 않다는 문제점이 있으며, 35 중량%를 초과할 경우에는 옵셋 인쇄시 셋 공정에서 조성물의 유동성 억제가 곤란해져 패턴이 직진도가 떨어지며, 인쇄시 패턴 퍼짐 현상이 심화될 수 있다는 문제점이 있다.
또한 본 발명은 c) 비점이 200 ℃ 미만인 저비점 용제를 포함한다.
상기 저비점 용제는 비점이 200 ℃이면 특별히 한정되지 않으며, 구체적인 예로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜몬메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르프로피오네이트, 에틸에테르프로피오네이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 메틸에틸케톤, 또는 에틸락테이트 등을 사용할 수 있다.
상기 저비점 용제는 본 발명의 인쇄용 페이스트 조성물에 대하여 5 내지 35 중량%로 포함되는 것이 바람직하다. 상기 함량이 5 중량% 미만일 경우에는 옵셋 인쇄시 셋 공정에서 조성물의 유동성 억제가 곤란해져 패턴의 직진도가 떨어지며, 인쇄시 패턴 퍼짐 현상이 심해질 수 있다는 문제점이 있으며, 35 중량%를 초과할 경우에는 유동성 감소 속도가 급속하게 빨라져 인쇄공정 중 오프 공정에서 패턴의 전이가 용이하지 않다는 문제점이 있다.
바람직하기로는 상기 b) 고비점 용매와 c) 저비점 용매의 합계가 본 발명의 인쇄용 페이스트 조성물에 40 중량% 이하인 것이 좋다. 그 함량이 40 중량부를 초과할 경우에는 페이트의 점도가 낮아져 인쇄특성이 악화될 수 있는 우려가 있다. 또한 상기 휘발성 용제는 고비점 용제와 저비점 용제를 적절히 혼용하여 최종 그라비아 옵셋 인쇄용 페이스트 조성물의 점도가 5,000 내지 20,000 cP가 되도록 조절하는 것이 좋다.
본 발명에 사용되는 상기 d)의 금속 분말은 PDP 전극형성에 사용될 수 있는 금속분말이나 전자파 차폐용 메쉬 필터의 전극에 사용될 수 있는 금속분말이면 특별히 한정되지 않으며, 구체적인 예로서 은, 구리, 니켈 또는 이들을 포함하는 합 금 등을 사용할 수 있다.
상기 금속 분말은 인쇄용 페이스트 조성물에 대하여 50 내지 85 중량%로 포함되는 것이 바람직하다. 상기 함량이 50 중량% 미만일 경우에는 형성된 패턴의 전기저항 증가로 인해 요구되는 전극으로서의 성능이나 전자파차폐 성능이 저하될 수 있다는 문제점이 있으며, 85 중량%를 초과할 경우에는 조성물이 점도가 상승하고 분산이 어려워져 인쇄특성이 저하될 수 있다는 문제점이 있다.
또한 본 발명의 인쇄용 페이스트 조성물은 필요에 따라 선택적으로 전극용 금속 분말의 분산을 위한 분산제, 명암(contrast) 조절을 위한 블랙 안료, 소성시 글라스와의 접착력 증가를 위한 유리 파우더(glass powder) 등을 더욱 포함할 수 있으며, 그 함량은 본 발명의 인쇄용 페이스트 조성물에 대하여 0.01 내지 10 중량%를 사용하는 것이 좋으며, 더욱 바람직하게는 0.1 내지 3 중량%를 사용하는 것이 좋다.
또한 본 발명은 상기 인쇄용 페이스트 조성물을 이용하여 그라비아 옵셋 인쇄법으로 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널의 전극형성방법을 제공하는 바, 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 전극형성방법은 인쇄용 페이스트를 사용하여 플라즈마 디스플레이 패널의 전극을 형성하는 방법에 있어서, 상기 통상적인 페이스트 조성물을 대신하여 상기 본 발명의 옵셋 인쇄용 페이스트 조성물을 사용하고, 그라비아 옵셋 인쇄방법을 채택함에 특징이 있으며, 기타 공지의 방법을 공정을 수반하여 플라즈마 디스플레이 전극을 형성할 수 있음은 물론이다.
또한 본 발명은 상기 인쇄용 페이스트 조성물을 이용하여 그라비아 옵셋 인쇄법으로 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 전자파 차폐용 메쉬 필터의 전극형성방법을 제공하는 바, 본 발명의 전자파 차폐용 메쉬 필터의 전극형성방법은 인쇄용 페이스트를 사용하여 전자파 차폐용 메쉬 필터의 전극을 형성하는 방법에 있어서, 상기 통상적인 페이스트 조성물을 대신하여 상기 본 발명의 인쇄용 페이스트 조성물을 사용하고, 그라비아 옵셋 인쇄방법을 채택함에 특징이 있으며, 기타 공지의 방법을 공정을 수반하여 전자파 차폐용 메쉬 필터 전극을 형성할 수 있음은 물론이다.
상기 본 발명의 인쇄용 페이스트 조성물을 이용하는 플라즈마 디스플레이 패널의 전극형성방법 및 전자파 차폐용 메쉬 필터의 제조방법은 인쇄특성이 우수하며, 형성된 패턴의 직진성 및 안정성이 우수하며, 특히 직접인쇄 방식을 취하기 때문에 포토리소그라피법을 이용하는 것보다 경제성이 현저히 향상되는 장점이 있다.
이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시하나, 하기 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.
[실시예]
실시예 1
아크릴레이트 고분자 수지로 메타크릴산(MA) : 벤질아크릴레이트(BA) : 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트(2-HEMA) : 메틸(메타)아크릴레이트(MMA) = 30 : 20 : 10 : 40의 중량비율로 중합된 고분자 수지(중량평균분자량 25,000) 15 중량%, 고비점 용제로 테핀올(α-, β-, γ-테피놀이 혼합물) 10 중량%, 저비점 용제로 프로필렌글리콜모노메틸에티르프로피오네이트(PGMEP) 10 중량%, 전극용 금속 분말로 은 63 중량%, 및 분산제로 아민기를 포함하는 유기분산제 2 중량%를 상온에서 혼합, 교반하고, 최종적으로 3-롤(roll) 밀을 이용하여 원하는 인쇄용 페이스트 조성물을 제조하였다.
실시예 2∼3 및 비교예 1∼2
상기 실시예 1에서 하기 표 1에 나타낸 조성비로 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 실시하여 인쇄용 페이스트 조성물을 제조하였다.
하기 표 1의 단위는 중량%이다.
구분 실시예 2 실시예 3 비교예 1 비교예 2
아크릴레이트 고분자 수지 10 10 15 15
테핀올 10 8 17 3
PGMEP 8 10 3 17
은 70 70 63 63
분산제 2 2 2 2
상기 실시예 1 내지 3 및 비교예 1 또는 2에서 제조한 인쇄용 페이스트 조성물을 이용하여 인쇄특성, 최소선폭, 및 패턴 직진성의 그라비아 옵셋 인쇄 평가를 실시하고, 그 결과를 도 1 및 하기 표 2에 나타내었다.
인쇄특성 평가는　셋(set) 공정시 기판에 전이되지 않고 블랑킷에 남아있는 조성물 수준으로 광학현미경으로 관찰하여 평가하였으며, ○ 는 셋 공정시 블랑킷에 잔존 인쇄 조성물 없는 경우를 의미하며, X는 셋 공정시 블랑킷에 인쇄 조성물 과량으로 잔존하며 기판에 패턴 전이 불가능한 경우를 의미한다. 최소선폭은 그라비아 옵셋 인쇄법을 통해 형성 가능한 패턴의 최소 크기를 측정하였으며, 크기가 작을수록 좋다. 또한 패턴직진성은 인쇄 후 기판에 형성된 패턴의 직진성 정도로 광학 현미경으로 관찰하였으며, 패턴의 직진성이 우수한 경우는 ○, 보통의 경우는 △, 불량의 경우는 × 로 나타내었다.
구분 실시예 1 실시예 2 실시예 3 비교예 1 비교예 2
인쇄특성 ○ ○ ○ ○ ×
최소선폭 15 ㎛ 20 ㎛ 20 ㎛ 50 ㎛ -
패턴직진성 ○ ○ ○ × -
상기 표 2 및 도 1에 나타낸 바와 같이, 본 발명에 따른 인쇄용 페이스트 조성물을 이용하여 그라비아 옵셋 인쇄법에 의해 패턴을 형성한 실시예 1 내지 3은 비교예 1 및 비교예 2와 비교하여 인쇄특성이 우수하고, 최소선폭이 20 ㎛ 이하로 좁으며, 패턴직진성이 우수함을 확인할 수 있었다. 상기에서 비교예 2의 경우 인쇄가 되지 않아 패턴이 형성되지 못하였다.
본 발명에 따른 인쇄용 페이스트 조성물은 미세 패턴을 직접 형성할 수 있는 그라비아 옵셋 방식에 적절하며, 종래 포토리소그라피 방법을 이용하는 방법에 비하여 경제성이 뛰어나며, 동시에 적절한 옵셋 인쇄 특성 발휘를 위하여 각각이 인쇄공정 절차에 요구되는 조성물의 다양한 요구 물성을 충족시킬 수 있는 효과가 있다.
이상에서 본 발명의 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만, 본 발 명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.

Claims (11)

  1. 삭제
  2. 인쇄용 페이스트 조성물에 있어서,
    a) ⅰ) 불포화 카르본산 단량체 20-50 중량%, ⅱ) 방향족 단량체 10-30 중량%, 및 ⅲ) 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시옥틸(아크릴레이트), 메타(메틸)아크릴레이트, n-부틸아크릴레이트로 이루어지는 군으로부터 1종 이상 선택되는 단량체 20-60 중량%를 용매하에서 중합하여 제조된 아크릴레이트 고분자 수지 5 내지 30 중량%;
    b) 감마부티로락톤, 부틸카비톨아세테이트, 카비톨, 메톡시메틸에테르프로피오네이트 및 테피놀로 이루어지는 군으로부터 1종 이상 선택되는 고비점 용제 5 내지 35 중량%;
    c) 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르프로피오네이트, 에텔에테르프로피오네이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 메틸에틸케톤, 및 에틸락테이트로 이루어지는 군으로부터 1종 이상 선택되는 저비점 용제 5 내지 35 중량%; 및
    d) 은, 구리, 니켈 및 이들을 포함하는 합금으로 이루어지는 군으로부터 1종 이상 선택되는 금속분말 50 내지 85 중량%
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 인쇄용 페이스트 조성물.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 불포화 카르본산 단량체이 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산, 말레산, 푸마르산, 비닐초산, 및 이들의 산 무수물 형태로 이루어지는 군으로부터 1 종 이 상 선택되는 것을 특징으로 하는 인쇄용 페이스트 조성물.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 방향족 단량체가 스티렌, 벤질메타크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 페닐아크릴레이트, 페닐메타크리레이트, 2-니트로페닐아크릴레이트, 4-니트로페닐아크릴레이트, 2-니트로페닐메타크릴레이트, 4-니트로페닐메타크릴레이트, 2-니트로벤질메타크릴레이트, 4-니트로벤질메타크릴레이트, 2-클로로페닐아크릴레이트, 4-클로로페닐아크릴레이트, 2-클로로페닐메타크릴레이트, 및 4-클로로페닐메타크릴레이트로 이루어지는 군으로부터 1 종 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 인쇄용 페이스트 조성물.
  5. 제2항에 있어서,
    상기 아크릴레이트 고분자 수지의 중량평균분자량이 10,000 내지 100,000인 것을 특징으로 하는 인쇄용 페이스트 조성물.
  6. 삭제
  7. 삭제
  8. 삭제
  9. 제2항에 있어서,
    분산제, 블랙 안료, 및 유리 파우더(glass powder)로 이루어지는 군으로부터 1 종 이상 선택되는 첨가제를 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 인쇄용 페이스트 조성물.
  10. 제2항, 제3항, 제4항, 제5항, 또는 제9항 중 어느 한 항 기재의 인쇄용 페이스트 조성물을 이용하여 그라비아 옵셋 인쇄법으로 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 플라즈마 패널 디스플레이 전극형성방법.
  11. 제2항, 제3항, 제4항, 제5항, 또는 제9항 중 어느 한 항 기재의 인쇄용 페이스트 조성물을 이용하여 그라비아 옵셋 인쇄법으로 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 전자파 차폐용 메쉬 필터의 전극형성방법.
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