JP2014505654A5 - - Google Patents
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試料を粉砕しない場合および試料を粉砕する場合の、アセトンを含有するTFESKの試料を加熱する効果を、表5に示す。アセトン溶媒和物を、150℃を超える温度まで加熱すると、TFESK中のアセトンの量が減少されるが、実施例17および18のような加熱前の試料の粉砕が、TFESK中のアセトンをより低いレベルまで減少させるのに特に効果的であった。
以下に、本発明の好ましい態様を示す。
[1] フルオロアルカンスルホン酸塩を精製するための方法であって、
(a)
1)式
[C(H)(F)(X)CF2SO3]yM (I)
(式中、
Xが、H、Cl、F、CF3、またはORであり;
Rが、C1〜C6アルキル、フルオロアルキル、またはペルフルオロアルキルであり;
Mが、Li、Na、K、Cs、Rb、Ca、またはBaであり;
yが、Mの原子価と等しい正の整数である)
の少なくとも1種のフルオロアルカンスルホン酸塩;および
2)少なくとも1種の無機塩汚染物質
を含む混合物を1種または複数種の溶媒と接触させて、前記塩の少なくとも一部を溶液中に選択的に溶解させる工程と;
(b)前記混合物から前記溶液を単離して、フルオロアルカンスルホン酸塩のグラム当たり500マイクログラム未満の無機塩汚染物質を含有するか、または最大で0.3重量%未満の個々の溶媒を含有するフルオロアルカンスルホン酸塩を得る工程と
を含むことを特徴とする方法。
[2] フルオロアルカンスルホン酸塩の前記溶液を乾燥させる工程をさらに含むことを特徴とする[1]に記載の方法。
[3] 前記溶媒が、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトニトリル、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、および炭酸ジメチル、またはそれらの混合物であり、前記汚染物質が、塩化物、フッ化物、水酸化物、炭酸塩、炭酸水素塩、硫酸塩、亜硫酸塩、亜硫酸水素塩、ホウ酸塩、リン酸塩、リン酸一水素塩、およびリン酸二水素塩からなる群から選択される1種または複数種のM−塩汚染物質であり、Mが、Li、Na、K、Cs、Rb、Ca、またはBaであることを特徴とする[1]に記載の方法。
[4] 工程(a)の前記接触の後でかつ工程(b)の前記単離の前に、フルオロアルカンスルホン酸塩の前記溶液を希釈剤と混合する工程をさらに含むことを特徴とする[1]に記載の方法。
[5] 前記フルオロアルカンスルホン酸塩が前記希釈剤に不溶性であり、前記希釈剤が前記溶媒より高い沸点を有することを特徴とする[4]に記載の方法。
[6] 前記希釈剤が、約90℃超で約150℃未満の沸点をそれぞれが有する、アルカン、アレーン、ハロゲン化炭化水素、ハロゲン置換アレーン、脂肪族エーテル、脂肪族エステル、脂肪族炭酸エステル、脂肪族ケトン、および水のうちの少なくとも1つ、またはそれらの混合物であることを特徴とする[4]に記載の方法。
[7] 前記溶媒除去の後、ろ過、蒸発、または遠心分離によって、前記フルオロアルカンスルホン酸塩を単離する工程をさらに含むことを特徴とする[4]に記載の方法。
[8] 前記汚染物質が、亜硫酸塩および硫酸塩を含有し、工程(a)において前記混合物を溶媒と接触させる前に、前記混合物を、水、ならびに空気、酸素、過酸化水素、過硫酸塩、次亜塩素酸ナトリウム、塩素、または二酸化塩素から選択される酸化剤と接触させて、前記亜硫酸塩および亜硫酸水素塩を硫酸塩に転化した後に前記水を除去することを特徴とする[1]に記載の方法。
[9] 工程(b)の後、前記使用された溶媒の回収および前記溶媒を前記方法の工程(a)に戻して再利用する工程をさらに含むことを特徴とする[1]に記載の方法。
[10] 工程(b)の後、前記使用された希釈剤の回収および前記希釈剤を前記方法に戻して再利用する工程をさらに含むことを特徴とする[4]に記載の方法。
[11] 乾燥後、前記塩を約1mmの最大直径を有する粒度になるまで粉砕し、最低150℃の温度まで加熱して、溶媒のレベルをさらに減少させることを特徴とする[2]に記載の方法。
以下に、本発明の好ましい態様を示す。
[1] フルオロアルカンスルホン酸塩を精製するための方法であって、
(a)
1)式
[C(H)(F)(X)CF2SO3]yM (I)
(式中、
Xが、H、Cl、F、CF3、またはORであり;
Rが、C1〜C6アルキル、フルオロアルキル、またはペルフルオロアルキルであり;
Mが、Li、Na、K、Cs、Rb、Ca、またはBaであり;
yが、Mの原子価と等しい正の整数である)
の少なくとも1種のフルオロアルカンスルホン酸塩;および
2)少なくとも1種の無機塩汚染物質
を含む混合物を1種または複数種の溶媒と接触させて、前記塩の少なくとも一部を溶液中に選択的に溶解させる工程と;
(b)前記混合物から前記溶液を単離して、フルオロアルカンスルホン酸塩のグラム当たり500マイクログラム未満の無機塩汚染物質を含有するか、または最大で0.3重量%未満の個々の溶媒を含有するフルオロアルカンスルホン酸塩を得る工程と
を含むことを特徴とする方法。
[2] フルオロアルカンスルホン酸塩の前記溶液を乾燥させる工程をさらに含むことを特徴とする[1]に記載の方法。
[3] 前記溶媒が、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトニトリル、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、および炭酸ジメチル、またはそれらの混合物であり、前記汚染物質が、塩化物、フッ化物、水酸化物、炭酸塩、炭酸水素塩、硫酸塩、亜硫酸塩、亜硫酸水素塩、ホウ酸塩、リン酸塩、リン酸一水素塩、およびリン酸二水素塩からなる群から選択される1種または複数種のM−塩汚染物質であり、Mが、Li、Na、K、Cs、Rb、Ca、またはBaであることを特徴とする[1]に記載の方法。
[4] 工程(a)の前記接触の後でかつ工程(b)の前記単離の前に、フルオロアルカンスルホン酸塩の前記溶液を希釈剤と混合する工程をさらに含むことを特徴とする[1]に記載の方法。
[5] 前記フルオロアルカンスルホン酸塩が前記希釈剤に不溶性であり、前記希釈剤が前記溶媒より高い沸点を有することを特徴とする[4]に記載の方法。
[6] 前記希釈剤が、約90℃超で約150℃未満の沸点をそれぞれが有する、アルカン、アレーン、ハロゲン化炭化水素、ハロゲン置換アレーン、脂肪族エーテル、脂肪族エステル、脂肪族炭酸エステル、脂肪族ケトン、および水のうちの少なくとも1つ、またはそれらの混合物であることを特徴とする[4]に記載の方法。
[7] 前記溶媒除去の後、ろ過、蒸発、または遠心分離によって、前記フルオロアルカンスルホン酸塩を単離する工程をさらに含むことを特徴とする[4]に記載の方法。
[8] 前記汚染物質が、亜硫酸塩および硫酸塩を含有し、工程(a)において前記混合物を溶媒と接触させる前に、前記混合物を、水、ならびに空気、酸素、過酸化水素、過硫酸塩、次亜塩素酸ナトリウム、塩素、または二酸化塩素から選択される酸化剤と接触させて、前記亜硫酸塩および亜硫酸水素塩を硫酸塩に転化した後に前記水を除去することを特徴とする[1]に記載の方法。
[9] 工程(b)の後、前記使用された溶媒の回収および前記溶媒を前記方法の工程(a)に戻して再利用する工程をさらに含むことを特徴とする[1]に記載の方法。
[10] 工程(b)の後、前記使用された希釈剤の回収および前記希釈剤を前記方法に戻して再利用する工程をさらに含むことを特徴とする[4]に記載の方法。
[11] 乾燥後、前記塩を約1mmの最大直径を有する粒度になるまで粉砕し、最低150℃の温度まで加熱して、溶媒のレベルをさらに減少させることを特徴とする[2]に記載の方法。
Claims (1)
- フルオロアルカンスルホン酸塩を精製するための改良された方法であって、
(a)
1)式
[C(H)(F)(X)CF2SO3]yM (I)
(式中、
Xが、H、Cl、F、CF3、またはORであり;
Rが、C1〜C6アルキル、フルオロアルキル、またはペルフルオロアルキルであり;
Mが、Li、Na、K、Cs、Rb、Ca、またはBaであり;
yが、Mの原子価と等しい正の整数である)
の少なくとも1種のフルオロアルカンスルホン酸塩;および
2)少なくとも1種の無機塩汚染物質
を含む混合物を1種または複数種の溶媒と接触させて、前記フルオロアルカンスルホン酸塩の少なくとも一部を選択的に溶液中に溶解させる工程と;
(b)前記混合物から前記溶液を単離する工程と;
(c)水および/または1種または複数種の希釈剤を前記溶液に加える工程であって、各希釈剤が、90℃超でかつ150℃未満の沸点を有する工程と;
(d)前記溶媒を前記溶液から除去する工程と;
(e)前記フルオロアルカンスルホン酸塩を溶液から単離して、精製されたフルオロアルカンスルホン酸塩を得る工程と
を含むことを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US12/879,553 US8461378B2 (en) | 2010-09-10 | 2010-09-10 | Purification of fluoroalkanesulfonate salts |
US12/879,553 | 2010-09-10 | ||
PCT/US2011/050629 WO2012033798A1 (en) | 2010-09-10 | 2011-09-07 | Purification of fluoroalkanesulfonate salts |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014505654A JP2014505654A (ja) | 2014-03-06 |
JP2014505654A5 true JP2014505654A5 (ja) | 2014-10-02 |
JP5755332B2 JP5755332B2 (ja) | 2015-07-29 |
Family
ID=44653582
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013528261A Expired - Fee Related JP5755332B2 (ja) | 2010-09-10 | 2011-09-07 | フルオロアルカンスルホン酸塩の精製 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8461378B2 (ja) |
EP (1) | EP2614048B1 (ja) |
JP (1) | JP5755332B2 (ja) |
KR (1) | KR101857837B1 (ja) |
CN (1) | CN103097349B (ja) |
AU (1) | AU2011299269B2 (ja) |
CA (1) | CA2809281C (ja) |
NZ (1) | NZ606653A (ja) |
WO (1) | WO2012033798A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6006595B2 (ja) * | 2012-09-21 | 2016-10-12 | 株式会社日本触媒 | スルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物およびその製造方法 |
KR102145939B1 (ko) * | 2018-10-30 | 2020-08-20 | 한국화학연구원 | 고순도 술포네이트계 난연제의 제조방법 |
CN111170898B (zh) * | 2020-02-13 | 2022-05-06 | 内蒙古三爱富万豪氟化工有限公司 | 全氟丁磺酸钾的制备方法 |
Family Cites Families (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2403207A (en) | 1943-03-08 | 1946-07-02 | Du Pont | Chemical process and products |
ATE124710T1 (de) | 1988-03-29 | 1995-07-15 | Cytec Tech Corp | Zusammensetzung und verwendung. |
JPH05289234A (ja) | 1992-02-12 | 1993-11-05 | Konica Corp | ハロゲン化銀写真感光材料 |
EP0679945B1 (en) | 1994-04-20 | 1998-08-19 | Eastman Kodak Company | Processing of a silver halide photgraphic with a peroxide bleach composition |
US5518788A (en) | 1994-11-14 | 1996-05-21 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Antistatic hard coat incorporating a polymer comprising pendant fluorinated groups |
US5877796A (en) | 1995-05-12 | 1999-03-02 | Konica Corporation | Recording sheet for ink-jet recording and recording method employing the same |
EP0752711B1 (en) | 1995-07-07 | 1999-10-06 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Antistatic X-ray intensifying screen comprising fluoroalkylsulfonate salts |
JPH09110823A (ja) * | 1995-10-23 | 1997-04-28 | Noguchi Kenkyusho | トリス(ハイドロフルオロカーボンスルホン酸)希土類元素塩 |
JPH11242316A (ja) | 1997-11-13 | 1999-09-07 | Konica Corp | ハロゲン化銀写真感光材料および処理方法 |
US6171774B1 (en) | 1997-11-13 | 2001-01-09 | Konica Corporation | Silver halide photographic light-sensitive material |
JP3751145B2 (ja) | 1998-03-05 | 2006-03-01 | 独立行政法人科学技術振興機構 | 界面活性ルイス酸触媒 |
US6417147B2 (en) | 2000-02-29 | 2002-07-09 | Showa Denko K.K. | Cleaning agent composition, method for cleaning and use thereof |
JP2001279021A (ja) | 2000-03-30 | 2001-10-10 | Nippon Zeon Co Ltd | 加硫可能なニトリル系ゴム組成物および加硫ゴム物品 |
JP2002167500A (ja) | 2000-12-01 | 2002-06-11 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 難燃性樹脂組成物 |
DE60234409D1 (de) | 2001-06-29 | 2009-12-31 | Jsr Corp | Säuregenerator, Sulfonsäure, Sulfonsäurederivate und strahlungsempfindliche Zusammensetzung |
JP3826777B2 (ja) | 2001-12-05 | 2006-09-27 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物 |
JP4017386B2 (ja) | 2001-12-17 | 2007-12-05 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 非水溶媒中におけるフルオロアルキルスルホニル基含有アルカリ金属塩の製造方法及びその使用方法 |
JP4096230B2 (ja) | 2002-06-19 | 2008-06-04 | 住友ゴム工業株式会社 | 導電性ローラ、及び導電性ベルト |
JP4123855B2 (ja) | 2002-07-19 | 2008-07-23 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | ドライイメージング材料 |
FR2853319B1 (fr) | 2003-04-03 | 2005-05-06 | Rhodia Chimie Sa | Composition reticulable pour electrolyte de batterie |
KR20060009930A (ko) | 2003-05-12 | 2006-02-01 | 알케마 인코포레이티드 | 고순도 설폰산 전해질 용액 |
JPWO2005033150A1 (ja) | 2003-10-01 | 2007-11-15 | ダイキン工業株式会社 | 含フッ素重合体組成物製造方法及び含フッ素重合体組成物 |
US7297813B2 (en) | 2004-08-05 | 2007-11-20 | Arkema Inc. | Removal of alkyl alkanesulfonate esters from alkanesulfonic acids and other organic media |
US7834209B2 (en) * | 2005-06-07 | 2010-11-16 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Hydrofluoroalkanesulfonic acids from fluorovinyl ethers |
US7683209B2 (en) | 2005-06-07 | 2010-03-23 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Manufacture of hydrofluoroalkanesulfonic acids |
JPWO2008084846A1 (ja) | 2007-01-12 | 2010-05-06 | ダイキン工業株式会社 | 電気二重層キャパシタ |
JP2010083764A (ja) * | 2008-09-29 | 2010-04-15 | Asahi Kasei Corp | 新規スルホンイミド塩の精製方法 |
JP5405129B2 (ja) * | 2009-01-05 | 2014-02-05 | 三菱マテリアル株式会社 | ペルフルオロアルキルスルホン酸塩の製造方法 |
-
2010
- 2010-09-10 US US12/879,553 patent/US8461378B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2011
- 2011-09-07 NZ NZ606653A patent/NZ606653A/en not_active IP Right Cessation
- 2011-09-07 CN CN201180043139.9A patent/CN103097349B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2011-09-07 CA CA2809281A patent/CA2809281C/en not_active Expired - Fee Related
- 2011-09-07 KR KR1020137009013A patent/KR101857837B1/ko active IP Right Grant
- 2011-09-07 WO PCT/US2011/050629 patent/WO2012033798A1/en active Application Filing
- 2011-09-07 JP JP2013528261A patent/JP5755332B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2011-09-07 EP EP11758043.1A patent/EP2614048B1/en not_active Not-in-force
- 2011-09-07 AU AU2011299269A patent/AU2011299269B2/en not_active Ceased
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