JP2014505654A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2014505654A5
JP2014505654A5 JP2013528261A JP2013528261A JP2014505654A5 JP 2014505654 A5 JP2014505654 A5 JP 2014505654A5 JP 2013528261 A JP2013528261 A JP 2013528261A JP 2013528261 A JP2013528261 A JP 2013528261A JP 2014505654 A5 JP2014505654 A5 JP 2014505654A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
solution
mixture
fluoroalkane
solvent
contacting
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2013528261A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2014505654A (ja
JP5755332B2 (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from US12/879,553 external-priority patent/US8461378B2/en
Application filed filed Critical
Publication of JP2014505654A publication Critical patent/JP2014505654A/ja
Publication of JP2014505654A5 publication Critical patent/JP2014505654A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5755332B2 publication Critical patent/JP5755332B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

試料を粉砕しない場合および試料を粉砕する場合の、アセトンを含有するTFESKの試料を加熱する効果を、表5に示す。アセトン溶媒和物を、150℃を超える温度まで加熱すると、TFESK中のアセトンの量が減少されるが、実施例17および18のような加熱前の試料の粉砕が、TFESK中のアセトンをより低いレベルまで減少させるのに特に効果的であった。
以下に、本発明の好ましい態様を示す。
[1] フルオロアルカンスルホン酸塩を精製するための方法であって、
(a)
1)式
[C(H)(F)(X)CF2SO3yM (I)
(式中、
Xが、H、Cl、F、CF3、またはORであり;
Rが、C1〜C6アルキル、フルオロアルキル、またはペルフルオロアルキルであり;
Mが、Li、Na、K、Cs、Rb、Ca、またはBaであり;
yが、Mの原子価と等しい正の整数である)
の少なくとも1種のフルオロアルカンスルホン酸塩;および
2)少なくとも1種の無機塩汚染物質
を含む混合物を1種または複数種の溶媒と接触させて、前記塩の少なくとも一部を溶液中に選択的に溶解させる工程と;
(b)前記混合物から前記溶液を単離して、フルオロアルカンスルホン酸塩のグラム当たり500マイクログラム未満の無機塩汚染物質を含有するか、または最大で0.3重量%未満の個々の溶媒を含有するフルオロアルカンスルホン酸塩を得る工程と
を含むことを特徴とする方法。
[2] フルオロアルカンスルホン酸塩の前記溶液を乾燥させる工程をさらに含むことを特徴とする[1]に記載の方法。
[3] 前記溶媒が、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトニトリル、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、および炭酸ジメチル、またはそれらの混合物であり、前記汚染物質が、塩化物、フッ化物、水酸化物、炭酸塩、炭酸水素塩、硫酸塩、亜硫酸塩、亜硫酸水素塩、ホウ酸塩、リン酸塩、リン酸一水素塩、およびリン酸二水素塩からなる群から選択される1種または複数種のM−塩汚染物質であり、Mが、Li、Na、K、Cs、Rb、Ca、またはBaであることを特徴とする[1]に記載の方法。
[4] 工程(a)の前記接触の後でかつ工程(b)の前記単離の前に、フルオロアルカンスルホン酸塩の前記溶液を希釈剤と混合する工程をさらに含むことを特徴とする[1]に記載の方法。
[5] 前記フルオロアルカンスルホン酸塩が前記希釈剤に不溶性であり、前記希釈剤が前記溶媒より高い沸点を有することを特徴とする[4]に記載の方法。
[6] 前記希釈剤が、約90℃超で約150℃未満の沸点をそれぞれが有する、アルカン、アレーン、ハロゲン化炭化水素、ハロゲン置換アレーン、脂肪族エーテル、脂肪族エステル、脂肪族炭酸エステル、脂肪族ケトン、および水のうちの少なくとも1つ、またはそれらの混合物であることを特徴とする[4]に記載の方法。
[7] 前記溶媒除去の後、ろ過、蒸発、または遠心分離によって、前記フルオロアルカンスルホン酸塩を単離する工程をさらに含むことを特徴とする[4]に記載の方法。
[8] 前記汚染物質が、亜硫酸塩および硫酸塩を含有し、工程(a)において前記混合物を溶媒と接触させる前に、前記混合物を、水、ならびに空気、酸素、過酸化水素、過硫酸塩、次亜塩素酸ナトリウム、塩素、または二酸化塩素から選択される酸化剤と接触させて、前記亜硫酸塩および亜硫酸水素塩を硫酸塩に転化した後に前記水を除去することを特徴とする[1]に記載の方法。
[9] 工程(b)の後、前記使用された溶媒の回収および前記溶媒を前記方法の工程(a)に戻して再利用する工程をさらに含むことを特徴とする[1]に記載の方法。
[10] 工程(b)の後、前記使用された希釈剤の回収および前記希釈剤を前記方法に戻して再利用する工程をさらに含むことを特徴とする[4]に記載の方法。
[11] 乾燥後、前記塩を約1mmの最大直径を有する粒度になるまで粉砕し、最低150℃の温度まで加熱して、溶媒のレベルをさらに減少させることを特徴とする[2]に記載の方法。

Claims (1)

  1. フルオロアルカンスルホン酸塩を精製するための改良された方法であって、
    (a)
    1)式
    [C(H)(F)(X)CF2SO3yM (I)
    (式中、
    Xが、H、Cl、F、CF3、またはORであり;
    Rが、C1〜C6アルキル、フルオロアルキル、またはペルフルオロアルキルであり;
    Mが、Li、Na、K、Cs、Rb、Ca、またはBaであり;
    yが、Mの原子価と等しい正の整数である)
    の少なくとも1種のフルオロアルカンスルホン酸塩;および
    2)少なくとも1種の無機塩汚染物質
    を含む混合物を1種または複数種の溶媒と接触させて、前記フルオロアルカンスルホン酸塩の少なくとも一部を選択的に溶液中に溶解させる工程と;
    (b)前記混合物から前記溶液を単離する工程と;
    (c)水および/または1種または複数種の希釈剤を前記溶液に加える工程であって、各希釈剤が、90℃超でかつ150℃未満の沸点を有する工程と;
    (d)前記溶媒を前記溶液から除去する工程と;
    (e)前記フルオロアルカンスルホン酸塩を溶液から単離して、精製されたフルオロアルカンスルホン酸塩を得る工程と
    を含むことを特徴とする方法。
JP2013528261A 2010-09-10 2011-09-07 フルオロアルカンスルホン酸塩の精製 Expired - Fee Related JP5755332B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US12/879,553 US8461378B2 (en) 2010-09-10 2010-09-10 Purification of fluoroalkanesulfonate salts
US12/879,553 2010-09-10
PCT/US2011/050629 WO2012033798A1 (en) 2010-09-10 2011-09-07 Purification of fluoroalkanesulfonate salts

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2014505654A JP2014505654A (ja) 2014-03-06
JP2014505654A5 true JP2014505654A5 (ja) 2014-10-02
JP5755332B2 JP5755332B2 (ja) 2015-07-29

Family

ID=44653582

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013528261A Expired - Fee Related JP5755332B2 (ja) 2010-09-10 2011-09-07 フルオロアルカンスルホン酸塩の精製

Country Status (9)

Country Link
US (1) US8461378B2 (ja)
EP (1) EP2614048B1 (ja)
JP (1) JP5755332B2 (ja)
KR (1) KR101857837B1 (ja)
CN (1) CN103097349B (ja)
AU (1) AU2011299269B2 (ja)
CA (1) CA2809281C (ja)
NZ (1) NZ606653A (ja)
WO (1) WO2012033798A1 (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6006595B2 (ja) * 2012-09-21 2016-10-12 株式会社日本触媒 スルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物およびその製造方法
KR102145939B1 (ko) * 2018-10-30 2020-08-20 한국화학연구원 고순도 술포네이트계 난연제의 제조방법
CN111170898B (zh) * 2020-02-13 2022-05-06 内蒙古三爱富万豪氟化工有限公司 全氟丁磺酸钾的制备方法

Family Cites Families (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2403207A (en) 1943-03-08 1946-07-02 Du Pont Chemical process and products
ATE124710T1 (de) 1988-03-29 1995-07-15 Cytec Tech Corp Zusammensetzung und verwendung.
JPH05289234A (ja) 1992-02-12 1993-11-05 Konica Corp ハロゲン化銀写真感光材料
EP0679945B1 (en) 1994-04-20 1998-08-19 Eastman Kodak Company Processing of a silver halide photgraphic with a peroxide bleach composition
US5518788A (en) 1994-11-14 1996-05-21 Minnesota Mining And Manufacturing Company Antistatic hard coat incorporating a polymer comprising pendant fluorinated groups
US5877796A (en) 1995-05-12 1999-03-02 Konica Corporation Recording sheet for ink-jet recording and recording method employing the same
EP0752711B1 (en) 1995-07-07 1999-10-06 Minnesota Mining And Manufacturing Company Antistatic X-ray intensifying screen comprising fluoroalkylsulfonate salts
JPH09110823A (ja) * 1995-10-23 1997-04-28 Noguchi Kenkyusho トリス(ハイドロフルオロカーボンスルホン酸)希土類元素塩
JPH11242316A (ja) 1997-11-13 1999-09-07 Konica Corp ハロゲン化銀写真感光材料および処理方法
US6171774B1 (en) 1997-11-13 2001-01-09 Konica Corporation Silver halide photographic light-sensitive material
JP3751145B2 (ja) 1998-03-05 2006-03-01 独立行政法人科学技術振興機構 界面活性ルイス酸触媒
US6417147B2 (en) 2000-02-29 2002-07-09 Showa Denko K.K. Cleaning agent composition, method for cleaning and use thereof
JP2001279021A (ja) 2000-03-30 2001-10-10 Nippon Zeon Co Ltd 加硫可能なニトリル系ゴム組成物および加硫ゴム物品
JP2002167500A (ja) 2000-12-01 2002-06-11 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd 難燃性樹脂組成物
DE60234409D1 (de) 2001-06-29 2009-12-31 Jsr Corp Säuregenerator, Sulfonsäure, Sulfonsäurederivate und strahlungsempfindliche Zusammensetzung
JP3826777B2 (ja) 2001-12-05 2006-09-27 Jsr株式会社 感放射線性樹脂組成物
JP4017386B2 (ja) 2001-12-17 2007-12-05 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 非水溶媒中におけるフルオロアルキルスルホニル基含有アルカリ金属塩の製造方法及びその使用方法
JP4096230B2 (ja) 2002-06-19 2008-06-04 住友ゴム工業株式会社 導電性ローラ、及び導電性ベルト
JP4123855B2 (ja) 2002-07-19 2008-07-23 コニカミノルタホールディングス株式会社 ドライイメージング材料
FR2853319B1 (fr) 2003-04-03 2005-05-06 Rhodia Chimie Sa Composition reticulable pour electrolyte de batterie
KR20060009930A (ko) 2003-05-12 2006-02-01 알케마 인코포레이티드 고순도 설폰산 전해질 용액
JPWO2005033150A1 (ja) 2003-10-01 2007-11-15 ダイキン工業株式会社 含フッ素重合体組成物製造方法及び含フッ素重合体組成物
US7297813B2 (en) 2004-08-05 2007-11-20 Arkema Inc. Removal of alkyl alkanesulfonate esters from alkanesulfonic acids and other organic media
US7834209B2 (en) * 2005-06-07 2010-11-16 E.I. Du Pont De Nemours And Company Hydrofluoroalkanesulfonic acids from fluorovinyl ethers
US7683209B2 (en) 2005-06-07 2010-03-23 E.I. Du Pont De Nemours And Company Manufacture of hydrofluoroalkanesulfonic acids
JPWO2008084846A1 (ja) 2007-01-12 2010-05-06 ダイキン工業株式会社 電気二重層キャパシタ
JP2010083764A (ja) * 2008-09-29 2010-04-15 Asahi Kasei Corp 新規スルホンイミド塩の精製方法
JP5405129B2 (ja) * 2009-01-05 2014-02-05 三菱マテリアル株式会社 ペルフルオロアルキルスルホン酸塩の製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101636350B1 (ko) 함불소 비닐에테르의 제조방법
JP2008280305A (ja) フルオロカルボン酸エステルの製造方法
JP2010155814A (ja) ペルフルオロアルキルスルホン酸塩の製造方法
CN108373460A (zh) 一种环状硫酸酯的制备方法
JP2014505654A5 (ja)
RU2011102448A (ru) Способ очистки фторированного соединения
CN102989196A (zh) 一种油中酚类化合物的分离方法
CN103796759B (zh) 阴离子性含氟乳化剂的回收方法
CN108218828A (zh) 一种1,3-丙烷磺酸内酯的制备方法
JP4905349B2 (ja) 含フッ素アルコールの回収方法
JP2012031121A (ja) 置換ボレート含有イオン液体並びにイオン液体の使用方法及び製造方法
JP2014024786A (ja) パーフルオロアルキルスルホン酸金属塩の製造方法及びパーフルオロアルキルスルホン酸金属塩、これを利用したリチウムイオン電池用の電解質並びに樹脂用の導電性付与剤
US9540461B2 (en) Fluorinated unsaturated compound and polymers obtainable therefrom
KR101857837B1 (ko) 플루오로알칸설포네이트 염의 정제
JP2009167120A (ja) パーフルオロアリルブロミドの製造方法
JP2004018454A (ja) 含フッ素フルオロスルフォニルアルキルビニルエーテル製造方法
CN105130856B (zh) 二苯醚类磺酰叠氮化合物的制备方法
JP2006335699A (ja) モノマー中間体の製造方法
JP2006131588A (ja) 含フッ素スルフィン酸塩の製造方法
JP2005248104A (ja) N−アルキルビススルホニルイミド基含有ビニルモノマー
CN104262207B (zh) 一种含氟磺酸类化合物的制备方法
KR101344092B1 (ko) 퍼플루오로부탄술폰산염의 제조 방법
CN109912400A (zh) 全氟乙烯基全氟碘代乙基醚及其中间体的合成方法
JP2014031341A (ja) パーフルオロアルキルスルホン酸金属塩の製造方法
CN104610099A (zh) 一种含全氟壬稀基的季铵盐表面活性剂的制备方法