JP2014502646A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8829247B2 (en) * 2009-10-06 2014-09-09 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Cyclic compound, method of producing the same, radiation sensitive composition, and method of forming resist pattern
JP5857745B2 (ja) * 2009-11-27 2016-02-10 三菱瓦斯化学株式会社 環状化合物、その製造方法、感放射線性組成物及びレジストパターン形成方法
CN103752208A (zh) * 2014-01-28 2014-04-30 扬州大学 一种起泡剂和稳泡剂及其合成方法
EP3304202A4 (en) 2015-05-28 2019-01-09 Intel Corporation MEANS FOR DECOUPLING DISPENSING AND SOLUBILITY SWITCHING MECHANISMS OF PHOTOSENSITIVE RESINS
WO2019021758A1 (ja) * 2017-07-27 2019-01-31 Dic株式会社 レジスト材料
CN108363275A (zh) * 2018-02-07 2018-08-03 江苏艾森半导体材料股份有限公司 一种用于oled阵列制造的正性光刻胶
CN108897192B (zh) * 2018-04-19 2022-04-05 中科院广州化学有限公司南雄材料生产基地 一种巯基-烯纳米压印光刻胶及其使用方法

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4189323A (en) 1977-04-25 1980-02-19 Hoechst Aktiengesellschaft Radiation-sensitive copying composition
DE3265701D1 (en) 1981-02-13 1985-10-03 Ciba Geigy Ag Curable compositions containing an acid-curable resin, and process for curing them
JPH01293339A (ja) 1988-05-23 1989-11-27 Tosoh Corp フォトレジスト組成物
JP3116751B2 (ja) 1993-12-03 2000-12-11 ジェイエスアール株式会社 感放射線性樹脂組成物
JP3486341B2 (ja) 1997-09-18 2004-01-13 株式会社東芝 感光性組成物およびそれを用いたパターン形成法
JPH11217385A (ja) * 1998-01-30 1999-08-10 Nihon Schering Kk 含フッ素ポルフィリン錯体およびそれを含有する造影剤
US6093517A (en) 1998-07-31 2000-07-25 International Business Machines Corporation Calixarenes for use as dissolution inhibitors in lithographic photoresist compositions
EP1345080A3 (en) 2002-03-15 2004-02-04 Toyo Gosei Kogyo Co., Ltd. 1,2-Naphthoquinone-2-Diazidesulfonate Ester photosensitive agent, method for producing the photosensitive agent, and photoresist composition
JP2006208765A (ja) * 2005-01-28 2006-08-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd レジスト材料及びそれを用いたパターン形成方法
KR20080028863A (ko) 2005-06-01 2008-04-02 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 칼릭스레졸시나렌 화합물, 그리고, 그것으로 이루어지는포토레지스트 기재 및 그 조성물
US7781157B2 (en) 2006-07-28 2010-08-24 International Business Machines Corporation Method for using compositions containing fluorocarbinols in lithographic processes
CN103102251B (zh) 2006-11-02 2016-01-20 三菱瓦斯化学株式会社 放射线敏感性组合物
KR101463290B1 (ko) 2008-05-23 2014-12-08 코넬 유니버시티 전자 및 전기 장치에 사용되는 유기 물질의 직교 프로세싱

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