CN108363275A - 一种用于oled阵列制造的正性光刻胶 - Google Patents

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向文胜
张兵
赵建龙
朱坤
万阳
陆兰
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Abstract

本发明属于光刻胶技术领域，涉及一种用于OLED阵列制造的正性光刻胶，20～25质量份的改性酚醛树脂、3～5质量份的光敏剂、80～100质量份的丙二醇甲醚醋酸酯、0.005～0.03质量份的溶剂和0.005～0.03质量份的流平剂；所述改性酚醛树脂是一种改性氟系酚醛树脂。本发明采用氟改性酚醛树脂为主体，由于产品含有氟，加强了产品的流平性能，涂布没有亮度不均和气泡，分辨率高，适用于目前6代OLED行业。

Description

一种用于OLED阵列制造的正性光刻胶
技术领域
本发明涉及光刻胶技术领域，特别涉及一种涂布和曝光性能优良的光刻胶去胶液。
背景技术
正性光刻胶是一种图形化转移工具，光刻胶是一种由树脂、感光化合物、添加剂、溶剂组成的组合物，它受紫外光曝光后，曝光区域和非曝光区域在碱性溶剂液中产生了明显的差异，显影液溶去可溶解的部分，得到所需图形。
OLED平板显示器产业所用的正性光刻胶，其主要被AZ公司产品占据，主要成分和作用是：(1)线性酚醛树脂为成膜树脂，通过涂布工艺在喷溅金属的玻璃基材表面形成树脂涂层，利用光刻工艺，在涂层上“印制”线路。(2)感光剂(photo-active compound，简称PAC)采用邻重氮萘(diazo-naphthoquinone，简称为DNQ)磺酸酯，利用PAC在感光和非感光部分不同的反应，得到所需的图形。(3)溶剂和添加剂，溶剂作用是得到均匀的稀释液体，以便涂布时有良好的流动性，形成表面均一平整的膜；添加剂含量很小，目地是改善附着性，增加感度，改善表面成膜性等。目前市场端客户使用的线宽都在2um左右，但随着市场竞争的加剧，产品性能的改善，OLED朝着大尺寸和高分辨率方向发展，那么对现有市场的光刻胶就提出了改善要求。
适用于高世代平板显示器产业的光刻胶，一般采用正性光刻胶，以得到良好的分辨率。OLED工厂所用的曝光光源，一般采用H-line/G-line/I-line的紫外混合光源，光源波长在300nm～450nm范围。为适应高世代平板显示器尺寸越来越大的趋势，多采用刮涂工艺(Slit coating)。
光刻胶 波长/nm 分辨率/um
混线 300～400 1.5
g线 436 0.6
i线 365 0.35
市场端现有品为混线光刻胶，其使用的极限分辨率在1.5um，产品端目前的量产产品在2um是可以使用的，但随着产品的升级换代，1.5um的分辨率已经不能满足客户的要求。随着市场端的改变，光刻胶公司也在极力改善光刻胶性能，提高产品的分辨率。固定感光剂的光刻胶其分辨率性能没有提示的空间，目前可以尝试的方法是将混线感光的光刻胶变成I-line的光刻胶，以期改善其分辨率。但单独的I-line光刻胶其性能虽然优越，分辨率好。如专利201280046335.6的i-line光刻胶，只能在wafer上使用，但不能实现高世代的面板slit coating涂布。Wafer上使用的光刻胶由于缺少相应的流平性能，在大尺寸涂布时有气泡、亮度不均等情况产生，这是目前难以克服的困难。目前主流的光刻胶厂商在寻求改性酚醛树脂，以期达到改性的目的，将I-line的光刻胶适应slit coating涂布，是今后光刻胶发展的主要趋势。
本发明就是为了提供一种新的去胶液来解决以上问题。
发明内容
本发明的主要目的在于提供一种涂布和曝光性能优良的光刻胶去胶液。
本发明通过如下技术方案实现上述目的：一种用于OLED阵列制造的正性光刻胶，配方包括：20～25质量份的改性酚醛树脂、3～5质量份的光敏剂、80～100质量份的溶剂、0.005～0.03质量份的溶剂和0.005～0.03质量份的流平剂；所述改性酚醛树脂是一种具有如下结构的改性氟系酚醛树脂，
R1、R2、R3、R4是独立的包含C1～C6直链或支链烷基、C1～C6甲氧基、C1～C6乙氧基、羧基、羟基、氧代、芳香基或硝基。
具体的，所述光敏剂具有如下结构，
R1、R2、R3、R4、R5、R6是C1～C6直链或支链烷基、C1～C6甲氧基、C1～C6乙氧基、羧基、羟基、氧代、芳香基或硝基；A、B是甲氧基、乙氧基、氧原子、C1～C6直链或支链烷基。
具体的，所述溶剂为丙二醇甲醚醋酸酯。
具体的，所述添加剂为二乙基氨甲基三乙氧基硅烷。
具体的，所述流平剂为聚醚改性二甲基聚硅氧烷共聚物，其分子量在3000～15000。
采用上述技术方案，本发明技术方案的有益效果是：
本发明采用氟改性酚醛树脂为主体，加强产品的流平性能，涂布没有亮度不均和气泡，分辨率高，适用于目前6代OLED行业。
具体实施方式
一种用于OLED阵列制造的正性光刻胶，配方包括：20～25质量份的改性酚醛树脂、3～5质量份的光敏剂、80～100质量份的溶剂、0.005～0.03质量份的溶剂和0.005～0.03质量份的流平剂。
改性酚醛树脂是一种具有如下结构的改性氟系酚醛树脂，
R1、R2、R3、R4是独立的包含C1～C6直链或支链烷基、C1～C6甲氧基、C1～C6乙氧基、羧基、羟基、氧代、芳香基或硝基。改性氟系酚醛树脂会影响正性光刻胶的涂布和曝光等性能。
光敏剂具有如下结构，
R1、R2、R3、R4、R5、R6是C1～C6直链或支链烷基、C1～C6甲氧基、C1～C6乙氧基、羧基、羟基、氧代、芳香基或硝基；A、B是甲氧基、乙氧基、氧原子、C1～C6直链或支链烷基。光敏剂会影响曝光能量的偏差，甚至影响图形貌。
溶剂为丙二醇甲醚醋酸酯，会影响粘度的偏差，对涂布的膜厚和曝光能量产生影响。
添加剂为二乙基氨甲基三乙氧基硅烷，会影响正性光刻胶的粘附性。
流平剂为聚醚改性二甲基聚硅氧烷共聚物，其分子量在3000～15000，会影响正性光刻胶的流平性。
下面结合具体实施例对本发明作进一步详细说明。
实施例1～6：
按照表1的配方制造正性光刻胶：
表1：
实施例1 实施例2 实施例3 实施例4 实施例5 实施例6
改性酚醛树脂 20 22 25 24 23 25
光敏剂 5 3 4 3.5 4.5 4
溶剂 100 82 80 94 89 93
添加剂 0.03 0.005 0.01 0.02 0.008 0.019
流平剂 0.005 0.0053 0.03 0.007 0.023 0.016
检测方法：
①厚度均匀性测试：根据Slit coating机台的需要，光刻胶稀释到合理的粘度，经过涂布后切片，电镜测量测出10个位置的胶层厚度，然后计算平均厚度并以均方误差表示涂布均匀性；
②Mura检测：用钠灯照射涂布曾表面，检测没有亮度不均和气泡；
③曝光线条测试：根据不同曝光能量，不同的显影时间，找到最小的线宽，切片做SEM测试。
将实施例1～6分别进行测试，并用目前常用光刻胶作为对照例进行测试，结果见表2。
表2：
涂布平均厚度/A 涂布均匀性 Mura不良 分辨率/um
实施例1 14843 1.13％ 无 0.8
实施例2 14904 0.89％ 无 0.6
实施例3 15002 0.93％ 无 0.7
实施例4 14876 0.85％ 无 0.6
实施例5 14940 1.05％ 无 0.7
实施例6 14904 1.23％ 无 0.9
对照例 14993 ＜3％ 有 ＞2.0
从表2所示的测试结果可以看出，在光刻胶涂布平均厚度同时在15000A左右时，实施例厚度均匀性为0.85～1.23％远低于对照例的3％，无Mura不良，分辨率在0.6～0.9um，也远低于对照例的2.0，也就是说该光刻胶可以适应高世代面板涂布。
本发明采用氟改性酚醛树脂为主体，由于产品含有氟，加强了产品的流平性能，涂布没有亮度不均和气泡，分辨率高，适用于目前6代OLED行业。
以上所述的仅是本发明的一些实施方式。对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明创造构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。

Claims (5)

1.一种用于OLED阵列制造的正性光刻胶，其特征在于配方包括：20～25质量份的改性酚醛树脂、3～5质量份的光敏剂、80～100质量份的丙二醇甲醚醋酸酯、0.005～0.03质量份的溶剂和0.005～0.03质量份的流平剂；所述改性酚醛树脂是一种具有如下结构的改性氟系酚醛树脂，
R1、R2、R3、R4是独立的包含C1～C6直链或支链烷基、C1～C6甲氧基、C1～C6乙氧基、羧基、羟基、氧代、芳香基或硝基。
2.根据权利要求1所述的用于OLED阵列制作的正性光刻胶，其特征在于：所述光敏剂具有如下结构，
R1、R2、R3、R4、R5、R6是C1～C6直链或支链烷基、C1～C6甲氧基、C1～C6乙氧基、羧基、羟基、氧代、芳香基或硝基；A、B是甲氧基、乙氧基、氧原子、C1～C6直链或支链烷基。
3.根据权利要求1所述的用于OLED阵列制作的正性光刻胶，其特征在于：所述溶剂为丙二醇甲醚醋酸酯。
4.根据权利要求1所述的用于OLED阵列制作的正性光刻胶，其特征在于：所述添加剂为二乙基氨甲基三乙氧基硅烷。
5.根据权利要求1所述的用于OLED阵列制作的正性光刻胶，其特征在于：所述流平剂为聚醚改性二甲基聚硅氧烷共聚物，其分子量在3000～15000。
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