JP2007148258A - レジスト組成物 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 レジスト成分と有機溶剤を含むレジスト組成物であって、該有機溶剤としてシクロヘキサノールアセテートを含むレジスト組成物。このレジスト組成物においては2種以上の有機溶媒を組み合わせてもよい。有機溶剤の好ましい組み合わせとして、シクロヘキサノールアセテートとシクロヘキサノールの組み合わせが挙げられる。前記レジスト組成物において、さらに有機溶剤として、カルボン酸アルキルエステル類、脂肪族ケトン類、グリコールエーテル類及びグリコールエーテルアセテート類から選ばれた少なくとも1種の溶剤を含んでいてもよい。
【選択図】 なし
Description
2,4,4,4′−テトラヒドロキシベンゾフェノン1モルとナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホニルクロリド3モルとのエステル化反応生成物2gとクレゾールノボラック樹脂8gとを表1に示す組成の溶剤(数字は重量比)40gに溶解してポジ型フォトレジスト組成物の塗布液を調製した。このようにして得た塗布液について以下の(1)〜(4)の評価試験を行った。結果を表1に示す。
(1)析出物の有無
調製した塗布液を0.2μmメンブレンフィルターで濾過したものを40℃で静置し、2ヶ月経過時点での塗布液中の析出物の有無について調べた。
(2)感度変化
3ヶ月後のフォトレジスト組成物の感度変化の有無について調べた。すなわち、調製直後の塗布液を基材に塗布して乾燥させた場合と、調製して3ヶ月経過した塗布液を基材に塗布して乾燥させた場合の最小露光量(感度)を比較し、全く変化のなかったものを「○」、感度が低下したものを「×」とした。
(3)断面形状
調製した塗布液をガラス基板上にスリットコートし、ホットプレートで90℃、90秒間乾燥して膜厚1.3μmのレジスト膜を形成し、この膜にステッパーを用いて、所定のマスクを介して露光した後、ホットプレート上で110℃、90秒間加熱し、ついで2.38重量%の水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液(TMAH)で現像し、30秒間水洗・乾燥して得られたレジストパターンの断面形状を観察し、以下の基準で評価した。
○:ガラス基板とレジストパターンとの接触部分にアンダーカットが生じていない。
×:ガラス基板とレジストパターンとの接触部分にアンダーカットが生じている(図1参照)。
(4)塗布状態
調製した塗布液をガラス基板上にスリットコートし、ホットプレートで90℃、90秒間乾燥したものの膜厚を測定し、面内を均一に塗布できているものを「良好」、面内を均一に塗布できていないものを「不良」とした。
CHXA:シクロヘキサノールアセテート
CHX:シクロヘキサノール
EL:乳酸エチル
PGMEA:プロピレングリコールメチルエーテルアセテート
モノヒドロキシアダマンチルアクリレートとテトラヒドロピラニルメタクリレートを共重合させ、モノヒドロキシアダマンチルアクリレート単位70mol%とテトラヒドロピラニルメタクリレート単位30mol%の重量平均分子量8,000の共重合物を得た。得られた樹脂に固形成分が25重量%となるように、表2に記載の組成の溶剤を添加し、50℃で10分間加熱し、樹脂の溶解速度(溶解性)を調べた。結果を表2に示す。表中の略号は前記と同じである。
○:均質な透明溶液となった。
×:器壁に粒状の不溶樹脂が残存していた。
2 レジストパターン
3 アンダーカット部
Claims (3)
- レジスト成分と有機溶剤を含むレジスト組成物であって、該有機溶剤としてシクロヘキサノールアセテートを含むことを特徴とするレジスト組成物。
- さらに有機溶剤としてシクロヘキサノールを含む請求項1記載のレジスト組成物。
- さらに有機溶剤として、カルボン酸アルキルエステル類、脂肪族ケトン類、グリコールエーテル類及びグリコールエーテルアセテート類から選ばれた少なくとも1種の溶剤を含む請求項1又は2記載のレジスト組成物。
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