JP2014221874A5

JP2014221874A5 -

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Publication number: JP2014221874A5
Application number: JP2013101730A
Authority: JP
Filing date: 2013-05-13
Publication date: 2016-07-14
Anticipated expiration: 2033-05-13

Claims

下記一般式（Ｉ）

（式中、Ｒ¹¹は水素原子又は１価の炭素数１〜３のアルキル基を示し、Ｒ¹²は同一又は異なって、水素原子又はヒドロキシル基の脱離性の保護基を示す。３個のかっこ内の基は、それぞれ、同一であっても異なっていてもよい。）
で表されるフェノール誘導体と、下記一般式（ＩＩ）

（式中、Ｒ²¹は水素原子又は炭素数１〜１６のアルキル基を示し、Ｒ²²及びＲ²³は同一又は異なって、水素原子、アルキル基、又はシクロアルキル基を示す。Ｒ²¹、Ｒ²²、Ｒ²³は、その少なくとも２つが互いに結合して、隣接する１又は２個の炭素原子とともに環を形成していてもよい。Ｘ¹はｋ価の有機基を表す。ｋは２以上の整数である。ｋ個のかっこ内の基は、それぞれ、同一であっても異なっていてもよい。）
で表される多官能ビニルエーテル化合物に由来する構造を含むハイパーブランチポリマー。
前記の多官能ビニルエーテル化合物が下記一般式（ＩＩＩ）

（式中、Ｘ²は２価の脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基、複素環式基又はこれらが２以上結合した基であって炭素数が１〜３０である基を示す。前記の脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基、複素環式基及びこれらが２以上結合した基は、置換基としてヒドロキシル基、アルコキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アミノ基、スルホ基、ハロゲン原子、シアノ基又はニトロ基を有していてもよい。）
である請求項１に記載のハイパーブランチポリマー。
前記式（ＩＩＩ）のＸ²が２価の脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、複素環式基又はこれらが２以上結合した基であって炭素数が４〜１０の基である請求項２に記載のハイパーブランチポリマー。
前記のフェノール誘導体が１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタンであり、さらに前記の多官能ビニルエーテル化合物がシクロヘキサン１，４−ジビニルエーテルである請求項１〜３のいずれかの項に記載のハイパーブランチポリマー。
数平均分子量が１０００〜１００００である請求項１〜４のいずれかの項に記載のハイパーブランチポリマー。
請求項１〜５のいずれかの項に記載のハイパーブランチポリマー、光酸発生剤及び有機溶剤を含む感光性樹脂組成物。
レジスト材料である請求項６に記載の感光性樹脂組成物。
請求項６又は７に記載の感光性樹脂組成物の硬化物であるパターン。
請求項６又は７に記載の感光性樹脂組成物を基材又は基板上に塗布し、乾燥した後、所定のマスクを介して、塗膜（レジスト膜）に光線を露光して潜像パターンを形成し、次いで現像することを特徴とするパターン形成方法。
下記一般式（Ｉ）

（式中、Ｒ¹¹は水素原子又は１価の炭素数１〜３のアルキル基を示し、Ｒ¹²は同一又は異なって、水素原子又はヒドロキシル基の脱離性の保護基を示す。３個のかっこ内の基は、それぞれ、同一であっても異なっていてもよい。）
で表されるフェノール誘導体と、下記一般式（ＩＩ）

（式中、Ｒ²¹は水素原子又は炭素数１〜１６のアルキル基を示し、Ｒ²²及びＲ²³は同一又は異なって、水素原子、アルキル基、又はシクロアルキル基を示す。Ｒ²¹、Ｒ²²、Ｒ²³は、その少なくとも２つが互いに結合して、隣接する１又は２個の炭素原子とともに環を形成していてもよい。Ｘ¹はｋ価の有機基を表す。ｋは２以上の整数である。ｋ個のかっこ内の基は、それぞれ、同一であっても異なっていてもよい。）
で表される多官能ビニルエーテル化合物とを反応させて、ハイパーブランチポリマーを得ることを特徴とするハイパーブランチポリマーの製造方法。