JP2014213317A - 改質シリカ膜の製造方法、塗工液、及び改質シリカ膜 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】上記課題を解決するために、本発明のある観点によれば、ポリシラザン溶液を作製するステップと、反応性フッ素ポリマー溶液を作製するステップと、ポリシラザン溶液と反応性フッ素ポリマー溶液とを混合することで、塗工液を作製するステップと、塗工液を基材上に塗工することで、塗工層を作製するステップと、塗工層からポリシラザン用溶媒及びフッ素溶媒を除去するステップと、結合基をポリシラザンに結合させると共に、ポリシラザンをシリカに転化するステップと、を含むことを特徴とする、改質シリカ膜の製造方法が提供される。
【選択図】図1
Description
まず、図1〜図3にもとづいて、本実施形態に係る改質シリカ膜の製造方法について説明する。本実施形態に係る改質シリカ膜の製造方法は、第1〜第6のステップに区分される。
第1のステップは、ポリシラザンをポリシラザン用溶媒に溶解することでポリシラザン溶液11を作製するステップである。
第2のステップは、反応性フッ素ポリマー13をフッ素溶媒14に溶解することで反応性フッ素ポリマー溶液12を作製するステップである。
第3のステップは、ポリシラザン溶液11と反応性フッ素ポリマー溶液12とを混合することで、塗工液10を作製するステップである。
第4のステップは、図1に示すように、塗工液10を基材100上に塗工するステップである。なお、塗工の方法は特に問われず、公知の方法が任意に適用される。図1は、塗工の一例としてダイコーティング法(ダイスリット450を通して塗工液10を基材100上に塗工する方法)を示す。第4のステップによって、塗工層(塗工液10からなる層)が基材100上に形成される。塗工層中の反応性フッ素ポリマー溶液12は、塗工層の表面にブリードアウトする。なお、基材100は、改質シリカ膜1による機能が付与される膜である。改質シリカ膜1による機能を光学フィルムに付与する場合、基材100は光学フィルムとなる。
第5のステップは、基材100上の塗工液10、すなわち塗工層からポリシラザン用溶媒及びフッ素溶媒14を除去するステップである。これらの溶媒は、例えば塗工層を100℃で1分間程度加熱することで除去される。
第6のステップは、反応性フッ素ポリマー13をポリシラザンに結合させると共に、ポリシラザンをシリカに転化する(硬化する)ステップである。ポリシラザン溶液にアミン系の触媒が含まれる場合、これらの反応は室温で進行する。ポリシラザン溶液にアミン系の溶媒が含まれない場合、これらの反応は、例えば塗工層を300〜400℃で加熱することにより進行する。塗工層のうち、ポリシラザンが主に分布している部分はハードコート層20となり、反応性フッ素ポリマー13が主に分布している部分は保護層30となる。以上のステップにより、基材100上に改質シリカ膜1が形成される。なお、シリカ転化の過程では、以下の化学式(3)で示す反応が起こっている。
次に、図1及び図4、図5にもとづいて、改質シリカ膜1の構造及び特性について説明する。
次に、本実施形態の実施例について説明する。実施例1では、以下の製法により改質シリカ膜を作製した。
ポリシラザンと反応性フッ素ポリマーとの質量比、反応性フッ素ポリマーの種類、フッ素溶媒の種類、フッ素溶媒の有無、及び反応性フッ素ポリマー溶液の濃度を変更した他は実施例1と同様の処理を行った。表1に実施例1〜14、比較例1〜10における固形分の質量部、ポリシラザンと反応性フッ素ポリマーとの質量比、フッ素溶媒の有無、及び反応性フッ素ポリマー溶液の濃度をまとめて示す。
つぎに、各実施例及び比較例に係る改質シリカ膜について、以下のワイプ擦り試験を行った。
各実施例及び比較例で作製した塗工液を作製直後(初期)及び12時間保管後に目視により観察した。これにより、塗工液の白濁の有無を確認した。
全自動接触角計DM700(協和界面科学株式会社製)を使用し、改質シリカ膜上に2μlの純水を滴下し接触角を測定した。ワイプ擦り試験前(初期)の改質シリカ膜の接触角とワイプ擦り試験後の改質シリカ膜の接触角とをそれぞれ測定し、これらの差分(△CA)を算出した。△CAが小さいほど、ワイプ擦りによる性能劣化が小さい、すなわち耐擦傷性が高いといえる。
全自動接触角計DM700(協和界面科学株式会社製)を使用してオレイン(oleic)酸転落角を測定した。具体的には、ワイプ(wipe)擦り試験前の改質シリカ膜上に5μlのオレイン酸を滴下し、改質シリカ膜を傾斜させた。そして、オレイン酸が動き始めた際の角度をオレイン酸転落角とした。
ワイプ擦り試験前の改質シリカ膜の平均表面粗さ(Ra)をKEYENCE JAPAN社製のVK−9500で測定した。
改質シリカ膜の強度を評価するために、JIS−K−5600に準拠した鉛筆擦り試験を行った。ここで、図6に基づいて、鉛筆擦り試験に用いられる試験装置500について説明する。図6は、試験装置500を用いて本実施形態に係る改質シリカ膜1の鉛筆擦り試験を行う様子を示している。
上記試験及び評価の結果を表2にまとめて示す。
実施例と比較例とを比較すると、実施例の塗工液は白濁しなかったが、比較例2〜7の塗工液は初期から白濁していた。比較例1の塗工液は白濁しなかったが、これは反応性フッ素ポリマーが塗工液に含まれていないためである。さらに、実施例1〜14の強度(鉛筆硬度)は比較例1〜10の強度よりも大きくなった。比較例2〜10では塗工液中で反応性フッ素ポリマーとポリシラザンとが反応し、この結果、改質シリカ膜の架橋密度が低下したと推察される。比較例2〜7の白濁は、ポリシラザンと反応性フッ素ポリマーとの反応により生じたものと推察される。比較例1のシリカ膜は保護層を有していないので、強度が低くなっている。これに対し、実施例1〜14では、塗工液中で反応性フッ素ポリマーが塗工液の表面にブリードアウトするので、反応性フッ素ポリマーとポリシラザンとの反応が抑制される。したがって、改質シリカ膜の架橋密度が比較例2〜10よりも大きくなり、この結果、強度が大きくなったと推察される。
実施例1〜14では、上記に加え、耐擦傷性(△CA)及びオレイン酸転落角のうち、少なくとも一方が大半の比較例よりも優れている。この理由として、実施例の平均表面粗さRaが3.0〜9.0nmの範囲内の値となっていることが考えられる。なお、比較例4の△CAオレイン酸転落角は、一部の実施例程度の値となっているが、比較例4の強度は依然として実施例1〜14よりも低い。また、比較例1のシリカ膜の表面に従来の2層コーティング法により保護層を形成したところ、保護層の平均表面粗さは2.1nmであった。したがって、従来の2層コーティング法では、本実施形態の平均表面粗さは実現できない。そして、このときの初期CAは108.5°、△CAは7.5°、オレイン酸転落角は9°であった。各実施例の初期CA、△CA、及びオレイン酸転落角のすくなくとも1つは、比較例1の値よりも優れている。
10 塗工液
11 ポリシラザン溶液
12 反応性フッ素ポリマー溶液
13 反応性フッ素ポリマー
14 フッ素溶媒
20 ハードコート層
30 保護層
Claims (8)
- ポリシラザンと結合する結合基を有する反応性フッ素ポリマーをフッ素溶媒に溶解することで反応性フッ素ポリマー溶液を作製するステップと、
前記フッ素溶媒と混和せず、かつ前記反応性フッ素ポリマー及び前記フッ素溶媒よりも表面張力が高いポリシラザン用溶媒にポリシラザンを溶解することでポリシラザン溶液を作製するステップと、
前記ポリシラザン溶液と前記反応性フッ素ポリマー溶液とを混合することで、塗工液を作製するステップと、
前記塗工液を基材上に塗工することで、塗工層を作製するステップと、
前記塗工層から前記ポリシラザン用溶媒及び前記フッ素溶媒を除去するステップと、
前記結合基を前記ポリシラザンに結合させると共に、前記ポリシラザンをシリカに転化するステップと、を含み、
前記塗工液中の前記ポリシラザンと前記反応性フッ素ポリマーとの質量比は99:1〜90:10であり、
前記反応性フッ素ポリマー溶液は、前記反応性フッ素ポリマーを前記反応性フッ素ポリマー溶液の総質量に対して1〜30質量%含み、
前記フッ素溶媒は、沸点が61℃以上であることを特徴とする、改質シリカ膜の製造方法。 - 前記ポリシラザン用溶媒の表面張力から前記反応性フッ素ポリマー及び前記フッ素溶媒の表面張力のうち大きな方の値を減算した値は5以上であることを特徴とする、請求項1記載の改質シリカ膜の製造方法。
- 前記ポリシラザン用溶媒は、疎水性かつ無極性の有機溶媒であることを特徴とする、請求項1または2記載の改質シリカ膜の製造方法。
- 前記ポリシラザン用溶媒は、ジブチルエーテル、キシレン、ミネラルターペン、石油系炭化水素、及び高沸点芳香族系炭化水素からなる群から選択されるいずれか1種以上で構成されることを特徴とする、請求項3記載の改質シリカ膜の製造方法。
- 前記フッ素溶媒は、ハイドロフルオロエーテルで構成されることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載の改質シリカ膜の製造方法。
- ポリシラザンと結合する結合基を有する反応性フッ素ポリマーをフッ素溶媒に溶解することで作製された反応性フッ素ポリマー溶液と、
前記フッ素溶媒と混和せず、かつ前記反応性フッ素ポリマー及び前記フッ素溶媒よりも表面張力が高いポリシラザン用溶媒にポリシラザンを溶解することで作製されたポリシラザン溶液と、を含み、
前記ポリシラザンと前記反応性フッ素ポリマーとの質量比は99:1〜90:10であり、
前記反応性フッ素ポリマー溶液は、前記反応性フッ素ポリマーを前記反応性フッ素ポリマー溶液の総質量に対して1〜30質量%含み、
前記フッ素溶媒は、沸点が61℃以上であることを特徴とする、塗工液。 - 請求項1〜5のいずれか1項に記載の改質シリカ膜の製造方法により製造されたことを特徴とする、改質シリカ膜。
- ポリシラザンから転化したシリカを含むハードコート層と、
前記ハードコート層の表面に結合したフッ素ポリマーを含み、平均表面粗さが3.0〜9.0nmである保護層と、を含むことを特徴とする、改質シリカ膜。
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KR1020130088352A KR101631356B1 (ko) | 2013-04-30 | 2013-07-25 | 개질 실리카막의 제조 방법, 도공액 및 개질 실리카막 |
US14/264,448 US9528028B2 (en) | 2013-04-30 | 2014-04-29 | Method for preparing modified silica film and modified silica film prepared from the same |
TW103115326A TWI624431B (zh) | 2013-04-30 | 2014-04-29 | 塗布液、改質二氧化矽膜及其製備方法 |
CN201410183259.4A CN104130601B (zh) | 2013-04-30 | 2014-04-30 | 涂布液、改性二氧化硅膜及其制备方法 |
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017031040A (ja) * | 2015-07-31 | 2017-02-09 | 三星エスディアイ株式会社Samsung SDI Co., Ltd. | シリカ膜形成用組成物、シリカ膜の製造方法およびシリカ膜 |
WO2019065035A1 (ja) * | 2017-09-27 | 2019-04-04 | 信越化学工業株式会社 | 含フッ素コーティング剤組成物、表面処理剤及び物品 |
WO2019176458A1 (ja) * | 2018-03-14 | 2019-09-19 | 信越化学工業株式会社 | 含フッ素コーティング剤組成物、表面処理剤及び物品 |
CN116376436A (zh) * | 2023-05-07 | 2023-07-04 | 广州希森美克新材料科技股份有限公司 | 高耐磨易清洁疏水疏油的纳米涂料及其制备方法与使用方法 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102492582B1 (ko) * | 2016-12-30 | 2023-01-27 | 주식회사 동진쎄미켐 | 눈부심 방지 코팅 조성물 및 이를 포함하는 눈부심 방지 기재 |
KR102432933B1 (ko) | 2019-05-17 | 2022-08-12 | 삼성에스디아이 주식회사 | 실리카 막 형성용 조성물, 그로부터 형성된 실리카 막, 및 상기 실리카 막을 포함하는 전자 소자 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07196987A (ja) * | 1993-12-28 | 1995-08-01 | Tonen Corp | コーティング用組成物 |
JPH11236533A (ja) * | 1998-02-24 | 1999-08-31 | Hitachi Chem Co Ltd | シリカ系被膜形成用塗布液及びシリカ系被膜 |
JP2000033672A (ja) * | 1998-07-16 | 2000-02-02 | Asahi Glass Co Ltd | 透明被覆成形品およびその製造方法 |
JP2006524277A (ja) * | 2003-04-22 | 2006-10-26 | クラリアント・プロドゥクテ・(ドイチュラント)・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング | 疎水及び疎油変性された表面を形成するためにポリシラザンを使用する方法 |
JP2008089859A (ja) * | 2006-09-29 | 2008-04-17 | Dainippon Printing Co Ltd | 樹脂製複製版、及びその製造方法 |
JP2008237957A (ja) * | 2007-03-25 | 2008-10-09 | Univ Of Tokushima | 撥水処理方法および撥水性シリカ層を有する基材 |
JP2010137372A (ja) * | 2008-12-09 | 2010-06-24 | Contamination Control Service:Kk | 複合膜、およびその形成方法 |
WO2012064653A1 (en) * | 2010-11-10 | 2012-05-18 | 3M Innovative Properties Company | Surface treatment process, composition for use therein, and treated article |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62208961A (ja) * | 1986-03-11 | 1987-09-14 | Alps Electric Co Ltd | サ−マルヘツド |
TW416260B (en) * | 1997-01-31 | 2000-12-21 | Asahi Glass Co Ltd | Electronic components having fluorine polymer thin film |
JP4215650B2 (ja) * | 2002-03-26 | 2009-01-28 | Tdk株式会社 | 複合ハードコート層付き物体及び複合ハードコート層の形成方法 |
JP2006082341A (ja) * | 2004-09-15 | 2006-03-30 | Asahi Glass Co Ltd | 反射防止性物品及びその製造方法 |
JP5710308B2 (ja) * | 2011-02-17 | 2015-04-30 | メルクパフォーマンスマテリアルズIp合同会社 | 二酸化ケイ素膜の製造方法 |
JP2013001721A (ja) * | 2011-06-13 | 2013-01-07 | Adeka Corp | 無機ポリシラザン、これを含有してなるシリカ膜形成用塗布液及びシリカ膜の形成方法 |
-
2013
- 2013-04-30 JP JP2013095963A patent/JP6134576B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2013-07-25 KR KR1020130088352A patent/KR101631356B1/ko active IP Right Grant
-
2014
- 2014-04-29 TW TW103115326A patent/TWI624431B/zh not_active IP Right Cessation
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07196987A (ja) * | 1993-12-28 | 1995-08-01 | Tonen Corp | コーティング用組成物 |
JPH11236533A (ja) * | 1998-02-24 | 1999-08-31 | Hitachi Chem Co Ltd | シリカ系被膜形成用塗布液及びシリカ系被膜 |
JP2000033672A (ja) * | 1998-07-16 | 2000-02-02 | Asahi Glass Co Ltd | 透明被覆成形品およびその製造方法 |
JP2006524277A (ja) * | 2003-04-22 | 2006-10-26 | クラリアント・プロドゥクテ・(ドイチュラント)・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング | 疎水及び疎油変性された表面を形成するためにポリシラザンを使用する方法 |
JP2008089859A (ja) * | 2006-09-29 | 2008-04-17 | Dainippon Printing Co Ltd | 樹脂製複製版、及びその製造方法 |
JP2008237957A (ja) * | 2007-03-25 | 2008-10-09 | Univ Of Tokushima | 撥水処理方法および撥水性シリカ層を有する基材 |
JP2010137372A (ja) * | 2008-12-09 | 2010-06-24 | Contamination Control Service:Kk | 複合膜、およびその形成方法 |
WO2012064653A1 (en) * | 2010-11-10 | 2012-05-18 | 3M Innovative Properties Company | Surface treatment process, composition for use therein, and treated article |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017031040A (ja) * | 2015-07-31 | 2017-02-09 | 三星エスディアイ株式会社Samsung SDI Co., Ltd. | シリカ膜形成用組成物、シリカ膜の製造方法およびシリカ膜 |
WO2019065035A1 (ja) * | 2017-09-27 | 2019-04-04 | 信越化学工業株式会社 | 含フッ素コーティング剤組成物、表面処理剤及び物品 |
KR20200058409A (ko) * | 2017-09-27 | 2020-05-27 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 함불소 코팅제 조성물, 표면처리제 및 물품 |
JPWO2019065035A1 (ja) * | 2017-09-27 | 2020-11-05 | 信越化学工業株式会社 | 含フッ素コーティング剤組成物、表面処理剤及び物品 |
KR102589656B1 (ko) * | 2017-09-27 | 2023-10-16 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 함불소 코팅제 조성물, 표면처리제 및 물품 |
WO2019176458A1 (ja) * | 2018-03-14 | 2019-09-19 | 信越化学工業株式会社 | 含フッ素コーティング剤組成物、表面処理剤及び物品 |
JPWO2019176458A1 (ja) * | 2018-03-14 | 2021-03-11 | 信越化学工業株式会社 | 含フッ素コーティング剤組成物、表面処理剤及び物品 |
US11987723B2 (en) | 2018-03-14 | 2024-05-21 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Fluorinated coating agent composition, surface treatment agent, and article |
CN116376436A (zh) * | 2023-05-07 | 2023-07-04 | 广州希森美克新材料科技股份有限公司 | 高耐磨易清洁疏水疏油的纳米涂料及其制备方法与使用方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20140129995A (ko) | 2014-11-07 |
TWI624431B (zh) | 2018-05-21 |
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