JP2014207299A - 電子ビーム描画装置、描画用図形データ作成装置、電子ビーム描画方法、描画用図形データ作成方法、およびプログラム - Google Patents

Abstract

【課題】従来の電子ビーム描画装置では、フラクチャリング時の合計の矩形数が多く、描画時間が長かった。
【解決手段】１以上の図形を示す情報である入力図形情報を受け付ける受付部と、入力図形情報が示す１以上の各図形の幅を取得する図形幅取得部と、図形の幅に適合する１以上の矩形から構成される図形であり、入力図形情報が示す１以上の各図形に近似する図形である１以上の近似図形を示す近似図形情報を作成する作成部と、作成部が作成した近似図形情報が示す１以上の近似図形を描画する描画部とを備える電子ビーム描画装置により、フラクチャリング時の合計の矩形数を減らし、描画時間を減らすことができる。
【選択図】図１

Description

本発明は、電子線リソグラフィを行うための電子ビーム描画装置等に関するものである。

従来、電子線リソグラフィを行うための電子ビーム描画装置などが開発されている（特許文献１、特許文献２参照）。

特表２０１３−５０３４８６ 特表２０１２−５０１４７６

半導体作成のリソグラフィプロセスにおいて、フォトマスクが使用される。また、近年のフォトマスクの微細化により、ＯＰＣ（光近接効果補正）を代表とするＲＥＴ（Ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎ Ｅｎｈａｎｃｅｍｅｎｔ Ｔｅｃｈｎｉｑｕｅ）によるパターンの改変や補助パターンの付加が一般的になっている。また、ＲＥＴの一種であるＩＬＴ（Ｉｎｖｅｒｓｅ Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ）という手法で作成されたマスクパターンは曲線で構成される。

現在、フォトマスクの作成は、ＶＳＢ（Ｖａｒｉａｂｌｅ ｓｈａｐｅｄ ｂｅａｍ）方式の電子線を用いた描画機で作成される。ＶＳＢ方式の電子線では、可変サイズの矩形しか描画できないため、曲線部分は近似を用いて描画する。従来の手法では、まず曲線を台形に分割した後、それぞれを矩形で近似する。そのため、矩形数が増大し、マスクの描画時間が長くなる。

本第一の発明の電子ビーム描画装置は、１以上の図形を示す情報である入力図形情報を受け付ける受付部と、入力図形情報が示す１以上の各図形の幅を取得する図形幅取得部と、図形の幅に適合する１以上の矩形から構成される図形であり、入力図形情報が示す１以上の各図形に近似する図形である１以上の近似図形を示す近似図形情報を作成する作成部と、作成部が作成した近似図形情報が示す１以上の近似図形を描画する描画部とを備える電子ビーム描画装置である。

このような構成により、フラクチャリング時の合計の矩形数を減らし、描画時間を減らすことができる。

また、本第二の発明の電子ビーム描画装置は、第一の発明に対して、図形の幅に関する条件である図形分類条件と、図形の幅に基づく予め決められたパターンを識別するパターン識別子とが対応付いた情報である２以上のパターン管理情報が格納される格納部と、図形の幅が満たす図形分類条件に対応するパターン識別子を取得する判断部とをさらに備え、作成部は、判断部が取得したパターン識別子に応じて、異なる方法により、１以上の各図形に近似する１以上の近似図形を示す近似図形情報を作成する電子ビーム描画装置である。

このような構成により、図形の幅に応じた２以上の各パターンに適したフラクチャリングを行うことにより、フラクチャリング時の合計の矩形数を減らし、描画時間を減らすことができる。

また、本第三の発明の電子ビーム描画装置は、第二の発明に対して、格納部には、図形の幅が図形分類条件を満たすほど小さい図形のパターンである補助パターンを識別するパターン識別子を有するパターン管理情報と、図形の幅が図形分類条件を満たすほど大きい図形のパターンであるメインパターンを識別するパターン識別子を有するパターン管理情報とが格納される電子ビーム描画装置である。

このような構成により、補助パターンとメインパターンの２つの各パターンに適したフラクチャリングを行うことにより、フラクチャリング時の合計の矩形数を減らし、描画時間を減らすことができる。

また、本第四の発明の電子ビーム描画装置は、第三の発明に対して、作成部は、１以上の各図形の中心線を取得する中心線取得手段と、中心線に沿って、図形の幅に適合する１以上の矩形を配置することにより、補助パターンに対応する１以上の各図形に近似する１以上の近似図形を示す近似図形情報を作成する作成手段とを備える電子ビーム描画装置である。

このような構成により、補助パターンに対応する図形について、当該図形の中心線に沿って矩形を配置することにより、フラクチャリング時の合計の矩形数を減らし、描画時間を減らすことができる。

また、本第五の発明の電子ビーム描画装置は、第三または第四の発明に対して、格納部には、最大ショットサイズと、図形のサイズが最大ショットサイズより大きい図形のパターンである第一メインパターンを識別するパターン識別子と、図形のサイズが最大ショットサイズ以下である図形のパターンである第二メインパターンを識別するパターン識別子とがさらに格納されており、判断部は、メインパターンに対応する１以上の各図形のサイズが最大ショットサイズより大きいか否かを判断し、最大ショットサイズより大きい場合は、第一メインパターンを識別するパターン識別子を取得し、最大ショットサイズ以下である場合は、第二メインパターンを識別する識別子を取得する電子ビーム描画装置である。

このような構成により、第一メインパターンと第二メインパターンの２つの各パターンに適したフラクチャリングを行うことにより、フラクチャリング時の合計の矩形数を減らし、描画時間を減らすことができる。

また、本第六の発明の電子ビーム描画装置は、第五の発明に対して、作成部は、第一メインパターンに対応する図形の輪郭線であり、水平の直線および垂直の直線および予め決められた角度の直線から構成される輪郭線である近似輪郭線を取得する近似輪郭線取得手段と、近似輪郭線が示す図形の形状に適合する１以上の矩形を配置することにより、第一メインパターンに対応する１以上の各図形に近似する１以上の近似図形を示す近似図形情報を作成する作成手段とを備える電子ビーム描画装置である。

このような構成により、第一メインパターンに対応する図形について、当該図形の近似輪郭線が示す図形の形状に適合する１以上の矩形を配置することにより、フラクチャリング時の合計の矩形数を減らし、描画時間を減らすことができる。

また、本第七の発明の電子ビーム描画装置は、第五または第六の発明に対して、作成部は、第二メインパターンに対応する図形の輪郭線であり、水平の直線および垂直の直線および予め決められた角度の直線から構成される輪郭線である近似輪郭線を取得する近似輪郭線取得手段と、近似輪郭線が示す図形を、近似輪郭線に沿って２以上の矩形に分割することにより、第二メインパターンに対応する１以上の各図形に近似する１以上の近似図形を示す近似図形情報を作成する作成手段とを備える電子ビーム描画装置である。

このような構成により、第二メインパターンに対応する図形について、当該図形の近似輪郭線に沿って当該図形を矩形に分割することにより、フラクチャリング時の合計の矩形数を減らし、描画時間を減らすことができる。

また、本第八の発明の電子ビーム描画装置は、第一から第七いずれか１つの発明に対して、入力図形情報は、１以上の各図形の輪郭線を示す１以上の座標を有する情報であり、図形幅取得部は、入力図形情報が示す１以上の各図形の中心線を取得し、中心線を構成する１以上の各点から、１以上の各図形の輪郭線までの距離を示す距離マップを作成する距離マップ作成手段と、距離マップを用いて、１以上の各図形の幅を取得する図形幅取得手段とを備える電子ビーム描画装置である。

このような構成により、距離マップを用いて図形の幅を算出することができる。

また、本第九の発明の電子ビーム描画装置は、第四の発明に対して、作成手段は、中心線に沿って、図形の幅に適合する１以上の矩形を、矩形同士が重ならないように配置することにより、補助パターンに対応する１以上の各図形に近似する１以上の近似図形を示す近似図形情報を作成する電子ビーム描画装置である。

このような構成により、矩形同士が重ならないように矩形を配置することにより、フラクチャリング時の合計の矩形数を減らし、描画時間を減らすことができる。

また、本第十の発明の電子ビーム描画装置は、第四の発明に対して、作成手段は、中心線に沿って、図形の幅に適合する１以上の矩形を、矩形同士が重なるように配置することにより、補助パターンに対応する１以上の各図形に近似する１以上の近似図形を示す近似図形情報を作成する電子ビーム描画装置である。

このような構成により、矩形同士が重なるように矩形を配置することにより、フラクチャリング時の合計の矩形数を減らし、描画時間を減らすことができる。

本発明による電子ビーム描画装置等によれば、フラクチャリング時の合計の矩形数を減らし、描画時間を減らすことができる。

実施の形態１における電子ビーム描画装置１のブロック図 同図形幅の例を示す図 同図形幅の例を示す図 同電子ビーム描画装置１の全体動作について説明するフローチャート 同図形幅の取得処理について説明するフローチャート 同補助パターンに対応する近似図形情報の作成処理について説明するフローチャート 同図形の例を示す図 同ビットマップ画像の例を示す図 同中心線の例を示す図 同距離マップの例を示す図 同幅形成点の検出例を示す図 同中心線の例を示す図 同近似図形の例を示す図 同近似図形の例を示す図 同第一メインパターンおよび第二メインパターンに対応する図形の例を示す図 同近似輪郭線の例を示す図 同近似図形の例を示す図 同近似図形の例を示す図 実施の形態２における描画用図形データ作成装置２のブロック図 同図形幅の例を示す図 上記実施の形態におけるコンピュータシステムの概観図 上記実施の形態におけるコンピュータシステムのブロック図

以下、本発明による電子ビーム描画装置等の実施形態について図面を参照して説明する。なお、実施の形態において同じ符号を付した構成要素は同様の動作を行うので、再度の説明を省略する場合がある。また、本実施の形態において説明する各情報の形式、内容などは、あくまで例示であり、各情報の持つ意味を示すことができれば、形式、内容などは問わない。

（実施の形態１）
本実施の形態において、１以上の図形を示す入力図形情報と、矩形とを用いて、当該１以上の各図形に近似する１以上の図形を示す近似図形情報を作成し、当該近似図形情報が示す１以上の図形を描画する電子ビーム描画装置１について説明する。

図１は、本実施の形態における電子ビーム描画装置１のブロック図である。電子ビーム描画装置１は、格納部１０、受付部１１、図形幅取得部１２、判断部１３、作成部１４、描画部１５を備える。また、図形幅取得部１２は、距離マップ作成手段１２１、図形幅取得手段１２２を備える。また、作成部１４は、中心線取得手段１４１、近似輪郭線取得手段１４２、作成手段１４３を備える。

ここで、入力図形情報とは、電子ビーム描画装置１に描画させる１以上の図形を示す情報である。当該図形の形状は、問わないが、通常、線状や棒状などの細長い形状や、円形や楕円形などの丸い形状などである。また、当該図形の形状は、例えば、当該細長い形状と当該丸い形状とが組み合わさった形状であってもよい。また、当該図形は、通常、いわゆる曲線を有する。また、当該図形は、一般的には、描画パターンや、マスクパターンなどと呼ばれるものである。

また、入力図形情報は、通常、少なくとも１以上の座標を有する座標集合を、１以上有する。当該１つの座標集合は、通常、１つの図形の輪郭線を示す。つまり、例えば、２以上の図形を示す場合、入力図形情報は、通常、２以上の座標集合を有する。また、座標集合が有する１以上の座標は、通常、輪郭線を構成する点の順序を有する。当該座標集合が有する座標は、通常、３以上であることが好適である。また、当該座標集合により示される輪郭線の精度は、問わない。つまり、当該１以上の座標は、通常、予め決められた間隔で当該１以上の各図形の輪郭線を示すことができればよい。また、座標集合には、例えば、図形を識別する図形識別子が対応付いていてもよい。

例えば、１つの矩形を示す場合、図形情報は、例えば、当該矩形の４つの各頂点の座標を有する座標集合を有していてもよい。また、この場合、図形情報は、例えば、当該矩形の４つの各辺（直線）の端点の座標を有する座標集合を有していてもよい。また、この場合、図形情報は、例えば、基準となる１つの頂点の座標と、横幅および縦幅を示す情報とを有する座標集合を有していてもよい。

また、入力図形情報のデータ形式は、問わない。入力図形情報のデータ形式は、通常、いわゆるマスク設計データや、レイアウト設計データなどと呼ばれるデータ形式である。入力図形情報の具体的なデータ形式は、例えば、ＧＤＳ−２や、ＯＡＳＩＳ、ＭＥＢＥＳなどである。また、入力図形情報は、いわゆる画像であってもよい。当該画像のデータ形式は、通常、ビットマップである。

また、近似図形情報とは、電子ビーム描画装置１が実際に描画する図形である近似図形を示す情報である。つまり、当該近似図形は、通常、入力図形情報が示す１以上の各図形が、いわゆるフラクチャリングにより矩形に分割された図形である。言い換えると、近似図形は、通常、入力図形情報が示す１以上の各図形に近似する図形である。また、近似図形は、通常、１以上の矩形から構成される。

近似図形を構成する１以上の各矩形のサイズは、通常、最大ショットサイズ以下であるが、そうでなくてもよい。最大ショットサイズとは、電子ビーム描画装置１が一度の描画で描画できる最大の矩形のサイズである。また、最大ショットサイズは、通常、当該矩形の水平方向の長さおよび垂直方向の長さである。また、最大ショットサイズは、例えば、当該矩形の対角線の長さや、当該矩形の面積などであってもよい。また、最大ショットサイズの単位は問わない。

また、近似図形を構成する１以上の各矩形は、通常、水平直線および垂直直線から構成される矩形である。水平直線とは、水平方向の直線である。また、垂直直線とは、垂直方向の直線である。また、当該矩形を構成する直線は、通常、いわゆる線分である。また、水平方向とは、通常、直交座標系における横軸（ｘ軸）に平行な方向である。また、垂直方向とは、通常、直交座標系における縦軸（ｙ軸）に平行な方向である。また、当該矩形は、例えば、円形や楕円形など、予め決められた形状の図形であってもよい。

また、近似図形情報は、通常、少なくとも１以上の座標を有する座標集合を、１以上有する。当該１つの座標集合は、通常、１つの矩形を示す。また、近似図形情報のデータ形式は、通常、入力図形情報と同様である。

格納部１０には、通常、２以上のパターン管理情報が格納される。パターン管理情報とは、図形分類条件と、パターン識別子とが対応付いた情報である。図形分類条件とは、入力図形情報が示す１以上の図形を、２以上のパターンに分類するための条件である。また、図形分類条件は、通常、図形の幅に関する条件である。また、パターン識別子とは、図形のパターンを識別するための情報である。パターン識別子により識別されるパターンは、通常、図形の幅に基づくパターンである。また、当該パターンは、通常、２以上であり、予め決められている。

ここで、図形分類条件は、例えば、図形の幅が予め決められた閾値以下であることや、図形の幅が予め決められた閾値より大きいこと、図形の幅が一定であること、図形の幅が一定でないことなどである。また、図形分類条件は、これらの条件の１以上の組み合わせであってもよい。当該組み合わせは、通常、論理積（ＡＮＤ）であるが、論理和（ＯＲ）であってもよい。

また、格納部１０には、通常、２つのパターン管理情報が格納されていることが好適である。また、当該２つのパターン管理情報の各々が有するパターン識別子が識別する２つのパターンは、補助パターンとメインパターンである。補助パターンとは、通常、図形の幅が図形分類条件を満たすほど小さい図形のパターンである。また、補助パターンは、通常、一定の幅を有する線状の形状であることが好適である。また、メインパターンとは、通常、図形の幅が図形分類条件を満たすほど大きい図形のパターンである。また、補助パターンに分類するための図形分類条件と、メインパターンに分類するための図形分類条件とは、通常、相補関係にあることが好適である。

ここで、当該２つの図形分類条件を図形分類条件Ａ、図形分類条件Ｂとする。この場合、図形分類条件Ａと図形分類条件Ｂとは、以下の２つの関係にある。
（１）図形の幅が図形分類条件Ａを満たす場合は、図形分類条件Ｂは満たされない。
（２）図形の幅が図形分類条件Ｂを満たす場合は、図形分類条件Ａは満たされない。

例えば、補助パターンを識別するパターン識別子に対応付いている図形分類条件が「幅≦２０」であるとする。当該図形分類条件は、図形の幅が「２０」以下であることを意味する。この様な場合、メインパターンを識別するパターン識別子に対応付いている図形分類条件は、通常、「幅＞２０」である。当該図形分類条件は、図形の幅が「２０」より大きいことを意味する。

また、格納部１０には、最大ショットサイズが格納されてもよい。当該最大ショットサイズは、通常、最大ショットサイズを示す情報である。また、格納部１０に最大ショットサイズが格納されている場合、格納部１０には、通常、以下の２つのパターンを識別するパターン識別子が格納されている。
（１）第一メインパターン：メインパターンに対応する図形のうち、図形のサイズが最大ショットサイズよりも大きい図形のパターン
（２）第二メインパターン：メインパターンに対応する図形のうち、図形のサイズが最大ショットサイズ以下である図形のパターン

ここで、「図形のサイズ」とは、通常、図形に外接する矩形であり、水平直線および垂直直線から構成される矩形の水平方向の長さおよび垂直方向の長さである。また、「図形のサイズ」は、例えば、当該矩形の対角線の長さや、当該矩形の面積などであってもよい。また、当該「図形に外接する矩形」を構成する直線は、例えば、予め決められた角度の直線であってもよい。当該「予め決められた角度」とは、通常、水平方向に対する角度である。また、当該「予め決められた角度」は、例えば、垂直方向に対する角度であってもよい。

また、格納部１０は、不揮発性の記録媒体が好適であるが、揮発性の記録媒体でも実現可能である。また、格納部１０などに所定の情報が記憶される過程は、問わない。例えば、当該所定の情報は、記録媒体や、通信回線、入力デバイスなどを介して格納部１０などに記憶されてもよい。

受付部１１は、入力図形情報を受け付ける。また、受付部１１は、例えば、図形の幅や、最大ショットサイズなどを受け付けてもよい。また、受付部１１は、当該受け付けた図形の幅や最大ショットサイズなどを、通常、格納部１０に蓄積する。また、図形の幅を蓄積する場合、受付部１１は、当該図形の幅を、通常、図形分類条件として蓄積する。

また、受付部１１は、例えば、入力図形情報が示す１以上の図形のうち、補助パターンに対応する図形を示す情報である補助パターン識別情報を受け付けてもよい。補助パターン識別情報は、通常、補助パターンに対応する図形を識別する図形識別子を有する。また、受付部１１は、受け付けた最大ショットサイズを、通常、格納部１０に蓄積する。

また、受け付けとは、タッチパネルや、キーボードなどの入力デバイスから入力された情報の取得、光ディスクや磁気ディスク、半導体メモリなどの記録媒体に格納されている情報の取得、有線もしくは無線の通信回線を介して送信された情報の受信などを含む概念である。

なお、受付部１１における情報や指示などの入力手段は、メニュー画面によるものや、キーボードなど、何でもよい。受付部１１は、メニュー画面の制御ソフトウェアや、キーボード等の入力手段のデバイスドライバなどで実現され得る。

図形幅取得部１２は、入力図形情報を用いて、入力図形情報が示す１以上の各図形の幅（以下、適宜、図形幅）を取得する。「図形幅を取得する」とは、通常、図形の幅を示す情報を取得することである。

図形幅とは、通常、図形に外接する矩形を構成する短辺の長さであるが、当該矩形を構成する長辺の長さであってもよい。また、当該矩形は、通常、図形に外接する１以上の矩形のうち、サイズが最小である矩形である。ここでのサイズは、通常、面積である。

また、図形幅は、例えば、幅形成点の距離であってもよい。「幅形成点」とは、図形の輪郭線を構成する点のうちの２つの点の組である。また、「幅形成点の距離」とは、当該２つの点間の距離である。当該「２つの点」は、通常、幅形成直線と図形の輪郭線との交点である。また、当該「幅形成直線」は、通常、図形に外接する矩形を構成する短辺に平行な直線である。また、「幅形成直線」は、例えば、水平直線や、垂直直線、その他の方向に平行な直線であってもよい。

また、図形幅は、例えば、２以上の幅形成点の距離の集合であってもよい。また、図形幅は、当該２以上の幅形成点の距離の平均であってもよい。これらの場合、幅形成直線は、２以上である。また、当該２以上の幅形成直線の間隔は、通常、「１」であることが好適である。

例えば、図形の形状が、水平方向に細長い線状の形状であるとする。また、当該図形に外接する１以上の矩形のうち、水平直線および垂直直線から構成される矩形が、サイズが最小の矩形であるとする。この場合、当該図形の幅は、通常、当該図形に外接する矩形の垂直方向の辺の長さである。また、当該図形の幅は、例えば、図２に示す様に、当該図形に内接または外接する水平方向の２以上の直線のうち、下端の直線と上から２本目の直線との距離であってもよい。また、当該図形の幅は、例えば、図３に示す様に、２以上の幅形成直線と輪郭線とが交わる２つの点間の距離である２以上の幅形成点の距離の集合であってもよい。また、当該２以上の幅形成直線は、例えば、図２０に示す様に、それぞれの方向が異なっていてもよい。また、当該図形の幅は、例えば、当該２以上の幅形成点の距離の平均であってもよい。

なお、図形幅取得部１２は、通常、後述の各手段により、１以上の各図形の幅を取得する。

距離マップ作成手段１２１は、距離マップを作成する。距離マップとは、一の図形について、当該図形の中心線を構成する１以上の各点から、当該図形の輪郭線までの距離の１以上の集合を示す情報である。当該「距離」は、通常、最短距離である。また、当該「点」は、通常、一の座標により示される。

また、「図形の中心線」とは、通常、１以上の幅形成点の中点から構成される線である。「幅形成点の中点」とは、幅形成点である２つの点の中点である。

また、距離マップは、例えば、中心線を構成する１以上の点以外の点から、図形の輪郭線までの距離を有していてもよい。当該点は、通常、図形の内側の点である。また、距離マップは、例えば、入力図形情報が示す１以上の各図形に対応する情報であってもよいし、当該１以上のすべての図形に対応する情報であってもよい。また、距離マップのデータ構造は、問わない。

また、距離マップ作成手段１２１は、通常、入力図形情報を用いて距離マップを作成する。また、距離マップ作成手段１２１は、入力図形情報を用いて距離マップを作成すればよく、その方法や手順などは、問わない。距離マップ作成手段１２１は、通常、図形の中心線を取得し、当該中心線を用いて、距離マップを作成する。なお、当該「中心線を取得する」とは、中心線を示す座標集合を取得することである。

距離マップ作成手段１２１は、例えば、以下のいずれかの方法により、距離マップを作成する。
（Ａ）ビットマップ画像を作成する方法
（Ｂ）ビットマップ画像を作成しない方法

（Ａ）の方法：当該方法は、入力図形情報が示す１以上の各図形を示すビットマップ形式の画像（以下、適宜、ビットマップ画像）を用いて、距離マップを作成する方法である。当該方法において、例えば、入力図形情報が示す一の図形に対応する距離マップを作成する具体的な手順は、例えば、以下のとおりである。
（１）入力図形情報を用いて、当該入力図形情報が示す一の図形を示すビットマップ画像を作成する。
（２）（１）で作成したビットマップ画像を用いて、図形の輪郭線を構成する１以上の各点を示す１以上の座標を取得する。
（３）（２）で取得した１以上の座標を用いて、１以上の各幅形成点を示す１以上の座標集合を取得する。当該座標集合は、通常、２つの座標を有する。
（４）（３）で取得した１以上の座標集合を用いて、当該１以上の各座標集合が有する２つの各座標が示す２つの点の中点を示す１以上の座標を取得する。当該取得した１以上の座標は、中心線を構成する１以上の各点を示す座標である。
（５）（２）で取得した１以上の座標と、（４）で取得した１以上の座標とを用いて、中心線を示す１以上の各座標が示す点から、輪郭線までの距離を算出する。

なお、入力図形情報がビットマップ形式の画像である場合、上記（１）の処理は、通常、行わない。

また、上記（１）において、ビットマップ画像を作成する方法や手順などは、公知であるので、詳細な説明を省略する。

また、上記（１）において、距離マップ作成手段１２１は、例えば、輪郭線を構成する２つの点間の点を示す座標を、いわゆる補間により算出してもよい。当該補間は、例えば、線形補間である。

（Ｂ）の方法：当該方法は、ビットマップ画像を作成することなく、入力図形情報を用いて距離マップを作成する方法である。つまり、当該方法は、入力図形情報がビットマップ画像である場合は、通常、用いない。また、当該方法において、例えば、入力図形情報が示す一の図形に対応する距離マップを作成する具体的な手順は、例えば、以下のとおりである。
（１）入力図形情報を用いて、図形の輪郭線を構成する１以上の各点を示す１以上の座標を取得する。
（２）（１）で取得した輪郭線を示す１以上の座標を用いて、１以上の各幅形成点を示す１以上の座標集合を取得する。当該座標集合は、通常、２つの座標を有する。
（３）（２）で取得した１以上の座標集合を用いて、当該１以上の各座標集合が有する２つの各座標が示す２つの点の中点を示す１以上の座標を取得する。当該取得した１以上の座標は、中心線を構成する１以上の各点を示す座標である。
（４）（１）で取得した１以上の座標と、（３）で取得した１以上の座標とを用いて、中心線を示す１以上の各座標が示す点から、輪郭線までの距離を算出する。

なお、上記（１）において、距離マップ作成手段１２１は、例えば、各２つの点間の点を示す座標を、いわゆる補間により算出してもよい。当該補間は、例えば、線形補間である。

図形幅取得手段１２２は、入力図形情報が示す１以上の各図形の幅を取得する。当該図形幅を取得する方法や手順などは、問わない。図形幅取得手段１２２は、例えば、以下のいずれかの方法により、図形幅を取得する。
（Ａ）距離マップを用いる方法
（Ｂ）距離マップを用いない方法

（Ａ）の方法：当該方法において、例えば、入力図形情報が示す一の図形の幅を取得する具体的な手順は、例えば、以下のとおりである。
（１）図形の中心線を構成する１以上の各点に対応する輪郭線までの距離を、距離マップから取得する。
（２）（１）で取得した１以上の各距離を２倍した１以上の値を取得する。当該取得した値は、図形幅である。

なお、上記（２）において、図形幅取得手段１２２は、例えば、取得した１以上の値の平均を、図形幅として取得してもよい。また、図形幅取得手段１２２は、例えば、取得した１以上の値のうち、最大または最小の値を、図形幅として取得してもよい。

（Ｂ）の方法：当該方法において、例えば、入力図形情報が示す一の図形の幅を取得する具体的な手順は、例えば、以下のとおりである。
（１）入力図形情報から、図形の輪郭線を構成する１以上の各点を示す１以上の座標を取得する。
（２）（１）で取得した１以上の座標を用いて、１以上の各幅形成点を示す１以上の座標集合を取得する。当該座標集合は、通常、２つの座標を有する。
（３）（２）で取得した１以上の座標集合を用いて、当該１以上の各座標集合が有する２つの各座標が示す２つの点間の距離である１以上の距離を取得する。当該取得した１以上の距離は、図形幅である。

なお、上記（３）において、図形幅取得手段１２２は、例えば、取得した１以上の距離の平均を、図形幅として取得してもよい。また、図形幅取得手段１２２は、例えば、取得した１以上の距離のうち、最大または最小の距離を、図形幅として取得してもよい。

判断部１３は、入力図形情報が示す１以上の各図形が、図形の幅に基づく２以上のパターンのいずれであるかを判断する。当該「判断する」とは、通常、当該判断結果を示すパターン識別子を取得することである。

判断部１３は、通常、図形幅取得部１２が取得した図形幅が、格納部１０に格納されている２以上の図形分類条件のいずれを満たすかを判断する。そして、判断部１３は、満たすと判断した図形分類条件に対応付いているパターン識別子を取得する。そして、判断部１３は、当該図形幅が取得された図形について、当該取得したパターン識別子により識別されるパターンであると判断する。

例えば、図形幅が「１８」であるとする。また、図形分類条件が「図形幅≦２０」であるとする。当該図形分類条件は、図形幅が２０以下であることを意味する。この様な場合、判断部１３は、当該図形幅が当該図形分類条件を満たすと判断する。

また、例えば、１以上の図形幅が「２０、２０、２０、２０」であるとする。また、図形分類条件が「（１０≦図形幅≦３０）＆（図形幅＝一定）」であるとする。当該図形分類条件は、図形幅が１０以上３０以下であり、かつ、図形幅が一定であることを意味する。この様な場合、判断部１３は、当該１以上の図形幅が当該図形分類条件を満たすと判断する。

また、判断部１３は、通常、メインパターンであると判断した図形について、当該図形のサイズが最大ショットサイズより大きいか否かを判断する。この場合、格納部１０には、最大ショットサイズと、第一メインパターンを識別するパターン識別子と、第二メインパターンを識別する第一識別子とが格納されている。そして、例えば、当該図形のサイズが最大ショットサイズより大きい場合、判断部１３は、当該第一メインパターンを識別するパターン識別子を取得する。また、例えば、当該図形のサイズが最大ショットサイズ以下である場合、判断部１３は、当該第二メインパターンを識別するパターン識別子を取得する。

上記、第一メインパターンであるか第二メインパターンであるかを判断する場合、判断部１３は、例えば、メインパターンであると判断した図形について、当該図形に外接する矩形を取得する。当該矩形は、通常、水平直線および垂直直線から構成される矩形である。そして、判断部１３は、当該取得した矩形のサイズが、最大ショットサイズより大きいか否かを判断する。このとき、判断部１３は、例えば、矩形のサイズと最大ショットサイズについて、水平方向の長さ同士、垂直方向の長さ同士、対角線の長さ同士、面積同士などを比較する。そして、判断部１３は、水平方向の長さ、垂直方向の長さ、対角線の長さ、面積などのいずれかが、最大ショットサイズより大きい場合に、当該図形のサイズが最大ショットサイズより大きいと判断する。

なお、図形のサイズは、通常、図示しない図形サイズ取得部が取得する。図形サイズ取得部は、通常、入力図形情報を用いて、入力図形情報が示す１以上の各図形のサイズを取得する。なお、当該図形のサイズを取得する方法や手順などは、公知であるので、詳細な説明を省略する。

作成部１４は、入力図形情報を用いて、近似図形情報を作成する。作成部１４は、通常、判断部１３が取得したパターン識別子に応じて、異なる方法により、１以上の各図形に近似する１以上の近似図形を示す近似図形情報を作成する。また、作成部１４は、通常、入力図形情報が示す１以上の図形ごとに近似図形情報を作成する。そして、作成部１４は、当該作成した１以上の近似図形情報を結合し、一の近似図形情報を作成する。

なお、作成部１４は、通常、後述の各手段により、近似図形情報を作成する。

中心線取得手段１４１は、入力図形情報を用いて、１以上の各図形の中心線を取得する。当該１以上の各図形は、通常、判断部１３により補助パターンであると判断された図形である。また、当該１以上の各図形は、例えば、判断部１３によりメインパターンであると判断された図形であってもよい。

例えば、距離マップ作成手段１２１が距離マップを作成した場合、距離マップ作成手段１２１は、通常、入力図形情報が示す１以上の各図形の中心線を取得している。従って、この場合、中心線取得手段１４１は、通常、当該距離マップの作成の際に取得した中心線のうち、補助パターンに対応する図形の中心線を、距離マップ作成手段１２１から取得する。また、例えば、距離マップ作成手段１２１が距離マップを作成しなかった場合、中心線取得手段１４１は、通常、補助パターンに対応する図形の中心線を、入力図形情報を用いて取得する。当該中心線の取得の方法や手順などは、距離マップ作成手段１２１による中心線の取得の方法や手順などと同様であるので、説明を省略する。

近似輪郭線取得手段１４２は、入力図形情報を用いて、近似輪郭線を取得する。近似輪郭線とは、１以上の各図形の輪郭線であり、通常、水平直線および垂直直線から構成される輪郭線である。また、近似輪郭線は、例えば、予め決められた角度の直線から構成されてもよい。また、「近似輪郭線を取得する」とは、通常、当該近似輪郭線を示す座標集合を取得することである。また、当該１以上の各図形は、通常、判断部１３によりメインパターンであると判断された図形である。また、入力図形情報が示す図形の輪郭線を、以下、適宜、元輪郭線とする。

また、近似輪郭線取得手段１４２は、通常、元輪郭線と近似輪郭線との誤差が、予め決められた条件（以下、適宜、誤差条件）を満たすほど小さくなるように、近似輪郭線を取得する。「元輪郭線と近似輪郭線との誤差」とは、例えば、元輪郭線が示す図形のサイズと近似輪郭線が示す図形のサイズとの差や、元輪郭線の長さと近似輪郭線の長さとの差、元輪郭線と近似輪郭線との交点の数などである。当該「差」は、例えば、割合や比率などであってもよい。

ここで、誤差条件は、例えば、上記誤差が予め決められた閾値以下であることや、上記誤差が予め決められた範囲内であることなどである。

つまり、近似輪郭線取得手段１４２は、例えば、元輪郭線と近似輪郭線との誤差が、誤差条件を満たすか否かを判断する。そして、例えば、当該誤差が誤差条件を満たさない場合、近似輪郭線取得手段１４２は、当該誤差が誤差条件を満たすように、当該近似輪郭線が示す図形を拡大または縮小する。

また、近似輪郭線は、例えば、図形に内接する多角形であってもよいし、図形に外接する多角形であってもよいし、両者のいずれでなくてもよい。

なお、元輪郭線と近似輪郭線との誤差が誤差条件を満たす様に近似輪郭線を取得する方法や手順などは、公知であるので、詳細な説明を省略する。当該方法は、例えば、量子化である。つまり、例えば、元輪郭線をいわゆるアナログ信号の波形と見なし、当該元輪郭線を量子化することにより、近似輪郭線を取得することができる。

作成手段１４３は、判断部１３が取得したパターン識別子に応じて、当該パターン識別子により識別される図形のパターンに対応する図形を近似する近似図形を示す近似図形情報を作成する。「近似図形情報を作成する」とは、通常、近似図形を構成する１以上の各矩形を示す１以上の座標情報を取得することである。また、「近似図形情報を作成する」を、以下、適宜、「近似図形を作成する」と表記する。また、入力図形情報が示す図形を、以下、適宜、元図形とする。また、近似図形は、通常、予め決められた方法や手順により矩形を配置することや、入力図形情報が示す図形を１以上の矩形に分割することなどにより作成される。また、判断部１３が取得したパターン識別子により識別される図形のパターンは、通常、以下のいずれかである。
（Ａ）補助パターン
（Ｂ）第一メインパターン
（Ｃ）第二メインパターン

（Ａ）について：この場合、作成手段１４３は、通常、補助パターンに対応する図形の中心線に沿って、当該図形の幅に適合する１以上の矩形を配置する。そして、作成手段１４３は、当該配置により、補助パターンに対応する１以上の各図形に近似する１以上の近似図形を作成する。「中心線に沿って」とは、通常、矩形の中心が、中心線と重なるように配置することである。また、「中心線に沿って」とは、例えば、矩形の４つの頂点のうちのいずれか頂点や、矩形を構成する４つの辺のうちのいずれかの辺などが、中心線と重なるように配置することであってもよい。また、中心線に沿って配置する場合、作成手段１４３は、通常、中心線の一方の端点から、中心線の他方の端点に向かって、順に、矩形を配置する。また、作成手段１４３は、例えば、補助パターンに対応する図形の中心線に沿わないで、当該図形の幅に適合する１以上の矩形を配置してもよい。

また、「図形の幅に適合する矩形」とは、通常、短辺の長さ、長辺の長さ、対角線の長さのいずれかが、当該図形の幅と予め決められた条件（以下、適宜、矩形サイズ条件）を満たすほど近い矩形である。当該矩形サイズ条件は、通常、矩形のサイズに関する条件である。当該「矩形のサイズ」とは、例えば、矩形の短辺の長さ、矩形の長辺の長さ、矩形の対角線の長さのいずれかである。また、配置する矩形は、配置ごとにサイズが異なっていてもよい。

また、上記の配置において、作成手段１４３は、通常、矩形同士が重ならないように矩形を配置する。「矩形同士が重ならないように」とは、通常、既に配置されている矩形に隣接するように、矩形を配置することである。

また、上記の配置において、作成手段１４３は、例えば、矩形同士が重なるように矩形を配置してもよい。「矩形同士が重なるように」とは、通常、既に配置されている図形と重なる部分の大きさが予め決められた条件（以下、適宜、重なり量条件）を満たすように、矩形を配置することである。当該重なり量条件は、通常、図形同士が重なっている部分の大きさ（面積）に関する条件である。また、重なり量条件は、例えば、配置した図形の大きさに対する当該重なっている部分の大きさの割合に関する条件であってもよい。

なお、当該重なり量条件が、例えば、図形同士が重なっている部分の大きさが「０」であることを意味する場合、作成手段１４３は、通常、矩形同士が隣接するように矩形を配置する。

また、上記の配置において、作成手段１４３は、例えば、配置した矩形の位置や、配置した矩形のサイズなどを用いて、次に矩形を配置する位置や、配置する矩形のサイズなどを決定する。当該「位置」とは、例えば、矩形の中心に対応する座標や、矩形の４つの頂点のうちのいずれか１以上の頂点に対応する座標などである。また、当該位置やサイズは、例えば、予め決められた算出式により算出されてもよい。当該算出式は、例えば、矩形の横幅や、矩形の縦幅、矩形の位置などを示す変数や、その他の定数などを有する。

また、上記の配置において、作成手段１４３は、通常、元図形と近似図形との誤差が、誤差条件を満たすほど小さくなるように、近似図形を作成する。「元図形と近似図形との誤差」とは、例えば、元図形のサイズと近似図形のサイズとの差や、元図形の輪郭線の長さと近似図形の輪郭線の長さとの差、元図形の輪郭線と近似図形の輪郭線との交点の数などである。当該「差」は、例えば、割合や比率などであってもよい。

つまり、作成手段１４３は、例えば、元図形と近似図形との誤差が、誤差条件を満たすか否かを判断する。そして、例えば、当該誤差が誤差条件を満たさない場合、作成手段１４３は、当該誤差が誤差条件を満たすように、例えば、再度の矩形配置や、近似図形の拡大または縮小などを行う。

なお、作成手段１４３は、補助パターンに対応する図形について、当該図形の中心線に沿って１以上の矩形を配置することにより、当該図形のサイズとの誤差が誤差条件を満たすほど小さい近似図形を作成することができればよく、その方法や手順などは、問わない。

（Ｂ）について：この場合、作成手段１４３は、通常、第一メインパターンに対応する図形の近似輪郭線が示す図形の形状に適合する１以上の矩形を順に配置する。そして、作成手段１４３は、当該配置により、第一メインパターンに対応する１以上の各図形に近似する１以上の近似図形を作成する。「近似輪郭線が示す図形の形状に適合する矩形」とは、通常、サイズが、当該近似輪郭線が示す図形よりも小さい矩形である。また、当該近似輪郭線は、通常、近似輪郭線取得手段１４２が取得した近似輪郭線である。

また、上記の配置において、作成手段１４３は、通常、近似輪郭線に沿って、矩形を配置する。当該「近似輪郭線に沿って」とは、通常、配置された矩形が、近似輪郭線からはみ出ることなくかつ隙間なく矩形を配置することである。

また、上記の配置において、作成手段１４３は、例えば、矩形同士が重ならないように矩形を配置してもよいし、矩形同士が重なるように矩形を配置してもよい。矩形同士が重なるように矩形を配置する場合、作成手段１４３は、通常、重なり量条件を満たすように、矩形を配置する。

また、上記の配置において、作成手段１４３は、通常、矩形の合計数が少なくなるように矩形を配置する。なお、予め決められた多角形（近似輪郭線が示す図形）の輪郭線に沿って、予め決められたサイズ以下のサイズの矩形を、合計数が少なくなるように配置する方法や手順などは、公知であるので、詳細な説明を省略する。

（Ｃ）について：この場合、作成手段１４３は、通常、第二メインパターンに対応する図形の近似輪郭線に沿って、当該近似輪郭線が示す図形を２以上の矩形に分割する。そして、作成手段１４３は、当該分割により、第二メインパターンに対応する１以上の各図形に近似する１以上の近似図形を作成する。当該「近似輪郭線に沿って」とは、通常、近似輪郭線が示す図形を分割する直線が、近似輪郭線を構成する水平直線または垂直直線と重なるように分割することである。また、「矩形に分割する」とは、通常、水平方向、垂直方向のいずれか一方に分割することである。

また、この場合、作成手段１４３は、通常、矩形の合計数が少なくなるように、近似輪郭線に沿って、近似輪郭線を、水平方向または垂直方向に２以上の矩形に分割する。作成手段１４３は、例えば、水平方向、垂直方向のそれぞれの方向で近似輪郭線が示す図形を分割し、２つの近似図形を作成する。そして、作成手段１４３は、当該分割して得られた矩形数が少ない方の近似図形を取得する。

なお、予め決められた多角形（近似輪郭線が示す図形）を、分割後の矩形の合計数が少なくなるように、当該多角形の輪郭線に沿って水平方向または垂直方向に分割する方法や手順などは、公知であるので、詳細な説明を省略する。

また、入力図形情報が示す一の図形について、判断部１３が上記３つのパターン以外のパターンであると判断した場合、作成手段１４３は、通常、予め決められた方法や手順などにより、当該図形に対応する近似図形を示す近似図形情報を作成する。当該「予め決められた方法や手順など」を示す情報を、以下、適宜、作成方法情報とする。作成方法情報は、通常、近似図形情報を作成するアルゴリズムを表現したものである。作成方法情報は、例えば、入力図形情報から近似図形情報を作成する実行プログラムや、入力図形情報から近似図形情報を作成する手順を示すソースコード、当該手順を示す擬似的なプログラムコード、当該手順を示すフローチャートなどである。また、擬似的なプログラムコードとは、アルゴリズムを、自然言語を用いてプログラミング言語のように記述したものである。また、擬似的なプログラムコードの文法は、通常、既存のプログラミング言語の文法に似たものである。

描画部１５は、作成部１４が作成した近似図形情報が示す１以上の近似図形を描画する。当該描画の対象は、問わない。当該描画の対象は、例えば、フォトマスクや、ウェハーなどである。また、描画部１５は、通常、電界放出型や、ショットキー型、熱電子型などの電子銃や、電子レンズ、高さ検出器などから実現され得る。また、描画部１５が発する電子線の断面の形状は、通常、矩形である。また、描画部１５の処理手順は、通常、ソフトウェアで実現され、当該ソフトウェアはＲＯＭ等の記録媒体に記録されている。

なお、図形幅取得部１２、距離マップ作成手段１２１、図形幅取得手段１２２、判断部１３、作成部１４、中心線取得手段１４１、近似輪郭線取得手段１４２、作成手段１４３は、通常、ＭＰＵやメモリ等から実現され得る。また、図形幅取得部１２などの処理手順は、通常、ソフトウェアで実現され、当該ソフトウェアはＲＯＭ等の記録媒体に記録されている。なお、図形幅取得部１２などは、ハードウェア（専用回路）で実現されてもよい。

次に、電子ビーム描画装置１の全体動作について、フローチャートを用いて説明する。なお、所定の情報におけるｉ番目の情報は、「情報［ｉ］」と記載するものとする。図４は、電子ビーム描画装置１の全体動作を示すフローチャートである。

（ステップＳ４０１）図形幅取得部１２は、受付部１１が入力図形情報を受け付けたか否かを判断する。受け付けた場合は、ステップＳ４０２に進み、そうでない場合は、ステップＳ４０１に戻る。ここで、当該入力図形情報は、ｍ個の図形を示すものとする。

（ステップＳ４０２）作成部１４は、カウンタｉに１をセットする。

（ステップＳ４０３）図形幅取得部１２は、図形［ｉ］の図形幅を取得する。この処理の詳細は、図５のフローチャートを用いて説明する。

（ステップＳ４０４）判断部１３は、ステップＳ４０３で取得した図形幅が、図形分類条件を満たすか否かを判断する。満たす場合は、ステップＳ４０５に進み、そうでない場合は、ステップＳ４０６に進む。

（ステップＳ４０５）作成部１４は、補助パターンに対応する図形［ｉ］に対応する近似図形を作成する。この処理の詳細は、図６のフローチャートを用いて説明する。

（ステップＳ４０６）近似輪郭線取得手段１４２は、図形［ｉ］に対応する近似輪郭線を取得する。

（ステップＳ４０７）判断部１３は、図形［ｉ］のサイズが最大ショットサイズより大きいか否かを判断する。最大ショットサイズより大きい場合は、ステップＳ４０８に進み、そうでない場合は、ステップＳ４０９に進む。

（ステップＳ４０８）作成手段１４３は、ステップＳ４０６で取得した近似輪郭線に沿って１以上の矩形を配置する。当該配置により、作成手段１４３は、図形［ｉ］に対応する近似図形を作成する。

（ステップＳ４０９）作成手段１４３は、ステップＳ４０６で取得した近似輪郭線に沿って、当該近似輪郭線が示す図形を２以上の矩形に分割する。当該分割により、作成手段１４３は、図形［ｉ］に対応する近似図形を作成する。

（ステップＳ４１０）作成部１４は、ｉがｍであるか否かを判断する。ｍである場合は、ステップＳ４１２に進み、そうでない場合は、ステップＳ４１１に進む。

（ステップＳ４１１）作成部１４は、ｉを１インクリメントする。そして、ステップＳ４０３に戻る。

（ステップＳ４１２）描画部１５は、ステップＳ４０３からステップＳ４０９までにおいて作成した１以上の各近似図形を描画する。

なお、図４のフローチャートにおいて、電源オフや処理終了の割り込みにより処理を終了してもよい。

また、図４のフローチャートにおいて、ステップＳ４０３の処理を、ｍ個の各図形ごとに行ってもよい。また、この場合、ステップＳ４０４からステップＳ４０９までの処理を、ｍ個の各図形ごとに行うことになる。

また、図４のフローチャートにおいて、ステップＳ４０４の処理は、以下のステップＳ４０４−１の処理と同義である。
（ステップＳ４０４−１）判断部１３は、図形幅が満たす図形分類条件に対応するパターン識別子を、格納部１０から取得する。そして、補助パターンを識別するパターン識別子を取得した場合は、ステップＳ４０５に進み、メインパターンを識別するパターン識別子を取得した場合は、ステップＳ４０６に進む。

また、図４のフローチャートにおいて、ステップＳ４０７の処理は、以下のステップＳ４０７−１の処理と同義である。
（ステップＳ４０７−１）判断部１３は、図形［ｉ］のサイズが最大ショットサイズより大きいか否かを判断する。最大ショットサイズより大きい場合、判断部１３は、第一メインパターンを識別するパターン識別子を、格納部１０から取得する。また、最大ショットサイズより大きくない場合、判断部１３は、第二メインパターンを識別するパターン識別子を、格納部１０から取得する。また、第一メインパターンを識別するパターン識別子を取得した場合は、ステップＳ４０８に進み、第二メインパターンを識別するパターン識別子を取得した場合は、ステップＳ４０９に進む。

図５は、図４のフローチャートのステップＳ４０３の図形幅の取得処理を示すフローチャートである。なお、図５のフローチャートにおいて、図４のフローチャートにおける「図形［ｉ］」は、「図形」と表記するものとする。

（ステップＳ５０１）距離マップ作成手段１２１は、入力図形情報を用いて、図形のビットマップ画像を作成する。

（ステップＳ５０２）距離マップ作成手段１２１は、ステップＳ５０１で作成したビットマップ画像を用いて、図形の輪郭線を取得する。

（ステップＳ５０３）距離マップ作成手段１２１は、ステップＳ５０２で取得した輪郭線を用いて、図形の中心線を取得する。ここで、当該中心線は、ｍ個の点から構成されているものとする。

（ステップＳ５０４）距離マップ作成手段１２１は、カウンタｉに１をセットする。

（ステップＳ５０５）距離マップ作成手段１２１は、点［ｉ］からステップＳ５０２で取得した輪郭線までの最短距離を取得する。

（ステップＳ５０６）幅取得手段１２２は、ステップＳ５０５で取得した距離を２倍し、点［ｉ］における図形の幅［ｉ］にセットする。

（ステップＳ５０７）距離マップ作成手段１２１は、ｉがｍであるか否かを判断する。ｍである場合は、ステップＳ５０９に進み、そうでない場合は、ステップＳ５０８に進む。

（ステップＳ５０８）距離マップ作成手段１２１は、ｉを１インクリメントする。そして、ステップＳ５０５に戻る。

（ステップＳ５０９）距離マップ作成手段１２１は、ステップＳ５０６で取得したｍ個の幅の平均を、図形幅にセットする。そして、上位処理にリターンする。

図６は、図４のフローチャートのステップＳ４０５の補助パターンに対応する近似図形情報の作成処理を示すフローチャートである。なお、図６のフローチャートにおいて、図４のフローチャートにおける「図形［ｉ］」は、「図形」と表記するものとする。

（ステップＳ６０１）中心線取得手段１４１は、図形の中心線を取得する。

（ステップＳ６０２）作成手段１４３は、ステップＳ６０１で取得した中心線の開始座標を、配置位置にセットする。中心線の開始座標とは、中心線の両端の端点のうちのいずれか一方を示す座標である。

（ステップＳ６０３）作成手段１４３は、配置位置における図形の幅に応じて、配置する矩形のサイズを決定する。

（ステップＳ６０４）作成手段１４３は、配置位置にステップＳ６０３でサイズを決定した矩形を配置する。

（ステップＳ６０５）作成手段１４３は、ステップＳ６０４で配置した矩形と、既に配置されている矩形とが重なっている部分の大きさが、重なり量条件を満たすか否かを判断する。重なり量条件を満たす場合は、ステップＳ６０７に進み、そうでない場合は、ステップＳ６０６に進む。

（ステップＳ６０６）作成手段１４３は、ステップＳ６０４で配置した矩形と、既に配置されている矩形とが重なっている部分の大きさが、重なり量条件を満たすように、ステップＳ６０４で配置した矩形の配置位置およびサイズを変更する。

（ステップＳ６０７）作成手段１４３は、ステップＳ６０４で配置した矩形のサイズや、ステップＳ６０４を配置した位置における図形の幅などに応じて、次に配置する矩形の位置およびサイズを決定する。

（ステップＳ６０８）作成手段１４３は、配置位置が、中心線の終了座標より大きいか否かを判断する。中心線の終了座標とは、中心線の両端の端点のうち、開始座標で示される点ではない方の点を示す座標である。そして、終了座標より大きい場合は、上位処理にリターンし、そうでない場合は、ステップＳ６０４に戻る。

（具体例）
次に、電子ビーム描画装置１の動作の具体例について説明する。

（例１）
本例において、距離マップを用いて図形幅を取得する例について説明する。

まず、受付部１１が、図７に示す図形を示す入力図形情報を受け付けたものとする。

次に、距離マップ作成手段１２１は、受付部１１が受け付けた入力図形情報を用いて、図８に示すビットマップ画像を作成する。当該ビットマップ画像は、図７の図形の内側を「白」とし、当該図形の外側を「黒」とした画像である。

次に、距離マップ作成手段１２１は、図８のビットマップ画像を用いて、当該ビットマップ画像が示す図形の輪郭線を示す座標集合を取得する。このとき、距離マップ作成手段１２１は、例えば、図８のビットマップ画像において、白の画素と黒の画素とが隣り合う２つの画素を検出し、当該白の画素の位置を示す１以上の座標を取得する。また、当該「隣り合う」とは、上下または左右のどちらでもよい。

次に、距離マップ作成手段１２１は、輪郭線を示す座標集合を用いて、ｘ座標が同一である２つの座標のｙ座標の平均を算出する。そして、距離マップ作成手段１２１は、当該２つの座標の中点を示す１以上の座標を取得し、図９に示す中心線を取得する。

次に、距離マップ作成手段１２１は、輪郭線を示す座標集合と、中心線を示す座標集合とを用いて、中心線を示す１以上の各座標が示す点から、輪郭線までの距離を算出する。また、このとき、距離マップ作成手段１２１は、例えば、中心線以外の点についても、輪郭線までの距離を算出する。また、このとき、距離マップ作成手段１２１は、例えば、図７の図形の外側の点については、輪郭線までの距離を「０」と算出する。この結果、作成した距離マップは、例えば、図１０である。図１０の各セルは、図８のビットマップ画像の各画素に対応する。また、図１０において、値が「０」であるセルは、図７の図形の外側の画素に対応し、値が「０」でないセルは、図７の図形の内側の画素に対応する。また、図１０において、値が「９０」であるセルは、図９における中心線を構成する画素（点）に対応するものとする。

次に、図形幅取得手段１２２は、中心線を構成する１以上の各点に対応する輪郭線までの距離を、図１０の距離マップから取得する。ここで、図形幅取得手段１２２は、例えば、図９における中心線について、上端の端点に対応する距離「９０」を取得したものとする。すると、図形幅取得手段１２２は、当該取得した距離を２倍し、当該端点に対応する図形幅「１８０」を取得する。

また、図形幅取得手段１２２は、通常、上記と同様の処理を、中心線を構成する１以上の各点に対して行い、当該１以上の各点に対応する図形幅を取得する。

（例２）
本例において、距離マップを用いずに図形幅を取得する例について説明する。

まず、受付部１１が、例１と同様に、図７に示す図形を示す入力図形情報を受け付けたものとする。

次に、図形幅取得手段１２２は、図１１に示す様に、図形に外接する最小矩形を構成する短辺に平行な２以上の各直線と図形の輪郭線との交点である２以上の幅形成点を検出する。そして、図形幅取得手段１２２は、当該２以上の各幅形成点を示す２つの座標を有する２以上の座標集合を取得する。ここで、当該２以上の各直線の間隔は、図１１においては、「１」であるものとする。

次に、図形幅取得手段１２２は、取得した１以上の座標集合ごとに、当該座標集合が有する２つの各座標が示す２つの点間の距離を算出する。そして、図形幅取得手段１２２は、当該１以上の各交点に対応する図形幅を取得する。

（例３）
本例において、補助パターンに対応する図形に対応する近似図形の作成の例について説明する。本例において、補助パターンに対応する図形は、図７に示す図形であるものとする。つまり、当該図形は、判断部１３により、補助パターンを識別するパターン識別子が取得された図形である。また、このときの図形分類条件は、例えば、以下の条件である。
（図形分類条件）図形幅が２００以下であり、かつ、図形幅が一定であること

まず、中心線取得手段１４１は、図７の図形を示す入力情報を用いて、図１２に示す様に、図７の図形の中心線を取得する。当該中心線の取得例は、例１と同様であるので、説明を省略する。

次に、作成手段１４３は、図１２の中心線に沿って、１以上の矩形を配置する。このとき、作成手段１４３は、図１２の中心線の上端から下端に沿って、順に矩形を配置する。また、このとき、作成手段１４３は、配置する矩形の中心、または、４つの頂点のうちのいずれか、または、４つの辺の中点のうちのいずれかが、中心線と重なるように配置する。また、このとき、作成手段１４３は、矩形同士が重ならないように矩形を配置する。また、このとき、作成手段１４３は、配置した矩形のサイズや、配置した位置、配置した位置における水平方向の直線と図形の輪郭線との交点である２つの点間の距離などに応じて、次に配置する矩形のサイズを決定する。当該配置の結果、作成手段１４３が作成した近似図形の例は、図１３である。

図１２において、作成手段１４３は、まず、当該図形の上端に外接する矩形（図１３の矩形ａ）を配置する。当該矩形ａの横幅は、例えば、図１２の図形の輪郭線と水平方向の直線との交点である２つの点間の距離である。また、当該矩形の縦幅は、例えば、元図形と近似図形との誤差が誤差条件を満たすように、かつ、矩形の合計数が最少となるように決定される。次に、作成手段１４３は、図１３の矩形ａに隣接する図１３の矩形ｂを配置する。当該矩形ｂの横幅および縦幅は、例えば、矩形ａの横幅および縦幅と同様である。次に、作成手段１４３は、図１３の矩形ｂと同様に、図１３の矩形ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ、ｉ、ｊ、ｋ、ｌを順に配置する。

また、矩形同士が重なるように配置した結果、作成手段１４３が作成した近似図形の例は、図１４である。図１２において、作成手段１４３は、まず、当該図形の上端に外接する矩形（図１４の矩形ａ）を配置する。当該矩形ａの横幅は、例えば、図１２の図形の輪郭線と水平方向の直線との交点である２つの点間の距離である。また、当該矩形の縦幅は、例えば、予め決められた縦幅の範囲内においてランダムに選択する。次に、作成手段１４３は、図１４の矩形ａに隣接する図１４の矩形ｂを配置する。当該矩形ｂの横幅および縦幅は、例えば、矩形ａの横幅および縦幅と同様である。次に、作成手段１４３は、図１４の矩形ｂに重なる図１４の矩形ｃを配置する。当該矩形ｃの横幅は、例えば、矩形ｂの横幅と同様である。また、当該矩形ｃの縦幅は、例えば、矩形ｂの縦幅の２倍である。次に、作成手段１４３は、図１４の矩形ｃと同様に、図１４の矩形ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ、ｉ、ｊを順に配置する。

（例４）
本例において、第一メインパターンに対応する図形に対応する近似図形の作成の例について説明する。本例において、第一メインパターンに対応する図形は、図１５に示す図形であるものとする。つまり、当該図形は、判断部１３により、メインパターンを識別するパターン識別子、および第一メインパターンを識別するパターン識別子が取得された図形である。このときの図形分類条件は、例えば、以下の条件である。また、このときの最大ショットサイズは、例えば、以下のサイズである。
（図形分類条件）図形幅が２００より大きいこと
（最大ショットサイズ）２５０×２５０

まず、近似輪郭線取得手段１４２は、図１５の図形を示す入力図形情報を用いて、図１６に示す様に、図１５の図形の輪郭線を量子化し、当該図形の近似輪郭線を取得する。図１６において、点線は、図１５の図形の輪郭線を示す。

次に、作成手段１４３は、図１６の輪郭線に沿って、最大ショットサイズ以下の１以上の矩形を配置する。当該配置の結果、作成手段１４３が作成した近似図形の例は、図１７である。図１６において、作成手段１４３は、まず、最大ショットサイズ以下の矩形であり、図１６の輪郭線内に収まる最大の矩形（図１７の矩形ａ）を配置する。次に、作成手段１４３は、図１６の輪郭線内の矩形が配置されていない領域について、図１７の矩形ａに隣接する矩形であり、当該領域内に配置できる最大の矩形（図１７の矩形ｂ１、ｂ２）を配置する。次に、作成手段１４３は、図１７の矩形ｂ１、ｂ２と同様に、図１７の矩形ｃ１、ｃ２、ｄ１、ｄ２を順に配置する。そして、作成手段１４３は、最後に、図１７の矩形ｅ１、ｅ２を配置する。

（例５）
本例において、第二メインパターンに対応する図形に対応する近似図形の作成の例について説明する。本例において、第二メインパターンに対応する図形は、図１５に示す図形であるものとする。つまり、当該図形は、判断部１３により、メインパターンを識別するパターン識別子、および第二メインパターンを識別するパターン識別子が取得された図形である。このときの図形分類条件は、例えば、以下の条件である。また、このときの最大ショットサイズは、例えば、以下のサイズである。
（図形分類条件）図形幅が２００より大きいこと
（最大ショットサイズ）２５０×２５０

まず、近似輪郭線取得手段１４２は、図１５の図形を示す入力図形情報を用いて、図１６に示す様に、図１５の図形の輪郭線を量子化し、当該図形の近似輪郭線を取得する。図１６において、点線は、図１５の図形の輪郭線を示す。

次に、作成手段１４３は、図１６の輪郭線が示す図形を、当該輪郭線を構成する水平直線に沿って、上から順に矩形に分割する。当該分割の結果、作成手段１４３が作成した近似図形の例は、図１８である。図１６において、作成手段１４３は、まず、上から２本目の水平直線に沿って輪郭線が示す図形を分割する。その結果、図１８の矩形ａが作成される。次に、作成手段１４３は、図１６の輪郭線の上から３本目の水平直線に沿って輪郭線が示す図形を分割する。その結果、図１８の矩形ｂが作成される。次に、作成手段１４３は、図１８の矩形ａ、ｂと同様に、図１６の輪郭線が示す図形を順に分割する。その結果、図１８の矩形ｃから矩形ｉまでが作成される。なお、本例において、図１５の図形のサイズは、最大ショットサイズ以下であるため、図１８の各矩形のサイズは、必然的に、最大ショットサイズ以下となる。

以上、本実施の形態による電子ビーム描画装置１によれば、フラクチャリング時の合計の矩形数を減らし、描画時間を減らすことができる。

（実施の形態２）
本実施の形態において、矩形を用いて１以上の各図形に近似する１以上の図形を示す近似図形情報を作成する描画用図形データ作成装置２について説明する。

図１９は、本実施の形態における描画用図形データ作成装置２のブロック図である。描画用図形データ作成装置２は、受付部１１、図形幅取得部１２、判断部１３、作成部１４を備える。また、図形幅取得部１２は、距離マップ作成手段１２１、図形幅取得手段１２２を備える。また、作成部１４は、中心線取得手段１４１、近似輪郭線取得手段１４２、作成手段１４３を備える。

また、描画用図形データ作成装置２が作成した近似図形情報は、図形の描画を行う装置（例えば、実施の形態１の電子ビーム描画装置１）などに送信される。そして、近似図形情報を受信した装置は、近似図形情報が示す１以上の図形を描画する。

また、描画用図形データ作成装置２の全体動作を示すフローチャートは、図９のフローチャートのステップＳ９１２以外の処理と同様であるので、説明を省略する。

また、描画用図形データ作成装置２の動作の具体例については、実施の形態１の具体例と同様であるので、説明を省略する。

また、上記各実施の形態における電子ビーム描画装置は、例えば、スタンドアロンの装置であってもよいし、サーバ・クライアントシステムにおけるサーバ装置であってもよい。

また、上記各実施の形態において、各処理または各機能は、単一の装置または単一のシステムによって集中処理されることによって実現されてもよいし、あるいは、複数の装置または複数のシステムによって分散処理されることによって実現されてもよい。

また、上記各実施の形態において、各構成要素は専用のハードウェアにより構成されてもよいし、あるいは、ソフトウェアにより実現可能な構成要素については、プログラムを実行することによって実現されてもよい。例えば、ハードディスクや半導体メモリ等の記録媒体に記録されたソフトウェア・プログラムをＣＰＵ等のプログラム実行部が読み出して実行することによって、各構成要素が実現され得る。

また、上記各実施の形態における電子ビーム描画装置を実現するソフトウェアは、例えば、以下のようなプログラムである。つまり、このプログラムは、コンピュータを、１以上の図形を示す情報である入力図形情報を受け付ける受付部と、前記入力図形情報が示す１以上の各図形の幅を取得する図形幅取得部と、前記図形の幅に適合する１以上の矩形から構成される図形であり、前記入力図形情報が示す１以上の各図形に近似する図形である１以上の近似図形を示す近似図形情報を作成する作成部と、前記作成部が作成した近似図形情報が示す１以上の近似図形を描画する描画部として機能させるためのプログラムである。

また、上記各実施の形態における描画用図形データ作成装置を実現するソフトウェアは、例えば、以下のようなプログラムである。つまり、このプログラムは、コンピュータを、１以上の図形を示す情報である入力図形情報を受け付ける受付部と、前記入力図形情報が示す１以上の各図形の幅を取得する図形幅取得部と、前記図形の幅に適合する１以上の矩形から構成される図形であり、前記入力図形情報が示す１以上の各図形に近似する図形である１以上の近似図形を示す近似図形情報を作成する作成部として機能させるためのプログラムである。

なお、上記プログラムにおいて、上記プログラムが実現する機能には、ハードウェアでしか実現できない機能は含まれない。

また、上記プログラムは、サーバなどからダウンロードされることによって実行されてもよいし、所定の記録媒体（例えば、ＣＤ−ＲＯＭなどの光ディスクや磁気ディスク、半導体メモリなど）に記録されたプログラムが読み出されることによって実行されてもよい。また、このプログラムは、プログラムプロダクトを構成するプログラムとして用いられてもよい。

また、上記プログラムを実行するコンピュータは、単数であってもよいし、複数であってもよい。つまり、集中処理を行ってもよいし、あるいは分散処理を行ってもよい。

また、図２１は、前述のプログラムを実行して、前述の実施の形態の電子ビーム描画装置等を実現するコンピュータシステム９の概観図である。前述の実施の形態は、コンピュータハードウェア、およびその上で実行されるコンピュータプログラムで実現され得る。

図２１において、コンピュータシステム９は、ＣＤ−ＲＯＭドライブ９０１１、ＦＤドライブ９０１２を含むコンピュータ９０１と、キーボード９０２と、マウス９０３と、モニタ９０４とを備える。

図２２は、コンピュータシステム９のブロック図である。図２２において、コンピュータ９０１は、ＣＤ−ＲＯＭドライブ９０１１、ＦＤドライブ９０１２に加えて、ＭＰＵ９０１３と、ブートアッププログラム等のプログラムを記憶するためのＲＯＭ９０１４と、ＭＰＵ９０１３に接続され、アプリケーションプログラムの命令を一時的に記憶するとともに一時記憶空間を提供するためのＲＡＭ９０１５と、アプリケーションプログラム、システムプログラム、およびデータを記憶するためのハードディスク９０１６と、ＣＤ−ＲＯＭドライブ９０１１、ＦＤドライブ９０１２、ＭＰＵ９０１３等を相互に接続するバス９０１７とを備える。ここでは図示しないが、コンピュータ９０１は、さらに、ＬＡＮへの接続を提供するネットワークカードを備えていてもよい。

コンピュータシステム９に、前述の実施の形態の電子ビーム描画装置等の機能を実行させるプログラムは、ＣＤ−ＲＯＭ９１０１、またはＦＤ９１０２に記憶されて、ＣＤ−ＲＯＭドライブ９０１１またはＦＤドライブ９０１２に挿入され、さらにハードディスク９０１６に転送されてもよい。これに代えて、プログラムは、図示しないネットワークを介してコンピュータ９０１に送信され、ハードディスク９０１６に記憶されてもよい。プログラムは実行の際にＲＡＭ９０１５にロードされる。プログラムは、ＣＤ−ＲＯＭ９１０１、ＦＤ９１０２またはネットワークから直接、ロードされてもよい。

プログラムは、コンピュータ９０１に、前述の実施の形態の電子ビーム描画装置等の機能を実行させるオペレーティングシステム（ＯＳ）、またはサードパーティープログラム等は、必ずしも含まなくてもよい。プログラムは、制御された態様で適切な機能（モジュール）を呼び出し、所望の結果が得られるようにする命令の部分のみを含んでいればよい。コンピュータシステム９がどのように動作するかは周知であり、詳細な説明は省略する。

本発明は、以上の実施の形態に限定されることなく、種々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含されるものであることは言うまでもない。

以上のように、本発明にかかる電子ビーム描画装置は、フラクチャリング時の合計の矩形数を減らし、描画時間を減らすことができるという効果を有し、フォトマスクやウェハーなどに図形を描画する種々の電子ビーム描画装置等として有用である。

１ 電子ビーム描画装置
２ 描画用図形データ作成装置
１０ 格納部
１１ 受付部
１２ 図形幅取得部
１３ 判断部
１４ 作成部
１５ 描画部
１２１ 距離マップ作成手段
１２２ 図形幅取得手段
１４１ 中心線取得手段
１４２ 近似輪郭線取得手段
１４３ 作成手段

Claims (15)

1. １以上の図形を示す情報である入力図形情報を受け付ける受付部と、
   前記入力図形情報が示す１以上の各図形の幅を取得する図形幅取得部と、
   前記図形の幅に適合する１以上の矩形から構成される図形であり、前記入力図形情報が示す１以上の各図形に近似する図形である１以上の近似図形を示す近似図形情報を作成する作成部と、
   前記作成部が作成した近似図形情報が示す１以上の近似図形を描画する描画部とを備える電子ビーム描画装置。
2. 図形の幅に関する条件である図形分類条件と、図形の幅に基づく予め決められたパターンを識別するパターン識別子とが対応付いた情報である２以上のパターン管理情報が格納される格納部と、
   前記図形の幅が満たす図形分類条件に対応するパターン識別子を取得する判断部とをさらに備え、
   前記作成部は、
   前記判断部が取得したパターン識別子に応じて、異なる方法により、前記１以上の各図形に近似する１以上の近似図形を示す近似図形情報を作成する請求項１記載の電子ビーム描画装置。
3. 前記格納部には、
   図形の幅が前記図形分類条件を満たすほど小さい図形のパターンである補助パターンを識別するパターン識別子を有するパターン管理情報と、図形の幅が前記図形分類条件を満たすほど大きい図形のパターンであるメインパターンを識別するパターン識別子を有するパターン管理情報とが格納される請求項２記載の電子ビーム描画装置。
4. 前記作成部は、
   前記１以上の各図形の中心線を取得する中心線取得手段と、
   前記中心線に沿って、前記図形の幅に適合する１以上の矩形を配置することにより、前記補助パターンに対応する１以上の各図形に近似する１以上の近似図形を示す近似図形情報を作成する作成手段とを備える請求項３記載の電子ビーム描画装置。
5. 前記格納部には、
   最大ショットサイズと、図形のサイズが最大ショットサイズより大きい図形のパターンである第一メインパターンを識別するパターン識別子と、図形のサイズが最大ショットサイズ以下である図形のパターンである第二メインパターンを識別するパターン識別子とがさらに格納されており、
   前記判断部は、
   前記メインパターンに対応する１以上の各図形のサイズが最大ショットサイズより大きいか否かを判断し、最大ショットサイズより大きい場合は、前記第一メインパターンを識別するパターン識別子を取得し、最大ショットサイズ以下である場合は、前記第二メインパターンを識別する識別子を取得する請求項３または請求項４記載の電子ビーム描画装置。
6. 前記作成部は、
   前記第一メインパターンに対応する図形の輪郭線であり、水平の直線および垂直の直線および予め決められた角度の直線から構成される輪郭線である近似輪郭線を取得する近似輪郭線取得手段と、
   前記近似輪郭線が示す図形の形状に適合する１以上の矩形を配置することにより、前記第一メインパターンに対応する１以上の各図形に近似する１以上の近似図形を示す近似図形情報を作成する作成手段とを備える請求項５記載の電子ビーム描画装置。
7. 前記作成部は、
   前記第二メインパターンに対応する図形の輪郭線であり、水平の直線および垂直の直線および予め決められた角度の直線から構成される輪郭線である近似輪郭線を取得する近似輪郭線取得手段と、
   前記近似輪郭線が示す図形を、前記近似輪郭線に沿って２以上の矩形に分割することにより、第二メインパターンに対応する１以上の各図形に近似する１以上の近似図形を示す近似図形情報を作成する作成手段とを備える請求項５または請求項６記載の電子ビーム描画装置。
8. 前記入力図形情報は、１以上の各図形の輪郭線を示す１以上の座標を有する情報であり、
   前記図形幅取得部は、
   前記入力図形情報が示す１以上の各図形の中心線を取得し、当該中心線を構成する１以上の各点から、当該１以上の各図形の輪郭線までの距離を示す距離マップを作成する距離マップ作成手段と、
   前記距離マップを用いて、前記１以上の各図形の幅を取得する図形幅取得手段とを備える請求項１から請求項７いずれか一項に記載の電子ビーム描画装置。
9. 前記作成手段は、
   前記中心線に沿って、前記図形の幅に適合する１以上の矩形を、当該矩形同士が重ならないように配置することにより、前記補助パターンに対応する１以上の各図形に近似する１以上の近似図形を示す近似図形情報を作成する請求項４記載の電子ビーム描画装置。
10. 前記作成手段は、
    前記中心線に沿って、前記図形の幅に適合する１以上の矩形を、当該矩形同士が重なるように配置することにより、前記補助パターンに対応する１以上の各図形に近似する１以上の近似図形を示す近似図形情報を作成する請求項４記載の電子ビーム描画装置。
11. １以上の図形を示す情報である入力図形情報を受け付ける受付部と、
    前記入力図形情報が示す１以上の各図形の幅を取得する図形幅取得部と、
    前記図形の幅に適合する１以上の矩形から構成される図形であり、前記入力図形情報が示す１以上の各図形に近似する図形である１以上の近似図形を示す近似図形情報を作成する作成部とを備える描画用図形データ作成装置。
12. 受付部と、図形幅取得部と、作成部と、描画部とを用いて行われる電子ビーム描画方法であって、
    前記受付部が、
    １以上の図形を示す情報である入力図形情報を受け付ける受付ステップと、
    前記図形幅取得部が、
    前記入力図形情報が示す１以上の各図形の幅を取得する図形幅取得ステップと、
    前記作成部が、
    前記図形の幅に適合する１以上の矩形から構成される図形であり、前記入力図形情報が示す１以上の各図形に近似する図形である１以上の近似図形を示す近似図形情報を作成する作成ステップと、
    前記描画部が、
    前記作成部が作成した近似図形情報が示す１以上の近似図形を描画する描画ステップとを備える電子ビーム描画方法。
13. 受付部と、図形幅取得部と、作成部とを用いて行われる描画用図形データ作成方法であって、
    前記受付部が、
    １以上の図形を示す情報である入力図形情報を受け付ける受付ステップと、
    前記図形幅取得部が、
    前記入力図形情報が示す１以上の各図形の幅を取得する図形幅取得ステップと、
    前記作成部が、
    前記図形の幅に適合する１以上の矩形から構成される図形であり、前記入力図形情報が示す１以上の各図形に近似する図形である１以上の近似図形を示す近似図形情報を作成する作成ステップとを備える描画用図形データ作成方法。
14. コンピュータを、
    １以上の図形を示す情報である入力図形情報を受け付ける受付部と、
    前記入力図形情報が示す１以上の各図形の幅を取得する図形幅取得部と、
    前記図形の幅に適合する１以上の矩形から構成される図形であり、前記入力図形情報が示す１以上の各図形に近似する図形である１以上の近似図形を示す近似図形情報を作成する作成部と、
    前記作成部が作成した近似図形情報が示す１以上の近似図形を描画する描画部として機能させるためのプログラム。
15. コンピュータを、
    １以上の図形を示す情報である入力図形情報を受け付ける受付部と、
    前記入力図形情報が示す１以上の各図形の幅を取得する図形幅取得部と、
    前記図形の幅に適合する１以上の矩形から構成される図形であり、前記入力図形情報が示す１以上の各図形に近似する図形である１以上の近似図形を示す近似図形情報を作成する作成部として機能させるためのプログラム。

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