JPH09298145A - 電子ビーム描画データ作成装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 電子描画において、レジストパターンの寸法
精度の向上、描画時間の短縮を図る電子ビーム描画デー
タ作成装置を提供する。 【解決手段】 描画図形のデータを、その外縁のみから
なる多角形が、所定の幅を有する輪郭部図形によって囲
まれる内部図形の面積が最も大きくなるように分割され
た各電子ビーム描画基本図形のデータに変換Ｓ２、Ｓ３
する。各電子ビーム描画基本図形の輪郭部図形によって
囲まれた内部図形を、所定の露光量以下にて露光するよ
う露光データ設定することにより、描画図形の近傍に位
置する他の描画図形の近接効果を低減することができ
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、電子ビーム描画デ
ータ作成装置に関し、特に半導体デバイスの設計レイア
ウトデータから電子ビーム描画装置で描画するために必
要な描画データを作成する手段を備えた電子ビーム描画
データ作成装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】電子ビームリソグラフィは、その微細加
工性能、制御性の容易さから特に、大規模集積回路（Ｌ
ＳＩ）などの半導体デバイスの製造の際に用いられるマ
スクの製作や、電子ビーム直接描画と呼ばれるウェハ上
へのレジストパターン形成に広く用いられている。

【０００３】しかしながら、電子ビームリソグラフィで
は、近接効果と呼ばれる描画パターン寸法精度を悪化さ
せる現象がある。この近接効果は、照射された電子ビー
ムがレジスト内で散乱することにより生じる。この近接
効果を補正するために種々の方法が考案されている。そ
の一例として、パターンの輪郭分解描画手法について説
明する。この輪郭分解描画手法の原理とその効果を図２
０および図２１に示す。

【０００４】まず、図２０は描画図形１、２、３Ａをレ
ジストに電子ビーム描画することにより、各レジストに
蓄積されるエネルギの強度分布を示したものである。描
画図形１および２は同じ大きさの描画図形であるが、そ
れぞれの描画図形に対応するレジストに蓄積されるエネ
ルギ強度分布のピーク値に差が生じていることがわか
る。すなわち、描画図形１に対応する蓄積エネルギ分布
のピーク強度Ｅ１に比べて、描画図形２に対応する蓄積
エネルギ分布のピーク強度Ｅ２が大きい。これは、描画
図形３Ａを電子描画する際に、散乱した電子ビームが描
画図形２の描画位置のレジストにエネルギを蓄積するか
らである。この現象が、近接効果と呼ばれているもので
ある。この現象のために、描画図形１および２は同一の
サイズの電子ビームで描画されたにもかかわらず、蓄積
エネルギ分布のピーク強度Ｅ１、Ｅ２、Ｅ３に差がある
ため、現像後に形成されるレジストパターンの寸法に差
が生じる。

【０００５】次に、図２１は描画図形３Ａを、輪郭部図
形４を構成する電子ビーム描画基本図形４ａ、４ｂ、４
ｃ、４ｄと輪郭内部図形５とに分解して輪郭分解描画し
た場合に、各レジストに蓄積されるエネルギ強度分布を
示したものである。輪郭部図形４は描画図形１および２
と同じ露光量で電子ビーム描画され、輪郭内部図形５は
所定の露光量よりも少ない露光量、たとえば、所定の露
光量の８０％程度で電子ビーム描画される。このよう
に、輪郭内部図形の露光量を輪郭部図形の露光量より低
減することにより、描画図形２の描画位置のレジストに
蓄積するエネルギ量を減らすことができる。このため、
図２１に示すように、描画図形３Ａを輪郭分解描画した
場合、各描画図形に対応する蓄積エネルギ分布のピーク
値Ｅ４、Ｅ５、Ｅ６のばらつきが、図２０に示すよう
に、輪郭分解しない場合の蓄積エネルギ分布のピーク値
Ｅ１、Ｅ２、Ｅ３のばらつきと比較してその幅が小さく
なり、現像後に形成されるレジストパターンの寸法精度
を上げることができる。

【０００６】次に、上述した輪郭分解描画を行なうため
の従来の電子ビーム描画データ作成装置について説明す
る。図２２を参照して、従来の電子ビーム描画データ作
成装置は、設計レイアウトデータを有する設計レイアウ
トデータ保持部６、この設計レイアウト保持部６から設
計データを読込み、図形間の重複部分を論理演算により
除去処理するための図形論理演算手段Ｓ１、論理演算後
の描画図形のデータを電子ビーム描画装置固有のフォー
マットに変換するフォーマット変換手段Ｓ４、フォーマ
ット変換手段Ｓ４から出力された電子ビーム描画データ
を保持する電子ビーム描画データ保持部７、電子ビーム
描画データを読込み、電子ビーム描画基本図形ごとに、
それぞれ電子ビーム描画基本図形から構成される輪郭部
図形と輪郭内部図形とに輪郭分解し、各輪郭分解された
輪郭部図形および輪郭内部図形に適当な露光量を設定す
る輪郭分解手段Ｓ３を備えている。以上の処理は主にホ
ストコンピュータで行なわれ、輪郭分解された描画デー
タは電子ビーム描画する電子ビーム描画装置８へ入力さ
れる。

【０００７】次に、上記処理手段によってレイアウトパ
ターンを電子描画する場合の一例について説明する。電
子ビーム描画データ作成装置においては、描画図形はい
ずれもデータとして扱われるが、以下説明のために、各
処理段階における具体的な描画図形を示す。

【０００８】図２３は、電子ビーム描画データ作成装置
に入力された設計レイアウトパターンの一例を示す。図
２３を参照して、描画図形３ａ、３ｂは重複して配置さ
れている。電子ビーム描画の方式がベクタースキャン方
式であると、描画データが重複して多重露光となるため
描画図形の重複を除去する必要がある。そこで、図形間
論理演算手段（ＯＲ処理）により、この描画図形３ａ、
３ｂの重複部分を除去する。

【０００９】図２４は、このようにして重複除去処理を
行なった後の状態を示したものであり、描画図形９ａ、
９ｂ、３ｃ、２よりなる。通常、図形論理演算処理には
スラブ法が用いられる。スラブ法では、図形の分割線の
方向を垂直か水平のいずれかに固定する必要がある。図
２４は分割線の方向を水平に選択した場合の結果であ
る。

【００１０】次に、図２５は分割された描画図形を輪郭
分解処理した後の状態を示す。図２５を参照して、図２
４に示す描画図形３ｃは、輪郭部図形４ｐ、４ｑ、４
ｒ、４ｓと内部図形５ｃとに分解される。内部図形５ｃ
は所定の露光量以下で露光される。輪郭部図形４ｐ、４
ｑ、４ｒ、４ｓは所定の露光量にて露光される。ところ
が、描画図形９ａ、９ｂは図形幅Ｗが小さいため輪郭分
割することができないので所定の露光量にて露光され
る。このため、描画図形２の描画位置に影響を及ぼす範
囲１０に存在する描画図形の電子ビーム露光量を低減す
ることができず、描画図形２に対する近接効果の低減が
得られないという問題があった。しかも、この方法では
フォーマット変換後の電子ビーム描画データに対して処
理されるため、電子描画基本図形ごとに輪郭分解処理さ
れ上記問題を解決することができなかった。また、描画
図形の分割線の入れかたによっては同じレイアウトパタ
ーンでも描画する図形の数が増加し、結果的に描画時間
が長くなり電子描画装置の処理能力が低下するという問
題があった。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】以上説明したように、
描画図形を輪郭部図形とその内部図形とに分解する従来
の輪郭分解手段では、電子ビーム描画基本図形への分割
の仕方によっては、電子ビーム描画基本図形の幅が小さ
いため輪郭分解することができない描画図形が発生す
る。このような描画図形の近傍に他の描画図形が位置し
ていると、レジストに描画する際、その他の描画図形に
対する近接効果を低減することができないことがあっ
た。このため、レジストパターンのさらなる寸法精度を
向上することが困難であった。また、同じレイアウトパ
ターンでも分割線の入れかたによっては電子ビーム描画
基本図形の数が増加し、結果的に描画時間が長くなり電
子描画装置の処理能力が低下するといった問題があっ
た。

【００１２】本発明は、このような問題点を解決するた
めになされたものであり、電子描画によるレジストパタ
ーンの寸法精度のさらなる向上と描画図形の描画時間の
短縮を図ることができる電子ビーム描画データ作成装置
を得ることを目的とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の電子ビ
ーム描画データ作成装置は、描画図形のデータを、電子
ビーム描画装置にて描画図形を描画することのできる電
子ビーム描画基本図形のデータに変換するための描画図
形分割データ変換手段と、描画図形分割データ変換手段
により変換された各電子ビーム描画基本図形のデータ
を、輪郭部図形のデータとその輪郭部図形によって囲ま
れた内部図形のデータとに変換するための輪郭分解デー
タ変換手段とを備えた電子ビーム描画データ作成装置で
あって、描画図形分割データ変換手段は、描画図形のデ
ータを、描画図形の外縁のみからなる多角形のデータに
変換する手段と、多角形のデータを、多角形が輪郭部図
形によって囲まれる内部図形の面積が最も大きくなるよ
うに分割された各電子ビーム描画基本図形のデータに変
換する手段とを備える。輪郭分解データ変換手段は、描
画図形分割データ変換手段によって変換された各電子ビ
ーム描画基本図形のデータを、所定の幅を有する輪郭部
図形のデータと内部図形のデータとに分ける手段と、そ
の輪郭部図形のデータを、輪郭部図形を構成する電子ビ
ーム描画基本図形のデータに変換する手段と、内部図形
を、所定の露光量以下にて露光する露光データ設定手段
とを備えている。

【００１４】この構成によれば、描画図形のデータは、
まず、外縁のみからなる多角形のデータに変換される。
その多角形のデータは、多角形が輪郭部図形によって囲
まれる内部図形の面積が最も大きくなるように分割され
た各電子ビーム描画基本図形のデータに変換される。そ
の各電子ビーム描画基本図形のデータは、一定の幅を有
する輪郭部図形のデータとその輪郭部図形によって囲ま
れた内部図形のデータとに変換される。これにより、描
画図形の外縁のみからなる多角形のデータは、輪郭部図
形とその内部図形とを有する電子ビーム描画基本図形に
おいて、その内部図形の面積が最も大きくなるような電
子ビーム描画基本図形のデータへ変換される。そして、
その内部図形については、所定の露光量以下の露光量に
て露光する露光データ設定手段を備えることにより、電
子ビーム描画装置にてレジストを露光する際に、その描
画図形の近傍に位置する他の描画図形に対して近接効果
を抑制することができる。その結果、寸法精度の高いレ
ジストパターンを得ることができる。

【００１５】請求項１に記載の電子ビーム描画データ作
成装置において請求項２に記載のように、露光データ設
定手段が電子ビーム描画基本図形とその電子ビーム描画
基本図形の輪郭部図形を構成する電子ビーム描画基本図
形とにおいて、すべての電子ビーム描画基本図形を所定
の露光量以下にて露光する第１露光データ設定手段と、
輪郭部図形を構成する各電子ビーム描画基本図形を所定
の露光量以下にて露光する第２露光データ設定手段とを
備え、第１および第２露光データ設定手段により、輪郭
部図形が所定の露光量となるようにしてもよい。

【００１６】この構成によれば、電子ビーム描画基本図
形１つ当りの描画時間が短縮され、描画図形全体を描画
する時間を大幅に短縮することができる。したがって、
電子ビーム描画装置の処理能力を向上することができ
る。

【００１７】請求項２に記載の電子ビーム描画データ作
成装置において、請求項３に記載のように、第２露光デ
ータ設定手段が、描画図形の外縁を含まない電子ビーム
描画基本図形については、露光量を０とする露光データ
設定手段を備えていてもよい。

【００１８】この構成によれば、電子ビーム描画基本図
形に形成された輪郭部図形のうち、描画図形の内側にあ
る輪郭部図形を構成する電子ビーム描画基本図形につい
ては、露光量は０であるので、描画図形の近傍に位置す
る他の描画図形に対する近接効果をさらに抑制すること
ができる。

【００１９】請求項１に記載の電子ビーム描画データ作
成装置において請求項４に記載のように、露光データ設
定手段が、輪郭部図形を構成する電子ビーム描画基本図
形を、所定の露光量にて露光する第１露光データ設定手
段と、その輪郭部図形を構成する電子ビーム描画基本図
形を露光した後、内部図形を構成する電子ビーム描画基
本図形を所定の露光量以下にて露光する第２露光データ
設定手段とを備えていてもよい。

【００２０】この構成によれば、レジストに輪郭部図形
を所定の露光量にて露光した後に、内部図形を所定の露
光量以下にて露光するので、輪郭部図形の露光時にレジ
ストに残存するチャージを減らすことができる。その結
果、寸法精度の高いレジストパターンを得ることができ
る。

【００２１】請求項４に記載の電子ビーム描画データ作
成装置において請求項５に記載のように、第１露光デー
タ設定手段が、描画図形の外縁を含む電子ビーム描画基
本図形のみを所定の露光量にて露光する露光データ設定
手段を備えてもよい。

【００２２】この構成によれば、各電子ビーム描画基本
図形の輪郭部図形のうち、描画図形の外縁を有する輪郭
部図形のみを所定の露光量にて露光するので、輪郭部図
形の露光時に、レジストに残存するチャージをさらに減
少することができる。その結果、寸法精度の高いレジス
トパターンを得ることができる。

【００２３】請求項４に記載の電子ビーム描画データ作
成装置において請求項６に記載のように、第２露光デー
タ設定手段は、内部図形を構成する電子ビーム描画基本
図形を、輪郭部図形を構成する電子ビーム描画基本図形
を露光するときの速度よりも速い速度により露光する第
３露光データ設定手段を備えてもよい。

【００２４】この構成によれば、内部図形を露光すると
きの速度が輪郭部図形を露光するときの速度よりも速く
なるので、描画図形を描画する時間を短縮することがで
きる。したがって、電子ビーム描画装置の処理能力を向
上することができる。

【００２５】請求項７に記載の電子ビーム描画データ作
成装置は、描画図形のデータを、描画図形の外縁のみに
よって構成される第１の多角形のデータに変換する手段
と、その第１の多角形の中心位置を変えずに、第１の多
角形の各辺を、各辺の長さ方向に直交する方向に、第１
の多角形の中心位置へ向かって、各辺に共通な所定の長
さ分だけ移動させることによって得られる第２の多角形
のデータを作成する手段と、第１の多角形から第２の多
角形を差し引くことによって得られる第１の多角形の輪
郭部図形のデータを作成する手段と、第２の多角形のデ
ータと輪郭部図形のデータとを、それぞれ、電子ビーム
描画装置にて描画することのできる電子ビーム描画基本
図形のデータに変換する手段と、第２の多角形を構成す
る電子ビーム描画基本図形を所定の露光量以下にて露光
する露光データ設定手段とを備える。

【００２６】この構成によれば、描画図形のデータは、
その外縁のみによって構成される第１の多角形のデータ
に変換される。その第１の多角形の中心位置を変えず
に、第１の多角形の各辺を所定の長さ分だけ移動させる
ことによって得られる第２の多角形のデータを作成す
る。第１の多角形から第２の多角形を差し引くことによ
って得られる輪郭部図形のデータと第２の多角形のデー
タとをそれぞれそれぞれ電子ビーム描画基本図形のデー
タに変換する。そして、第２の多角形を構成する電子ビ
ーム描画基本図形を所定の露光量以下にて露光するよう
露光データを設定する。このため、レジストを電子描画
する際、第２の多角形が所定の露光量以下の露光量にて
露光されることにより、描画図形の近傍に位置する他の
描画図形に対する近接効果を抑制することができる。そ
の結果、寸法精度の高いレジストパターンを得ることが
できる。

【００２７】請求項７に記載の電子ビーム描画データ作
成装置において請求項８に記載のように、露光データ設
定手段は、第２の多角形を構成する電子ビーム描画基本
図形と輪郭部図形を構成する電子ビーム描画基本図形と
において、輪郭部図形を構成する電子ビーム描画基本図
形を所定の露光量にて描画する第１露光設定手段と、輪
郭部図形を構成する電子ビーム描画基本図形を描画した
後、第２の多角形を構成する電子ビーム描画基本図形を
所定の露光量以下にて露光する第２露光データ設定手段
とを備えてもよい。

【００２８】この構成によれば、レジストを電子描画す
る際、輪郭部図形を所定の露光量にて露光した後に、第
２の多角形を構成する電子ビーム描画基本図形を所定の
露光量以下にて露光するので、輪郭部図形の描画時に、
レジストに残存するチャージを減少させることができ
る。その結果、寸法精度の高いレジストパターンを得る
ことができる。

【００２９】請求項８に記載の電子ビーム描画データ作
成装置において請求項９に記載のように、第２露光デー
タ設定手段は、第２の多角形を構成する電子ビーム描画
基本図形を、輪郭部図形を構成する電子ビーム描画基本
図形を露光するときの速度よりも速い速度により露光す
る第３露光データ設定手段を備えてもよい。

【００３０】この構成によれば、第２の多角形を構成す
る電子ビーム描画基本図形を露光するときの速度は輪郭
部図形を露光するときの速度よりも速いので、描画時間
を短縮することができる。したがって、電子ビーム描画
装置の処理能力を向上することができる。

【００３１】請求項７に記載の電子ビーム描画データ作
成装置において請求項１０に記載のように、第１の多角
形のデータを、電子ビーム描画基本図形のデータに変換
する手段をさらに備え、第１の多角形を構成する電子ビ
ーム描画基本図形と輪郭部図形を構成する電子ビーム描
画基本図形とにおいて、すべての電子ビーム描画基本図
形を、所定の露光量以下にて描画する第１露光データ設
定手段と、輪郭部図形を構成する電子ビーム描画基本図
形を、所定の露光量以下にて露光する第２露光データ設
定手段とを備え、第１および第２露光データ設定手段に
より、輪郭部図形を構成する電子ビーム描画基本図形の
露光量が所定の露光量となるようにしてもよい。

【００３２】この構成によれば、電子ビーム描画基本図
形１つ当りの描画時間が短縮され、描画図形全体を露光
する時間を大幅に短縮することができる。したがって、
電子ビーム描画装置の処理能力を向上することができ
る。

【００３３】請求項１〜１０のいずれか１項に記載の電
子ビーム描画データ作成装置において請求項１１に記載
のように、輪郭部図形の輪郭幅の値として、予め、任意
の値を入力することのできる設定手段を備えてもよい。

【００３４】この構成によれば、半導体装置のデザイン
ルールに対応して輪郭部図形の輪郭幅を設定することが
できる。レジストを電子描画する際に、寸法精度の高い
レジストパターンが得られるとともに、電子ビーム描画
装置の描画時間も短縮することができる。

【００３５】

【発明の実施の形態】

（実施の形態１）本発明による電子ビーム描画データ作
成装置における描画データ作成フローを図１に示す。図
１を参照して、電子ビーム描画データ作成装置は、設計
レイアウトデータを有する設計レイアウトデータ保持部
６、図形間の重複部分を論理演算により除去するための
図形論理演算手段Ｓ１、重複処理された図形を電子ビー
ム描画基本図形に分割するための基本図形分割最適化手
段Ｓ２、電子ビーム描画基本図形を輪郭部図形と内部図
形とに分割する輪郭分解手段Ｓ３、描画図形を電子ビー
ム描画装置固有のフォーマットに変換するフォーマット
変換手段Ｓ４、フォーマット変換手段Ｓ４から出力され
た電子ビーム描画データを保持する電子ビーム描画デー
タ保持部７を備えている。

【００３６】次に、上記各処理手段に基づきレイアウト
パターンを電子描画する場合の一例について説明する。
まず、図１に示す処理手段Ｓ１により、図３に示すレイ
アウトパターンが重複した重複描画図形３ａ、３ｂおよ
びそれらに近接した描画図形２は、図４に示すように、
重複部分が除去され電子ビーム描画基本図形３ｃ、９
ａ、９ｂ、２に分割される。次の処理手段である処理手
段Ｓ２およびＳ３は、図２に示す処理手段Ｓ５、Ｓ６、
Ｓ７を有する。図４に示す電子ビーム描画基本図形３
ｃ、９ａ、９ｂ、２に分割されたレイアウトパターン
は、図２に示す処理手段Ｓ５により、図５に示すよう
に、レイアウトパターンの外縁のみからなる多角形３に
処理される。

【００３７】次に、図２に示す処理手段Ｓ６により、そ
の多角形を電子ビーム描画基本図形に分割する。このと
き、電子ビーム描画基本図形において、一定の幅を有す
る輪郭部図形によって囲まれる内部図形の面積が最も大
きくなるように分割される。この処理について、詳しく
説明する。まず、前段の処理手段Ｓ５により得られた多
角形を構成することのできる電子ビーム描画基本図形の
組合せは無限に存在する。実際には、多角形の頂点から
垂直または水平方向に分割線を挿入することにより、電
子ビーム描画基本図形の組合せを得る。本実施の形態に
おいては、簡単のために、水平方向に挿入した分割線で
作成した図４に示す電子ビーム描画基本図形３ｃ、９
ａ、９ｂ、２の組合せによる多角形と、垂直方向の分割
線で作成した図６に示す電子ビーム描画基本図形３ｄ、
３ｅ、３ｆ、２の組合せによる多角形とを考える。な
お、図４は処理手段Ｓ１によって、重複除去処理された
後の結果として出力された電子ビーム描画基本図形の構
成の一例にすぎなかったが、ここでいう図４は、処理手
段Ｓ２において最適な構成を求めるための一分割例を示
す。まず、図４に示す電子ビーム描画基本図形９ａ、９
ｂ、３ｃ、２の組合せによる多角形において、電子ビー
ム描画基本図形について一定の幅を有する輪郭部図形を
形成することができる図形は、電子ビーム描画基本図形
３ｃである。

【００３８】次に、図６に示す電子ビーム描画基本図形
３ｄ、３ｅ、３ｆ、２の組合せによる多角形において、
同様に輪郭部図形を形成することのできる図形は、電子
ビーム描画基本図形３ｄ、３ｅ、３ｆである。

【００３９】両者を比較すると、輪郭部図形によって囲
まれる内部図形の面積は、図４の場合、電子ビーム描画
基本図形３ｃからその輪郭部図形を除いた部分の面積で
あり、図５の場合、電子ビーム描画基本図形３ｄ、３
ｅ、３ｆからそれぞれ輪郭部図形を除いた部分の面積で
ある。したがって、内部図形の面積が最も大きくなるよ
うな電子ビーム描画基本図形の組合せは図６に示す組合
せとなる。

【００４０】なお、ここで言う輪郭部図形の一定の幅
は、狭ければ狭いほど各電子ビーム描画基本図形につい
て輪郭部以外の内部図形の面積を大きくできるが、輪郭
分割の必要のない図形まで分割されるため、電子ビーム
描画基本図形数が膨大となり生産性に見合わなくなる。
このため、この幅にはデザインルールと電子ビーム描画
装置の処理能力との関係から見積もられる適当な値が用
いられる。図４または図６に示した電子ビーム描画基本
図形９ａ、９ｂ、２の１辺は、このようにして見積もら
れた幅よりも短いものとする。

【００４１】以上のようにして、図６に示す最適分割さ
れた電子ビーム描画基本図形３ｄ、３ｅ、３ｆ、２の組
合せを得る。

【００４２】次に、図２に示す処理手段Ｓ７により、図
６に示した各電子ビーム描画基本図形３ｄ、３ｅ、３
ｆ、２を、図７に示すように、輪郭部図形４を構成する
電子ビーム描画基本図形４ａ、４ｂ、４ｃ、４ｄ、４
ｅ、４ｆ、４ｇ、４ｈ、４ｉ、４ｊ、４ｋ、４ｌ、と、
その内部図形５を構成する電子ビーム描画基本図形５
ａ、５ｂ、５ｃとに分割する。輪郭部図形を形成するこ
とができない図形については、電子ビーム描画基本図形
２のようにもとの図形の状態である。輪郭部図形４を構
成する電子ビーム描画基本図形４ａ、４ｂ、４ｃ、４
ｄ、４ｅ、４ｆ、４ｇ、４ｈ、４ｉ、４ｊ、４ｋ、４ｌ
と電子ビーム描画基本図形２とは所定の露光量にて露光
するように設定され、内部図形５を構成する電子ビーム
描画基本図形５ａ、５ｂ、５ｃについては所定の露光量
以下にて露光するように設定される。

【００４３】このようにして得られた描画図形のデータ
を、図１に示すフォーマット変換手段Ｓ４により電子ビ
ーム描画装置固有のデータフォーマットに変換する。変
換されたデータフォーマットは、図１に示す電子ビーム
描画データ保持部７へ送られ電子ビーム描画が行なわれ
る。

【００４４】次に、以上の描画図形データに基づき、た
とえばレジストパターンへ電子描画をする場合について
説明する。図７を参照して、電子ビーム描画基本図形２
の描画位置に対して電子ビームが影響を及ぼす範囲１０
内に存在する電子ビーム描画基本図形は電子ビーム描画
基本図形４ｅ、４ｆ、４ｇ、４ｈ、４ｉ、４ｊ、４ｋ、
５ａ、５ｂである。そのうち電子ビーム描画基本図形５
ａ、５ｂに対する露光量は所定の露光量以下である。一
方、従来の技術の項において説明した図２５に示す電子
ビーム描画基本図形４ｒ、９ｂの露光量は所定の露光量
である。このため、電子ビーム描画基本図形２の描画位
置に対して電子ビームが影響を及ぼす範囲内の露光量が
少なくなり近接効果を低減することができる。その結
果、寸法精度の高いレジストパターンを得ることができ
る。

【００４５】（実施の形態２）次に、実施の形態２とし
て実施の形態１で説明した近接効果をさらに低減するこ
とのできる電子ビーム描画データ作成装置の一例につい
て説明する。本装置は、図８に示す処理手段を備える。
図８を参照して、描画図形は処理手段Ｓ７により、各電
子ビーム描画基本図形が輪郭分解された後に、処理手段
Ｓ８により、輪郭分解後の輪郭部図形がパターン内部に
あるかどうかを判断し、パターン内部にある場合にはそ
の輪郭部図形の露光量を低減する。たとえば、図７に示
す輪郭分解された描画図形のうち、パターン内部にある
輪郭部図形を構成する電子ビーム描画基本図形は、電子
ビーム描画基本図形４ｉ、４ｌである。そこで、図９に
示すように、この電子ビーム描画基本図形４ｉ、４ｌの
露光量を電子ビーム描画基本図形５ａ、５ｂ、５ｃの露
光量と同じように所定の露光量以下に設定する。

【００４６】この描画データに基づきレジストパターン
へ電子描画を行なうと、電子ビーム描画基本図形２の描
画位置に対して電子ビームが影響を及ぼす範囲内におい
て、電子ビーム描画基本図形４ｉ、４ｌの露光量が減少
する。このため、近接効果を低減することができ、より
寸法精度の高いレジストパターンを得ることができる。

【００４７】（実施の形態３）次に、近接効果を低減す
ることのできる電子ビーム描画データ作成装置の他の例
について説明する。たとえば、図７に示す輪郭分解され
た後の描画図形について、電子ビーム描画基本図形４
ｊ、４ｋは、パターンの外縁を含む部分とパターンの内
部にある部分とを有している。そこで、図１０に示すよ
うに、この電子ビーム描画基本図形４ｊ、４ｋについ
て、外縁を含む部分である電子ビーム描画基本図形１４
ａ、１４ｂとパターン内部にある電子ビーム描画基本図
形１３ａ、１３ｂとに分割する。次に、図１１に示すよ
うに、電子ビーム描画基本図形１４ａ、１４ｂは所定の
露光量にて露光するよう設定し、電子ビーム描画基本図
形１３ａ、１３ｂは、電子ビーム描画基本図形５ａ、５
ｂ、５ｃの露光量と同じ所定の露光量以下に設定する。
この描画データに基づき、レジストパターンへ電子描画
すると電子ビーム描画基本図形２に相当するレジストに
対し影響を及ぼす露光量をさらに低減することができ
る。その結果寸法精度のより高いレジストパターンを得
ることができる。

【００４８】（実施の形態４）実施の形態３において
は、図１１で説明したように、描画図形２に対する近接
効果を低減することができる。しかしながら、電子ビー
ム描画基本図形１１ａ、１１ｂ、１３ａ、１３ｂのよう
に冗長な電子ビーム描画基本図形を描画しなければなら
ず、結果的に描画時間が長くなることがある。

【００４９】そこで、本実施の形態ではより描画時間を
短縮することのできる手段を備えた電子ビーム描画デー
タ作成装置について説明する。

【００５０】本装置は、図１において説明した処理手段
Ｓ２、Ｓ３として、図１２に示す処理手段Ｓ１２、Ｓ１
３を備えている。まず、図１に示す処理手段Ｓ１まで
は、実施の形態１と同様なので詳しい説明は省略する。
処理手段Ｓ１によって重複部分が除去されたレイアウト
パターンは、図５に示すように、多角形３となる。次
に、図１３に示すように、多角形３の各辺を所定の長さ
Ｌだけ各辺の長さ方向に直交する方向に、多角形３の中
心位置へ向かって移動させる。つまり、多角形３をアン
ダーサイズした多角形２１を形成する。その多角形２１
を電子ビーム描画基本図形３ｇ、９ｃ、９ｄに分割す
る。このとき、多角形２１を構成する電子ビーム描画基
本図形の数が最も少なくなるように分割する。なお、所
定の長さＬは、実施の形態１において説明した輪郭部図
形の幅Ｗとするのが望ましい。

【００５１】次に、図１２に示す処理手段Ｓ１３によ
り、図５に示す多角形３から図１３に示す輪郭内部図形
としての多角形２１を論理引き算し、図１４に示すよう
に、輪郭部図形２０を形成する。その輪郭部図形２０
を、電子ビーム描画基本図形２０ａ、２０ｂ、２０ｃ、
２０ｄ、２０ｅ、２０ｆ、２０ｇ、２０ｈに分解する。

【００５２】次に、図１５に示すように、輪郭部図形を
構成する電子ビーム描画基本図形２０ａ、２０ｂ、２０
ｃ、２０ｄ、２０ｅ、２０ｆ、２０ｇ、２０ｈは所定の
露光量にて露光するよう設定され、輪郭内部図形を構成
する電子ビーム描画基本図形５ａ、５ｂ、５ｃは所定の
露光量以下にて露光するよう設定される。

【００５３】以上のようにして得られる描画図形データ
に基づき電子描画する場合、描画する図形数は電子ビー
ム描画基本図形２０ａ、２０ｂ、２０ｃ、２０ｄ、２０
ｅ、２０ｆ、２０ｇ、２０ｈ、５ａ、５ｂ、５ｃのごと
く合計１１個である。一方、実施の形態３において説明
した図１１に示す描画図形を電子描画する場合の図形数
は、電子ビーム描画基本図形４ａ、４ｂ、４ｃ、４ｄ、
４ｅ、４ｆ、４ｇ、４ｈ、１１ａ、１４ａ、１３ａ、１
４ｂ、１３ｂ、１１ｂ、５ａ、５ｂ、５ｃのごとく合計
１７個である。

【００５４】上記手段を備えた電子ビーム描画データ作
成装置の描画データに基づき電子描画する場合、輪郭分
解後の描画図形数を低減することができ、描画時間を大
幅に短縮することができる。また、実施の形態１で説明
したような基本図形分割最適化処理を施さなくても描画
図形を輪郭分解することができ、描画図形の近傍に位置
する他の描画図形に対する近接効果低減を最も効果的に
行なうことができる。

【００５５】（実施の形態５）次に、輪郭分解された描
画図形の描画時間を短縮することのできる描画データ作
成手段を備えた電子ビーム描画データ作成装置について
説明する。本装置は、描画図形を輪郭分解する前の図形
について所定の露光量以下にて露光する露光データ設定
手段と輪郭部図形について所定の露光量以下にて露光す
る露光データ設定手段とを備える。２つの露光設定手段
により輪郭部図形に対する露光量が所定の露光量とな
る。

【００５６】たとえば、図１６に示すような電子ビーム
描画基本図形２２において、もとの電子ビーム描画基本
図形２２と輪郭部図形２０を構成する電子ビーム描画基
本図形２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄとを描画する描
画データを作成する。このとき、もとの電子ビーム描画
基本図形２２ｅは、たとえば所定の露光量の８０％にて
描画するデータを作成し、輪郭部図形２０を構成する電
子ビーム描画基本図形２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄ
は所定の露光量の２０％にて、先に描画したもとの電子
ビーム描画基本図形２２ｅに重ねて描画する描画データ
を作成する。すなわち、電子ビーム描画基本図形２２
ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄからなる輪郭部図形２０の
露光量が所定の１００％の露光量となるように作成す
る。

【００５７】ここで、比較のために従来の手段について
簡単に説明する。図２６を参照して、描画図形２２は、
輪郭部図形を構成する電子ビーム描画基本図形２２ｆ、
２２ｇ、２２ｈ、２２ｉと内部図形２２ｊとに分割され
る。輪郭部図形を構成する電子ビーム描画基本図形２２
ｆ、２２ｇ、２２ｈ、２２ｉは所定の露光量で露光する
よう設定され、内部図形２２ｊはたとえば、所定の露光
量の８０％の露光量で露光するよう設定される。

【００５８】次に、以上のようにして設定された描画デ
ータに基づき、電子ビーム描画する際の描画時間につい
て図１７を用いて説明する。Ａは従来の手段によって作
成した描画データによる描画時間を示す。Ｄ１は、描画
図形の大きさに合わせて電子ビームを成形するために必
要な時間と所定の描画位置に電子ビームを変更するため
に必要な時間を示す。Ｔ１〜Ｔ４は、それぞれ輪郭部図
形２２ｆ、２２ｇ、２２ｈ、２２ｉを露光するために必
要な時間である。Ｔ５は、内部図形２２ｊを露光するた
めに必要な時間である。内部図形２２ｊは所定の露光量
の８０％を露光する場合を想定している。一方、Ｂは本
実施の形態の場合を示す。Ｃ６〜Ｃ９は、それぞれ輪郭
部図形２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄを露光するため
に必要な時間である。Ｃ１０はもとの描画図形２２ｅを
露光するために必要な時間である。なお、各グラフに示
された数値は所定の露光量で露光した場合の描画時間を
１００とした場合の時間を示す。Ｂに示すように、輪郭
部図形の露光量をもとの描画図形の露光量よりも低くし
て露光することにより、描画時間を大幅に短縮すること
ができる。

【００５９】（実施の形態６）描画図形について、レジ
ストパターンの寸法精度を向上することができる他の電
子ビーム描画データ作成装置について、図１８を用いて
説明する。たとえば、図１に示す輪郭分解手段Ｓ３によ
り輪郭分解された後の描画図形のうち、内部図形以外の
描画図形を描画する描画データ作成手段Ｓ１１と内部図
形以外の図形を描画した後、内部図形の描画を行なう描
画データ作成手段Ｓ１２とから構成される。次に、この
ようにして作成された描画データに基づき、レジストを
電子描画する場合について説明する。電子ビームをレジ
ストに露光すると絶縁物であるレジストは一時的にチャ
ージアップする。このレジストのチャージアップによ
り、電子ビーム描画位置がずれることがある。この現象
は、特に感度が悪く長時間の露光が必要なレジストを用
いた場合に顕著に現れる。そこで、内部図形の描画を内
部図形以外の描画図形を描画した後に描画することによ
り、内部図形以外の描画図形、すなわち、輪郭部図形の
描画時にレジストに残存するチャージを減らすことがで
きる。このため、電子ビーム描画位置のずれを防ぐこと
ができ、レジストパターンの寸法精度を向上することが
できる。

【００６０】（実施の形態７）次に、実施の形態６にて
説明した電子ビーム描画データ作成装置について、さら
に描画時間を短縮することのできる手段を備えた場合に
ついて説明する。図１９を参照して、本装置は図１８に
示す処理手段Ｓ１１と処理手段Ｓ１２との間に高速描画
モードを設定する処理手段Ｓ１３を備える。一般に、内
部図形の描画は精度を要求されないので、内部図形を描
画するときは、輪郭部図形を描画するときよりも電子ビ
ームの電流密度をより高い値に設定し高速描画を行な
う。高速描画モードを設定することにより描画時間の短
縮を図ることができる。

【００６１】最後に、レイアウトパターンとレイアウト
パターンを輪郭分解するときの輪郭幅Ｗとの関係につい
て簡単に説明する。従来は、すべての描画図形に対して
輪郭分解幅Ｗの値が固定されていた。本実施の形態１〜
７においては、本装置は、処理するレイアウトパターン
に対して、予め、最適な値を設定する手段を備えてい
る。

【００６２】近接効果を低減するためには、輪郭分解幅
Ｗをできるだけ小さくする方がよい。しかしながら、小
さくしすぎるとたとえばメモリセルパターンのように、
微細でかつパターンの配置数が膨大な描画図形を輪郭分
解することになり、結果的に描画図形のデータ量とそれ
に伴う描画時間が膨大になるという欠点がある。そこ
で、輪郭分解幅Ｗはメモリセルのような微細でかつ膨大
な量のパターンが輪郭化されない値、すなわち、メモリ
セルの場合であればメモリセルパターンの幅よりも大き
い値に設定する。このようにして、輪郭分解幅Ｗの適切
な値を設定することにより、描画時間を実用的なものと
することができる。

【００６３】なお、今回開示された実施の形態は、単な
る一例にすぎず、特許請求の範囲に記載された発明の均
等の範囲内において、種々の実施の態様がとり得ること
が意図される。

【００６４】

【発明の効果】本発明の１つの局面による電子ビーム描
画データ作成装置は、描画図形のデータを、描画図形の
外縁のみからなる多角形が輪郭部図形によって囲まれる
内部図形の面積が最も大きくなるように分割された各電
子ビーム描画基本図形のデータに変換する手段を備え、
しかも内部図形については所定の露光量以下にて露光す
る露光データ設定手段を備えることにより、描画図形の
近傍に存在する他の描画図形に対する近接効果を低減す
ることができる。このため、レジスト寸法精度を向上す
ることができる。

【００６５】好ましくは、露光データ設定手段が多角形
を構成するすべての電子描画基本図形を所定の露光量以
下にて露光し、さらに、輪郭部図形のみを構成する電子
ビーム描画基本図形を所定の露光量以下にて露光し、輪
郭部図形のみが所定の露光量になるように露光データ設
定する手段を備えることにより、電子ビーム描画基本図
形１つ当りの描画時間を短縮することができ、結果とし
て描画図形全体を描画する時間を大幅に短くすることが
できる。

【００６６】好ましくは、輪郭部図形を構成する電子ビ
ーム描画基本図形のうち、多角形の外縁を含まない電子
ビーム描画基本図形については、露光量を０と設定する
ことにより、描画図形の近傍に位置する他の描画図形に
対する近接効果をさらに低減することができる。

【００６７】好ましくは、輪郭部図形を構成する電子ビ
ーム描画基本図形を所定の露光量以下にて露光する露光
データ設定手段と、その後、内部図形を構成する電子ビ
ーム描画基本図形を所定の露光量にて露光する露光デー
タ設定手段とを備えることにより、輪郭部図形を露光す
る際に、レジストに残存するチャージを減らすことがで
きる。したがって、寸法精度の高いレジストパターンを
得ることができる。

【００６８】好ましくは、多角形を構成する各電子ビー
ム描画基本図形について輪郭部図形を構成する電子描画
基本図形のうち、多角形の外縁を含む電子ビーム描画基
本図形のみを所定の露光量にて露光する露光データ設定
手段を備えることにより、輪郭部図形を描画する際に、
レジストに残存するチャージをさらに減らすことができ
る。したがって、より寸法精度の高いレジストパターン
を得ることができる。

【００６９】好ましくは、内部図形を構成する電子ビー
ム描画基本図形を、輪郭部図形を構成する電子ビーム描
画基本図形を露光するときの速度よりも速い速度により
露光する露光データ設定手段を備えることにより、描画
時間を短縮することかできる。したがって、電子ビーム
描画装置の処理能力を向上することができる。

【００７０】本発明の他の局面による電子ビーム描画デ
ータ作成装置は、描画図形のデータを、描画図形の外縁
のみによって構成される第１の多角形のデータと、その
第１の多角形の中心位置を変えずに、第１の多角形の各
辺を、各辺の長さ方向に直交する方向に、第１の多角形
の中心位置へ向かって各辺に共通な所定の長さ分だけ移
動させることによって得られる第２の多角形のデータ
と、第１の多角形から第２の多角形を差し引くことによ
って得られる輪郭部図形のデータとに変換する手段を備
える。しかも、第２の多角形を所定の露光量以下にて露
光する露光データ設定手段を備えているので、描画図形
の近傍に位置する他の描画図形に対する近接効果を抑制
することができる。その結果、寸法精度の高いレジスト
パターンを得ることができる。

【００７１】好ましくは、露光データ設定手段が輪郭部
図形を構成する電子ビーム描画基本図形を所定の露光量
にて露光した後、第２の多角形を構成する電子ビーム描
画基本図形を所定の露光量以下にて露光する露光データ
設定手段を備えることにより、輪郭部図形をレジストに
描画する際に、レジストに残存するチャージを減らすこ
とができる。その結果、寸法精度の高いレジストパター
ンを得ることができる。

【００７２】好ましくは、露光データ設定手段が第２の
多角形を構成する電子ビーム描画基本図形を、輪郭部図
形を構成する電子ビーム描画基本図形を描画するときの
速度よりも速い速度により露光する露光データ設定手段
を備えることにより、電子描画に際に、描画時間を短縮
することができる。したがって、電子ビーム描画装置の
処理能力を向上することができる。

【００７３】好ましくは、第１の多角形を構成するすべ
ての電子ビーム描画基本図形を所定の露光量以下にて露
光し、さらに、輪郭部図形のみを構成する電子ビーム描
画基本図形を所定の露光量以下にて露光し、輪郭部図形
の露光量が所定の露光量になるように露光データ設定手
段を備えることにより、電子ビーム描画基本図形１つ当
りの描画時間を短縮することができ、結果的に、描画図
形全体を描画する時間を大幅に短縮することができる。

【００７４】好ましくは、輪郭部図形の輪郭幅の値とし
て、予め任意の値を入力することができる設定手段を備
えることにより、半導体装置のデザインルールやレイア
ウトパターンに対応した輪郭幅を設定することができ
る。この描画データにより、寸法精度の高いレジストパ
ターンが得られるとともに描画時間も短縮することがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 実施の形態１に係る電子ビーム描画データ作
成装置の処理フローの一例を示す図である。

【図２】 図１に示す処理フローの一部をさらに詳しく
示す図である。

【図３】 図１および図２に示す処理フローにより、描
画図形のデータが処理された第１の状態を示す図であ
る。

【図４】 図１および図２に示す処理フローにより、描
画図形のデータが処理された第２の状態を示す図であ
る。

【図５】 図１および図２に示す処理フローにより、描
画図形のデータが処理された第３の状態を示す図であ
る。

【図６】 図１および図２に示す処理フローにより、描
画図形のデータが処理された第４の状態を示す図であ
る。

【図７】 図１および図２に示す処理フローにより、描
画図形のデータが処理された第５の状態、または、レジ
ストへの描画の状態を示す図である。

【図８】 実施の形態２に係る電子ビーム描画データ作
成装置の処理フローの一例を示す図である。

【図９】 図８に示す処理フローにより、描画図形のデ
ータが処理された状態、または、レジストへの描画の状
態を示す図である。

【図１０】 実施の形態３に係る電子ビーム描画データ
作成装置により、描画図形のデータが処理された状態を
示す図である。

【図１１】 図１０に示す状態の後、描画図形のデータ
が処理された状態、または、レジストへの描画の状態を
示す図である。

【図１２】 実施の形態４に係る電子ビーム描画データ
作成装置の処理フローの一例を示す図である。

【図１３】 図１２に示す処理フローにより、描画図形
のデータが処理された第１の状態を示す図である。

【図１４】 図１２に示す処理フローにより、描画図形
のデータが処理された第２の状態を示す図である。

【図１５】 図１２に示す処理フローにより、描画図形
のデータが処理された第３の状態、または、レジストへ
の描画の状態を示す図である。

【図１６】 実施の形態５に係る電子ビーム描画データ
作成装置により、描画図形のデータが処理された状態を
示す図である。

【図１７】 図１６に示す描画図形のデータに基づき、
電子描画を行なった場合の描画時間と従来の場合との比
較を示す図である。

【図１８】 実施の形態６に係る電子ビーム描画データ
作成装置の処理フローの一例を示す図である。

【図１９】 実施の形態７に係る電子ビーム描画データ
作成装置の処理フローの一例を示す図である。

【図２０】 レジストへの従来の電子描画における近接
効果を説明するための第１の図である。

【図２１】 レジストへの従来の電子描画における近接
効果を説明するための第２の図である。

【図２２】 従来の電子ビーム描画データ作成装置の処
理フローの一例を示す図である。

【図２３】 図２２に示す処理フローにより、描画図形
のデータが処理された第１の状態を示す図である。

【図２４】 図２２に示す処理フローにより、描画図形
のデータが処理された第２の状態を示す図である。

【図２５】 図２２に示す処理フローにより、描画図形
のデータが処理された第３の状態、または、レジストへ
の描画の状態を示す図である。

【図２６】 従来の電子ビーム描画データ作成装置によ
り、描画図形を電子描画する時間を説明するための図で
ある。

【符号の説明】

３ａ、３ｂ、２ 描画図形 ３ 多角形、３ｃ、３ｄ、
３ｅ、３ｆ、９ａ、９ｂ 電子ビーム描画基本図形、４
ａ、４ｂ、４ｃ、４ｄ、４ｅ、４ｆ、４ｇ、４ｈ、４
ｉ、４ｊ、４ｋ、４ｌ 輪郭部図形、５ａ、５ｂ、５
ｃ、 内部図形、Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３、Ｓ４、Ｓ５、Ｓ
６、Ｓ７、Ｓ８、Ｓ９、Ｓ１０、Ｓ１１、Ｓ１２、Ｓ１
３ 処理手段。

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 描画図形のデータを、電子ビーム描画装
   置にて前記描画図形を描画することのできる電子ビーム
   描画基本図形のデータに変換するための描画図形分割デ
   ータ変換手段と、 前記描画図形分割データ変換手段により変換された前記
   各電子ビーム描画基本図形のデータを、輪郭部図形のデ
   ータと前記輪郭部図形によって囲まれた内部図形のデー
   タとに変換するための輪郭分解データ変換手段と、を備
   えた、電子ビーム描画データ作成装置であって、 前記描画図形分割データ変換手段は、 前記描画図形のデータを、前記描画図形の外縁のみから
   なる多角形のデータに変換する手段と、 前記多角形のデータを、前記多角形が輪郭部図形によっ
   て囲まれる内部図形の面積が最も大きくなるように分割
   された各電子ビーム描画基本図形のデータに変換する手
   段と、を備え、 前記輪郭分解データ変換手段は、 前記描画図形分割データ変換手段によって変換された前
   記各電子ビーム描画基本図形のデータを、所定の幅を有
   する輪郭部図形のデータと、前記電子ビーム描画基本図
   形から前記輪郭部図形を差し引いた前記内部図形のデー
   タとに変換する手段と、 前記輪郭部図形のデータを、前記輪郭部図形を構成する
   前記電子ビーム描画基本図形のデータに変換する手段
   と、 前記内部図形を所定の露光量以下にて露光する露光デー
   タ設定手段とを備えた、電子ビーム描画データ作成装
   置。
2. 【請求項２】 前記露光データ設定手段は、前記電子ビ
   ーム描画基本図形と、前記電子ビーム描画基本図形の前
   記輪郭部図形を構成する前記電子ビーム描画基本図形と
   において、 すべての前記電子ビーム描画基本図形を所定の露光量以
   下にて露光する第１露光データ設定手段と、 前記輪郭部図形を構成する前記電子ビーム描画基本図形
   を所定の露光量以下にて露光する第２露光データ設定手
   段とを備え、 前記第１および第２露光データ設定手段により、前記輪
   郭部図形の露光量が所定の露光量となる、請求項１に記
   載の電子ビーム描画データ作成装置。
3. 【請求項３】 前記第２露光データ設定手段は、前記描
   画図形の外縁を含まない前記電子ビーム描画基本図形に
   ついては、露光量を０とする露光データ設定手段を備え
   た、請求項２に記載の電子ビーム描画データ作成装置。
4. 【請求項４】 前記露光データ設定手段は、 前記電子ビーム描画基本図形の前記輪郭部図形を構成す
   る前記電子ビーム描画基本図形を所定の露光量にて露光
   する第１露光データ設定手段と、 前記輪郭部図形を構成する前記電子ビーム描画基本図形
   を露光した後、前記内部図形を構成する前記電子ビーム
   描画基本図形を所定の露光量以下にて露光する第２露光
   データ設定手段とを備えた、請求項１に記載の電子ビー
   ム描画データ作成装置。
5. 【請求項５】 前記第１露光データ設定手段は、前記描
   画図形の外縁を含む前記電子ビーム描画基本図形のみを
   所定の露光量にて露光する露光データ設定手段を備え
   た、請求項４に記載の電子ビーム描画データ作成装置。
6. 【請求項６】 前記第２露光データ設定手段は、 前記内部図形を構成する前記電子ビーム描画基本図形
   を、前記輪郭図形を構成する前記電子ビーム描画基本図
   形を描画するときの速度よりも速い速度により露光する
   第３露光データ設定手段を備えた、請求項４に記載の電
   子ビーム描画データ作成装置。
7. 【請求項７】 描画図形のデータを、前記描画図形の外
   縁のみによって構成される第１の多角形のデータに変換
   する手段と、 前記第１の多角形の中心位置を変えずに、前記第１の多
   角形の各辺を、前記各辺の長さ方向に直交する方向に、
   前記第１の多角形の中心位置へ向かって、前記各辺に共
   通な所定の長さ分だけ移動させることによって得られる
   第２の多角形のデータを作成する手段と、 前記第１の多角形から前記第２の多角形を差し引くこと
   によって得られる前記第１の多角形の輪郭部図形のデー
   タを作成する手段と、 前記第２の多角形のデータと前記輪郭部図形のデータと
   を、それぞれ電子ビーム描画装置にて描画することので
   きる電子ビーム描画基本図形のデータに変換する手段
   と、 前記第２の多角形を構成する前記電子ビーム描画基本図
   形を所定の露光量以下にて露光する露光データ設定手段
   とを備えた、電子ビーム描画データ作成装置。
8. 【請求項８】 前記露光データ設定手段は、 前記第２の多角形を構成する前記電子ビーム描画基本図
   形と、前記輪郭部図形を構成する前記電子ビーム描画基
   本図形とにおいて、 前記輪郭部図形を構成する前記電子ビーム描画基本図形
   を、所定の露光量にて露光する第１露光データ設定手段
   と、 前記輪郭部図形を構成する前記電子ビーム描画基本図形
   を露光した後、前記第２の多角形を構成する前記電子ビ
   ーム描画基本図形を所定の露光量以下にて露光する第２
   露光データ設定手段とを備えた、請求項７に記載の電子
   ビーム描画データ作成装置。
9. 【請求項９】 前記第２露光データ設定手段は、 前記第２の多角形を構成する電子ビーム描画基本図形
   を、前記輪郭部図形を構成する前記電子ビーム描画基本
   図形を描画するときの速度よりも速い速度により露光す
   る第３露光データ設定手段を備えた、請求項８に記載の
   電子ビーム描画データ作成装置。
10. 【請求項１０】 前記第１の多角形のデータを、前記電
    子ビーム描画基本図形のデータに変換する手段をさらに
    備え、 前記第１の多角形を構成する前記電子ビーム描画基本図
    形と、前記輪郭部図形を構成する前記電子ビーム描画基
    本図形とにおいて、 前記すべての電子ビーム描画基本図形を所定の露光量以
    下にて露光する第１露光データ設定手段と、 前記輪郭部図形を構成する前記電子ビーム描画基本図形
    を所定の露光量以下にて露光する第２露光設定手段とを
    備え、 前記第１および第２露光データ設定手段により、前記輪
    郭部図形を構成する前記電子ビーム描画基本図形の露光
    量が所定の露光量となる、請求項７に記載の電子ビーム
    描画データ作成装置。
11. 【請求項１１】 前記輪郭部図形の輪郭幅の値として、
    予め、任意の値を入力することのできる設定手段を備え
    た、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の電子ビーム
    描画データ作成装置。