JP2017034061A - パターン編集プログラム、ショットデータ作成プログラム、パターン編集装置、ショットデータ作成装置、パターン編集方法 - Google Patents

パターン編集プログラム、ショットデータ作成プログラム、パターン編集装置、ショットデータ作成装置、パターン編集方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2017034061A
JP2017034061A JP2015151867A JP2015151867A JP2017034061A JP 2017034061 A JP2017034061 A JP 2017034061A JP 2015151867 A JP2015151867 A JP 2015151867A JP 2015151867 A JP2015151867 A JP 2015151867A JP 2017034061 A JP2017034061 A JP 2017034061A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pattern
approximate
data
line
data creation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2015151867A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6617463B2 (ja
Inventor
茂巳 藤巻
Shigemi Fujimaki
茂巳 藤巻
陽一 三浦
Yoichi Miura
陽一 三浦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP2015151867A priority Critical patent/JP6617463B2/ja
Publication of JP2017034061A publication Critical patent/JP2017034061A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6617463B2 publication Critical patent/JP6617463B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Electron Beam Exposure (AREA)

Abstract

【課題】描画データを容易、短時間で作成できるパターン編集プログラム、ショットデータ作成プログラム、パターン編集装置、ショットデータ作成装置、パターン編集方法を提供する。
【解決手段】パターン編集装置は、設計パターンの半径である第1半径及び第2半径に挟まれ中心角が45°である基準扇形の円周に関する基準近似データを作成する基準近似データ作成部と、基準扇形を第2半径を対称軸として線対称に複製することにより、中心角が90°の扇形の円周に関する90°近似データを作成する複製近似データ作成手段とを備える。
【選択図】図1

Description

本発明は、電子線で描画するパターンのパターン編集プログラム、ショットデータ作成プログラム、パターン編集装置、ショットデータ作成装置、パターン編集方法に関するものである。
従来、円形、楕円等の湾曲したパターン形状を電子線によって描画する場合、パターン形状を複数の矩形のショット形状に分割して行っていた(例えば特許文献1)。
しかし、従来の方法では、パターン形状を複数の矩形に分割する処理が膨大であり、多大な時間がかかっていた。
特開2014−96604号公報
本発明の課題は、描画データを容易、短時間で作成できるパターン編集プログラム、ショットデータ作成プログラム、パターン編集装置、ショットデータ作成装置、パターン編集方法を提供することである。
本発明は、以下のような解決手段により、課題を解決する。なお、理解を容易にするために、本発明の実施形態に対応する符号を付して説明するが、これに限定されるものではない。また、符号を付して説明した構成は、適宜改良してもよく、また、少なくとも一部を他の構成物に代替してもよい。
・第1の発明は、中心角が90°の整数倍の扇形の設計パターン、又は円の設計パターンを編集するパターン編集装置のコンピュータ(10)を、設計パターン(50)の半径である第1半径(R1)及び第2半径(R2)に挟まれ中心角が45°である基準扇形の円周に関する近似データである基準近似データを作成する基準近似データ作成手段(16b)と、基準扇形を第2半径を対称軸として線対称に複製することにより、中心角が90°の扇形の円周に関する近似データである90°近似データを作成する複製近似データ作成手段(16b)と、して機能させるパターン編集プログラムである。
・第2の発明は、第1の発明のパターン編集プログラムにおいて、前記複製近似データ作成手段(16b)を、前記90°近似データをさらに複製することにより、設計パターン(50)の全円周の近似データである全円周近似データを作成するように機能させること、を特徴とするパターン編集プログラムである。
・第3の発明は、第1又は第2の発明のパターン編集プログラムにおいて、前記基準近似データ作成手段(16b)を、前記基準近似データとして、基準扇形の円周を、第1半径(R1)に平行な平行線及び第1半径に直交する直交線を交互に接続することにより近似した近似線を作成するように機能させること、を特徴とするパターン編集プログラムである。
・第4の発明は、第1又は第2の発明のパターン編集プログラムにおいて、前記基準近似データ作成手段(16b)を、前記基準近似データとして、基準扇形の円周上の点を、基準扇形の円周よりも外側の位置に近似した基準近似点を作成するように機能させること、を特徴とするパターン編集プログラムである。
・第5の発明は、第4の発明のパターン編集プログラムにおいて、前記基準近似データ作成手段(16b)を、前記基準近似点として、第1半径(R1)に平行な平行線及び第1半径に直交する直交線を交互に接続する近似線の頂点を作成するように機能させること、を特徴とするパターン編集プログラムである。
・第6の発明は、第3から第5のいずれかの発明のパターン編集プログラムにおいて、前記近似線は、平行線の数が、直交線の数よりも1つ少なく、全ての平行線の長さが等しく、平行線の中点が円周上に位置し、第1半径(R1)の円周上の第1点と、第2半径(R2)の延長線上であって円周から平行線に沿った方向に平行線の長さの半分だけ外側の第2点とを結び、第1点が直交線の端点であり、第2点が直交線の端点であること、を特徴とするパターン編集プログラムである。
・第7の発明は、第3から第5のいずれかの発明のパターン編集プログラムにおいて、前記近似線は、平行線の数と、直交線の数とが等しく、全ての平行線の長さが等しく、第1半径の円周上の第1点と、第2半径(R1)の線上の第2点とを結び、第1点が直交線の端点であり、第2点が平行線の端点であること、を特徴とするパターン編集プログラムである。
・第8の発明は、第3から第7のいずれかの発明のパターン編集プログラムにおいて、パターン編集装置(10)のコンピュータを、平行線の数に関する入力操作を受け付ける平行線数入力手段(16b)として機能させ、前記基準近似データ作成手段(16b)を、受け付けた平行線の数に基づいて、平行線(D)の長さを算出し、前記近似線を作成するように機能させること、を特徴とするパターン編集プログラムである。
・第9の発明は、第1から第8のいずれかの発明のパターン編集プログラムにおいて、パターン編集装置(10)のコンピュータを、近似データのパターン内側の領域を、設計パターンの近似パターンとした近似パターン作成手段として機能させること、を特徴とするパターン編集プログラムである。
・第10の発明は、第9の発明のパターン編集プログラムで作成された近似パターンに基づいて、ショットデータを作成するショットデータ作成装置(20)のコンピュータを、近似パターンを、ショット形状に対応した矩形に分割するショットデータ作成部(26a)として機能させること、を特徴とするショットデータ作成プログラムである。
・第11の発明は、第4から第8のいずれかの発明のパターン編集プログラムで作成された近似データに基づいてショットデータを作成するショットデータ作成装置(20)のコンピュータを、前記90°近似データの各近似点と、前記全円周近似データのうち前記90°近似データの各近似点に対応した近似点とを接続することにより、矩形のショット形状を有するショットデータを作成するショットデータ作成手段(26a)として機能させること、を特徴とするショットデータ作成プログラムである。
・第12の発明は、第1から第9のいずれかの発明のパターン編集プログラムを記憶する記憶部(15)と、前記記憶部のパターン編集プログラムを実行する制御部(16)と、を備えるパターン編集装置である。
・第13の発明は、第10又は第11の発明のショットデータ作成プログラムを記憶する記憶部(25)と、前記記憶部のショットデータ作成プログラムを実行する制御部(26)と、を備えるショットデータ作成装置である。
・第14の発明は、中心角が90°の整数倍の扇形の設計パターン、又は円の設計パターンを編集するパターン編集方法であって、設計パターンの半径である第1半径及び第2半径に挟まれ中心角が45°である基準扇形の円周に関する近似データである基準近似データを作成する基準近似データ作成工程と、基準扇形を第2半径を対称軸として線対称に複製することにより、中心角が90°の扇形の円周に関する近似データである90°近似データを作成する複製近似データ作成工程と、を備えるパターン編集方法である。
本発明によれば、描画データを容易、短時間で作成できるパターン編集プログラム、ショットデータ作成プログラム、パターン編集装置、ショットデータ作成装置、パターン編集方法を提供できる。
第1実施形態の描画システム1の構成を示す図である。 第1実施形態の設計パターン50、近似データのパターンを示す図である。 第1実施形態の近似データ作成処理、段差長さDの算出処理のフローチャートである。 第1実施形態の点P(i)の座標算出処理のフローチャートである。 第1実施形態の段差数Nが奇数の場合の段差長さDの算出処理、点P(i)の算出処理を説明する図である。 第1実施形態の段差数Nが偶数の場合の段差長さDの算出処理、点P(i)の算出処理を説明する図である。 第1実施形態のショットデータ作成処理のフローチャートである。 第1実施形態のショットデータを説明する図である。 第2実施形態の段差長さDの算出処理、点P(i)の算出処理を説明する図である。 第2実施形態のショットデータを説明する図である。
(実施形態)
以下、図面等を参照して、本発明の実施形態について説明する。
(第1実施形態)
図1は、第1実施形態の描画システム1の構成を示す図である。
図2は、第1実施形態の設計パターン50、近似データのパターンを示す図である。
描画システム1は、基板2上のレジスト膜に電子線を照射することにより、所望のパターン形状のパターン描画するものである。この基板2は、例えば、フォトマスク基板、シリコン基板、バイオチップ用の基板等である。
[システムの構成]
描画システム1は、パターン編集装置10、ショットデータ作成装置20、描画装置30を備える。
パターン編集装置10、ショットデータ作成装置20、描画装置30の間は、LAN等の通信網を介して接続され、必要に応じて、互いに情報を送受信できる。
作業者は、各装置に記憶したデータを、他の装置に複製又は移動できる。この複製又は移動は、例えば、通信網、CD−ROM等の記憶媒体等を利用できる。
図2に示すように、パターン編集装置10は、設計者が設計パターン50を作成し、その後に、設計パターン50を編集することにより設計パターン50(図2(A)参照)を近似した近似パターン(図2(B)参照)を作成する装置である。つまり、パターン編集装置10は、設計パターン50を設計する設計装置と、設計パターン50を編集する編集装置とを兼用する。
設計パターン50は、実際に基板2上に形成したい所望のパターン形状のデータである。本実施形態では、設計パターン50は、円形(つまり、中心角が360°の扇形)である。
近似パターンは、設計パターン50の外形を、複数の直線で近似したパターン形状のデータである。
ショットデータ作成装置20は、パターン編集装置10が作成した近似データに基づいて、複数のショット形状を有するショットデータ(図8参照)を作成する装置である。ショットデータは、実際に描画装置30で実際にパターンを描画する際に用いられる描画データである。
描画装置30は、基板2上にパターンを描画する電子線描画装置である。
各装置10,20,30は、操作部11,21,31、表示部12,22,32、記憶部15,25,35、制御部16,26,36を備える。
各操作部11,21,31は、作業者(設計者等)が各装置10,20,30を操作するためのマウス、キーボード、ボタン等の操作装置、入力装置である。
各表示部12,22,32は、パターンの形状等を表示するモニタである。
各記憶部15,25,35は、10,20,30の動作に必要なプログラム、情報等を記憶するためのハードディスク、半導体メモリ素子等の記憶装置である。
各制御部16,26,36は、例えば、CPU等から構成される。各制御部16,26,36は、それぞれ、各記憶部15,25,35に記憶された各種プログラムを適宜読み出して実行することにより、各ハードウェアと協働し、実施形態に係る各種機能を実現している。
なお、実施形態でいうコンピュータとは、記憶装置、制御装置等を備えた情報処理装置をいう。各装置10,20,30は、コンピュータの構成(記憶部15,25,35、制御部16,26,36等)を備える。
パターン編集装置10は、記憶部15、制御部16を備える。
記憶部15は、設計パターン作成プログラム15a、近似データ作成プログラム15b(パターン編集プログラム)、設計パターン記憶部15c、近似データ記憶部15dを備える。
設計パターン作成プログラム15aは、設計パターン50を作成するプログラムである。
近似データ作成プログラム15bは、設計パターン50から近似データへ変換するプログラムである。
近似データ記憶部15dは、近似データを記憶する。
制御部16は、設計パターン作成部16a、近似データ作成部16b(基準近似データ作成手段、複製近似データ作成手段、平行線数入力手段、近似パターン作成手段)を備える。
設計パターン作成部16aは、設計パターン50の作成処理を行う。
近似データ作成部16bは、設計パターン50から近似データを作成する処理を行う。
制御部16の処理の詳細は、後述する。
ショットデータ作成装置20は、記憶部25、制御部26を備える。
記憶部35は、ショットデータ作成プログラム25a、近似データ記憶部25d、ショットデータ記憶部25eを備える。
ショットデータ作成プログラム25aは、近似データからショットデータへ変換するプログラムである。ショットデータは、複数のショット図形を含むデータである。
近似データ記憶部25dは、パターン編集装置10が作成した近似データを記憶する。
ショットデータ記憶部25eは、ショットデータを記憶する。
制御部26は、ショットデータ作成部26a(ショットデータ作成手段)を備える。
ショットデータ作成部26aは、近似データに基づいて、ショットデータを作成する処理を行う。
制御部26の処理の詳細は、後述する。
描画装置30は、描画部33、記憶部35、制御部36を備える。
描画部33は、実際に、基板2上に電子線を照射することにより、パターンを描画する部分である。描画部33は、ショットデータのショット図形に対応したアパーチャを用いて、パターンを描画する。
記憶部35は、ショットデータ記憶部35eを備える。
ショットデータ記憶部35eは、ショットデータ作成装置20が作成したショットデータを記憶する。
制御部36は、ショットデータ記憶部35eのショットデータに基づいて、描画部33を制御することにより、パターンを描画する。
[描画システム1の処理]
描画システム1の使用方法について説明しながら、システムの処理について説明する。
バイオチップ用の基板2に円形のパターンを描画する例を説明する。
図3は、第1実施形態の近似データ作成処理、段差長さDの算出処理のフローチャートである。
図4は、第1実施形態の点P(i)の座標算出処理のフローチャートである。
図5は、第1実施形態の段差数Nが奇数の場合の段差長さDの算出処理、点P(i)の算出処理を説明する図である。
図6は、第1実施形態の段差数Nが偶数の場合の段差長さDの算出処理、点P(i)の算出処理を説明する図である。
図7は、第1実施形態のショットデータ作成処理のフローチャートである。
図8は、第1実施形態のショットデータを説明する図である。
[近似データの作成処理]
図3(A)に示すように、ステップS(以下、「S」という)1において、パターン編集装置10の設計パターン作成部16aは、作業者から、設計パターン50の半径の長さr、基板2上の位置等の入力操作を受け付ける。パターン編集装置10の設計パターン作成部16aは、半径の長さrの設計パターン50を作成後、これを設計パターン記憶部15cに記憶する。
なお、設計パターン50は、予め作成されたものを用いてもよい。この場合には、設計パターン作成部16aは、例えば、CD−ROM等に記憶した設計パターン50のデータを、読み取り装置(図示せず)で読み取って設計パターン記憶部15cに記憶したり、通信網を介して設計パターン50を取得して設計パターン記憶部15cに記憶したりすればよい。
以降の説明において、適宜、XY直交座標系を用いて説明する。この座標系の中心は、円(つまり設計パターン50)の中心である。また、XY座標軸よって分割される右上の領域(X座標、Y座標が正の値をとる点からなる領域)が第一象限であり、これらから左回りの各領域が第2から第4象限である。
以降の処理(S2〜S30)において、パターン編集装置10の近似データ作成部16bは、設計パターン記憶部15cの設計パターン50に基づいて、基準扇形を作成する。
基準扇形について説明する。
図5、図6に示すように、基準扇形は、第1半径R1及び第2半径R2に挟まれた中心角45°の扇形である。第1半径R1及び第2半径R2の長さは、パターン形状の半径と同じ長さrである。
第1半径R1は、正のX軸上の半径である。第2半径R2は、第1半径R1から左回りに中心角分である45°回転した半径である。
S2において、パターン編集装置10の近似データ作成部16bは、作業者から、中心角が90°の扇形の段差数Nの入力を受け付ける。
段差数Nは、第1象限のパターン円周を、近似線で近似した場合の段差数である。すなわち、段差数Nは、設計パターン50のうち中心角が90°の扇形の円周(円弧)を、近似線で近似した場合の段差数である。
後述するように、基準扇形の段差数n(平行線の数)は、この扇形の段差数Nに基づいて算出される。つまり、S2は、基準扇形の段差数nに関する入力操作を受け付ける処理でもある。
近似線は、基準扇形の円周に沿うような線である。近似線は、平行線及び直交線が交互に接続されている。平行線は、第1半径R1に平行な線であり、つまり、X軸に平行な線である。直交線は、第1半径R1に直交する線であり、つまり、Y軸に平行な線である。
S10において、近似データ作成部16bは、段差長さDの算出処理を行う。この処理は、段差長さD(近似線の平行線の長さ)を求める処理である。
(段差長さDの算出処理)
段差長さ算出処理について詳細に説明する。
図3(B)に示すように、S11において、近似データ作成部16bは、段差数Nが奇数か否かを判定する。なお、実施形態では、Nが奇数の場合と、偶数の場合とでは、近似線の作成方法が異なる。
近似データ作成部16bは、Nが奇数であると判定した場合には(S11:YES)、S12aに進み、一方、Nが奇数ではないと判定した場合、つまり、偶数であると判定した場合には(S11:NO)、S12bに進む。
<Nが奇数の場合の段差長さDの算出処理(S12a,S13a)>
図5(A)に示すように、実施形態では、中心角が90°の扇形の段差数Nが奇数の場合、基準扇形の円周での近似線を、以下の条件を満たすように求める。
(a)第1半径R1の円周上の始点C(第1点)と、第2半径R2の線上の終点B’(第2点)との間を、平行線、直交線で接続する。
(b)全ての平行線は、長さが等しい。
(c)平行線の中点は、基準扇形の円周上に位置する。
(d)始点Cは、第1半径R1の円周上の点である。
(e)終点B’は、第2半径R2の延長線上であって円周から平行線に沿った方向に平行線の長さの半分だけ外側の点である。
(f)始点Cでは直交線の端点で始まる。
(g)終点B’では直交線の端点で始まる(終わる)。
S12aにおいて、近似データ作成部16bは、基準扇形の円周の段差数nを算出する。段差数Nは、中心角が90°の扇形の段差数である。このため、中心角45°の基準扇形の円周の段差数nは、以下の通りである。
段差数n:N/2の整数部
なお、段差数nは、基準扇形の円周の近似パターンの平行線の数である。
図5(A)の例では、段差数N=5であるので、段差数n=2である。
S13aにおいて、近似データ作成部16bは、段差長さDを算出する。
段差長さDの算出方法は、複数ある。一例を説明する。
図5(A)において、各点は、以下の通りである。
B:終点B’を通りX軸に平行な線と、設計パターン50の円周との交点。
A’:終点B’からX軸に引いた垂線の足(つまり、垂線、X軸との交点)。
A:BからX軸に引いた垂線の足。
段差の総長さは、nDである。よって、以下が成り立つ。
線分OA=r−nD−D/2
三角形OA’B’は、二等辺三角形である。よって、以下が成り立つ。
線分AB=線分A’B’=線分OA’=r−nD
三角形OABは、直角三角形である。よって、以下が成り立つ。
線分OB=線分OA+線分AB
これらの式から以下を求めることができる。
=(r−nD−D/2)+(r−nD)
これを、Dで整理することにより、以下の二次方程式を求める。
((n+1/2)+n)D−(4n+1)rD+r=0
S13aにおいて、近似データ作成部16bは、この二次方程式を解いて段差長さDを求める
その後、近似データ作成部16bは、本処理(S20)に戻る。
<Nが偶数の場合の段差長さDの算出処理(S12b,S13b)>
図6(A)に示すように、実施形態では、中心角が90°の扇形の段差数Nが偶数の場合、基準扇形の円周での近似線を、以下の条件を満たすように求める。
(a)第1半径R1の円周上の始点C(第1点)と、第2半径R2の線上の終点B’(第2点)との間を、平行線、直交線で接続する。
(b)全ての平行線は、長さが等しい
(c)平行線の中点は、基準扇形の円周上に位置する。
(d)始点Cは、第1半径R1の円周上の点である。
(e)終点B’は、第2半径R2上であって円周から平行線に沿った方向に平行線の長さの半分だけ内側の点である。
(f)始点Cでは直交線の端点で始まる。
(g)終点B’では平行線の端点で始まる(終わる)。
なお、前述したNが奇数の場合と、偶数の場合の場合とでは、条件(e)、(g)のみが異なる。
S12bにおいて、近似データ作成部16bは、基準扇形の円周の段差数Nを算出する。Nが偶数であるので、基準扇形の円周の段差数nは、以下の通りである。
段差数n:N/2
なお、段差数nは、基準扇形の円周の近似パターンの平行線の数である。
図6(A)の例では、段差数N=4であるので、段差数n=2である。
S13bにおいて、近似データ作成部16bは、段差長さDを算出する。
段差長さDの算出方法は、複数ある。一例を説明する。
図6(A)において、各点は、以下の通りである。
B:終点B’を通りX軸に平行な線と、設計パターン50の円周との交点。
A’:終点B’からX軸に引いた垂線の足(つまり、垂線、X軸との交点)。
A:点BからX軸に引いた垂線の足。
段差の総長さnDである。よって、以下が成り立つ。
線分OA=r−nD+D/2
三角形OA’B’は、二等辺三角形である。よって、以下が成り立つ。
線分AB=線分A’B’=線分OA’=r−nD
三角形OABは、二等辺三角形である。よって、以下が成り立つ。
線分OB=線分OA+線分AB
これらの式から以下が求めることができる。
=(r−nD+D/2)+(r−nD)
これを、Dで整理すると、以下が成り立つ。
((n−1/2)+n)D−(4n−1)rD+r=0
近似データ作成部16bは、この二次方程式を解いて段差長さDを求める。
その後、近似データ作成部16bは、本処理(S20)に戻る。
(P(i)の座標算出処理)
S20において、近似データ作成部16bは、P(i)の座標算出処理を行う。
この処理は、各線分の端部、つまり、基準扇形の円周の近似線の始点P(0)、各頂点P(i:1〜N−1)、終点P(N)の座標を算出する処理である。
なお、図5(B)、図6(B)から明らかなように、「i:0〜N」である。
座標設定処理は、段差数Nが奇数の場合(S11:YES)、偶数の場合(S11:NO)とでは、処理内容が異なる。
最初に、図5(B)を参照しながら、段差数Nが奇数の場合(S11:YES)の例を説明する。
<段差数Nが奇数の場合のP(i)の算出処理>
図4に示すように、S21において、近似データ作成部16bは、始点P(0)を求める。
図5(B)に示すように、始点P(0)の座標は、以下の通りである。
始点P(0):(X(0),Y(0))=(r,0)
S22において、近似データ作成部16bは、i=1に設定する。
S23において、近似データ作成部16bは、iが奇数か否かを判定する。近似データ作成部16bは、iが奇数である場合には(S23:YES)、S24aに進み、一方、iが奇数ではない場合には(S23:NO)、つまり、iが偶数の場合には、S24bに進む。
S23aにおいて、図5(B)から明らかなように、近似データ作成部16bは、「i:奇数」の場合のP(i)=(X(i),Y(i))の座標を、以下のように求める。
・X(i)について
X(i)=X(i−1)
・Y(i)について
(r−i×D/2)+Y(i)=r
この式を、Y(i)について解くことにより、Y(i)を求める。
S24bにおいて、近似データ作成部16bは、「i:偶数」の場合のP(i)=(X(i),Y(i))の座標を、以下のように求める。
・X(i)について
図5(B)から明らかなように、以下の式が成り立つ。
X(i)=X(i−1)−D
・Y(i)について
同様に、以下の式が成り立つ。
Y(i)=Y(i−1)
S25において、近似データ作成部16bは、「i←i+1」とすることにより、iを1だけ加算する。
S26において、近似データ作成部16bは、「i=N」であるか否かを判定する。
近似データ作成部16bは、「i=N」であると判定した場合には(S26:YES)、S27に進み、一方、「i=N」ではないと判定した場合には(S26:NO)、S23からの処理を繰り返す。
このように、近似データ作成部16bは、繰り返すS23からの処理により、P(1)〜P(N−1)の座標を求めることができ、そして、「i=N」の場合に、S27に進むことによりP(N)を求める。
S27において、近似データ作成部16bは、Nが奇数であるか否かを判定する。図5(B)の例は、近似データ作成部16bは、Nが奇数のであるので(S27:YES)、近似データ作成部16bは、S28aに進む。
S28aにおいて、近似データ作成部16bは、P(N):(X(N),Y(N))を以下によって求める。
P(N)は、第2半径R2の延長線上の点である。第2半径R2及びX軸のなす角は、45°であるので、X(N)=Y(N)である。
X(N):X(N−1)
Y(N):X(N−1)
以上により、近似データ作成部16bは、Nが奇数の場合のP(0)〜P(N)を求めることができる。
<段差数Nが偶数の場合のP(i)の算出処理>
次に、段差数Nが偶数の場合(S11:NO)の例を説明する。
図5(B)、図6(B)から明らかなように、段差数Nが奇数の場合と、偶数の場合とにおける形状の差は、終点P(N)の位置である。このため、Nが偶数の場合にも、P(0)からP(N−1)までの座標は、段差数Nが奇数の場合と同様に、S23〜S26を繰り返す処理によって求めることができる。
すなわち、近似データ作成部16bは、iが奇数である場合には(S23:YES)、S24aに進むことにより、P(i)=(X(i),Y(i))の座標を、以下のように求めることができる。
・X(i)について
X(i)=X(i−1)
・Y(i)について
(r−i×D/2)+Y(i)=r
この式を、Y(i)について解くことにより、Y(i)を求める。
一方、近似データ作成部16bは、iが偶数である場合には(S23:NO)、S24bに進むことにより、P(i)=(X(i),Y(i))の座標を、以下のように求めることができる。
・X(i)について
X(i)=X(i−1)−D
・Y(i)について
Y(i)=Y(i−1)
S27において、近似データ作成部16bは、Nが奇数であるか否かを判定する。図6(B)の例は、Nが偶数であるので(S27:NO)、近似データ作成部16bは、S28bに進む。
S28bにおいて、近似データ作成部16bは、P(N):(X(N),Y(N))を以下によって求める。
P(N)は、第2半径R2上の点である。第2半径R2及びX軸のなす角は、45°であるので、X(N)=Y(N)である。
X(N):Y(N−1)
Y(N):Y(N−1)
以上により、近似データ作成部16bは、Nが偶数の場合のP(0)〜P(N)を求めることができる。
S29において、近似データ作成部16bは、本フロー(図3(A)のS30)に戻る。
S30において、図5(B)、図6(B)にハッチングで示すように、近似データ作成部16bは、基準扇形パターンを作成する。
すなわち、近似データ作成部16bは、上記処理で求めたP(i)、P(i+1)間の座標を線分で接続することにより、基準扇形の円周の近似線(基準近似データ)を作成する。その後、近似データ作成部16bは、近似線と、第1半径R1、第2半径R2とに囲まれた領域を塗り潰し、また、この領域に電子線が照射される領域であるという情報を付与する。但し、図5(B)の場合には、第2半径R2を延長する。基準扇形パターンは、この塗り潰された領域に関する情報と、この領域に電子線が照射されるという情報とを備える。
なお、基準扇形パターンの外形の一部は、近似線によって形成される。このため、基準扇形パターンは、近似線に関する情報、つまり、基準扇形の円周に関する情報を含む。
以上の工程によって、近似データ作成部16bは、中心角が45°である基準扇形の円周に関する近似データである基準近似データを作成できる(基準近似データ作成工程)。
S31において、図5(B)、図6(B)に示すように、近似データ作成部16bは、基準扇形パターンを、第2半径R2を対称軸として線対称である複製する(図5(B)、図6(B)の矢印♯1参照)。
実施形態では、S31以降の処理を、Nが奇数の基準扇形の処理を例に説明する。Nが偶数の基準扇形の処理についても同様である。
これにより、近似データ作成部16bは、パターン形状のうち、半径がrであり中心角が90°の扇形の部分を、段差数Nの近似線で近似した近似形状(以後、「90°近似データ」ともいう)が作成できる(複製近似データ作成工程)。
90°近似データも、基準扇形及び複製扇形の円周の近似線に関する情報を含む。
S32において、近似データ作成部16bは、90°近似データのパターンを、Y軸を対称軸として線対称で複製したパターンを作成する(図2(B)の矢印♯2参照)。
さらに、近似データ作成部16bは、90°近似データのパターン及びこの複製したパターンを、X軸を対称軸として線対称で複製したパターンを作成する(図2(B)の矢印♯3参照)。
これにより、パターン形状のうち半径がrであり中心角が90°の扇形の部分を、第1から第4象限の全てに配置した全円周近似データを作成できる。
この全円周近似データも、基準扇形パターンと同様に、近似線に関する情報、つまり、基準扇形の円周に関する情報を含む。
なお、この複製方法は、一例である。複製方法は、最終的に図2(B)の形態を作成できればよく、例えば、回転、点対称等を用いた方法でもよい。
近似データ作成部16bは、作成した全円周近似データを、近似データ記憶部15dに記憶する。
以上により近似データの作成処理が終了する。
このように、パターン編集装置10は、設計パターン50のうち中心角が45°の扇形についての処理を行い、その処理結果を複製することにより、全円周近似データを作成することができる。これにより、パターン編集装置10は、容易かつ短時間で、全円周近似データの作成できる。
また、パターン編集装置10は、全円周近似データのパターンを、シンメトリーに作成できる。
すなわち、90°近似データは、第2半径R2を対称軸として、線対称の形状となる。このため、パターン描画時における外形の湾曲度合は、第2半径R2を対称軸として、線対称である。さらに、全円周近似データは、X軸を対称軸として線対称であり、また、Y軸を対称軸として線対称である(つまり、原点を対称点として点対称)。かつ、全円周近似データは、X軸となす角が45°又は−45°の線を対称軸として、線対称である。
これにより、設計パターン50の再現性を向上できる。
[ショットデータ作成処理]
ショットデータ作成処理は、ショットデータ作成装置20が、全円周近似データに基づいてショットデータを作成する処理である。
図1の工程♯11に示すように、作業者は、パターン編集装置10の近似データ作成部16bに記憶した全円周近似データを、ショットデータ作成装置20の近似データ記憶部25dに、複製又は移動する(図1の矢印♯11参照)。
図7に示すように、S40において、ショットデータ作成装置20のショットデータ作成部26aは、作業者の操作を受け付け、作成する描画パターンが細分割(図8(A)参照)であるか、粗分割(図8(B)参照)であるか否かを判定する。
図8(A)に示すように、細分割は、全円周近似データのパターンを、粗分割よりも多くの矩形のショット図形を有する分割したものである。また、細分割では、例えば、外形に近い部分を、小さな3つの矩形に分割している。このため、細分割では、パターン描画時において、XY差が小さい。
図8(B)に示すように、粗分割は、近似パターンを、X軸方向に延在する矩形のショット図形のみによって分割したものである。このため、粗分割では、細分割よりも矩形のショット図形の数が少ない。また、粗分割のショット図形は、細分割よりもXY差が大きくなる。
作業者は、基板2の使用目的、描画条件、XY差の許容誤差を考慮して、細分割及び粗分割から選択すればよい。
ショットデータ作成部26aは、作成する描画パターンが細分割であると判定した場合には(S40:YES)、S41aに進み、一方、細分割ではないと判定した場合、つまり粗分割であると判定した場合には(S40:NO)、S41bに進む。
S41aにおいて、ショットデータ作成部26aは、近似データ記憶部25dの全円周近似データを読み出して、このパターンを細分割したショットデータを作成する。ショットデータ作成部26aは、ショットデータをショットデータ記憶部25eに記憶する。
S41bにおいて、ショットデータ作成部26aは、近似データ記憶部25dの全円周近似データを読み出して、このパターンを粗分割したショットデータを作成する。ショットデータ作成部26aは、ショットデータをショットデータ記憶部25eに記憶する。
S42において、ショットデータ作成部26aは、処理を終了する。
なお、近似パターンは、シンメトリーであるので、細分割、粗分割のいずれの場合にも、ショットデータのパターンは、シンメトリーである。
また、実施形態の全円周近似データのパターンを分割する処理は、従来のような円周近傍の形状を細かいショット図形で分割する処理よりも、ショット数を少なくすることができる。これにより、実施形態の全円周近似データのパターンを分割する処理は、容易かつ短時間で行うことができる。
[描画工程]
作業者は、ショットデータ作成装置20のショットデータ記憶部25eに記憶したショットデータを、描画装置30のショットデータ記憶部35eに、複製又は移動する(図1の矢印♯12参照)。
描画装置30の制御部36は、作業者の操作に基づいて、ショットデータ記憶部35eからショットデータを読み出し、これに基づいて基板2上に電子線描画する(図1の矢印♯13参照)。
この場合、ショットデータのショット数は、従来よりも少ないため、従来よりも描画時間を短縮できる。さらに、ショットデータのパターンは、シンメトリーである。このため、ショット数が少ない場合でも、パターン描画時における形状再現性を向上できる。
以上説明したように、本実施形態の描画システム1は、設計パターン50から全円周近似データの容易かつ短時間で作成できる。また、全円周近似データのパターンを分割する処理を、容易かつ短時間で行うことができる。さらに、描画時には、従来よりも描画時間を短縮でき、また、設計パターン50の形状再現性を向上できる。
(第2実施形態)
次に、本発明の第2実施形態について説明する。
なお、以下の説明及び図面において、前述した第1実施形態と同様の機能を果たす部分には、同一の符号又は末尾(下2桁)に同一の符号を適宜付して、重複する説明を適宜省略する。
図9は、第2実施形態の段差長さDの算出処理、点P(i)の算出処理を説明する図である。
図10は、第2実施形態のショットデータを説明する図である。
本実施形態の描画システムは、第1実施形態と同様な構成であり、処理のみが第1実施形態とは異なる。
また、図9(A)に示すように、本実施形態の描画システムの処理は、点P(i)の座標算出処理(図3のS30)までは、第1実施形態と同様である。
なお、本実施形態では、段差数Nが奇数であるN=5の場合の処理について説明するが、段差数Nが偶数の場合の処理も同様である。
図9(A)、図9(B)に示すように、パターン編集装置の近似データ作成部(図1の近似データ作成部16b参照)は、点P(i)のうち設計パターンの円周の外側のP(1)、P(3)のみを、第2半径R2を対称軸として線対称になるように複製する(図9(A)の矢印♯201参照)。複製された点を、P(6)、P(7)とする。この場合、P(5)は、第2半径R2上の点であるので、複製する必要はない。
このため、本実施形態の90°近似データは、P(1)、P(3)、P(5)、P(6)、P(7)の座標データを備える。
すなわち、本実施形態では、基準扇形の円周の近似データ(基準近似データ)として、基準扇形の円周上の点を近似した点(基準近似点)であるP(1)、P(3)、P(5)の座標データを備える。また、90°近似データは、半径がrであり中心角が90°の扇形の円周上の点を近似した、P(1)、P(3)、P(5)、P(6)、P(7)の座標データを備える。
その後、パターン編集装置の近似データ作成部は、90°近似データのP(1)、P(3)、P(5)、P(6)、P(7)を、第1実施形態と同様に複製する。
図10に示すように、これにより、近似データ作成部は、P(1)、P(3)、P(5)、P(6)、P(7)を、第1から第4象限の全てに複製した近似データを作成する。
図10には、第2から第4象限に応じた各点に、枝番を付して図示した。
このように、近似データの作成処理は、各点の座標を複製すればよいので、容易かつ短時間で行うことができる。
作業者は、ショットデータ作成装置を利用して、近似データからショットデータを作成する。
ショットデータ作成装置のショットデータ作成部(図1のショットデータ作成部26a参照)は、各点に対応した複製点を接続することにより、それぞれ矩形のショット形状を作成する。
ショットデータ作成部は、例えば、P(1)と、これに対応した複製点P(1)−2、P(1)−3、P(1)−4を接続することにより、1つの矩形のショット形状を作成する。
これにより、ショットデータ作成部は、P(1)、P(3)、P(5)、P(6)、P(7)に対応した5つのショット図形を有するショットデータを作成する。
このように、ショットデータの作成処理は、各点を接続すればよいので、容易かつ短時間で行うことができる。
ここで、各ショット図形は、X軸を対称軸として線対称であり、かつ、Y軸を対称軸として線対称である。
P(5)に対応したショット図形は、正方形である。
また、各ショット図形と、第2半径R2を対称軸として複製した点を有する他のショット形状とは、X軸とのなす角が45°(又は−45°)の線Lを対称軸として線対称である。
例えば、P(3)に対応したショット図形と、P(3)を第2半径R2を対称軸として複製したP(6)に対応したショット図形とは、線Lを対称軸として線対称である。
P(1)に対応したショット図形、P(7)に対応したショット図形も同様である。
本実施形態では、これら5つのショット図形を、重なりを有するように配置する。このため、パターンを描画時には、重なり部分は、シンメトリーに複数回照射されることになるので、XY差がない。これにより、設計パターンの形状再現性を向上できる。
なお、詳細な説明は省略するが、ショットデータ作成部は、ショット図形を重ねた形状の外形を抽出することにより、全周近似データを作成できる。これにより、ショットデータ作成部は、第1実施形態と同様に、描画パターンの細分割(図8(A)参照)、粗分割(図8(B)参照)を行うこともできる。
作業者は、基板の使用目的、描画条件、XY差の許容誤差を考慮して、ショットデータの形態を、3つの形態から適宜選択すればよい。
以上説明したように、本実施形態の描画システムは、XY差を少なくでき、また、設計パターンの形状再現性を向上できる。
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は前述した実施形態に限定されるものではなく、例えば、後述する変形形態等のように種々の変形や変更が可能であって、それらも本発明の技術的範囲内である。また、実施形態に記載した効果は、本発明から生じる最も好適な効果を列挙したに過ぎず、本発明による効果は、実施形態に記載したものに限定されない。なお、前述した実施形態及び後述する変形形態は、適宜組み合わせて用いることもできるが、詳細な説明は省略する。
(変形形態)
実施形態において、設計パターンは、円形である例を示したが、これに限定されない。設計パターンは、中心角が90°の整数倍、つまり中心角が90°、180°、270°のいずれかの扇形でもよい。
中心角が90°の扇形の場合には、90°近似データをそのまま近似データとして用いることができる。
180°、270°の場合には、90°近似データを、それぞれ対応する象限に複製すればよい。
(1)実施形態において、パターン編集装置、ショットデータ作成装置は、別々の装置である例を示したが、これに限定されない。パターン編集装置、ショットデータ作成装置は、一体の装置であってもよい。この場合には、この装置の記憶部が、近似データ作成プログラム、ショットデータ作成プログラムを1つのプログラムとして記憶し、この装置の制御部が、設計パターンの近似データの作成から、ショットデータの作成までを、一連の処理で行うことができる。
1…描画システム 2…基板 10…パターン編集装置 15,25,35…記憶部 15b…近似データ作成プログラム 15c…設計パターン記憶部 16,26,36…制御部 16b…近似データ作成部 20…ショットデータ作成装置 25a…ショットデータ作成プログラム 26a…ショットデータ作成部 50…設計パターン

Claims (14)

  1. 中心角が90°の整数倍の扇形の設計パターン、又は円の設計パターンを編集するパターン編集装置のコンピュータを、
    設計パターンの半径である第1半径及び第2半径に挟まれ中心角が45°である基準扇形の円周に関する近似データである基準近似データを作成する基準近似データ作成手段と、
    基準扇形を第2半径を対称軸として線対称に複製することにより、中心角が90°の扇形の円周に関する近似データである90°近似データを作成する複製近似データ作成手段と、
    して機能させるパターン編集プログラム。
  2. 請求項1に記載のパターン編集プログラムにおいて、
    前記複製近似データ作成手段を、
    前記90°近似データをさらに複製することにより、設計パターンの全円周の近似データである全円周近似データを作成するように機能させること、
    を特徴とするパターン編集プログラム。
  3. 請求項1又は請求項2に記載のパターン編集プログラムにおいて、
    前記基準近似データ作成手段を、
    前記基準近似データとして、基準扇形の円周を、第1半径に平行な平行線及び第1半径に直交する直交線を交互に接続することにより近似した近似線を作成するように機能させること、
    を特徴とするパターン編集プログラム。
  4. 請求項1又は請求項2に記載のパターン編集プログラムにおいて、
    前記基準近似データ作成手段を、
    前記基準近似データとして、基準扇形の円周上の点を、基準扇形の円周よりも外側の位置に近似した基準近似点を作成するように機能させること、
    を特徴とするパターン編集プログラム。
  5. 請求項4に記載のパターン編集プログラムにおいて、
    前記基準近似データ作成手段を、
    前記基準近似点として、第1半径に平行な平行線及び第1半径に直交する直交線を交互に接続する近似線の頂点を作成するように機能させること、
    を特徴とするパターン編集プログラム。
  6. 請求項3から請求項5のいずれかに記載のパターン編集プログラムにおいて、
    前記近似線は、
    平行線の数が、直交線の数よりも1つ少なく、
    全ての平行線の長さが等しく、
    平行線の中点が円周上に位置し、
    第1半径の円周上の第1点と、第2半径の延長線上であって円周から平行線に沿った方向に平行線の長さの半分だけ外側の第2点とを結び、
    第1点が直交線の端点であり、
    第2点が直交線の端点であること、
    を特徴とするパターン編集プログラム。
  7. 請求項3から請求項5のいずれかに記載のパターン編集プログラムにおいて、
    前記近似線は、
    平行線の数と、直交線の数とが等しく、
    全ての平行線の長さが等しく、
    第1半径の円周上の第1点と、第2半径の線上の第2点とを結び、
    第1点が直交線の端点であり、
    第2点が平行線の端点であること、
    を特徴とするパターン編集プログラム。
  8. 請求項3から請求項7のいずれかに記載のパターン編集プログラムにおいて、
    パターン編集装置のコンピュータを、
    平行線の数に関する入力操作を受け付ける平行線数入力手段として機能させ、
    前記基準近似データ作成手段を、
    受け付けた平行線の数に基づいて、平行線の長さを算出し、前記近似線を作成するように機能させること、
    を特徴とするパターン編集プログラム。
  9. 請求項1から請求項8のいずれかに記載のパターン編集プログラムにおいて、
    パターン編集装置のコンピュータを、
    近似データのパターン内側の領域を、設計パターンの近似パターンとした近似パターン作成手段として機能させること、
    を特徴とするパターン編集プログラム。
  10. 請求項9に記載のパターン編集プログラムで作成された近似パターンに基づいて、ショットデータを作成するショットデータ作成装置のコンピュータを、
    近似パターンを、ショット形状に対応した矩形に分割するショットデータ作成部として機能させること、
    を特徴とするショットデータ作成プログラム。
  11. 請求項4から請求項8のいずれかに記載のパターン編集プログラムで作成された近似データに基づいてショットデータを作成するショットデータ作成装置のコンピュータを、
    前記90°近似データの各近似点と、前記全円周近似データのうち前記90°近似データの各近似点に対応した近似点とを接続することにより、矩形のショット形状を有するショットデータを作成するショットデータ作成手段として機能させること、
    を特徴とするショットデータ作成プログラム。
  12. 請求項1から請求項9のいずれかに記載のパターン編集プログラムを記憶する記憶部と、
    前記記憶部のパターン編集プログラムを実行する制御部と、
    を備えるパターン編集装置。
  13. 請求項10又は請求項11に記載のショットデータ作成プログラムを記憶する記憶部と、
    前記記憶部のショットデータ作成プログラムを実行する制御部と、
    を備えるショットデータ作成装置。
  14. 中心角が90°の整数倍の扇形の設計パターン、又は円の設計パターンを編集するパターン編集方法であって、
    設計パターンの半径である第1半径及び第2半径に挟まれ中心角が45°である基準扇形の円周に関する近似データである基準近似データを作成する基準近似データ作成工程と、
    基準扇形を第2半径を対称軸として線対称に複製することにより、中心角が90°の扇形の円周に関する近似データである90°近似データを作成する複製近似データ作成工程と、
    を備えるパターン編集方法。
JP2015151867A 2015-07-31 2015-07-31 パターン編集プログラム、パターン編集装置、パターン編集方法 Active JP6617463B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015151867A JP6617463B2 (ja) 2015-07-31 2015-07-31 パターン編集プログラム、パターン編集装置、パターン編集方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015151867A JP6617463B2 (ja) 2015-07-31 2015-07-31 パターン編集プログラム、パターン編集装置、パターン編集方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2017034061A true JP2017034061A (ja) 2017-02-09
JP6617463B2 JP6617463B2 (ja) 2019-12-11

Family

ID=57989364

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015151867A Active JP6617463B2 (ja) 2015-07-31 2015-07-31 パターン編集プログラム、パターン編集装置、パターン編集方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6617463B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2022032765A (ja) * 2020-08-14 2022-02-25 日本電子株式会社 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画装置の制御方法

Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5386122A (en) * 1977-01-07 1978-07-29 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Pattern signal generator
JPS578584A (en) * 1980-06-18 1982-01-16 Nippon Electric Co Video controller
JPS5790690A (en) * 1980-11-27 1982-06-05 Nippon Telegraph & Telephone Diagram generator
JPS60230270A (ja) * 1984-04-28 1985-11-15 Toshiba Corp 円弧描画装置
JPS6272078A (ja) * 1985-09-25 1987-04-02 Casio Comput Co Ltd 円内塗りつぶし描画装置
JPS62219083A (ja) * 1986-03-20 1987-09-26 Toshiba Corp 画像メモリ制御装置
JPS63200281A (ja) * 1987-02-16 1988-08-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd 円弧描画装置
JPS6417174A (en) * 1987-07-10 1989-01-20 Hitachi Ltd Circle/circular arc plotting and processing method
JPH03292576A (ja) * 1990-04-11 1991-12-24 Matsushita Electric Ind Co Ltd 円描画方法とその装置
JPH0414190A (ja) * 1990-05-08 1992-01-20 Ricoh Co Ltd 塗りつぶし回路
JPH10124691A (ja) * 1996-08-29 1998-05-15 Nec Ic Microcomput Syst Ltd 円描画方法
JP2000285247A (ja) * 1999-03-31 2000-10-13 Digital Electronics Corp 扇形図形の描画システムおよび描画方法
JP2014096604A (ja) * 2014-01-20 2014-05-22 Dainippon Printing Co Ltd 近接効果補正方法及びその方法を用いた電子線描画装置
JP2014165334A (ja) * 2013-02-25 2014-09-08 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 電子ビーム露光方法
JP2014207299A (ja) * 2013-04-11 2014-10-30 日本コントロールシステム株式会社 電子ビーム描画装置、描画用図形データ作成装置、電子ビーム描画方法、描画用図形データ作成方法、およびプログラム

Patent Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5386122A (en) * 1977-01-07 1978-07-29 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Pattern signal generator
JPS578584A (en) * 1980-06-18 1982-01-16 Nippon Electric Co Video controller
JPS5790690A (en) * 1980-11-27 1982-06-05 Nippon Telegraph & Telephone Diagram generator
JPS60230270A (ja) * 1984-04-28 1985-11-15 Toshiba Corp 円弧描画装置
JPS6272078A (ja) * 1985-09-25 1987-04-02 Casio Comput Co Ltd 円内塗りつぶし描画装置
JPS62219083A (ja) * 1986-03-20 1987-09-26 Toshiba Corp 画像メモリ制御装置
JPS63200281A (ja) * 1987-02-16 1988-08-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd 円弧描画装置
JPS6417174A (en) * 1987-07-10 1989-01-20 Hitachi Ltd Circle/circular arc plotting and processing method
JPH03292576A (ja) * 1990-04-11 1991-12-24 Matsushita Electric Ind Co Ltd 円描画方法とその装置
JPH0414190A (ja) * 1990-05-08 1992-01-20 Ricoh Co Ltd 塗りつぶし回路
JPH10124691A (ja) * 1996-08-29 1998-05-15 Nec Ic Microcomput Syst Ltd 円描画方法
JP2000285247A (ja) * 1999-03-31 2000-10-13 Digital Electronics Corp 扇形図形の描画システムおよび描画方法
JP2014165334A (ja) * 2013-02-25 2014-09-08 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 電子ビーム露光方法
JP2014207299A (ja) * 2013-04-11 2014-10-30 日本コントロールシステム株式会社 電子ビーム描画装置、描画用図形データ作成装置、電子ビーム描画方法、描画用図形データ作成方法、およびプログラム
JP2014096604A (ja) * 2014-01-20 2014-05-22 Dainippon Printing Co Ltd 近接効果補正方法及びその方法を用いた電子線描画装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2022032765A (ja) * 2020-08-14 2022-02-25 日本電子株式会社 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画装置の制御方法
JP7167100B2 (ja) 2020-08-14 2022-11-08 日本電子株式会社 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画装置の制御方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP6617463B2 (ja) 2019-12-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4660485B2 (ja) カバーセルを用いた、階層管理を有するマスク作成
CN102138106A (zh) 用于光学邻近校正的方法、使用字符投影光刻的光罩的设计和制造
KR102424907B1 (ko) Drc 데크 검증을 위한 테스트 레이아웃들의 자동 생성
CN108121150B (zh) 掩模建模方法
JP2011175111A (ja) マスクレイアウト作成方法、マスクレイアウト作成装置、リソグラフィ用マスクの製造方法、半導体装置の製造方法、およびコンピュータが実行可能なプログラム
Scheurer et al. Lost in parameter space?
CN115329696B (zh) 基于非贴体网格的守恒型固壁边界数值模拟方法及设备
JP2005165282A (ja) 効率的なポリゴン・ピンニング方法を使用するモデルに基づく光学的近接効果補正エンジンにおける性能の改善
CN105824187B (zh) 光学邻近修正方法
JP6617463B2 (ja) パターン編集プログラム、パターン編集装置、パターン編集方法
Choi et al. Curvilinear data format working group for MBMW era
Shen et al. Which cross fields can be quadrangulated? Global parameterization from prescribed holonomy signatures
US10001698B2 (en) Layout hierachical structure defined in polar coordinate
JP2002283816A (ja) タイヤ有限要素モデルの作成方法、タイヤ有限要素モデルの作成装置およびプログラム
JP6604087B2 (ja) パターン編集プログラム、ショットデータ作成プログラム、パターン編集装置、ショットデータ作成装置、パターン編集方法
JP2005129958A (ja) 1つまたは複数のカット・ライン上の複数の点の同時計算
JP2009110073A (ja) 設計支援装置、設計支援方法、および設計支援プログラム
Yasutake et al. Rotational equilibria by Lagrangian variational principle: towards multidimensional stellar evolutions
JP2007051912A (ja) 計測処理方法及び計測装置
JP6875234B2 (ja) ガイドレイアウト作成装置、作成方法、および作成プログラム
JP5725883B2 (ja) 部分計測を合成する形状計測方法
JP2695266B2 (ja) 画像の任意角回転方法および装置
Pang et al. Make the impossible possible: use variable-shaped beam mask writers and curvilinear full-chip inverse lithography technology for 193i contacts/vias with mask-wafer co-optimization
CN104573149A (zh) 一种平板显示版图设计规则检查的去除重复报错方法
JP2002062633A (ja) マスクパターン補正方法及び補正装置

Legal Events

Date Code Title Description
RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20160928

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180528

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20190320

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20190326

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190520

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20191015

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20191028

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6617463

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150