JP2017041118A - パターン編集プログラム、ショットデータ作成プログラム、パターン編集装置、ショットデータ作成装置、パターン編集方法 - Google Patents
パターン編集プログラム、ショットデータ作成プログラム、パターン編集装置、ショットデータ作成装置、パターン編集方法 Download PDFInfo
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Abstract
【課題】描画データを容易、短時間で作成できるパターン編集プログラム、ショットデータ作成プログラム、パターン編集装置、ショットデータ作成装置、パターン編集方法を提供する。【解決手段】パターン編集装置は、設計パターンの半長軸及び半短軸に挟まれこれらがなす角が９０°の基準楕円の円周に関する近似データである基準近似データを作成する基準近似データ作成手段と、基準近似データを複製することにより、設計パターンの全円周の近似データである全円周近似データを作成する複製近似データ作成手段とを備える。【選択図】図１
Description
本発明は、電子線で描画するパターンのパターン編集プログラム、ショットデータ作成プログラム、パターン編集装置、ショットデータ作成装置、パターン編集方法に関するものである。
従来、円形、楕円等の湾曲したパターン形状を電子線によって描画する場合、パターン形状を複数の矩形のショット形状に分割して行っていた（例えば特許文献１）。
しかし、従来の方法では、パターン形状を複数の矩形に分割する処理が膨大であり、多大な時間がかかっていた。
しかし、従来の方法では、パターン形状を複数の矩形に分割する処理が膨大であり、多大な時間がかかっていた。
本発明の課題は、描画データを容易、短時間で作成できるパターン編集プログラム、ショットデータ作成プログラム、パターン編集装置、ショットデータ作成装置、パターン編集方法を提供することである。
本発明は、以下のような解決手段により、課題を解決する。なお、理解を容易にするために、本発明の実施形態に対応する符号を付して説明するが、これに限定されるものではない。また、符号を付して説明した構成は、適宜改良してもよく、また、少なくとも一部を他の構成物に代替してもよい。
・第１の発明は、２／４楕円、３／４楕円、４／４楕円のいずれかの設計パターンを編集するパターン編集装置（１０）のコンピュータを、設計パターンの半長軸及び半短軸に挟まれこれらがなす角が９０°の基準楕円の円周に関する近似データである基準近似データを作成する基準近似データ作成手段（１６ｂ）と、前記基準近似データを複製することにより、設計パターンの全円周の近似データである全円周近似データを作成する複製近似データ作成手段（１６ｂ）として、機能させることを特徴とするパターン編集プログラムである。
・第２の発明は、第１の発明のパターン編集プログラムにおいて、前記基準近似データ作成手段（１６ｂ）を、前記基準近似データとして、前記基準楕円の円周を、長軸に平行な長軸平行線、及び短軸に平行な短軸平行線を交互に接続することにより近似した近似線を作成するように機能させること、を特徴とするパターン編集プログラムである。
・第３の発明は、第１の発明のパターン編集プログラムにおいて、前記基準近似データ作成手段（１６ｂ）を、前記基準近似データとして、前記基準楕円の円周上の点を、前記基準楕円の円周よりも外側の位置に近似した基準近似点を作成するように機能させること、を特徴とするパターン編集プログラムである。
・第４の発明は、第３の発明のパターン編集プログラムにおいて、前記基準近似データ作成手段（１６ｂ）を、前記基準近似点として、前記基準楕円の円周を、長軸に平行な長軸平行線、及び短軸に平行な短軸平行線を交互に接続することにより近似した近似線の頂点を作成するように機能させること、を特徴とするパターン編集プログラムである。
・第５の発明は、第２又は第４の発明のパターン編集プログラムにおいて、前記近似線は、半長軸の円周上の点から、前記基準楕円の接線の傾きの長軸方向の変化量の絶対値及び短軸方向の変化量の絶対値が等しくなる点である傾き中点までにおいて、半長軸の円周上の点を始点とし、短軸平行線から始まり、長軸平行線の長さが等しく、長軸平行線の中点が円周上に位置し、半短軸の円周上の点から傾き中点までにおいて、半短軸の円周上の点を始点とし、長軸平行線から始まり、短軸平行線の長さが等しく、短軸平行線の中点が円周上に位置し、半長軸の円周上の点から傾き中点までの長軸平行線の長さと、半短軸の円周上の点から傾き中点までの短軸平行線の長さとは、等長であること、を特徴とするパターン編集プログラムである。
・第６の発明は、第２から第５のいずれかの発明のパターン編集プログラムにおいて、パターン編集装置のコンピュータを、長軸平行線及び短軸平行線の等長である長さに関する入力を受け付ける平行線長さ入力手段として機能させること、を特徴とするパターン編集プログラムである。
・第７の発明は、第１から第６のいずれかの発明のパターン編集プログラムにおいて、パターン編集装置のコンピュータを、近似データのパターン内側の領域を、設計パターンの近似パターンとした近似パターン作成手段（１６ｂ）として機能させること、を特徴とするパターン編集プログラムである。
・第８の発明は、第７の発明のパターン編集プログラムで作成された近似パターンに基づいて、ショットデータを作成するショットデータ作成装置のコンピュータを、近似パターンを、ショット形状に対応した矩形に分割するショットデータ作成手段（２６ａ）として機能させること、を特徴とするショットデータ作成プログラムである。
・第９の発明は、第３から第６のいずれかの発明のパターン編集プログラムで作成された近似データに基づいてショットデータを作成するショットデータ作成装置のコンピュータを、前記全円周近似データのうち前記基準近似データの各近似点に対応した近似点とを接続することにより、矩形のショット形状を有するショットデータを作成するショットデータ作成手段（２６ａ）として機能させること、を特徴とするショットデータ作成プログラムである。
・第１０の発明は、第１から第９のいずれかの発明のパターン編集プログラムを記憶する記憶部（１５）と、前記記憶部のパターン編集プログラムを実行する制御部（１６）と、を備えるパターン編集装置である。
・第１１の発明は、第９又は第１０の発明のショットデータ作成プログラムを記憶する記憶部（２５）と、前記記憶部のショットデータ作成プログラムを実行する制御部（２６）と、を備えるショットデータ作成装置である。
・第１２の発明は、２／４楕円、３／４楕円、４／４楕円のいずれかの設計パターンの編集方法であって、設計パターンの半長軸及び半短軸に挟まれこれらがなす角が９０°の基準楕円の円周に関する近似データである基準近似データを作成する基準近似データ作成工程と、前記基準近似データを複製することにより、設計パターンの全円周の近似データである全円周近似データを作成する複製近似データ作成工程と、を備えるパターン編集方法である。
・第２の発明は、第１の発明のパターン編集プログラムにおいて、前記基準近似データ作成手段（１６ｂ）を、前記基準近似データとして、前記基準楕円の円周を、長軸に平行な長軸平行線、及び短軸に平行な短軸平行線を交互に接続することにより近似した近似線を作成するように機能させること、を特徴とするパターン編集プログラムである。
・第３の発明は、第１の発明のパターン編集プログラムにおいて、前記基準近似データ作成手段（１６ｂ）を、前記基準近似データとして、前記基準楕円の円周上の点を、前記基準楕円の円周よりも外側の位置に近似した基準近似点を作成するように機能させること、を特徴とするパターン編集プログラムである。
・第４の発明は、第３の発明のパターン編集プログラムにおいて、前記基準近似データ作成手段（１６ｂ）を、前記基準近似点として、前記基準楕円の円周を、長軸に平行な長軸平行線、及び短軸に平行な短軸平行線を交互に接続することにより近似した近似線の頂点を作成するように機能させること、を特徴とするパターン編集プログラムである。
・第５の発明は、第２又は第４の発明のパターン編集プログラムにおいて、前記近似線は、半長軸の円周上の点から、前記基準楕円の接線の傾きの長軸方向の変化量の絶対値及び短軸方向の変化量の絶対値が等しくなる点である傾き中点までにおいて、半長軸の円周上の点を始点とし、短軸平行線から始まり、長軸平行線の長さが等しく、長軸平行線の中点が円周上に位置し、半短軸の円周上の点から傾き中点までにおいて、半短軸の円周上の点を始点とし、長軸平行線から始まり、短軸平行線の長さが等しく、短軸平行線の中点が円周上に位置し、半長軸の円周上の点から傾き中点までの長軸平行線の長さと、半短軸の円周上の点から傾き中点までの短軸平行線の長さとは、等長であること、を特徴とするパターン編集プログラムである。
・第６の発明は、第２から第５のいずれかの発明のパターン編集プログラムにおいて、パターン編集装置のコンピュータを、長軸平行線及び短軸平行線の等長である長さに関する入力を受け付ける平行線長さ入力手段として機能させること、を特徴とするパターン編集プログラムである。
・第７の発明は、第１から第６のいずれかの発明のパターン編集プログラムにおいて、パターン編集装置のコンピュータを、近似データのパターン内側の領域を、設計パターンの近似パターンとした近似パターン作成手段（１６ｂ）として機能させること、を特徴とするパターン編集プログラムである。
・第８の発明は、第７の発明のパターン編集プログラムで作成された近似パターンに基づいて、ショットデータを作成するショットデータ作成装置のコンピュータを、近似パターンを、ショット形状に対応した矩形に分割するショットデータ作成手段（２６ａ）として機能させること、を特徴とするショットデータ作成プログラムである。
・第９の発明は、第３から第６のいずれかの発明のパターン編集プログラムで作成された近似データに基づいてショットデータを作成するショットデータ作成装置のコンピュータを、前記全円周近似データのうち前記基準近似データの各近似点に対応した近似点とを接続することにより、矩形のショット形状を有するショットデータを作成するショットデータ作成手段（２６ａ）として機能させること、を特徴とするショットデータ作成プログラムである。
・第１０の発明は、第１から第９のいずれかの発明のパターン編集プログラムを記憶する記憶部（１５）と、前記記憶部のパターン編集プログラムを実行する制御部（１６）と、を備えるパターン編集装置である。
・第１１の発明は、第９又は第１０の発明のショットデータ作成プログラムを記憶する記憶部（２５）と、前記記憶部のショットデータ作成プログラムを実行する制御部（２６）と、を備えるショットデータ作成装置である。
・第１２の発明は、２／４楕円、３／４楕円、４／４楕円のいずれかの設計パターンの編集方法であって、設計パターンの半長軸及び半短軸に挟まれこれらがなす角が９０°の基準楕円の円周に関する近似データである基準近似データを作成する基準近似データ作成工程と、前記基準近似データを複製することにより、設計パターンの全円周の近似データである全円周近似データを作成する複製近似データ作成工程と、を備えるパターン編集方法である。
本発明によれば、描画データを容易、短時間で作成できるパターン編集プログラム、ショットデータ作成プログラム、パターン編集装置、ショットデータ作成装置、パターン編集方法を提供できる。
（実施形態）
以下、図面等を参照して、本発明の実施形態について説明する。
（第１実施形態）
図１は、第１実施形態の描画システム１の構成を示す図である。
図２は、第１実施形態の設計パターン５０、９０°基準楕円パターンを示す図である。
描画システム１は、基板２上のレジスト膜に電子線を照射することにより、所望のパターン形状のパターン描画するものである。この基板２は、例えば、フォトマスク基板、シリコン基板、バイオチップ用の基板等である。
以下、図面等を参照して、本発明の実施形態について説明する。
（第１実施形態）
図１は、第１実施形態の描画システム１の構成を示す図である。
図２は、第１実施形態の設計パターン５０、９０°基準楕円パターンを示す図である。
描画システム１は、基板２上のレジスト膜に電子線を照射することにより、所望のパターン形状のパターン描画するものである。この基板２は、例えば、フォトマスク基板、シリコン基板、バイオチップ用の基板等である。
［システムの構成］
描画システム１は、パターン編集装置１０、ショットデータ作成装置２０、描画装置３０を備える。
パターン編集装置１０、ショットデータ作成装置２０、描画装置３０の間は、ＬＡＮ等の通信網を介して接続され、必要に応じて、互いに情報を送受信できる。
作業者は、各装置に記憶したデータを、他の装置に複製又は移動できる。この複製又は移動は、例えば、通信網、ＣＤ−ＲＯＭ等の記憶媒体等を利用できる。
描画システム１は、パターン編集装置１０、ショットデータ作成装置２０、描画装置３０を備える。
パターン編集装置１０、ショットデータ作成装置２０、描画装置３０の間は、ＬＡＮ等の通信網を介して接続され、必要に応じて、互いに情報を送受信できる。
作業者は、各装置に記憶したデータを、他の装置に複製又は移動できる。この複製又は移動は、例えば、通信網、ＣＤ−ＲＯＭ等の記憶媒体等を利用できる。
図２に示すように、パターン編集装置１０は、設計者が設計パターン５０を作成し、その後に、設計パターン５０を編集することにより設計パターン５０（図２（Ａ）参照）を近似した近似パターン（図２（Ｂ）参照）を作成する装置である。つまり、パターン編集装置１０は、設計パターン５０を設計する設計装置と、設計パターン５０を編集する編集装置とを兼用する。
設計パターン５０は、実際に基板２上に形成したい所望のパターン形状のデータである。本実施形態では、設計パターン５０は、楕円（つまり、半長軸Ｒ１及び半短軸Ｒ２に挟まれこれらがなす角が９０°の１／４楕円を４つ接続した４／４楕円）である。
近似パターンは、設計パターン５０の外形を、複数の直線で近似したパターン形状のデータである。
設計パターン５０は、実際に基板２上に形成したい所望のパターン形状のデータである。本実施形態では、設計パターン５０は、楕円（つまり、半長軸Ｒ１及び半短軸Ｒ２に挟まれこれらがなす角が９０°の１／４楕円を４つ接続した４／４楕円）である。
近似パターンは、設計パターン５０の外形を、複数の直線で近似したパターン形状のデータである。
ショットデータ作成装置２０は、パターン編集装置１０が作成した近似データに基づいて、複数のショット形状を有するショットデータ（図１０参照）を作成する装置である。ショットデータは、実際に描画装置３０で実際にパターンを描画する際に用いられる描画データである。
描画装置３０は、基板２上にパターンを描画する電子線描画装置である。
描画装置３０は、基板２上にパターンを描画する電子線描画装置である。
各装置１０，２０，３０は、操作部１１，２１，３１、表示部１２，２２，３２、記憶部１５，２５，３５、制御部１６，２６，３６を備える。
各操作部１１，２１，３１は、作業者（設計者等）が各装置１０，２０，３０を操作するためのマウス、キーボード、ボタン等の操作装置、入力装置である。
各表示部１２，２２，３２は、パターンの形状等を表示するモニタである。
各記憶部１５，２５，３５は、１０，２０，３０の動作に必要なプログラム、情報等を記憶するためのハードディスク、半導体メモリ素子等の記憶装置である。
各制御部１６，２６，３６は、例えば、ＣＰＵ等から構成される。各制御部１６，２６，３６は、それぞれ、各記憶部１５，２５，３５に記憶された各種プログラムを適宜読み出して実行することにより、各ハードウェアと協働し、実施形態に係る各種機能を実現している。
なお、実施形態でいうコンピュータとは、記憶装置、制御装置等を備えた情報処理装置をいう。各装置１０，２０，３０は、コンピュータの構成（記憶部１５，２５，３５、制御部１６，２６，３６等）を備える。
各操作部１１，２１，３１は、作業者（設計者等）が各装置１０，２０，３０を操作するためのマウス、キーボード、ボタン等の操作装置、入力装置である。
各表示部１２，２２，３２は、パターンの形状等を表示するモニタである。
各記憶部１５，２５，３５は、１０，２０，３０の動作に必要なプログラム、情報等を記憶するためのハードディスク、半導体メモリ素子等の記憶装置である。
各制御部１６，２６，３６は、例えば、ＣＰＵ等から構成される。各制御部１６，２６，３６は、それぞれ、各記憶部１５，２５，３５に記憶された各種プログラムを適宜読み出して実行することにより、各ハードウェアと協働し、実施形態に係る各種機能を実現している。
なお、実施形態でいうコンピュータとは、記憶装置、制御装置等を備えた情報処理装置をいう。各装置１０，２０，３０は、コンピュータの構成（記憶部１５，２５，３５、制御部１６，２６，３６等）を備える。
パターン編集装置１０は、記憶部１５、制御部１６を備える。
記憶部１５は、設計パターン作成プログラム１５ａ、近似データ作成プログラム１５ｂ（パターン編集プログラム）、設計パターン記憶部１５ｃ、近似データ記憶部１５ｄを備える。
設計パターン作成プログラム１５ａは、設計パターン５０を作成するプログラムである。
近似データ作成プログラム１５ｂは、設計パターン５０から近似データへ変換するプログラムである。
近似データ記憶部１５ｄは、近似データを記憶する。
記憶部１５は、設計パターン作成プログラム１５ａ、近似データ作成プログラム１５ｂ（パターン編集プログラム）、設計パターン記憶部１５ｃ、近似データ記憶部１５ｄを備える。
設計パターン作成プログラム１５ａは、設計パターン５０を作成するプログラムである。
近似データ作成プログラム１５ｂは、設計パターン５０から近似データへ変換するプログラムである。
近似データ記憶部１５ｄは、近似データを記憶する。
制御部１６は、設計パターン作成部１６ａ、近似データ作成部１６ｂ（基準近似データ作成手段、複製近似データ作成手段、平行線長さ入力手段、近似パターン作成手段）を備える。
設計パターン作成部１６ａは、設計パターン５０の作成処理を行う。
近似データ作成部１６ｂは、設計パターン５０から近似データを作成する処理を行う。
制御部１６の処理の詳細は、後述する。
設計パターン作成部１６ａは、設計パターン５０の作成処理を行う。
近似データ作成部１６ｂは、設計パターン５０から近似データを作成する処理を行う。
制御部１６の処理の詳細は、後述する。
ショットデータ作成装置２０は、記憶部２５、制御部２６を備える。
記憶部３５は、ショットデータ作成プログラム２５ａ、近似データ記憶部２５ｄ、ショットデータ記憶部２５ｅを備える。
ショットデータ作成プログラム２５ａは、近似データからショットデータへ変換するプログラムである。ショットデータは、複数のショット図形を含むデータである。
近似データ記憶部２５ｄは、パターン編集装置１０が作成した近似データを記憶する。
ショットデータ記憶部２５ｅは、ショットデータを記憶する。
記憶部３５は、ショットデータ作成プログラム２５ａ、近似データ記憶部２５ｄ、ショットデータ記憶部２５ｅを備える。
ショットデータ作成プログラム２５ａは、近似データからショットデータへ変換するプログラムである。ショットデータは、複数のショット図形を含むデータである。
近似データ記憶部２５ｄは、パターン編集装置１０が作成した近似データを記憶する。
ショットデータ記憶部２５ｅは、ショットデータを記憶する。
制御部２６は、ショットデータ作成部２６ａ（ショットデータ作成手段）を備える。
ショットデータ作成部２６ａは、近似データに基づいて、ショットデータを作成する処理を行う。
制御部２６の処理の詳細は、後述する。
ショットデータ作成部２６ａは、近似データに基づいて、ショットデータを作成する処理を行う。
制御部２６の処理の詳細は、後述する。
描画装置３０は、描画部３３、記憶部３５、制御部３６を備える。
描画部３３は、実際に、基板２上に電子線を照射することにより、パターンを描画する部分である。描画部３３は、ショットデータのショット図形に対応したアパーチャを用いて、パターンを描画する。
記憶部３５は、ショットデータ記憶部３５ｅを備える。
ショットデータ記憶部３５ｅは、ショットデータ作成装置２０が作成したショットデータを記憶する。
制御部３６は、ショットデータ記憶部３５ｅのショットデータに基づいて、描画部３３を制御することにより、パターンを描画する。
描画部３３は、実際に、基板２上に電子線を照射することにより、パターンを描画する部分である。描画部３３は、ショットデータのショット図形に対応したアパーチャを用いて、パターンを描画する。
記憶部３５は、ショットデータ記憶部３５ｅを備える。
ショットデータ記憶部３５ｅは、ショットデータ作成装置２０が作成したショットデータを記憶する。
制御部３６は、ショットデータ記憶部３５ｅのショットデータに基づいて、描画部３３を制御することにより、パターンを描画する。
［描画システム１の処理］
描画システム１の使用方法について説明しながら、システムの処理について説明する。
バイオチップ用の基板２に円形のパターンを描画する例を説明する。
図３は、第１実施形態の近似データ作成処理のフローチャートである。
図４は、第１実施形態の点Ｐ（ｉ），Ｐ’（ｉ）の座標算出処理のフローチャートである。
図５は、第１実施形態の傾き中点Ｐｃの算出処理を説明する図である。
図６は、第１実施形態の点Ｐ（ｉ），Ｐ’（ｉ）の算出処理を説明する図である。
図７、図８は、第１実施形態の調整点Ｐ（Ｅ）の算出処理を説明する図である。
図９は、第１実施形態のショットデータ作成処理のフローチャートである。
図１０は、第１実施形態のショットデータを説明する図である。
描画システム１の使用方法について説明しながら、システムの処理について説明する。
バイオチップ用の基板２に円形のパターンを描画する例を説明する。
図３は、第１実施形態の近似データ作成処理のフローチャートである。
図４は、第１実施形態の点Ｐ（ｉ），Ｐ’（ｉ）の座標算出処理のフローチャートである。
図５は、第１実施形態の傾き中点Ｐｃの算出処理を説明する図である。
図６は、第１実施形態の点Ｐ（ｉ），Ｐ’（ｉ）の算出処理を説明する図である。
図７、図８は、第１実施形態の調整点Ｐ（Ｅ）の算出処理を説明する図である。
図９は、第１実施形態のショットデータ作成処理のフローチャートである。
図１０は、第１実施形態のショットデータを説明する図である。
［近似データの作成処理］
図３に示すように、ステップＳ（以下、「Ｓ」という）１において、パターン編集装置１０の設計パターン作成部１６ａは、作業者から、設計パターン５０の楕円の半長軸の長さａ、半短軸の長さｂ、基板２上の位置等の入力操作を受け付ける。設計パターン作成部１６ａは、楕円の半長軸Ｒ１の長さａ、半短軸Ｒ２の長さｂの楕円の設計パターン５０を作成後、これを設計パターン記憶部１５ｃに記憶する。
なお、半長軸Ｒ１の長さａ、半短軸Ｒ２の長さｂは、これら自体を直接入力されたものではなくてもよい。半長軸Ｒ１の長さａ、半短軸Ｒ２の長さｂは、例えば、長軸の長さ、短軸の長さを受け付け、これらから算出されたものでもよい。
また、設計パターン５０は、予め作成されたものを用いてもよい。この場合には、設計パターン作成部１６ａは、例えば、ＣＤ−ＲＯＭ等に記憶した設計パターン５０のデータを、読み取り装置（図示せず）で読み取って設計パターン記憶部１５ｃに記憶したり、通信網を介して設計パターン５０を取得して設計パターン記憶部１５ｃに記憶したりすればよい。
図３に示すように、ステップＳ（以下、「Ｓ」という）１において、パターン編集装置１０の設計パターン作成部１６ａは、作業者から、設計パターン５０の楕円の半長軸の長さａ、半短軸の長さｂ、基板２上の位置等の入力操作を受け付ける。設計パターン作成部１６ａは、楕円の半長軸Ｒ１の長さａ、半短軸Ｒ２の長さｂの楕円の設計パターン５０を作成後、これを設計パターン記憶部１５ｃに記憶する。
なお、半長軸Ｒ１の長さａ、半短軸Ｒ２の長さｂは、これら自体を直接入力されたものではなくてもよい。半長軸Ｒ１の長さａ、半短軸Ｒ２の長さｂは、例えば、長軸の長さ、短軸の長さを受け付け、これらから算出されたものでもよい。
また、設計パターン５０は、予め作成されたものを用いてもよい。この場合には、設計パターン作成部１６ａは、例えば、ＣＤ−ＲＯＭ等に記憶した設計パターン５０のデータを、読み取り装置（図示せず）で読み取って設計パターン記憶部１５ｃに記憶したり、通信網を介して設計パターン５０を取得して設計パターン記憶部１５ｃに記憶したりすればよい。
以降の説明において、適宜、ＸＹ直交座標系を用いて説明する。この座標系の中心は、設計パターン５０の中心である。また、ＸＹ座標軸よって分割される右上の領域（Ｘ座標、Ｙ座標が正の値をとる点からなる領域）が第一象限であり、これから左回りの各領域が第２から第４象限である。
また、パターン編集装置１０の近似データ作成部１６ｂは、設計パターン記憶部１５ｃの設計パターン５０に基づいて、基準楕円を作成する。
図５、図６に示すように、基準楕円は、設計パターン５０のうち、半長軸Ｒ１及び半短軸Ｒ２に挟まれ、これらがなす角が９０°の部分である。
実施形態では、基準楕円の半長軸Ｒ１が正のＸ軸にあり、また、半短軸Ｒ２が正のＹ軸上にある例を説明する。
図５、図６に示すように、基準楕円は、設計パターン５０のうち、半長軸Ｒ１及び半短軸Ｒ２に挟まれ、これらがなす角が９０°の部分である。
実施形態では、基準楕円の半長軸Ｒ１が正のＸ軸にあり、また、半短軸Ｒ２が正のＹ軸上にある例を説明する。
Ｓ２において、パターン編集装置１０の近似データ作成部１６ｂは、作業者から、基準楕円の円周を近似線で近似する場合の段差長さＤの入力を受け付ける。
段差長さＤは、近似線の段の大きさである。後述するように、段差長さＤは、長軸平行線及び短軸平行線の長さに関連する。このため、Ｓ２は、長軸平行線及び短軸平行線の長さの入力を受け付ける処理でもある。
近似線は、基準楕円の円周に沿うような線である。近似線は、長軸平行線及び短軸平行線が交互に接続されている。長軸平行線は、半長軸Ｒ１に平行な線であり、つまり、Ｘ軸、長軸に平行な線である。短軸平行線は、半短軸Ｒ２に平行な線であり、つまり、Ｙ軸、短軸に平行な線である。
段差長さＤは、近似線の段の大きさである。後述するように、段差長さＤは、長軸平行線及び短軸平行線の長さに関連する。このため、Ｓ２は、長軸平行線及び短軸平行線の長さの入力を受け付ける処理でもある。
近似線は、基準楕円の円周に沿うような線である。近似線は、長軸平行線及び短軸平行線が交互に接続されている。長軸平行線は、半長軸Ｒ１に平行な線であり、つまり、Ｘ軸、長軸に平行な線である。短軸平行線は、半短軸Ｒ２に平行な線であり、つまり、Ｙ軸、短軸に平行な線である。
（傾き中点Ｐｃの算出処理）
Ｓ１０において、近似データ作成部１６ｂは、傾き中点Ｐｃの算出処理を行う。
傾き中点Ｐｃの算出処理は、傾き中点Ｐｃの座標（Ｘｃ，Ｙｃ）を算出する処理である。
傾き中点Ｐｃは、基準楕円の円周の接線の傾き「−１」になる点（つまり、基準楕円の接線の傾きの長軸方向の変化量の絶対値、及び短軸方向の変化量の絶対値が等しくなる点）である。
図５に示すように、傾き中点Ｐｃの座標（Ｘｃ，Ｙｃ）は、楕円の式、傾き中点Ｐｃでの接線の式を、Ｘｃ，Ｙｃについて解くことにより求めることができる。
Ｓ１０において、近似データ作成部１６ｂは、傾き中点Ｐｃの算出処理を行う。
傾き中点Ｐｃの算出処理は、傾き中点Ｐｃの座標（Ｘｃ，Ｙｃ）を算出する処理である。
傾き中点Ｐｃは、基準楕円の円周の接線の傾き「−１」になる点（つまり、基準楕円の接線の傾きの長軸方向の変化量の絶対値、及び短軸方向の変化量の絶対値が等しくなる点）である。
図５に示すように、傾き中点Ｐｃの座標（Ｘｃ，Ｙｃ）は、楕円の式、傾き中点Ｐｃでの接線の式を、Ｘｃ，Ｙｃについて解くことにより求めることができる。
（Ｐ（ｉ），Ｐ’（ｉ）の座標算出処理）
Ｓ２０において、近似データ作成部１６ｂは、Ｐ（ｉ），Ｐ’（ｉ）の座標算出処理を行う。
図６に示すように、この処理は、各線分の端部、つまり、基準楕円の円周の近似線の始点、各頂点の座標を算出する処理である。
Ｐ（ｉ）は、半長軸Ｒ１側の近似線Ｌの始点（Ｐ（０））から傾き中点Ｐｃまでの各頂点である。
Ｐ’（ｉ）は、半短軸Ｒ２側の近似線Ｌ’の始点（Ｐ’（０））から傾き中点Ｐｃまでの各頂点である。
Ｐ（Ｅ）は、半長軸Ｒ１側の近似線Ｌの終点、半短軸Ｒ２側の近似線Ｌ’の終点を一致させるための調整点である。
Ｓ２０において、近似データ作成部１６ｂは、Ｐ（ｉ），Ｐ’（ｉ）の座標算出処理を行う。
図６に示すように、この処理は、各線分の端部、つまり、基準楕円の円周の近似線の始点、各頂点の座標を算出する処理である。
Ｐ（ｉ）は、半長軸Ｒ１側の近似線Ｌの始点（Ｐ（０））から傾き中点Ｐｃまでの各頂点である。
Ｐ’（ｉ）は、半短軸Ｒ２側の近似線Ｌ’の始点（Ｐ’（０））から傾き中点Ｐｃまでの各頂点である。
Ｐ（Ｅ）は、半長軸Ｒ１側の近似線Ｌの終点、半短軸Ｒ２側の近似線Ｌ’の終点を一致させるための調整点である。
（近似線Ｌ，Ｌ’）
近似線Ｌ，Ｌ’について説明する。
図６に示すように、実施形態では、基準楕円の円周の近似線を、以下の条件を満たすように求める。
近似線Ｌは、始点Ｐ（０）（＝（ａ，０））から傾き中点Ｐｃまでにおいて、以下の条件を満たす。
（ａ）半長軸Ｒ１の円周上の点（ａ，０）を始点とし、短軸平行線から始まる。
（ｂ）長軸平行線の長さが等しい。
（ｃ）長軸平行線の中点が基準楕円の円周上に位置する。
近似線Ｌ，Ｌ’について説明する。
図６に示すように、実施形態では、基準楕円の円周の近似線を、以下の条件を満たすように求める。
近似線Ｌは、始点Ｐ（０）（＝（ａ，０））から傾き中点Ｐｃまでにおいて、以下の条件を満たす。
（ａ）半長軸Ｒ１の円周上の点（ａ，０）を始点とし、短軸平行線から始まる。
（ｂ）長軸平行線の長さが等しい。
（ｃ）長軸平行線の中点が基準楕円の円周上に位置する。
近似線Ｌ’は、始点’Ｐ（０）（＝（０，ｂ））から傾き中点Ｐｃまでにおいて、以下の条件を満たす。
（ａ）半短軸Ｒ２の円周上の点（０，ｂ）を始点とし、長軸平行線から始まる。
（ｂ）短軸平行線の長さが等しい。
（ｃ）短軸平行線の中点が円周上に位置する。
（ａ）半短軸Ｒ２の円周上の点（０，ｂ）を始点とし、長軸平行線から始まる。
（ｂ）短軸平行線の長さが等しい。
（ｃ）短軸平行線の中点が円周上に位置する。
さらに、近似線Ｌ、近似線Ｌ’において、近似線Ｌの長軸平行線の長さと、近似線Ｌ’の短軸平行線の長さとは、等長である。
これらの長さは、前述した段差長さＤである。つまり、近似線Ｌは、Ｘ軸方向において基準楕円の円周からＤ／２だけ突出したような形態であり、一方、近似線Ｌ’は、Ｙ軸方向において基準楕円の円周からＤ／２だけ突出したような形態である。
これらの長さは、前述した段差長さＤである。つまり、近似線Ｌは、Ｘ軸方向において基準楕円の円周からＤ／２だけ突出したような形態であり、一方、近似線Ｌ’は、Ｙ軸方向において基準楕円の円周からＤ／２だけ突出したような形態である。
図４に示すように、Ｓ２１において、近似データ作成部１６ｂは、「ｉ＝０」とすることにより、始点Ｐ（０），始点Ｐ’（０）を求める。
図６に示すように、始点Ｐ（０），始点Ｐ’（０）の座標は、以下の通りである。
Ｐ（０）＝（Ｘ（０），Ｙ（０））＝（ａ，０）
Ｐ’（０）＝（Ｘ’（０），Ｙ’（０））＝（０，ｂ）
図６に示すように、始点Ｐ（０），始点Ｐ’（０）の座標は、以下の通りである。
Ｐ（０）＝（Ｘ（０），Ｙ（０））＝（ａ，０）
Ｐ’（０）＝（Ｘ’（０），Ｙ’（０））＝（０，ｂ）
（近似線ＬについてのＰ（ｉ）の算出）
Ｓ３１〜Ｓ３５では、近似データ作成部１６ｂは、近似線ＬついてのＰ（ｉ）を算出する。
Ｓ３１において、近似データ作成部１６ｂは、ｉ＝１に設定する。
Ｓ３２において、近似データ作成部１６ｂは、ｉが奇数か否かを判定する。近似データ作成部１６ｂは、ｉが奇数である場合には（Ｓ３２：ＹＥＳ）、Ｓ３３ａに進み、一方、ｉが奇数ではない場合には（Ｓ３２：ＮＯ）、つまり、ｉが偶数の場合には、Ｓ３３ｂに進む。
Ｓ３１〜Ｓ３５では、近似データ作成部１６ｂは、近似線ＬついてのＰ（ｉ）を算出する。
Ｓ３１において、近似データ作成部１６ｂは、ｉ＝１に設定する。
Ｓ３２において、近似データ作成部１６ｂは、ｉが奇数か否かを判定する。近似データ作成部１６ｂは、ｉが奇数である場合には（Ｓ３２：ＹＥＳ）、Ｓ３３ａに進み、一方、ｉが奇数ではない場合には（Ｓ３２：ＮＯ）、つまり、ｉが偶数の場合には、Ｓ３３ｂに進む。
Ｓ３３ａにおいて、図６から明らかなように、近似データ作成部１６ｂは、「ｉ：奇数」の場合のＰ（ｉ）＝（Ｘ（ｉ），Ｙ（ｉ））の座標を、以下のように求める。
・Ｘ（ｉ）について
Ｘ（ｉ）＝Ｘ（ｉ−１）
・Ｙ（ｉ）について
Ｙ（ｉ）は、以下の楕円の式に基づいて、Ｙ（ｉ）について解くことにより、求めることができる。
・Ｘ（ｉ）について
Ｘ（ｉ）＝Ｘ（ｉ−１）
・Ｙ（ｉ）について
Ｙ（ｉ）は、以下の楕円の式に基づいて、Ｙ（ｉ）について解くことにより、求めることができる。
Ｓ３３ｂにおいて、近似データ作成部１６ｂは、「ｉ：偶数」の場合のＰ（ｉ）＝（Ｘ（ｉ），Ｙ（ｉ））の座標を、以下のように求める。
・Ｘ（ｉ）について
図６から明らかなように、以下の式が成り立つ。
Ｘ（ｉ）＝Ｘ（ｉ−１）−Ｄ
・Ｙ（ｉ）について
同様に、以下の式が成り立つ。
Ｙ（ｉ）＝Ｙ（ｉ−１）
・Ｘ（ｉ）について
図６から明らかなように、以下の式が成り立つ。
Ｘ（ｉ）＝Ｘ（ｉ−１）−Ｄ
・Ｙ（ｉ）について
同様に、以下の式が成り立つ。
Ｙ（ｉ）＝Ｙ（ｉ−１）
Ｓ３４において、近似データ作成部１６ｂは、「ｉ←ｉ＋１」とすることにより、ｉを１だけ加算する。
Ｓ３５において、近似データ作成部１６ｂは、「Ｘ（ｉ）＜Ｘｃ」であるか否かを判定する。近似データ作成部１６ｂは、「Ｘ（ｉ）＜Ｘｃ」であると判定した場合には（Ｓ３５：ＹＥＳ）、Ｓ４１に進み、一方、「Ｘ（ｉ）＜Ｘｃ」ではないと判定した場合には（Ｓ３５：ＮＯ）、Ｓ３２からの処理を繰り返す。
これにより、近似データ作成部１６ｂは、近似線Ｌの各頂点Ｐ（ｉ）の座標を、始点Ｐ（０）から左回りθに、求めることができる。また、近似データ作成部１６ｂは、Ｘ軸方向において、傾き中点Ｐｃよりも左側の領域「Ｘｃ＜Ｘ＜ａ」での頂点Ｐ（ｉ）の座標を求めることができる。つまり、近似データ作成部１６ｂは、Ｘ軸方向において、頂点Ｐ（ｉ）が傾き中点Ｐｃを越えないまで、頂点Ｐ（ｉ）の座標を求めることができる。
Ｓ３５において、近似データ作成部１６ｂは、「Ｘ（ｉ）＜Ｘｃ」であるか否かを判定する。近似データ作成部１６ｂは、「Ｘ（ｉ）＜Ｘｃ」であると判定した場合には（Ｓ３５：ＹＥＳ）、Ｓ４１に進み、一方、「Ｘ（ｉ）＜Ｘｃ」ではないと判定した場合には（Ｓ３５：ＮＯ）、Ｓ３２からの処理を繰り返す。
これにより、近似データ作成部１６ｂは、近似線Ｌの各頂点Ｐ（ｉ）の座標を、始点Ｐ（０）から左回りθに、求めることができる。また、近似データ作成部１６ｂは、Ｘ軸方向において、傾き中点Ｐｃよりも左側の領域「Ｘｃ＜Ｘ＜ａ」での頂点Ｐ（ｉ）の座標を求めることができる。つまり、近似データ作成部１６ｂは、Ｘ軸方向において、頂点Ｐ（ｉ）が傾き中点Ｐｃを越えないまで、頂点Ｐ（ｉ）の座標を求めることができる。
（近似線Ｌ’についてのＰ’（ｉ）の算出）
Ｓ４１において、近似データ作成部１６ｂは、ｉ＝１に設定する。
Ｓ４２において、近似データ作成部１６ｂは、ｉが奇数か否かを判定する。近似データ作成部１６ｂは、ｉが奇数である場合には（Ｓ４２：ＹＥＳ）、Ｓ４３ａに進み、一方、ｉが奇数ではない場合には（Ｓ４２：ＮＯ）、つまり、ｉが偶数の場合には、Ｓ４３ｂに進む。
Ｓ４３ａにおいて、図６から明らかなように、近似データ作成部１６ｂは、「ｉ：奇数」の場合のＰ’（ｉ）＝（Ｘ’（ｉ），Ｙ’（ｉ））の座標を、以下のように求める。
・Ｘ’（ｉ）について
Ｘ’（ｉ）は、以下の楕円の式に基づいて、Ｘ’（ｉ）について解くことにより、求めることができる。
Ｓ４１において、近似データ作成部１６ｂは、ｉ＝１に設定する。
Ｓ４２において、近似データ作成部１６ｂは、ｉが奇数か否かを判定する。近似データ作成部１６ｂは、ｉが奇数である場合には（Ｓ４２：ＹＥＳ）、Ｓ４３ａに進み、一方、ｉが奇数ではない場合には（Ｓ４２：ＮＯ）、つまり、ｉが偶数の場合には、Ｓ４３ｂに進む。
Ｓ４３ａにおいて、図６から明らかなように、近似データ作成部１６ｂは、「ｉ：奇数」の場合のＰ’（ｉ）＝（Ｘ’（ｉ），Ｙ’（ｉ））の座標を、以下のように求める。
・Ｘ’（ｉ）について
Ｘ’（ｉ）は、以下の楕円の式に基づいて、Ｘ’（ｉ）について解くことにより、求めることができる。
・Ｙ’（ｉ）について
図６から明らかなように、以下の式が成り立つ。
Ｙ’（ｉ）＝Ｙ’（ｉ−１）
図６から明らかなように、以下の式が成り立つ。
Ｙ’（ｉ）＝Ｙ’（ｉ−１）
Ｓ４４ｂにおいて、近似データ作成部１６ｂは、「ｉ：偶数」の場合のＰ’（ｉ）＝（Ｘ’（ｉ），Ｙ’（ｉ））の座標を、以下のように求める。
・Ｘ’（ｉ）について
図６から明らかなように、以下の式が成り立つ。
Ｘ’（ｉ）＝Ｘ’（ｉ−１）
・Ｙ’（ｉ）について
同様に、以下の式が成り立つ。
Ｙ’（ｉ）＝Ｙ’（ｉ−１）−Ｄ
・Ｘ’（ｉ）について
図６から明らかなように、以下の式が成り立つ。
Ｘ’（ｉ）＝Ｘ’（ｉ−１）
・Ｙ’（ｉ）について
同様に、以下の式が成り立つ。
Ｙ’（ｉ）＝Ｙ’（ｉ−１）−Ｄ
Ｓ４４において、近似データ作成部１６ｂは、「ｉ←ｉ＋１」とすることにより、ｉを１だけ加算する。
Ｓ４５において、近似データ作成部１６ｂは、「Ｙ’（ｉ）＜Ｙｃ」であるか否かを判定する。近似データ作成部１６ｂは、「Ｙ’（ｉ）＜Ｙｃ」であると判定した場合には（Ｓ４５：ＹＥＳ）、Ｓ４６に進み、一方、「Ｙ’（ｉ）＜Ｙｃ」ではないと判定した場合には（Ｓ４５：ＮＯ）、Ｓ４２からの処理を繰り返す。
これにより、近似データ作成部１６ｂは、近似線Ｌの各頂点Ｐ’（ｉ）の座標を、始点Ｐ’（０）から右回りθ’に、求めることができる。また、近似データ作成部１６ｂは、Ｙ軸方向において、傾き中点Ｐｃよりも上側の領域「Ｙｃ＜Ｙ＜ｂ」での頂点Ｐ’（ｉ）の座標を求めることができる。つまり、近似データ作成部１６ｂは、Ｙ軸方向において、頂点Ｐ’（ｉ）が傾き中点Ｐｃを越えないまで、頂点Ｐ’（ｉ）の座標を求めることができる。
Ｓ４５において、近似データ作成部１６ｂは、「Ｙ’（ｉ）＜Ｙｃ」であるか否かを判定する。近似データ作成部１６ｂは、「Ｙ’（ｉ）＜Ｙｃ」であると判定した場合には（Ｓ４５：ＹＥＳ）、Ｓ４６に進み、一方、「Ｙ’（ｉ）＜Ｙｃ」ではないと判定した場合には（Ｓ４５：ＮＯ）、Ｓ４２からの処理を繰り返す。
これにより、近似データ作成部１６ｂは、近似線Ｌの各頂点Ｐ’（ｉ）の座標を、始点Ｐ’（０）から右回りθ’に、求めることができる。また、近似データ作成部１６ｂは、Ｙ軸方向において、傾き中点Ｐｃよりも上側の領域「Ｙｃ＜Ｙ＜ｂ」での頂点Ｐ’（ｉ）の座標を求めることができる。つまり、近似データ作成部１６ｂは、Ｙ軸方向において、頂点Ｐ’（ｉ）が傾き中点Ｐｃを越えないまで、頂点Ｐ’（ｉ）の座標を求めることができる。
（調整点Ｐ（Ｅ）の算出処理）
Ｓ４６において、近似データ作成部１６ｂは、調整点Ｐ（Ｅ）の算出処理を行う。
この処理は、近似線Ｌ，Ｌ’の終点を一致するように調整する処理である。
すなわち、前述した処理まででは、近似線Ｌ，Ｌ’の終点は、不一致である。この処理は、近似線Ｌ，Ｌ’の終点を一致させることにより、近似線Ｌ，Ｌ’を適切に接続できるようにする。
図７（Ａ）、図８（Ａ）に示すように、近似線Ｌ，Ｌ’の終点は、２つの形態のいずれかになる。なお、Ｐ（Ｅ）近辺では、接線の傾きが４５°である。このため、近似線Ｌの終点、近似線Ｌ’の終点の段差は、同じ（又はほぼ同じ）である。つまり、こられ終点から円周までの距離は、いずれも距離ｄである。
Ｓ４６において、近似データ作成部１６ｂは、調整点Ｐ（Ｅ）の算出処理を行う。
この処理は、近似線Ｌ，Ｌ’の終点を一致するように調整する処理である。
すなわち、前述した処理まででは、近似線Ｌ，Ｌ’の終点は、不一致である。この処理は、近似線Ｌ，Ｌ’の終点を一致させることにより、近似線Ｌ，Ｌ’を適切に接続できるようにする。
図７（Ａ）、図８（Ａ）に示すように、近似線Ｌ，Ｌ’の終点は、２つの形態のいずれかになる。なお、Ｐ（Ｅ）近辺では、接線の傾きが４５°である。このため、近似線Ｌの終点、近似線Ｌ’の終点の段差は、同じ（又はほぼ同じ）である。つまり、こられ終点から円周までの距離は、いずれも距離ｄである。
図７（Ａ）に示すように、一形態は、近似線Ｌ，Ｌ’が離れており、かつ、近似線Ｌの終点（ｘ１，ｙ１）と近似線Ｌ’の終点（ｘ２，ｙ２）とがＸ軸方向、Ｙ軸方向にそれぞれ距離ｅだけ離れた形態である。
図７（Ａ）、図７（Ｂ）に示すように、実施形態では、近似線Ｌ，Ｌ’の長軸平行線、短軸平行線を同じ移動量ｍだけ移動することにより、近似線Ｌ’の最後の長軸平行線の中点を円周上に一致させる（ｄ１＝ｄ２）。
図７（Ａ）、図７（Ｂ）に示すように、実施形態では、近似線Ｌ，Ｌ’の長軸平行線、短軸平行線を同じ移動量ｍだけ移動することにより、近似線Ｌ’の最後の長軸平行線の中点を円周上に一致させる（ｄ１＝ｄ２）。
調整点Ｐ（Ｅ）の座標（ｘ３，ｙ３）は、以下のように求めることができる。
三角形Ｔ１，Ｔ１は、直角二等辺三角形である。これにより、以下が成り立つ。
ｄ１＝ｄ＋ｍ、ｄ２＝ｄ−ｍ＋ｅ−ｍ
また、ｄ１＝ｄ２であるので、以下が成り立つ。
ｄ＋ｍ＝ｄ−ｍ＋ｅ−ｍ
ｍ＝ｅ／３
三角形Ｔ１，Ｔ１は、直角二等辺三角形である。これにより、以下が成り立つ。
ｄ１＝ｄ＋ｍ、ｄ２＝ｄ−ｍ＋ｅ−ｍ
また、ｄ１＝ｄ２であるので、以下が成り立つ。
ｄ＋ｍ＝ｄ−ｍ＋ｅ−ｍ
ｍ＝ｅ／３
これにより、Ｐ（Ｅ）＝（ｘ３，ｙ３）は、以下のように求めることができる。
ｘ３＝ｘ１−（ｘ１−ｘ２）／３＝ｘ１＋（ｘ２−ｘ１）／３
ｙ３＝ｙ２−（ｙ２−ｙ１）／３＝ｙ２＋（ｙ１−ｙ２）／３
ｘ３＝ｘ１−（ｘ１−ｘ２）／３＝ｘ１＋（ｘ２−ｘ１）／３
ｙ３＝ｙ２−（ｙ２−ｙ１）／３＝ｙ２＋（ｙ１−ｙ２）／３
図８（Ａ）に示すように、他の形態は、近似線Ｌ，Ｌ’が交差しており、かつ、近似線Ｌの終点（ｘ１，ｙ１）と近似線Ｌ’の終点（ｘ２，ｙ２）とがＸ軸方向、Ｙ軸方向にそれぞれ距離ｅだけ離れた形態である。
この場合にも、近似線Ｌ’の最後の長軸平行線の中点を円周上に一致させる（ｄ１＝ｄ２）。
なお、便宜上、図７、図８において、同じ符号、記号を用いて説明する。
調整点Ｐ（Ｅ）の座標（ｘ３，ｙ３）は、以下のように求めることができる。
三角形Ｔ１，Ｔ１は、直角二等辺三角形である。これにより、以下が成り立つ。
ｄ１＝ｄ−ｍ、ｄ２＝ｄ−ｅ＋２ｍ
また、ｄ１＝ｄ２であるので、以下が成り立つ。
ｄ−ｍ＝ｄ−ｅ＋２ｍ
ｍ＝ｅ／３
この場合にも、近似線Ｌ’の最後の長軸平行線の中点を円周上に一致させる（ｄ１＝ｄ２）。
なお、便宜上、図７、図８において、同じ符号、記号を用いて説明する。
調整点Ｐ（Ｅ）の座標（ｘ３，ｙ３）は、以下のように求めることができる。
三角形Ｔ１，Ｔ１は、直角二等辺三角形である。これにより、以下が成り立つ。
ｄ１＝ｄ−ｍ、ｄ２＝ｄ−ｅ＋２ｍ
また、ｄ１＝ｄ２であるので、以下が成り立つ。
ｄ−ｍ＝ｄ−ｅ＋２ｍ
ｍ＝ｅ／３
これにより、Ｐ（Ｅ）＝（ｘ３，ｙ３）は、以下のように求めることができる。
ｘ３＝ｘ１＋（ｘ２−ｘ１）／３＝ｘ１−（ｘ１−ｘ２）／３
ｙ３＝ｙ２＋（ｙ１−ｙ２）／３＝ｙ１−（ｙ２−ｙ１）／３
このように、図７（Ａ）の形態、図８（Ａ）の形態は、いずれの形態であっても、同じ式を用いて、Ｐ（Ｅ）を求めることができる。
ｘ３＝ｘ１＋（ｘ２−ｘ１）／３＝ｘ１−（ｘ１−ｘ２）／３
ｙ３＝ｙ２＋（ｙ１−ｙ２）／３＝ｙ１−（ｙ２−ｙ１）／３
このように、図７（Ａ）の形態、図８（Ａ）の形態は、いずれの形態であっても、同じ式を用いて、Ｐ（Ｅ）を求めることができる。
Ｓ４７において、近似データ作成部１６ｂは、本フロー（図３のＳ５０）に戻る。
Ｓ５０において、図６に示すように、近似データ作成部１６ｂは、基準楕円パターンを作成する。
すなわち、近似データ作成部１６ｂは、上記処理で求めたＰ（０）からＰ（Ｅ）間の各点を線分で接続することにより、近似線Ｌを作成する。また、近似データ作成部１６ｂは、上記処理で求めたＰ’（０）からＰ（Ｅ）間の各点を線分で接続することにより、近似線Ｌ’を作成する。これにより、近似データ作成部１６ｂは、近似線Ｌ，Ｌ’をＰ（Ｅ）で接続した近似線（基準近似データ）を作成する。
その後、近似データ作成部１６ｂは、近似線と、半長軸Ｒ１、半短軸Ｒ２とに囲まれた領域（太線で囲まれた領域）を、電子線が照射される領域であるという情報を付与する。基準楕円パターンは、この領域に関する情報と、この領域に電子線が照射されるといる情報とを備える。
なお、基準楕円パターンの外形の一部は、近似線によって形成される。このため、基準楕円パターンは、近似線に関する情報、つまり、基準楕円の円周に関する情報を含む。
以上の工程によって、近似データ作成部１６ｂは、基準楕円の円周に関する近似データである基準近似データを作成できる（基準近似データ作成工程）。
Ｓ５０において、図６に示すように、近似データ作成部１６ｂは、基準楕円パターンを作成する。
すなわち、近似データ作成部１６ｂは、上記処理で求めたＰ（０）からＰ（Ｅ）間の各点を線分で接続することにより、近似線Ｌを作成する。また、近似データ作成部１６ｂは、上記処理で求めたＰ’（０）からＰ（Ｅ）間の各点を線分で接続することにより、近似線Ｌ’を作成する。これにより、近似データ作成部１６ｂは、近似線Ｌ，Ｌ’をＰ（Ｅ）で接続した近似線（基準近似データ）を作成する。
その後、近似データ作成部１６ｂは、近似線と、半長軸Ｒ１、半短軸Ｒ２とに囲まれた領域（太線で囲まれた領域）を、電子線が照射される領域であるという情報を付与する。基準楕円パターンは、この領域に関する情報と、この領域に電子線が照射されるといる情報とを備える。
なお、基準楕円パターンの外形の一部は、近似線によって形成される。このため、基準楕円パターンは、近似線に関する情報、つまり、基準楕円の円周に関する情報を含む。
以上の工程によって、近似データ作成部１６ｂは、基準楕円の円周に関する近似データである基準近似データを作成できる（基準近似データ作成工程）。
その後、近似データ作成部１６ｂは、基準楕円パターンを、Ｙ軸を対称軸として線対称で複製したパターンを作成する（図２（Ｂ）の矢印♯２参照）。
さらに、近似データ作成部１６ｂは、基準楕円パターン及びこの複製したパターンを、Ｘ軸を対称軸として線対称で複製したパターンを作成する（図２（Ｂ）の矢印♯３参照）。
これにより、基準楕円パターンを、第１から第４象限の全てに配置した全円周近似データを作成できる（複製近似データ作成工程）。
この全円周近似データも、基準楕円パターンと同様に、近似線に関する情報、つまり、基準楕円の円周に関する情報を含む。
なお、この複製方法は、一例である。複製方法は、最終的に図２（Ｂ）の形態を作成できればよく、例えば、回転、点対称等を用いた方法でもよい。
近似データ作成部１６ｂは、作成した全円周近似データを、近似データ記憶部１５ｄに記憶する。
さらに、近似データ作成部１６ｂは、基準楕円パターン及びこの複製したパターンを、Ｘ軸を対称軸として線対称で複製したパターンを作成する（図２（Ｂ）の矢印♯３参照）。
これにより、基準楕円パターンを、第１から第４象限の全てに配置した全円周近似データを作成できる（複製近似データ作成工程）。
この全円周近似データも、基準楕円パターンと同様に、近似線に関する情報、つまり、基準楕円の円周に関する情報を含む。
なお、この複製方法は、一例である。複製方法は、最終的に図２（Ｂ）の形態を作成できればよく、例えば、回転、点対称等を用いた方法でもよい。
近似データ作成部１６ｂは、作成した全円周近似データを、近似データ記憶部１５ｄに記憶する。
以上により近似データの作成処理が終了する。
このように、パターン編集装置１０は、設計パターン５０のうち基準楕円について近似処理を行い、その処理結果を複製することにより、全円周近似データを作成することができる。これにより、パターン編集装置１０は、容易かつ短時間で、全円周近似データの作成できる。
このように、パターン編集装置１０は、設計パターン５０のうち基準楕円について近似処理を行い、その処理結果を複製することにより、全円周近似データを作成することができる。これにより、パターン編集装置１０は、容易かつ短時間で、全円周近似データの作成できる。
また、パターン編集装置１０は、全円周近似データのパターンを、シンメトリーに作成できる。
すなわち、全円周近似データは、Ｘ軸を対称軸として線対称であり、また、Ｙ軸を対称軸として線対称である（つまり、原点を対称点として点対称）。これにより、設計パターン５０の再現性を向上できる。
すなわち、全円周近似データは、Ｘ軸を対称軸として線対称であり、また、Ｙ軸を対称軸として線対称である（つまり、原点を対称点として点対称）。これにより、設計パターン５０の再現性を向上できる。
［ショットデータ作成処理］
ショットデータ作成処理は、ショットデータ作成装置２０が、全円周近似データに基づいてショットデータを作成する処理である。
作業者は、パターン編集装置１０の近似データ作成部１６ｂに記憶した全円周近似データを、ショットデータ作成装置２０の近似データ記憶部２５ｄに、複製又は移動する（図１の矢印♯１１参照）。
図９に示すように、Ｓ６０において、ショットデータ作成装置２０のショットデータ作成部２６ａは、作業者の操作を受け付け、作成する描画パターンが細分割（図１０（Ａ）参照）であるか、粗分割（図１０（Ｂ）参照）であるか否かを判定する。
ショットデータ作成処理は、ショットデータ作成装置２０が、全円周近似データに基づいてショットデータを作成する処理である。
作業者は、パターン編集装置１０の近似データ作成部１６ｂに記憶した全円周近似データを、ショットデータ作成装置２０の近似データ記憶部２５ｄに、複製又は移動する（図１の矢印♯１１参照）。
図９に示すように、Ｓ６０において、ショットデータ作成装置２０のショットデータ作成部２６ａは、作業者の操作を受け付け、作成する描画パターンが細分割（図１０（Ａ）参照）であるか、粗分割（図１０（Ｂ）参照）であるか否かを判定する。
図１０（Ａ）に示すように、細分割は、全円周近似データのパターンを、粗分割よりも多くの矩形のショット図形を有する分割したものである。
図１０（Ｂ）に示すように、粗分割は、近似パターンを、Ｘ軸方向に延在する矩形のショット図形のみによって分割したものである。このため、粗分割では、細分割よりも矩形のショット図形の数が少ない。
このように、細分割は、粗分割よりも細かいショット図形に分割する。このため、パターン描画時において、細分割は、粗分割よりも、形状再現性を向上できる。一方で、粗分割は、細分割よりもショット図形の数が少ないので、細分割よりも、ショット分割の処理時間、描画時間を短縮できる。
図１０（Ｂ）に示すように、粗分割は、近似パターンを、Ｘ軸方向に延在する矩形のショット図形のみによって分割したものである。このため、粗分割では、細分割よりも矩形のショット図形の数が少ない。
このように、細分割は、粗分割よりも細かいショット図形に分割する。このため、パターン描画時において、細分割は、粗分割よりも、形状再現性を向上できる。一方で、粗分割は、細分割よりもショット図形の数が少ないので、細分割よりも、ショット分割の処理時間、描画時間を短縮できる。
作業者は、基板２の使用目的、描画条件、描画するパターン形状の許容誤差を考慮して、細分割及び粗分割から選択すればよい。
ショットデータ作成部２６ａは、作成する描画パターンが細分割であると判定した場合には（Ｓ６０：ＹＥＳ）、Ｓ６１ａに進み、一方、細分割ではないと判定した場合、つまり粗分割であると判定した場合には（Ｓ６０：ＮＯ）、Ｓ６１ｂに進む。
ショットデータ作成部２６ａは、作成する描画パターンが細分割であると判定した場合には（Ｓ６０：ＹＥＳ）、Ｓ６１ａに進み、一方、細分割ではないと判定した場合、つまり粗分割であると判定した場合には（Ｓ６０：ＮＯ）、Ｓ６１ｂに進む。
Ｓ６１ａにおいて、ショットデータ作成部２６ａは、近似データ記憶部２５ｄの全円周近似データを読み出して、このパターンを細分割したショットデータを作成する。ショットデータ作成部２６ａは、ショットデータをショットデータ記憶部２５ｅに記憶する。
Ｓ６１ｂにおいて、ショットデータ作成部２６ａは、近似データ記憶部２５ｄの全円周近似データを読み出して、このパターンを粗分割したショットデータを作成する。ショットデータ作成部２６ａは、ショットデータをショットデータ記憶部２５ｅに記憶する。
Ｓ６２において、ショットデータ作成部２６ａは、処理を終了する。
なお、近似パターンは、シンメトリーであるので、細分割、粗分割のいずれの場合にも、ショットデータのパターンは、シンメトリーである。
また、実施形態の全円周近似データのパターンを分割する処理は、従来のような円周近傍の形状を細かいショット図形で分割する処理よりも、ショット数を少なくすることができる。これにより、実施形態の全円周近似データのパターンを分割する処理は、容易かつ短時間で行うことができる。
Ｓ６１ｂにおいて、ショットデータ作成部２６ａは、近似データ記憶部２５ｄの全円周近似データを読み出して、このパターンを粗分割したショットデータを作成する。ショットデータ作成部２６ａは、ショットデータをショットデータ記憶部２５ｅに記憶する。
Ｓ６２において、ショットデータ作成部２６ａは、処理を終了する。
なお、近似パターンは、シンメトリーであるので、細分割、粗分割のいずれの場合にも、ショットデータのパターンは、シンメトリーである。
また、実施形態の全円周近似データのパターンを分割する処理は、従来のような円周近傍の形状を細かいショット図形で分割する処理よりも、ショット数を少なくすることができる。これにより、実施形態の全円周近似データのパターンを分割する処理は、容易かつ短時間で行うことができる。
［描画工程］
作業者は、ショットデータ作成装置２０のショットデータ記憶部２５ｅに記憶したショットデータを、描画装置３０のショットデータ記憶部３５ｅに、複製又は移動する（図１の矢印♯１２参照）。
描画装置３０の制御部３６は、作業者の操作に基づいて、ショットデータ記憶部３５ｅからショットデータを読み出し、これに基づいて基板２上に電子線描画する（図１の矢印♯１３参照）。
この場合、ショットデータのショット数は、従来よりも少ないため、従来よりも描画時間を短縮できる。さらに、ショットデータのパターンは、シンメトリーである。このため、ショット数が少ない場合でも、パターン描画時における形状再現性を向上できる。
作業者は、ショットデータ作成装置２０のショットデータ記憶部２５ｅに記憶したショットデータを、描画装置３０のショットデータ記憶部３５ｅに、複製又は移動する（図１の矢印♯１２参照）。
描画装置３０の制御部３６は、作業者の操作に基づいて、ショットデータ記憶部３５ｅからショットデータを読み出し、これに基づいて基板２上に電子線描画する（図１の矢印♯１３参照）。
この場合、ショットデータのショット数は、従来よりも少ないため、従来よりも描画時間を短縮できる。さらに、ショットデータのパターンは、シンメトリーである。このため、ショット数が少ない場合でも、パターン描画時における形状再現性を向上できる。
（比較例）
図１１は、比較例の基準楕円パターンを示す図である。
なお、図１１は、近似線の段差を誇張して示した。
図１１（Ａ）は、近似線を、点（ａ，０）を始点として、左回りのみの処理によって作成した。
この例では、近似線を順次作成していくと、終点（０，ｂ）と近似線の頂点とは、完全に一致しないので、終点（０，ｂ）の近傍（矢印Ａ付近）で、近似線の形状を調整する必要がある。短軸の端部は、描画時において、パターン形状に大きくする。
このため、終点（０，ｂ）の近傍の調整は、近似線の形状の調整としては、適切ではない。
図１１は、比較例の基準楕円パターンを示す図である。
なお、図１１は、近似線の段差を誇張して示した。
図１１（Ａ）は、近似線を、点（ａ，０）を始点として、左回りのみの処理によって作成した。
この例では、近似線を順次作成していくと、終点（０，ｂ）と近似線の頂点とは、完全に一致しないので、終点（０，ｂ）の近傍（矢印Ａ付近）で、近似線の形状を調整する必要がある。短軸の端部は、描画時において、パターン形状に大きくする。
このため、終点（０，ｂ）の近傍の調整は、近似線の形状の調整としては、適切ではない。
一方、図１１（Ｂ）は、近似線を、点（０，ｂ）を始点として、右回りのみの処理によって作成した。
この例では、近似線を順次作成していくと、終点（ａ，０）と近似線の頂点とは、完全に一致しないので、終点（ａ，０）の近傍（矢印Ｂ付近）で、近似線の形状を調整する必要がある。長軸の端部は、描画時において、パターン形状に大きくする。
このため、終点（ａ，０）の近傍の調整も、近似線の形状の調整としては、適切ではない。
この例では、近似線を順次作成していくと、終点（ａ，０）と近似線の頂点とは、完全に一致しないので、終点（ａ，０）の近傍（矢印Ｂ付近）で、近似線の形状を調整する必要がある。長軸の端部は、描画時において、パターン形状に大きくする。
このため、終点（ａ，０）の近傍の調整も、近似線の形状の調整としては、適切ではない。
これに対して、実施形態では、近似線の形状を調整、基準楕円の円周の傾きが「−１」となる傾き中点Ｐｃ付近で行う。このため、左回りの近似線Ｌ、右回りの近似線Ｌ’の調整量の差が少ない。これにより、実施形態では、設計パターン５０の形状再現性を向上できる。
以上説明したように、本実施形態の描画システム１は、設計パターン５０から全円周近似データの容易かつ短時間で作成できる。また、全円周近似データのパターンを分割する処理を、容易かつ短時間で行うことができる。さらに、描画時には、従来よりも描画時間を短縮でき、また、設計パターン５０の形状再現性を向上できる。
（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態について説明する。
なお、以下の説明及び図面において、前述した第１実施形態と同様の機能を果たす部分には、同一の符号又は末尾（下２桁）に同一の符号を適宜付して、重複する説明を適宜省略する。
図１２は、第２実施形態のショットデータを説明する図である。
本実施形態の描画システムは、第１実施形態と同様な構成であり、処理のみが第１実施形態とは異なる。但し、本実施形態の描画システムの処理は、点Ｐ（ｉ）の座標算出処理（図３のＳ２０）までは、第１実施形態と同様である。
次に、本発明の第２実施形態について説明する。
なお、以下の説明及び図面において、前述した第１実施形態と同様の機能を果たす部分には、同一の符号又は末尾（下２桁）に同一の符号を適宜付して、重複する説明を適宜省略する。
図１２は、第２実施形態のショットデータを説明する図である。
本実施形態の描画システムは、第１実施形態と同様な構成であり、処理のみが第１実施形態とは異なる。但し、本実施形態の描画システムの処理は、点Ｐ（ｉ）の座標算出処理（図３のＳ２０）までは、第１実施形態と同様である。
図１２に示すように、パターン編集装置の近似データ作成部（図１の近似データ作成部１６ｂ参照）は、近似線の各点のうち、設計パターンの円周の外側の点を求める。
図１２は、点Ｐ（１），Ｐ（３），Ｐ（Ｅ），Ｐ’（１），Ｐ’（３）を求めた例である。
すなわち、本実施形態では、基準楕円の円周の基準近似データとして、基準楕円の円周上の点を近似した点（基準近似点）である点Ｐ（１），Ｐ（３），Ｐ（Ｅ），Ｐ’（１），Ｐ’（３）の座標データを用いる。
その後、パターン編集装置の近似データ作成部は、点Ｐ（１），Ｐ（３），Ｐ（Ｅ），Ｐ’（１），Ｐ’（３）を、第１実施形態と同様に複製する。
これにより、近似データ作成部は、点Ｐ（１），Ｐ（３），Ｐ（Ｅ），Ｐ’（１），Ｐ’（３）を、第１から第４象限の全てに複製した近似データを作成する。
図１２には、第２から第４象限に応じた各点に、枝番を付して図示した。
図１２は、点Ｐ（１），Ｐ（３），Ｐ（Ｅ），Ｐ’（１），Ｐ’（３）を求めた例である。
すなわち、本実施形態では、基準楕円の円周の基準近似データとして、基準楕円の円周上の点を近似した点（基準近似点）である点Ｐ（１），Ｐ（３），Ｐ（Ｅ），Ｐ’（１），Ｐ’（３）の座標データを用いる。
その後、パターン編集装置の近似データ作成部は、点Ｐ（１），Ｐ（３），Ｐ（Ｅ），Ｐ’（１），Ｐ’（３）を、第１実施形態と同様に複製する。
これにより、近似データ作成部は、点Ｐ（１），Ｐ（３），Ｐ（Ｅ），Ｐ’（１），Ｐ’（３）を、第１から第４象限の全てに複製した近似データを作成する。
図１２には、第２から第４象限に応じた各点に、枝番を付して図示した。
このように、近似データの作成処理は、各点の座標を複製すればよいので、容易かつ短時間で行うことができる。
作業者は、ショットデータ作成装置を利用して、近似データからショットデータを作成する。
ショットデータ作成装置のショットデータ作成部（図１のショットデータ作成部２６ａ参照）は、各点に対応した複製点を接続することにより、それぞれ矩形のショット形状を作成する。
ショットデータ作成部は、例えば、Ｐ（１）と、これに対応した複製点Ｐ（１）−２、Ｐ（１）−３、Ｐ（１）−４を接続することにより、１つの矩形のショット形状を作成する。
これにより、ショットデータ作成部は、点Ｐ（１），Ｐ（３），Ｐ（Ｅ），Ｐ’（１），Ｐ’（３）に対応した５つのショット図形を有するショットデータを作成する。
ショットデータ作成装置のショットデータ作成部（図１のショットデータ作成部２６ａ参照）は、各点に対応した複製点を接続することにより、それぞれ矩形のショット形状を作成する。
ショットデータ作成部は、例えば、Ｐ（１）と、これに対応した複製点Ｐ（１）−２、Ｐ（１）−３、Ｐ（１）−４を接続することにより、１つの矩形のショット形状を作成する。
これにより、ショットデータ作成部は、点Ｐ（１），Ｐ（３），Ｐ（Ｅ），Ｐ’（１），Ｐ’（３）に対応した５つのショット図形を有するショットデータを作成する。
このように、ショットデータの作成処理は、各点を接続すればよいので、容易かつ短時間で行うことができる。
ここで、各ショット図形は、Ｘ軸を対称軸として線対称であり、かつ、Ｙ軸を対称軸として線対称である。
ここで、各ショット図形は、Ｘ軸を対称軸として線対称であり、かつ、Ｙ軸を対称軸として線対称である。
本実施形態では、これら５つのショット図形を、重なりを有するように配置する。このため、パターンを描画時には、重なり部分は、シンメトリーに複数回照射されることになるので、ＸＹ差がない。これにより、設計パターンの形状再現性を向上できる。
なお、詳細な説明は省略するが、ショットデータ作成部は、ショット図形を重ねた形状の外形を抽出することにより、全周近似データを作成できる。これにより、ショットデータ作成部は、第１実施形態と同様に、描画パターンの細分割（図１０（Ａ）参照）、粗分割（図１０（Ｂ）参照）を行うこともできる。
作業者は、基板の使用目的、描画条件、ＸＹ差の許容誤差を考慮して、ショットデータの形態を、３つの形態から適宜選択すればよい。
なお、詳細な説明は省略するが、ショットデータ作成部は、ショット図形を重ねた形状の外形を抽出することにより、全周近似データを作成できる。これにより、ショットデータ作成部は、第１実施形態と同様に、描画パターンの細分割（図１０（Ａ）参照）、粗分割（図１０（Ｂ）参照）を行うこともできる。
作業者は、基板の使用目的、描画条件、ＸＹ差の許容誤差を考慮して、ショットデータの形態を、３つの形態から適宜選択すればよい。
以上説明したように、本実施形態の描画システムは、ＸＹ差を少なくでき、また、設計パターンの形状再現性を向上できる。
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は前述した実施形態に限定されるものではなく、例えば、後述する変形形態等のように種々の変形や変更が可能であって、それらも本発明の技術的範囲内である。また、実施形態に記載した効果は、本発明から生じる最も好適な効果を列挙したに過ぎず、本発明による効果は、実施形態に記載したものに限定されない。なお、前述した実施形態及び後述する変形形態は、適宜組み合わせて用いることもできるが、詳細な説明は省略する。
（変形形態）
（１）実施形態において、設計パターンは、楕円である例を示したが、これに限定されない。設計パターンは、楕円の一部であって、半長軸及び半短軸のなす角が１８０°（１／２楕円、つまり、半楕円）、２７０°のいずれかの形状でもよい。
これらの場合には、近似線又は近似点を、Ｘ軸、Ｙ軸を対称軸として線対称になるように複製等し、それぞれ対応する象限に複製すればよい。
また、設計パターンは、円であってもよい。この場合には、作業者は、半長軸及び半短軸を同じ長さにして、パターン編集装置に入力すればよい。
（１）実施形態において、設計パターンは、楕円である例を示したが、これに限定されない。設計パターンは、楕円の一部であって、半長軸及び半短軸のなす角が１８０°（１／２楕円、つまり、半楕円）、２７０°のいずれかの形状でもよい。
これらの場合には、近似線又は近似点を、Ｘ軸、Ｙ軸を対称軸として線対称になるように複製等し、それぞれ対応する象限に複製すればよい。
また、設計パターンは、円であってもよい。この場合には、作業者は、半長軸及び半短軸を同じ長さにして、パターン編集装置に入力すればよい。
（２）実施形態において、パターン編集装置、ショットデータ作成装置は、別々の装置である例を示したが、これに限定されない。パターン編集装置、ショットデータ作成装置は、一体の装置であってもよい。この場合には、この装置の記憶部が、近似データ作成プログラム、ショットデータ作成プログラムを１つのプログラムとして記憶し、この装置の制御部が、設計パターンの近似データの作成から、ショットデータの作成までを、一連の処理で行うことができる。
１…描画システム ２…基板 １５，２５，３５…記憶部 １５ｂ…近似データ作成プログラム １５ｃ…設計パターン記憶部 １６，２６，３６…制御部 １６ｂ…近似データ作成部 ２０…ショットデータ作成装置 ２５ａ…ショットデータ作成プログラム ２６ａ…ショットデータ作成部 ５０…設計パターン
Claims (12)
- ２／４楕円、３／４楕円、４／４楕円のいずれかの設計パターンを編集するパターン編集装置のコンピュータを、
設計パターンの半長軸及び半短軸に挟まれこれらがなす角が９０°の基準楕円の円周に関する近似データである基準近似データを作成する基準近似データ作成手段と、
前記基準近似データを複製することにより、設計パターンの全円周の近似データである全円周近似データを作成する複製近似データ作成手段として、
機能させることを特徴とするパターン編集プログラム。 - 請求項１に記載のパターン編集プログラムにおいて、
前記基準近似データ作成手段を、
前記基準近似データとして、前記基準楕円の円周を、長軸に平行な長軸平行線、及び短軸に平行な短軸平行線を交互に接続することにより近似した近似線を作成するように機能させること、
を特徴とするパターン編集プログラム。 - 請求項１に記載のパターン編集プログラムにおいて、
前記基準近似データ作成手段を、
前記基準近似データとして、前記基準楕円の円周上の点を、前記基準楕円の円周よりも外側の位置に近似した基準近似点を作成するように機能させること、
を特徴とするパターン編集プログラム。 - 請求項３に記載のパターン編集プログラムにおいて、
前記基準近似データ作成手段を、
前記基準近似点として、前記基準楕円の円周を、長軸に平行な長軸平行線、及び短軸に平行な短軸平行線を交互に接続することにより近似した近似線の頂点を作成するように機能させること、
を特徴とするパターン編集プログラム。 - 請求項２又は請求項４に記載のパターン編集プログラムにおいて、
前記近似線は、
半長軸の円周上の点から、前記基準楕円の接線の傾きの長軸方向の変化量の絶対値及び短軸方向の変化量の絶対値が等しくなる点である傾き中点までにおいて、
半長軸の円周上の点を始点とし、短軸平行線から始まり、
長軸平行線の長さが等しく、
長軸平行線の中点が円周上に位置し、
半短軸の円周上の点から傾き中点までにおいて、
半短軸の円周上の点を始点とし、長軸平行線から始まり、
短軸平行線の長さが等しく、
短軸平行線の中点が円周上に位置し、
半長軸の円周上の点から傾き中点までの長軸平行線の長さと、半短軸の円周上の点から傾き中点までの短軸平行線の長さとは、等長であること、
を特徴とするパターン編集プログラム。 - 請求項２から請求項５のいずれかに記載のパターン編集プログラムにおいて、
パターン編集装置のコンピュータを、
長軸平行線及び短軸平行線の等長である長さに関する入力を受け付ける平行線長さ入力手段として機能させること、
を特徴とするパターン編集プログラム。 - 請求項１から請求項６のいずれかに記載のパターン編集プログラムにおいて、
パターン編集装置のコンピュータを、
近似データのパターン内側の領域を、設計パターンの近似パターンとした近似パターン作成手段として機能させること、
を特徴とするパターン編集プログラム。 - 請求項７に記載のパターン編集プログラムで作成された近似パターンに基づいて、ショットデータを作成するショットデータ作成装置のコンピュータを、
近似パターンを、ショット形状に対応した矩形に分割するショットデータ作成手段として機能させること、
を特徴とするショットデータ作成プログラム。 - 請求項３から請求項６のいずれかに記載のパターン編集プログラムで作成された近似データに基づいてショットデータを作成するショットデータ作成装置のコンピュータを、
前記全円周近似データのうち前記基準近似データの各近似点に対応した近似点とを接続することにより、矩形のショット形状を有するショットデータを作成するショットデータ作成手段として機能させること、
を特徴とするショットデータ作成プログラム。 - 請求項１から請求項９のいずれかに記載のパターン編集プログラムを記憶する記憶部と、
前記記憶部のパターン編集プログラムを実行する制御部と、
を備えるパターン編集装置。 - 請求項９又は請求項１０に記載のショットデータ作成プログラムを記憶する記憶部と、
前記記憶部のショットデータ作成プログラムを実行する制御部と、
を備えるショットデータ作成装置。 - ２／４楕円、３／４楕円、４／４楕円のいずれかの設計パターンの編集方法であって、
設計パターンの半長軸及び半短軸に挟まれこれらがなす角が９０°の基準楕円の円周に関する近似データである基準近似データを作成する基準近似データ作成工程と、
前記基準近似データを複製することにより、設計パターンの全円周の近似データである全円周近似データを作成する複製近似データ作成工程と、
を備えるパターン編集方法。
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|---|---|---|---|
| JP2015162587A JP6604087B2 (ja) | 2015-08-20 | 2015-08-20 | パターン編集プログラム、ショットデータ作成プログラム、パターン編集装置、ショットデータ作成装置、パターン編集方法 |
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Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61107390A (ja) * | 1984-10-31 | 1986-05-26 | 富士通株式会社 | 円弧描画方式 |
| JPS6461882A (en) * | 1987-09-02 | 1989-03-08 | Toshiba Machine Co Ltd | Method and device for converting graphic data |
| JPH03296877A (ja) * | 1990-04-16 | 1991-12-27 | Mitsubishi Electric Corp | 曲線描画装置 |
| JPH056439A (ja) * | 1991-04-17 | 1993-01-14 | Fuji Xerox Co Ltd | ベクトルデータ／イメージデータ変換方式 |
| JPH0793569A (ja) * | 1993-09-01 | 1995-04-07 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 線描画方法及び装置 |
| JP2014207299A (ja) * | 2013-04-11 | 2014-10-30 | 日本コントロールシステム株式会社 | 電子ビーム描画装置、描画用図形データ作成装置、電子ビーム描画方法、描画用図形データ作成方法、およびプログラム |
-
2015
- 2015-08-20 JP JP2015162587A patent/JP6604087B2/ja active Active
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61107390A (ja) * | 1984-10-31 | 1986-05-26 | 富士通株式会社 | 円弧描画方式 |
| JPS6461882A (en) * | 1987-09-02 | 1989-03-08 | Toshiba Machine Co Ltd | Method and device for converting graphic data |
| JPH03296877A (ja) * | 1990-04-16 | 1991-12-27 | Mitsubishi Electric Corp | 曲線描画装置 |
| JPH056439A (ja) * | 1991-04-17 | 1993-01-14 | Fuji Xerox Co Ltd | ベクトルデータ／イメージデータ変換方式 |
| JPH0793569A (ja) * | 1993-09-01 | 1995-04-07 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 線描画方法及び装置 |
| JP2014207299A (ja) * | 2013-04-11 | 2014-10-30 | 日本コントロールシステム株式会社 | 電子ビーム描画装置、描画用図形データ作成装置、電子ビーム描画方法、描画用図形データ作成方法、およびプログラム |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 田中成典, 外３名: ""ＳＸＦデータから拡張ＤＭデータへの変換技術の研究開発"", 知能と情報, vol. 第２３巻, 第４号, JPN6019026174, 15 August 2011 (2011-08-15), JP, pages 181 - 197, ISSN: 0004072238 * |
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