KR20160012064A - 전자빔 묘화 장치, 전자빔 묘화 방법 및 기록 매체 - Google Patents

전자빔 묘화 장치, 전자빔 묘화 방법 및 기록 매체 Download PDF

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Abstract

종래의 전자빔 묘화 장치는 프랙처링 시의 전체 직사각형 수가 많고, 묘화 시간이 길었다. 1 이상의 도형을 나타내는 정보인 입력 도형 정보를 수신하는 수신부, 입력 도형 정보가 나타내는 1 이상의 각 도형 폭을 획득하는　도형 폭 획득부, 도형 폭에 적합한 1 이상의 직사각형으로 구성된 도형이며, 입력 도형 정보를 나타내는 1 이상의 각 도형에 근사하는 도형인 1 이상의 근사 도형을 나타내는 근사 도형 정보를 생성하는 생성부, 및　생성부가 생성한 근사 도형 정보를 나타내는 1 이상의 근사 도형을 묘화하는 묘화부를 구비하는 전자빔 묘화 장치에 의해, 프랙처링 시의 전체 직사각형 수를 줄여　묘화 시간을 줄일 수 있다.

Description

전자빔 묘화 장치, 전자빔 묘화 방법 및 기록 매체{ELECTRON BEAM DRAWING DEVICE, ELECTRON BEAM DRAWING METHOD, AND RECRDING MEDIA}
본 발명은 전자선 리소그래피를 실행하기 위한 전자빔 묘화 장치 등에 관한 것이다.
종래, 전자선 리소그래피를 실행하기 위한 전자빔 묘화 장치 등이 개발되고 있다. (특허 문헌 1,　특허 문헌 2 참조)
일본 특허출원공표 2013-503486 일본 특허출원공표 2012-501476
반도체　제조 리소그래피 공정에서 포토 마스크가 이용된다. 또한, 최근의 포토마스크 미세화에 의해, OPC(광근접 효과 보정)을 대표로 하는 RET(Resolution Enhancement Technique)에 의한 패턴의 수정이나 보조 패턴의 추가가 일반적인 추세이다. 또한, RET의 일종인 ILT(Inverse Lithography) 기법으로 만들어진 마스크 패턴은 곡선으로 구성된다.
현재 포토 마스크　제조는 VSB(Variable shaped beam) 방식의 전자선을 이용한　묘화기에서 생성된다. VSB 방식의 전자선으로는, 가변 크기의 직사각형(矩形) 밖에 그릴 수 없으므로, 곡선 부분은 근사를 이용하여 그린다. 종래 기법은,　먼저 곡선을 사다리꼴로 분할한 후 각각 직사각형으로 근사한다. 따라서 직사각형 수가 증가하고 마스크의 묘화 시간이 길어진다.
본 제1 발명의 전자빔 묘화 장치는 1 이상의 도형을 나타내는 정보인 입력 도형 정보를　수신하는 수신부, 입력 도형 정보를 나타내는 1 이상의 각 도형 폭을　획득하는 도형 폭 획득부, 도형 폭에 적합한 1 이상의 직사각형에서 구성되는 도형이며, 입력 도형 정보가 나타내는 1 이상의 각 도형에 근사하는 도형인　1 이상의 근사 도형을 나타내는 근사 도형 정보를 생성하는 생성부, 및 생성부가 생성한 근사 도형 정보가 나타내는 1 이상의 근사 도형을 그리는 묘화부를 구비하는　전자빔 묘화 장치이다.
이러한 구성에 의해,　프랙처링(fracturing) 시의 전체　직사각형 수를 줄여　묘화 시간을 줄일 수 있다.
본 발명에 의한 전자빔 묘화 장치 등에 따르면,　프랙처링 시의 전체　직사각형 수를 줄여　묘화 시간을 줄일 수 있다.
도 1은　본 발명의 실시예 1에 따른　전자빔 묘화 장치(1)의 블록도이다.
도 2는　동 도형 폭의 예를 나타내는 도면이다.
도 3은　　동 도형 폭의 예를 나타내는 도면이다.
도 4는 동　전자빔 묘화 장치(1)의 전체 동작을 설명하는 흐름도이다
도 5는 동 도형 폭의 획득 처리에 대하여　설명하는 흐름도이다.
도 6은　동 보조 패턴에 대응하는 근사 도형 정보의 생성 처리에 대하여　설명하는 흐름도이다.
도 7은　동 도형의 예를 나타내는 도면이다.
도 8은 동 비트맵 이미지의 예를 나타내는 도면이다.
도 9는 동 중심선의 예를 나타내는 도면이다.
도 10은 동　거리 맵의 예를 나타내는 도면이다.
도 11은 동 폭 형성점의 검출 예를 나타내는 도면이다.
도 12는 동 중심선의 예를 나타내는 도면이다.
도　13은 동 근사 도형의 예를 나타내는 도면이다.
도 14는 동 근사 도형의 예를 나타내는 도면이다.
도 15는　동 제1 메인 패턴 및　제2 메인　패턴에 대응하는 도형의 예를 나타내는 도면이다.
도 16은　동 근사 윤곽선의 예를 나타내는 도면이다.
도 17은 동 근사 도형의 예를 나타내는 도면이다.
도 18은　동 근사 도형의 예를 나타내는 도면이다.
도 19는 본 발명의 실시예 2에 따른　묘화용 도형 데이터 생성 장치(2)의 블록도이다.
도 20은 동　도형 폭의 예를 나타내는 도면이다.
도 21은　상기 실시예의 컴퓨터 시스템의 개관도이다.
도 22는　상기 실시예의 컴퓨터 시스템의 블록도이다.
이하, 본 발명에 의한 전자빔 묘화 장치 등의 실시예에 대하여　도면을 참조하여 설명한다. 또한, 본 발명의 실시예에서 동일한 부호를 붙인 구성 요소는 동일한 동작을 실시하므로, 재차 설명을 생략하는 경우가 있다. 또한, 본 발명의 실시예에서 설명하는 각 정보의 형식, 내용 등은 어디까지나 예시이며, 각 정보가 가진　의미를 나타낼 수 있다면　형식, 내용 등은 묻지 않는다.
본 실시예의 전자빔 묘화 장치(1)에 대해 설명한다. 전자빔 묘화 장치(1)는 1 이상의 도형을 나타내는 입력 도형 정보와, 직사각형을 이용하여 해당 1 이상의 각 도형에 근사하는 1 이상의 도형을 나타내는 근사 도형 정보를 생성한다. 그리고 전자빔 묘화 장치(1)는 해당 근사 도형 정보가 나타내는 1 이상의 도형을 묘화한다.
도 1은 본 실시예의 전자빔 묘화 장치(1)의 블록도이다. 전자빔 묘화 장치(1)는 저장부(10), 수신부(11), 도형 폭 획득부(12), 판단부(13), 생성부(14), 묘화부(15)를 구비한다. 또한, 도형 폭 획득부(12)는 거리 맵 생성 수단(121), 도형 폭 획득 수단(122)을 포함한다. 또한, 생성부(14)는 중심선 획득 수단(141), 근사 윤곽선 획득 수단(142), 생성 수단(143)을 포함한다.
여기서, 입력 도형 정보란, 전자빔 묘화 장치(1)에 묘화되는 1 이상의 도형을 나타내는 정보이다. 해당 도형의 형상은 불문한다. 해당 도형의 형상은　통상, 선형이나 막대 모양 등의 길쭉한 모양이나 원형이나 타원형 등의 둥근　모양 등이다. 또한, 해당 도형의 모양은 예를 들어, 길쭉한 모양과 둥근 모양이 결합된 형상이어도 좋다. 또한, 해당 도형은 통상, 소위 곡선을 가진다. 또한, 해당 도형은 통상,　묘화 패턴이나 마스크 패턴 등으로 불리는 것이다.
또한, 입력 도형 정보는 통상, 적어도 1 이상의 좌표를 갖는 좌표 집합을 1 이상 가진다. 해당 1 개의 좌표 집합은　통상 1 개의 도형의 윤곽선을 나타낸다. 즉, 예를 들어, 2 이상의 도형을 나타내는 경우, 입력 도형 정보는 통상 2 이상의 좌표 집합을 가진다. 또한, 좌표 집합이 가지는　1 이상의 좌표는 통상, 외곽선을 구성하는 점의 순서를 가진다. 해당 좌표 집합이 가지는　좌표는 통상 3 이상인 것이 바람직하다. 또한, 해당 좌표 집합에 의해 나타나는 윤곽선의 정밀도는 불문한다. 즉, 해당 1 이상의 좌표는　통상,　미리 정해진 간격으로 해당 1 이상의 각 도형의 윤곽선을 나타낼 수 있다면 좋다. 또한, 좌표 집합에는 예를 들어, 도형을 식별하는 도형 식별자가 대응되어도 좋다.
예를 들어, 1 개의　직사각형을 나타내는 경우, 도형 정보는 예를 들어, 해당 직사각형의 4 개의 꼭지점의 좌표를　갖는 좌표 집합을 가지고 있어도 좋다. 또한, 이 경우 도형 정보는 예를 들어, 해당 직사각형의 4 개의 각 변(직선)의 끝점의 좌표를 갖는 좌표 집합을 가지고 있어도 좋다. 또한, 이 경우 도형 정보는 예를 들어, 기준이 되는 1 개의　꼭지점의 좌표와 수평 방향 폭　및 수직 방향 폭을 나타내는 정보를 갖는 좌표 집합을 가지고 있어도 좋다.
또한, 입력 도형 정보의 데이터 형식은 불문한다. 입력 도형 정보의 데이터 형식은 통상, 소위 마스크 설계 데이터나 레이아웃 설계 데이터 등으로 불리는 데이터 형식이다. 입력 도형 정보의 구체적인 데이터 형식은 예를 들어, GDS-2나 OASIS, MEBES 등이다. 또한, 입력 도형 정보는 소위 이미지여도 좋다. 해당 이미지 데이터 형식은 통상, 비트맵이다.
또한, 근사 도형 정보는 전자빔 묘화 장치(1)가 실제로 묘화하는 도형인 근사 도형을 나타내는 정보이다. 즉, 해당 근사 도형은　통상, 입력 도형 정보를 나타내는 1 개 이상의 각 도형이 소위 프랙처링에 의해 직사각형으로 분할된 도형이다. 다시 말하면, 근사 도형은　통상, 입력 도형 정보를 나타내는 1 개 이상의 각 도형에 근사하는 도형이다. 또한, 근사 도형은　통상, 1 이상의 직사각형으로 구성된다.
근사 도형을 구성하는 1 이상의 각 직사각형의 크기는　통상, 최대 샷 크기 이하이지만, 그렇지 않아도 된다. 최대 샷 크기는 전자빔 묘화 장치(1)가 한 번의 묘화로　그릴 수 있는 가장 큰 직사각형의 크기이다. 또한, 최대 샷 크기는 통상, 해당 직사각형의 수평 방향의 길이 및 수직 방향의 길이다. 또한, 최대 샷 크기는 예를 들면, 해당 직사각형의 대각선 길이나 해당 직사각형의 면적 등이어도 좋다. 또한, 최대 샷 크기의 단위는 불문한다.
또한, 근사 도형을 구성하는 1 이상의 각 직사각형은 통상, 수평 직선 및 수직 직선으로 구성된 직사각형이다. 수평 직선이란 수평 방향의 직선이다. 또한, 수직 직선이란 수직 방향의 직선이다. 또한, 해당 직사각형을 구성하는 직선은　통상,　소위 선분이다. 또한,　수평 방향이란 통상, 직교 좌표계의 수평 방향축(x축)에 평행한 방향이다. 또한, 수직 방향은 통상, 직교 좌표계의 수직 방향축(y축)에 평행한 방향이다. 또한, 해당 직사각형은 예를 들어, 원형이나 타원형 등 미리 정해진 형상의 도형이어도 좋다.
또한, 근사 도형 정보는 통상　1 이상의 좌표를 갖는 좌표 집합을 1 이상 가진다. 해당 1 개의 좌표 집합은 통상 하나의 직사각형을 나타낸다. 또한, 근사 도형 정보의 데이터 형식은 통상, 입력 도형 정보와 동일하다.
저장부(10)는　통상 2 이상의 패턴 관리 정보가 저장된다. 패턴 관리 정보란 도형 분류 조건과 패턴 식별자가 대응하는 정보이다. 도형 분류 조건이란, 입력 도형 정보가 나타내는 1 이상의 도형을　2 이상의 패턴으로 분류하기 위한 조건이다. 또한, 도형 분류 조건은 통상, 도형 폭에 관한 조건이다. 또한, 패턴 식별자는 도형의 패턴을 식별하기 위한 정보이다. 패턴 식별자에 의해 식별되는 패턴은 통상, 도형 폭에 기반하는 패턴이다.또한, 해당 패턴은 통상 2 이상이며, 미리 정해져 있다.
여기서, 도형 분류 조건은 예를 들어, 도형 폭이 미리 정해진　역치 이하인 것, 도형 폭이 미리 정해진 역치보다　큰 것, 도형 폭이 일정한 것, 도형 폭이 일정하지 않은 것 등이다. 또한, 도형 분류 조건은 이러한 조건의 1 이상의 조합이어도 좋다. 해당 조합은 통상, 논리적(論理積; AND)이지만, 논리합(OR)이어도 좋다.
또한, 저장부(10)에는 통상, 두 가지 패턴 관리 정보가 저장되어 있는 것이 바람직하다. 또한, 해당　2개의 패턴 관리 정보 각각이 가지는 패턴 식별자를 식별하는 2개의 패턴은 보조 패턴과　메인 패턴이다. 보조 패턴은 통상, 도형 폭이 도형 분류 조건을 충족시키는 정도의 작은 도형 패턴이다. 또한, 보조 패턴은 통상, 일정한 폭을 갖는 선형 형상인 것이 바람직하다. 또한,　메인 패턴은 통상, 도형 폭이 도형 분류 조건을 충족시키는 정도의 큰 도형 패턴이다. 또한, 보조 패턴으로 분류하는 도형 분류 조건과 메인 패턴으로 분류하는 도형 분류 조건은　통상, 상호 보완 관계에 있는 것이 바람직하다.
여기서, 해당　2개의　도형 분류 조건을 도형 분류 조건 A, 도형 분류 조건 B로 한다. 이 경우 도형 분류 조건 A와 도형 분류 조건 B는 이하의 2개의 관계에 있다.
1) 도형 폭이 도형 분류 조건 A를 만족하는 경우,　도형 분류 조건 B는 충족되지 않는다.
2) 도형 폭이 도형 분류 조건 B를 만족하는 경우,　도형 분류 조건 A는 충족되지 않는다.
예를 들어, 보조 패턴을 식별하는 패턴 식별자에 대응하는　도형 분류 조건이 “폭
Figure pct00001
20”이라고 한다. 해당 도형 분류 조건은 도형 폭이 “20”이하인 것을 의미한다. 이러한 경우, 메인 패턴을 식별하는 패턴 식별자에 대응하는 도형 분류 조건은 통상 “폭
Figure pct00002
20”이다. 해당 도형 분류 조건은 도형 폭이 “20”보다 큰 것을 의미한다.
또한, 저장부(10)에는 최대 샷 크기가 저장되어있다. 해당 최대 샷 크기는 통상, 최대 샷 크기를 나타내는 정보이다. 또한, 저장부(10)에 최대 샷 크기가 저장되어 있는 경우, 저장부(10)는　통상, 이하의 2개의 패턴을 식별하는 패턴 식별자가 저장되어 있다.
1) 제1 메인　패턴 : 메인 패턴에 대응하는 도형 중 도형의 크기가 최대 샷 크기보다 큰 도형 패턴
2) 제2 메인　패턴 : 메인 패턴에 대응하는 도형 중 도형의 크기가 최대 샷 크기 이하인 도형 패턴
여기서 도형의 크기란 통상, 도형에 외접하는　직사각형이고, 수평 직선 및 수직 직선으로 구성된 직사각형의 수평 방향의 길이 및 수직 방향의 길이이다. 또한, 도형의 크기는 예를 들어, 해당 직사각형의 대각선 길이나 해당 직사각형의 면적 등이어도 좋다. 또한, 도형에 외접하는 직사각형을 구성하는 직선은 예를 들어, 미리 정해진 각도의 직선이어도 좋다. 미리 정해진 각도는 통상, 수평 방향에 대한 각도이다. 또한, 미리 정해진 각도는 예를 들어, 수직 방향에 대한 각도여도 좋다.
또한, 저장부(10)는 비 휘발성 기록 매체가 바람직하지만, 휘발성 기록 매체로도 실현 가능하다. 또한, 저장부(10) 등에 소정의 정보가 저장되는 과정은 불문한다. 예를 들어, 해당 소정의 정보는 기록 매체나 통신 회선, 입력 장치 등을 통해서 저장부(10) 등에 기억되어도 좋다.
수신부(11)는 입력 도형 정보를 수신한다. 또한, 수신부(11)는 예를 들면, 도형 폭이나 최대 샷 크기 등을 수신해도 좋다. 또한, 수신부(11)는 해당 수신 도형 폭이나 최대 샷 크기 등을 통상, 저장부(10)에 축적한다. 또한, 도형 폭을 축적하는 경우, 수신부(11)는 해당 도형 폭을 통상,　도형 분류 조건으로써 축적한다.
또한, 수신부(11)는 예를 들어, 입력 도형 정보가 나타내는 1 이상의 도형 중 보조 패턴에 대응하는 도형을 나타내는 정보인 보조 패턴 식별 정보를　수신해도 좋다. 보조 패턴 식별 정보는　통상, 보조 패턴에 대응하는 도형을 식별하는 도형 식별자를 가진다. 또한, 수신부(11)는 수신된 최대 샷 크기를　통상, 저장부(10)에 축적한다.
또한, 수신이란 터치 패널이나 키보드 등의 입력 장치로부터 입력된 정보의 획득, 광디스크나 자기 디스크, 반도체 메모리 등의 기록 매체에 저장되어 있는 정보의 획득,　유선 또는 무선의 통신 회선을 통해 송신된 정보의　수신 등을 포함하는 개념이다.
또한, 수신부(11)의 정보나 지시 등의 입력 수단은 메뉴 화면에 의한 것이나 키보드 등 무엇이든 좋다. 수신부(11)는 메뉴 화면의 제어 소프트웨어나 키보드 등의 입력 수단의 장치 드라이버 등으로 실현될 수 있다.
도형 폭 획득부(12)는 입력 도형 정보를 이용하여 입력 도형 정보가 나타내는 1 이상의 각 도형 폭(이하, 도형 폭이라 함)을 획득한다. 도형 폭의 획득이란　통상, 도형 폭을 나타내는 정보를 획득하는 것이다.
도형 폭이란 통상, 도형에 외접하는 직사각형을 구성하는 단변 길이이지만, 해당 직사각형을 구성하는 장변 길이여도 좋다. 또한, 해당 직사각형은 통상, 도형에 외접하는 1 이상의 직사각형 중 크기가 최소인 직사각형이다. 여기서 크기는 통상, 면적이다.
또한, 도형 폭은 예를 들어, 폭 형성점의 거리여도 좋다. 폭 형성점은 도형의 윤곽선을 구성하는 점 중　2개의 점의 쌍이다. 또한, 폭 형성점의 거리는 해당 2개의 점 사이의 거리이다. 해당　2개의 점은 통상, 폭 형성선과 도형 윤곽선과의 교점이다. 또한, 폭 형성 직선은 통상, 도형에 외접하는 직사각형을 구성하는 단변에 평행한 직선이다. 또한, 폭 형성 직선은 예를 들어, 수평 직선, 수직 직선, 그 외의 방향에 평행한 직선이어도 좋다.
또한, 도형 폭은 예를 들어, 2 이상의 폭 형성점의 거리의 집합이어도 좋다. 또한, 도형 폭은 해당 2 이상의 폭 형성점의 거리의 평균이어도 좋다. 이러한 경우, 폭 형성 직선은 2 이상이다. 또한, 해당 2 이상의 폭 형성 직선의 간격은 통상, “1”인 것이 바람직하다.
예를 들면, 도형의 형상이 수평 방향으로 길쭉한 선형 형상이라고 한다. 또한, 해당 도형에 외접하는 1 이상의 직사각형 중 수평 직선과 수직 직선으로 구성된 직사각형이 크기가 가장 작은 직사각형이라고 한다. 이 경우 해당 도형 폭은 통상, 해당 도형에 외접하는 직사각형의 수직 방향의　변의 길이이다. 또한, 해당 도형 폭, 예를 들어 도 2에 나타낸　것과 같이, 해당 도형에 내접 또는 외접하는 수평 방향의 2 이상의 직선 중 하단의 직선과 위에서 두 번째 직선과의 거리여도 좋다. 또한, 해당 도형 폭은 예를 들면,　도 3에 나타낸　것과 같이, 2 이상의 폭 형성선과 윤곽선이 교차하는　2개의 점 사이의 거리인 2 이상의 폭 형성점의 거리의 집합이어도 좋다. 또한, 해당 2 이상의 폭 형성 직선은 예를 들어, 도 20에 나타낸 것과 같이 각각의 방향이 달라도 좋다. 또한, 해당 도형 폭은 예를 들어, 해당 2 이상의 폭 형성점의 거리의 평균이어도 좋다.
또한, 도형 폭 획득부(12)는 통상, 하기의 각 수단에 의해 1 이상의 각 도형 폭을 획득한다.
거리 맵 생성 수단(121)은 거리 맵을 생성한다. 거리 맵이란 하나의 도형에 대하여　해당 도형의 중심선을 구성하는 1 이상의 각 점에서 해당 도형의 윤곽선까지의 거리의 1 이상의 집합을 나타내는 정보이다. 해당 거리는 통상, 최단 거리이다. 또한, 해당 점은 통상,　하나의 좌표에 의해 표시된다.
또한, 도형의 중심선은 통상, 1 이상의 폭 형성점의 중점으로 구성된 선이다. 폭 형성점의 중점이란 폭 형성점인　2개의 점의　중점이다.
또한, 거리 맵은　예를 들어, 중심선을 구성하는 1 이상의 점 이외의 점에서 도형의 윤곽선까지의 거리를 가지고 있어도 좋다. 해당 점은 통상, 도형 내측의 점이다. 또한, 거리 맵은 예를 들어, 입력 도형 정보가 나타내는 1 이상의 각 도형에 대응하는 정보여도 좋고,　해당 1 이상의 모든 도형에　대응하는 정보여도 좋다 .또한, 거리 맵의 데이터 구조는 불문한다.
또한, 거리 맵 생성 수단(121)은 통상, 입력 도형 정보를 이용하여 거리 맵을 생성한다. 또한, 거리 맵 생성 수단(121)은 입력 도형 정보를 이용하여 거리 맵을 생성하면 좋고, 그 방법이나 절차 등은 불문한다. 거리 맵 생성 수단(121)은 통상, 도형의 중심선을 획득하고, 해당 중심선을 이용하여 거리 맵을 생성한다. 또한, 중심선의 획득이란　중심선을 나타내는 좌표 집합을 획득하는 것이다.
거리 맵 생성 수단(121)은 예를 들어,　다음 중　하나의 방법으로 거리 맵을 생성한다.
A) 비트맵 이미지를 생성하는 방법
B) 비트맵 이미지를 생성하지 않는 방법
A)의 방법은 입력 도형 정보가 나타내는 1　이상의 각 도형을 나타내는 비트맵 형식의 이미지(이하, 비트맵 이미지라고 함)를 이용하여 거리 맵을　생성하는　방법이다. 해당 방법에서 예를 들어, 입력 도형 정보가 나타내는 하나의 도형에 해당하는 거리 맵을 생성하는 구체적인 절차는 예를 들면 다음과 같다.
1) 거리 맵 생성 수단(121)은 입력 도형 정보를 이용하여 해당 입력 도형 정보가 나타내는　하나의 도형을 나타내는 비트맵 이미지를 생성한다.
2) 거리 맵 생성 수단(121)은 1)에서　생성한 비트맵 이미지를 이용하여 도형의 윤곽선을 구성하는 1 이상의 각 점을 나타내는 1 이상의 좌표를 획득한다.
3) 거리 맵 생성 수단(121)은 2)에서 획득한 1 이상의 좌표를 이용하여 1 이상의 각 폭 형성점을 나타내는　1 이상의 좌표 집합을 획득한다. 해당 좌표 집합은 통상, 2 개의 좌표를 가진다.
4) 거리 맵 생성 수단(121)은 3)에서 획득한　1 이상의 좌표 집합을 이용하여 해당 1 이상의 각　좌표 집합이 갖는 2개의 각 좌표가 나타내는 2개의 점의 중점을 나타내는 1 이상 좌표를 획득한다. 해당 획득한 1 이상의 좌표는 중심선을 구성하는 1 이상의 각 점을 나타내는　좌표이다.
5) 거리 맵 생성 수단(121)은 2)에서　획득한 1 이상의 좌표와 4)에서 획득한 1 이상의 좌표를 이용하여 중심선을 나타내는 1 이상의 각　좌표가 나타내는 점에서 윤곽선까지의 거리를 산출한다.
또한, 입력 도형 정보가 비트맵 형식의 이미지인 경우, 상기 1)의 처리는 통상, 실시하지 않는다.
또한, 상기 1)에서 비트맵 이미지를 생성하는 방법이나 절차 등은 공지이므로, 상세한 설명을 생략한다.
또한, 상기 1)에서 거리 맵 생성 수단(121)은 예를 들어, 윤곽선을 구성하는　2개의 점 사이의 점을 나타내는 좌표를 소위 보간에 의해 계산하여도 좋다. 해당 보간은 예를 들어, 선형 보간이다.
B)의 방법은 비트맵 이미지를 생성하지 않고, 입력 도형 정보를 이용하여 거리 맵을 생성하는 방법이다. 즉, 해당 방법은 입력 도형 정보가 비트맵 이미지인 경우에는 통상, 이용하지 않는다. 또한, 해당 방법에서 예를 들어, 입력 도형 정보가 나타내는　하나의 도형에 대응하는 거리 맵을 생성하는 구체적인 절차는 예를 들면 다음과 같다.
1) 거리 맵 생성 수단(121)은 입력 도형 정보를 이용하여 도형의 윤곽선을 구성하는 1 이상의 각 점을 나타내는 1 이상의 좌표를 획득한다.
2) 거리 맵 생성 수단(121)은 1)에서 획득한 윤곽선을 나타내는 1 이상의 좌표를 이용하여 1 이상의 각 폭 형성점을 나타내는 1 이상의 좌표 집합을 획득한다. 해당 좌표 집합은 통상, 2 개의 좌표를 가진다.
3) 거리 맵 생성 수단(121)은 2)에서 획득한 1 이상의 좌표 집합을 이용하여 해당 1 이상의 각 좌표 집합이　갖는　2 개의 각 좌표가 나타내는　2개의 점의 중점을 나타내는 1 이상 좌표를 획득한다. 해당 획득한 1 이상의 좌표는 중심선을 구성하는 1 이상의 각 점을 나타내는　좌표이다.
4) 거리 맵 생성 수단(121)은 1)에서 획득한 1 이상의 좌표와 3)에서 획득한 1 이상의 좌표를 이용하여 중심선을 나타내는 1 이상의 각 좌표가 나타내는 점에서 윤곽선까지의 거리를 산출한다.
또한, 상기 1)에서 거리 맵 생성 수단(121)은 예를 들면, 각 2개 점 사이의 점을 나타내는　좌표를 소위 보간에 의해　계산하여도 좋다. 해당 보간은 예를 들어, 선형 보간이다.
도형 폭 획득 수단(122)은 입력 도형 정보가 나타내는 1 이상의 각 도형 폭을 획득한다. 해당 도형 폭을 획득하는 방법이나 절차 등은 불문한다. 도형 폭 획득 수단(122)은 예를 들어, 다음 중 하나의 방법으로 도형 폭을 획득한다.
A) 거리 맵을 이용하는 방법
B) 거리 맵을 이용하지 않는 방법
A)의 방법에서 예를 들어, 입력 도형 정보가 나타내는 하나의　도형 폭을 획득하는 구체적인 절차는 예를 들면 다음과 같다.
1) 도형 폭 획득 수단(122)은 도형의 중심선을 구성하는 1 이상의 각 점에 대응하는 윤곽선까지의 거리를 거리 맵에서 획득한다.
2) 도형 폭 획득 수단(122)은 1)에서 획득한 1 이상의 각 거리를 2배로 한 1 이상의 값을 획득한다. 해당 획득한 값은 도형 폭이다.
또한, 상기 2)에서 도형 폭 획득 수단(122)은 예를 들어, 획득한 1 이상의 값의 평균을 도형 폭으로써 획득하여도 좋다. 또한, 도형 폭 획득 수단(122)은 예를 들어, 획득한 1 이상의 값 중 최대 또는 최소 값을 도형 폭으로써 획득하여도 좋다.
B)의 방법에서 예를 들어, 입력 도형 정보가 나타내는　도형 폭을　획득하는 구체적인 절차는 예를 들면 다음과 같다.
1) 도형 폭 획득 수단(122)은 입력 도형 정보에서 도형의 윤곽선을 구성하는 1 이상의 각 점을 나타내는 1 이상의 좌표를 획득한다.
2) 도형 폭 획득 수단(122)은 1)에서 획득한 1 이상의 좌표를 이용하여 1 이상의 각 폭 형성점을 나타내는 1 이상의 좌표 집합을 획득한다. 해당 좌표 집합은 통상, 2 개의 좌표를 가진다.
3) 도형 폭 획득 수단(122)은 2)에서 획득한 1 이상의 좌표 집합을 이용하여 해당 1 이상의 각 좌표 집합이 갖는 2 개의 각 좌표가　나타내는　2개의 점 간의 거리인 1 이상의 거리를 획득한다. 해당 획득한 1 이상의 거리는 도형 폭이다.
또한, 상기 3)에서 도형 폭 획득 수단(122)은 예를 들어, 획득한 1 이상의 거리의 평균을 도형 폭으로써　획득하여도 좋다. 또한, 도형 폭 획득 수단(122)은 예를 들어, 획득한 1 이상의 거리 중 최대 또는 최소의 거리를 도형 폭으로써　획득하여도 좋다.
판단부(13)는 입력 도형 정보가 나타내는 1 이상의 각 도형이 도형 폭에 기반하는　2개 이상의 패턴 중 하나인지를 판단한다. 해당　판단이란 통상, 해당 판단 결과를 나타내는 패턴 식별자를 획득하는 것이다.
판단부(13)는 통상, 도형 폭 획득부(12)가 획득한 도형 폭이 저장부(10)에 저장되어 있는 2 이상의 도형 분류 조건 중 어느 것을　충족하는지를 판단한다. 그리고 판단부(13)는 충족한다고 판단한　도형 분류 조건에 대응하는 패턴 식별자를 획득한다. 그리고 판단부(13)는 해당 도형 폭이　획득한 도형에 대하여 해당 획득한 패턴 식별자에 의해 식별되는 패턴이라고 판단한다.
예를 들어, 도형 폭이 “18”이라고 한다. 또한, 도형 분류 조건이 “도형 폭
Figure pct00003
20”이라고 한다. 해당 도형 분류 조건은 도형 폭이 20 이하인 것을 의미한다. 이러한 경우 판단부(13)는 해당 도형 폭이 해당 도형 분류 조건을 충족한다고 판단한다.
또한, 예를 들어, 1 이상의 도형 폭이 “20, 20, 20, 20”이라고 한다. 또한, 도형 분류 조건이 “(10
Figure pct00004
도형 폭
Figure pct00005
30) & (도형 폭=일정)”이라고 한다. 해당 도형 분류 조건은 도형 폭이 10 이상 30 이하이며, 또한 도형 폭이 일정한 것을　의미한다. 이러한 경우 판단부(13)는 해당 1 이상의 도형 폭이 해당 도형 분류 조건을 충족한다고　판단한다.
또한, 판단부(13)는 통상, 메인 패턴이라고 판단한 도형에 대하여 해당 도형의 크기가 최대 샷 크기보다 큰지 여부를 판단한다. 이 경우 저장부(10)에는 최대 샷 크기와,　제1 메인　패턴을 식별하는 패턴 식별자와,　제2 메인 패턴을 식별하는 패턴 식별자가 저장되어 있다. 그리고 예를 들어, 해당 도형의 크기가 최대 샷 크기보다 큰 경우, 판단부(13)는 해당 제1 메인 패턴을 식별하는 패턴 식별자를 획득한다. 또한, 예를 들어, 해당 도형의 크기가 최대 샷 크기 이하일 경우, 판단부(13)는 해당 제2 메인 패턴을 식별하는 패턴 식별자를 획득한다.
상기와　같이 제1 메인 패턴인지　제2 메인　패턴인지를 판단하는 경우, 판단부(13)는 예를 들어, 메인 패턴이라고 판단한 도형에 대해서, 해당 도형에 외접하는 직사각형을 획득한다. 해당 직사각형은 통상, 수평 직선 및 수직 직선으로 구성된 직사각형이다. 그리고 판단부(13)는 해당 획득한 직사각형의 크기가 최대 샷 크기보다 큰지 여부를 판단한다. 이 때, 판단부(13)는, 예를 들어 직사각형의 크기와 최대 샷 크기에 대하여, 수평 방향 길이끼리, 수직 방향 길이끼리, 대각선 길이끼리, 면적끼리 비교한다. 그리고 판단부(13)는 수평 방향 길이, 수직 방향 길이, 대각선 길이, 면적 중 어느 것이 최대 샷 크기보다 큰 경우, 해당 도형의 크기가 최대 샷 크기보다 크다고 판단한다.
또한, 도형의 크기는 통상, 도시하지 않은 도형 크기 획득부가 획득한다. 도형 크기 획득부는 통상, 입력 도형 정보를 이용하여 입력 도형 정보가 나타내는 1 이상의 각 도형의 크기를 획득한다. 또한, 해당 도형의 크기를　획득하는 방법이나 절차 등은 공지이므로 상세한 설명을 생략한다.
생성부(14)는 입력 도형 정보를 이용하여 근사 도형 정보를 생성한다. 생성부(14)는 통상, 판단부(13)가 획득한 패턴 식별자에 따라 상이한 방법으로 1 이상의 각 도형에 근사하는 1 이상의 근사 도형을 나타내는 근사 도형 정보를 생성한다. 또한, 생성부(14)는 통상, 입력 도형 정보가 나타내는 1 이상의 도형마다 근사 도형 정보를 생성한다. 그리고 생성부(14)는 해당　생성한 1 이상의 근사 도형 정보를 결합하여 하나의 근사 도형 정보를 생성한다.
또한, 생성부(14)는 통상, 하기 각 수단에 의해 근사 도형 정보를 생성한다.
중심선 획득 수단(141)은 입력 도형 정보를 이용하여 1 이상의 각 도형의 중심선을 획득한다. 해당 1 이상의 각 도형은 통상, 판단부(13)에 의해 보조 패턴이라고 판단된 도형이다. 또한, 해당 1 이상의 각 도형은 예를 들어, 판단부(13)에 의해 메인 패턴이라고 판단된 도형이어도 좋다.
예를 들어, 거리 맵 생성 수단(121)이 거리 맵을 생성한 경우, 거리 맵 생성 수단(121)은 통상, 입력 도형 정보가 나타내는 1 이상의 각 도형의 중심선을 획득하고 있다. 따라서,이 경우 중심선 획득 수단(141)은 통상, 해당 거리 맵의 생성 시에 획득한 중심선 중 보조 패턴에 대응하는 도형의 중심선을 거리 맵 생성 수단(121)으로부터 획득한다. 또한, 예를 들어, 거리 맵 생성 수단(121)이 거리 맵을 생성하지 않은 경우, 중심선 획득 수단(141)은 통상, 보조 패턴에 대응하는 도형의 중심선을 입력 도형 정보를 이용하여 획득한다. 해당 중심선의 획득 방법 및 절차 등은 거리 맵 생성 수단(121)에 의한　중심선의 획득 방법 및 절차 등과 동일하므로 설명을 생략한다.
근사 윤곽선 획득 수단(142)은 입력 도형 정보를 이용하여 근사 윤곽선을 획득한다. 근사 윤곽선은 1 이상의 각 도형의 윤곽선이며, 통상, 수평 직선 및 수직 직선으로 구성된 윤곽선이다. 또한, 근사 윤곽선은 예를 들면, 미리 정해진 각도의 직선으로 구성되어도 좋다. 또한, 근사 윤곽선을 획득하는 것은 통상, 해당 근사 윤곽선을 나타내는 좌표 집합을　획득하는 것이다. 또한, 해당 1 이상의 각 도형은 통상, 판단부(13)에 의해 메인 패턴이라고 판단된 도형이다. 또한, 입력 도형 정보가 나타내는 도형의 윤곽선을 이하, 원 윤곽선이라고 한다.
또한, 근사 윤곽선 획득 수단(142)은 통상, 원 윤곽선과 근사 윤곽선의 오차가 미리 정해진 조건(이하, 오차 조건이라 함)을 만족하는 정도로　작아지도록 근사 윤곽선을 획득한다. 원 윤곽선과 근사 윤곽선과의 오차는 예를 들어, 원 윤곽선이 나타내는 도형의 크기와 근사 윤곽선이 나타내는 도형의 크기와의 차이, 원 윤곽선의 길이와 근사 윤곽선의 길이와의 차이, 원 윤곽선과 근사 윤곽선과의 교점의 수 등이다. 해당 차이는 예를 들어, 백분율이나 비율 등이어도 좋다.
여기서 오차 조건은 예를 들어, 상기 오차가 미리 정해진　역치 이하인 것이나, 상기 오차가 미리 정해진 범위 내에 있는 것 등이다.
즉, 근사 윤곽선 획득 수단(142)은 예를 들어, 원 윤곽선과 근사 윤곽선과의 오차가 오차 조건을 충족하는지 여부를 판단한다. 그리고 예를 들어, 해당 오차가 오차 조건을 충족하지 않는　경우,　근사 윤곽선 획득 수단(142)은 해당 오차가 오차 조건을 충족하도록 해당 근사 윤곽선이 나타내는 도형을 확대 또는　축소한다.
또한, 근사 윤곽선은 예를 들어, 도형에 내접하는 다각형이어도 좋고, 도형에 외접하는 다각형이어도 좋고, 양자 중의 어느 것이 아니어도 좋다.
또한, 원 윤곽선과 근사 윤곽선과의 오차가 오차 조건을 충족하도록　근사 윤곽선을 검색하는 방법이나 절차 등은 공지이기 때문에, 상세한 설명을 생략한다. 해당 방법은 예를 들면, 양자화이다. 즉, 예를 들어, 원 윤곽선을 소위 아날로그 신호의 파형으로 간주하고, 해당 원 윤곽선을 양자화함으로써 근사 윤곽선을 획득할 수 있다.
생성 수단(143)은 판단부(13)가 획득한 패턴 식별자에 따라 근사 도형 정보를 생성한다. 해당 근사 도형 정보는 해당 패턴 식별자에 의해 식별되는 도형 패턴에 대응하는 도형을 근사하는 근사　도형을 나타내는 근사 도형 정보이다. 근사 도형 정보를 생성하는 것은 통상, 근사 도형을 구성하는 1 이상의 각 직사각형을 나타내는 1 이상의 좌표 정보를 획득하는 것이다. 또한, “근사 도형 정보를 생성하다”를 이하, “근사 도형을 생성하다”로 표기한다. 또한, 입력 도형 정보가 나타내는 도형을 이하, 원 도형이라고 한다. 또한, 근사 도형은 통상, 미리 정해진 방법이나 절차에 따라 직사각형을 배치하는 것이나　입력 도형 정보가 나타내는 도형을 1 이상의 직사각형으로 분할하는 것 등에 의해 생성된다. 또한, 판단부(13)가 획득한 패턴 식별자에 의해 식별되는 도형 패턴은 통상, 다음 중 어느 것이다.
A) 보조 패턴
B) 제1 메인 패턴
C) 제2 메인 패턴
A)에 대하여 : 이 경우 생성 수단(143)은 통상, 보조 패턴에 대응하는 도형의 중심선을 따라 해당 도형 폭에 적합한 1 이상의 직사각형을 배치한다. 그리고 생성 수단(143)은 해당 배치에 의해, 보조 패턴에 대응하는 1 이상의 각 도형에　근사하는 1 이상의 근사 도형을 생성한다. 중심선을 따르는 것은　통상, 직사각형의 중심이 중심선과 겹치도록 배치하는 것이다. 또한, 중심선을　따르는 것은　예를 들어, 직사각형의 4 개의 꼭지점 중 어느 꼭지점이나 직사각형을 구성하는 4 개의　변 중 어느 변 등이　중심선과 겹치도록 배치하는 것이어도 좋다. 또한, 중심선을 따라 배치하는 경우,　생성 수단(143)은 통상, 중심선의 한쪽 끝점에서 중심선의 다른 쪽 끝점을 향해 차례로 직사각형을 배치한다. 또한, 생성 수단(143)은 예를 들면, 보조 패턴에 대응하는 도형의 중심선을 따르지 않고, 해당 도형 폭에 적합한 1 이상의 직사각형을 배치하여도 좋다.
또한, 도형 폭에　적합한 직사각형이란 통상, 단변 길이, 장변 길이, 대각선 길이 중　어느 것이　해당 도형 폭과 미리 정해진 조건(이하, 직사각형 크기 조건이라 함)을 만족하는 정도로 가까운 직사각형이다. 해당 직사각형 크기 조건은 통상, 직사각형의 크기에 대한 조건이다. 직사각형의 크기는 예를 들면, 직사각형의 단변 길이, 직사각형의 장변 길이, 직사각형의 대각선 길이 중 어느 것이다. 또한, 배치하는 직사각형은 배치마다　크기가 달라도 좋다.
또한, 상기의 배치에서 생성 수단(143)은 통상, 직사각형끼리 겹치지 않게 직사각형을 배치한다. “직사각형끼리 겹치지 않게”는 통상, 이미 배치된 직사각형에 인접하게 직사각형을 배치하는 것이다.
또한, 상기의 배치에서 생성 수단(143)은 예를 들어, 직사각형끼리 겹치도록 직사각형을 배치하여도 좋다. “직사각형끼리 겹치도록”은 통상, 이미 배치된 도형과 중첩되는 부분의 크기가 미리 정해진 조건(이하, 중첩량 조건)을 충족하도록 직사각형을 배치하는 것이다. 해당 중첩량 조건은 통상, 도형끼리 중첩되는 부분의 크기(면적)에　관한 조건이다. 또한, 중첩량 조건은 예를 들어, 배치한 도형의 크기에 대한 해당 중첩되는 부분의 크기의 비율에 관한 조건이어도 좋다.
또한, 해당 중첩량 조건은 예를 들면, 도형끼리 중첩되는 부분의 크기가 “0”것을 의미하는 경우, 생성 수단(143)은 통상, 직사각형끼리 인접하도록 직사각형을 배치한다.
또한, 상기의 배치에서 생성 수단(143)은 예를 들어, 배치한 직사각형의 위치나 배치한 직사각형의 크기 등을 이용하여 다음으로 직사각형을 배치하는 위치나 배치하는 직사각형의 크기 등을 결정한다. 해당 위치란 예를 들어, 직사각형의 중심에 대응하는 좌표나 직사각형의 4개의 꼭지점 중 어느 것이 1 이상의 꼭지점에 대응하는 좌표 등이다. 또한, 해당 위치나 크기는 예를 들어, 미리 정해진 계산식에 의해 산출되어도 좋다. 해당 산출식은 예를 들어, 직사각형의 가로 폭, 직사각형의　세로 폭, 직사각형의 위치 등을 나타내는 변수나 그 외의 정수 등을　갖는다.
또한, 상기의 배치에서 생성 수단(143)은 통상, 원 도형과 근사 도형과의 오차가 오차 조건을 충족시키는 정도로 작아지도록 근사 도형을 생성한다. 원 도형과 근사 도형의 오차는 예를 들어, 원 도형의 크기와 근사 도형의 크기와의 차이, 원 도형의 윤곽선의 길이와 근사 도형의 윤곽선의 길이와의 차이, 원 도형의 윤곽선과 근사 도형의 윤곽선과의 교점의 수 등이다. 해당 “차이”란 예를 들면, 백분율이나 비율등이어도 좋다.
즉, 생성 수단(143)은 예를 들어, 원 도형과 근사 도형과의 오차가 오차 조건을 충족하는지 여부를 판단한다. 그리고 예를 들어, 해당 오차가 오차 조건을 충족하지 못하는 경우, 생성 수단(143)은 해당 오차가 오차 조건을 충족하도록 예를 들어,　재차 직사각형의 배치나　근사 도형의 확대 또는 축소 등을 실시한다.
또한, 생성 수단(143)은 보조 패턴에 대응하는 도형에 대하여, 해당 도형의 중심선을 따라 1 이상의 직사각형을 배치함으로써　해당 도형의 크기와의 오차가 오차 조건을 충족시킬 정도로 작은 근사 도형을 생성할 수 있다면 좋다. 또한, 해당 근사 도형을 생성하는 방법이나 절차 등은 불문한다.
B)에 대하여 : 이 경우 생성 수단(143)은 통상, 제1 메인 패턴에 대응하는 도형의 근사 윤곽선이 나타내는 도형의 형상에 적합한 1 이상의 직사각형을 순서대로 배치한다. 그리고 생성 수단(143)은 해당 배치에 의해,　제1 메인 패턴에 대응하는 1 이상의 각 도형에 근사하는 1 이상의 근사 도형을 생성한다. 근사 윤곽선이 나타내는 도형의 형상에 적합한 직사각형이란 통상, 크기가 해당 근사 윤곽선이 나타내는 도형보다 작은 직사각형이다. 또한, 해당 근사 윤곽선은 통상, 근사 윤곽선 획득 수단(142)이 획득한 근사 윤곽선이다.
또한, 상기의 배치에서 생성 수단(143)은 통상, 근사 윤곽선을 따라 직사각형을 배치한다. “근사 윤곽선을 따라”란 통상, 배치된 직사각형이 근사 윤곽선에서 튀어 나오는 일 없이 빈틈없이 직사각형을 배치하는 것이다.
또한, 상기의 배치에서 생성 수단(143)은 예를 들어, 직사각형끼리 겹치지 않게 직사각형을 배치해도 좋고, 직사각형끼리 겹치도록 직사각형을 배치해도 좋다. 직사각형끼리 겹치도록 직사각형을 배치하는 경우, 생성 수단(143)은 통상, 중첩량 조건을 충족하도록 직사각형을 배치한다.
또한, 상기의 배치에서 생성 수단(143)은 통상, 전체 직사각형의 수가 적어지도록 직사각형을 배치한다. 또한, 미리 정해진 다각형의 윤곽선을 따라 미리 정해진 크기 이하의 크기의 전체 직사각형의 수가 적어지도록 배치하는 방법이나 절차 등은 공지이므로, 상세한 설명을 생략한다. 또한, 미리 정해진 다각형이란, 여기에서는 근사 윤곽선이 나타내는 도형이다.
C)에 대하여 : 이 경우 생성 수단(143)은 통상, 제2 메인　패턴에 대응하는 도형의 근사 윤곽선을 따라 해당 근사 윤곽선이 나타내는 도형을 2 이상의 직사각형으로 분할한다. “근사 윤곽선을 따라”란 통상, 근사 윤곽선이 나타내는 도형을 분할하는 직선이 근사 윤곽선을 구성하는 수평 직선 또는 수직 직선과 겹치도록 분할하는 것이다. 또한, “직사각형으로 분할”은 통상, 수평 방향, 수직 방향의 어느 쪽에 분할하기 위한 것이다. 그리고 생성 수단(143)은 해당 분할에 의해　제2 메인　패턴에 대응하는 1 이상의 각 도형에 근사하는 1 이상의 근사 도형을 생성한다.
또한, 이 경우 생성 수단(143)은 통상, 전체 직사각형의 수가 적어지도록　근사 윤곽선을 따라, 근사　윤곽선을 수평 방향　또는 수직 방향으로 2 이상의 직사각형으로 분할한다. 생성 수단(143)은 예를 들어, 수평 방향, 수직 방향의 각 방향에서 근사 윤곽선이 나타내는 도형을 분할하여 2개의 근사 도형을 생성한다. 그리고 생성 수단(143)은 해당 분할하여　획득된 직사각형 수가 적은 쪽의 근사 도형을 획득한다.
또한, 미리 정해진 다각형을, 분할 후의 전체 직사각형의 수가 적어지지 않도록 해당 다각형의 윤곽선을 따라 수평 방향 또는 수직 방향으로 분할하는 방법이나 절차 등은 공지이므로 상세한 설명을 생략한다. 또한, 미리 정해진 다각형이란, 여기에서는 근사 윤곽선이 나타내는 도형이다.
또한, 입력 도형 정보가 나타내는　하나의 도형에 대해 판단부(13)가 상기 3가지 패턴 이외의 패턴이라고 판단하는 경우, 생성 수단(143)은 통상, 미리 정해진 방법이나 절차 등에 의해　해당 도형에　대응하는 근사 도형을 나타내는 근사 도형 정보를 생성한다. 해당 미리 정해진 방법이나 절차 등을 나타내는 정보를 이하, 생성 수단 정보라 한다. 생성 수단 정보는 통상, 근사 도형 정보를 생성하는 알고리즘을 표현한 것이다. 생성 수단 정보는 예를 들어, 입력 도형 정보에서 근사 도형 정보를 생성하는 실행 프로그램, 입력 도형 정보에서 근사 도형 정보를 생성하는 단계를 나타내는 소스 코드, 해당 단계를 나타내는　유사 프로그램 코드, 해당 단계를 나타내는 흐름도 등이다. 또한, 유사 프로그램 코드란 알고리즘을 자연언어를 이용하여 프로그래밍 언어와 같이 기술한 것이다. 또한, 유사 프로그램 코드의 문법은 통상, 기존의 프로그래밍 언어의 문법과 비슷한 것이다.
묘화부(15)는 생성부(14)가 생성한 근사 도형 정보가 나타내는 1 이상의 근사 도형을 그린다. 해당 묘화의 대상은 불문한다. 해당 묘화의 대상은 예를 들면, 포토 마스크나 웨이퍼 등이다. 또한, 묘화부(15)는 통상, 전계 방출형, 쇼트키형, 열전자형 등의 전자총, 전자 렌즈, 높이 검출기 등에서 실현 될 수 있다. 또한, 묘화부(15)가 발하는 전자선의 단면 형상은 통상, 직사각형이다. 또한, 묘화부(15)의 처리 단계는 통상, 소프트웨어로 실현되고, 해당 소프트웨어는 ROM 등의 기록 매체에 기록되어 있다.
또한, 도형 폭 획득부(12), 거리 맵 생성 수단(121), 도형 폭 획득 수단(122), 판단부(13), 생성부(14), 중심선 획득 수단(141), 근사 윤곽선 획득 수단(142), 생성 수단(143)은 통상, MPU나 메모리 등으로 실현 될 수 있다. 또한, 도형 폭 획득부(12)등의 처리 단계는 통상, 소프트웨어로 실현되고, 해당 소프트웨어는 ROM 등의 기록 매체에 기록되어 있다.또한, 도형 폭 획득부(12) 등은 하드웨어(전용 회로)에서 실현되어도 좋다.
다음으로, 전자빔 묘화 장치(1)의 전체 동작에 대해 흐름도를 이용하여 설명한다. 또한, 소정의 정보의 i 번째 정보는 “정보 [i]”로 기재하기로 한다. 도 4는 전자빔 묘화 장치(1)의 전체 동작을 나타내는 흐름도이다.
도형 폭 획득부(12)는 수신부(11)가 입력 도형 정보를 수신한지 여부를 판단한다(단계 S401). 수신한 경우, 단계 S402로 진행하고, 그렇지 않은 경우는 단계 S401로 돌아온다. 여기서 해당 입력 도형 정보는 m개의 도형을 나타내는 것으로 한다.
생성부(14)는 카운터 i에 1을 대입한다(단계 S402).
도형 폭 획득부(12)는 도형 [i]의 도형 폭을 획득한다(단계 S403). 이 처리의 자세한 내용은 도 5의 흐름도를 이용하여 설명한다.
판단부(13)는 단계 S403에서 획득한 도형 폭이 도형 분류 기준을 충족하는지 여부를 판단한다(단계 S404). 충족하는 경우 단계 S405으로 진행하고, 그렇지 않은 경우는 단계 S406으로 진행한다.
생성부(14)는 보조 패턴에 대응하는 도형 [i]에 대응하는 근사 도형을 생성한다(단계 S405). 이 처리의 자세한 내용은　도 6의 흐름도를 이용하여 설명한다.
근사 윤곽선 획득 수단(142)은 도형 [i]에 해당하는 근사 윤곽선을 획득한다(단계 S406).
판단부(13)는 도형 [i]의 크기가 최대 샷 크기보다 큰지 여부를 판단한다(단계 S407). 최대 샷 크기보다 큰 경우 단계 S408로 진행하고, 그렇지 않은 경우는 단계 S409로 진행한다.
생성 수단(143)이 단계 S406에서 획득한 근사 윤곽선을 따라 1 이상의 직사각형을 배치한다(단계 S408). 해당 배치에 의해　생성 수단(143)은 도형 [i]에 대응하는 근사 도형을 생성한다.
생성 수단(143)은 단계 S406에서 획득한 근사 윤곽선을 따라 해당 근사 윤곽선이 나타내는 도형을 2 이상의 직사각형으로 분할한다(단계 S409). 해당 분할에 의해 생성 수단(143)은 도형 [i]에 대응하는 근사 도형을 생성한다.
생성부(14)는 i가 m인지 여부를 판단한다(단계 S410). m인 경우는 단계 S412로 진행하고, 그렇지 않은 경우는 단계 S411로 진행한다.
생성부(14)는 i를 1 증가시킨다(단계 S411). 그리고, 단계 S403으로 돌아온다.
묘화부(15)는 단계 S403에서 단계 S409까지 생성한 1 이상의 각 근사 도형을 묘화한다(단계 S412).
또한, 도 4의 흐름도에서 전원 끄기나 처리 완료의　개입에 의해 처리를 종료하여도 좋다.
또한,　도 4의 흐름도에서 단계 S403의 처리를 m개의 각 도형마다 실시하여도 좋다. 또한, 이 경우 단계 S404에서 단계 S409까지의 처리를 m개의 각 도형마다 실시하게 된다.
또한, 도 4의 흐름도에서 단계 S404의 처리는　이하의 단계 S404-1의 처리와 밀접하다. 판단부(13)는 도형 폭이 충족하는 도형 분류 조건에 대응하는 패턴 식별자를 저장부(10)에서 획득한다(단계 S404-1). 그리고 보조 패턴을 식별하는 패턴 식별자를 획득한 경우, 단계 S405로 진행한다. 또한, 메인 패턴을 식별하는 패턴 식별자를 획득한 경우, 단계 S406으로 진행한다.
또한,　도 4의 흐름도에서 단계 S407의 처리는　이하의 단계 S407-1의 처리와 밀접하다. 판단부(13)는 도형 [i]의 크기가 최대 샷 크기보다 큰지 여부를 판단한다(단계 S407-1).최대 샷 크기보다 큰 경우, 판단부(13)는 제1 메인 패턴을 식별하는 패턴 식별자를 저장부(10)로부터 획득한다.또한, 최대 샷 크기보다 크지 않은 경우, 판단부(13)는 제2 메인　패턴을 식별하는 패턴 식별자를 저장부(10)로부터 획득한다. 그리고 제1 메인 패턴을 식별하는 패턴 식별자를 획득한 경우, 단계 S408로 진행한다. 또한,　제2 메인 패턴을 식별하는 패턴 식별자를 획득한 경우, 단계 S409로 진행한다.
도 5는　도 4의 흐름도의 단계 S403의 도형 폭의　획득 처리를 나타내는 흐름도이다. 또한, 도 5의 흐름도에서 도 4의 흐름도의 “도형 [i]”는 “도형”으로 표기하기로 한다.
거리 맵 생성 수단(121)은 입력 도형 정보를 이용하여 도형의 비트맵 이미지를 생성한다(단계 S501).
거리 맵 생성 수단(121)은 단계 S501에서 생성한 비트맵 이미지를 이용하여 도형의 윤곽선을 획득한다(단계 S502).
거리 맵 생성 수단(121)은 단계 S502에서 획득한 윤곽선을 이용하여 도형의 중심선을 획득한다(단계 S503). 여기에 해당 중심선은 m개의 점으로 구성되는 것으로 한다.
거리 맵 생성 수단(121)은 카운터 i에 1을 대입한다(단계 S504).
거리 맵 생성 수단(121)은 점 [i]에서 단계 S502에서 획득한 윤곽선까지의 최단 거리를 획득한다(단계 S505).
폭 획득 수단(122)은 단계 S505에서 획득한 거리를 2배로 하고, 점 [i]의 도형 폭 [i]에 대입한다(단계 S506).
거리 맵 생성 수단(121)은 i가 m인지 여부를 판단한다(단계 S507). m인 경우는 단계 S509으로 진행하고 그렇지 않은 경우는 단계 S508으로 진행한다.
거리 맵 생성 수단(121)은 i를 1 증가시킨다(단계 S508). 그리고, 단계 S505로 돌아온다.
거리 맵 생성 수단(121)은 단계 S506에서 획득한 m개의 폭의 평균을 도형 폭에 대입한다(단계 S509). 그리고 상위 처리로 복귀한다.
도 6은　도 4의 흐름도 단계 S405의 보조 패턴에 대응하는 근사 도형 정보의 생성 과정을 나타내는 흐름도이다. 또한, 도 6의 흐름도에서 도 4의 흐름도의 “도형 [i]”는 “도형”으로 표기하기로 한다.
중심선 획득 수단(141)은 도형의 중심선을 획득한다(단계 S601).
생성 수단(143)은 단계 S601에서 획득한 중심선의 시작 좌표를 배치 위치에 대입한다(단계 S602). 중심선의 시작 좌표란 중심선의 양쪽 끝점 중 어느 한 쪽을 나타내는 좌표이다.
생성 수단(143)은 배치 위치에서 도형 폭에 따라 배치하는 직사각형의 크기를 결정한다(단계 S603).
생성 수단(143)은 배치 위치에 단계 S603에서 크기를 결정한 직사각형을 배치한다(단계 S604).
생성 수단(143)은 단계 S604에서 배치한 직사각형과 이미 배치된 직사각형이 중첩되는 부분의 크기가　중첩량 조건을 충족하는지 여부를 판단한다(단계 S605). 중첩량 조건을 충족하는 경우　단계 S607으로 진행하고, 그렇지 않은 경우는 단계 S606으로 진행한다.
생성 수단(143)은 단계 S604에서 배치한 직사각형과 이미 배치된 직사각형과 중첩되는 부분의 크기가 중첩량 조건을 충족하도록 단계 S604에서 배치한 직사각형의 배치 위치 및 크기를 변경한다(단계 S606).
생성 수단(143)은 단계 S604에서 배치한 직사각형의 크기나 단계 S604을 배치한 위치에서 도형 폭 등에 따라 다음에 배치하는 직사각형의 위치와 크기를 결정한다(단계 S607).
생성 수단(143)은 배치 위치가 중심선의 종료 좌표보다 큰지 여부를 판단한다(단계 S608). 중심선의 종료 좌표는 중심선의 양쪽 끝점 중 시작 좌표로 표시되는 점이 아닌 쪽의 점을 나타내는 좌표이다. 그리고 종료 좌표보다 큰 경우는 상위 처리로 복귀하고, 그렇지 않으면 단계 S604로 돌아간다.
(구체적인 실시예)
다음으로 전자빔 묘화 장치(1)의 동작의 구체적인 실시예에 대해 설명한다.
(예 1)
본 예에서는 거리 맵을 이용하여 도형 폭을 획득하는 예에　대해 설명한다.
먼저 수신부(11)가 도 7에 나타내는 도형을 나타내는 입력 도형 정보를 수신한 것으로 한다.
다음으로 거리 맵 생성 수단(121)은 수신부(11)가 수신한 입력 도형 정보를 이용하여　도 8에 나타내는　비트맵 이미지를 생성한다. 해당 비트맵 이미지는 도 7의 도형의 내측을 “흰색”으로, 해당 도형의 외측을 “검정색”으로 한 이미지이다.
다음으로 거리 맵 생성 수단(121)은 도 8의 비트맵 이미지를 이용하여 해당 비트맵 이미지가 나타내는 도형의 윤곽선을 나타내는 좌표 집합을 획득한다. 이때 거리 맵 생성 수단(121)은 예를 들어, 도 8의 비트맵 이미지에서 흰색 화소와 검정색 화소가 인접하는 2개의 화소를 검출한다. 그리고 거리 맵 생성 수단(121)은 해당 흰색 화소의 위치를 나타내는 1 이상의 좌표를 획득한다. 또한, 해당 “인접”은 상하 또는 좌우 어느 쪽이든 좋다.
다음으로 거리 맵 생성 수단(121)은 윤곽선을 나타내는 좌표 집합을 이용하여 x 좌표가 동일한 2개의 좌표의 y 좌표의 평균을 산출한다. 그리고 거리 맵 생성 수단(121)은 해당 2개의 좌표의 중점을 나타내는 1 이상의 좌표를 획득하고,　도 9에 나타내는 중심선을 획득한다.
다음으로 거리 맵 생성 수단(121)은 윤곽선을 나타내는 좌표 집합과 중심선을 나타내는 좌표 집합을 이용하여 중심선을 나타내는 1 이상의 좌표가 나타내는 점에서 윤곽선까지의 거리를 산출한다. 또한, 이 때, 거리 맵 생성 수단(121)은 예를 들어, 중심선 이외의 점에 대해서도　윤곽선까지의 거리를 산출한다. 또한, 이 때, 거리 맵 생성 수단(121)은 예를 들어,　도 7의 도형의　외측의 점에 대해서 윤곽선까지의 거리를 “0”으로 산출한다. 이 결과, 생성한 거리 맵은 예를 들어,　도 10이다. 도 10의 각 셀은　도 8의 비트맵 이미지의 각 화소에 대응한다. 또한, 도 10에서 값이 “0”인 셀은 도 7의 도형의　외측 화소에 대응하고, 값이 “0”이 아닌 셀은 도 7의 도형의 내부 화소에 대응한다. 또한,　도 10에서 값이 “90”인 셀은　도 9의 중심선을 구성하는 화소(점)에 해당하는 것으로 한다.
다음으로 도형 폭 획득 수단(122)은 중심선을 구성하는 1 이상의 각 점에 대응하는 윤곽선까지의 거리를　도 10의 거리 맵에서 획득한다. 여기서, 도형 폭 획득 수단(122)은 예를 들어, 도 9의 중심선에 대해 상단 끝점에 대응하는 거리 “90”을 획득한 것으로 한다. 그러자 도형 폭 획득 수단(122)은 해당 획득한 거리를 2배로 하고, 해당 끝점에 대응하는 도형 폭 “180”을 획득한다.
또한, 도형 폭 획득 수단(122)은 통상, 상기와 같은 처리를 중심선을 구성하는 1 이상의 각 점에 대해 실시하고,　해당 1 이상의 각 점에 대응하는 도형 폭을 획득한다.
(예 2)
본 예에서는 거리 맵을 이용하지 않고 도형 폭을 획득하는 예에 대해 설명한다.
먼저 수신부(11)가 예 1과 동일하게　도 7에 나타내는　도형을 나타내는 입력 도형 정보를 수신한 것으로 한다.
다음으로 도형 폭 획득 수단(122)은 도 11에 나타낸 바와 같이 도형에 외접하는 최소 직사각형을 구성하는 단변에 평행 한 2 이상의 각 직선과 도형 윤곽선과의 교점인 2 이상의 폭 형성점을 검출한다. 그리고, 도형 폭 획득 수단(122)은 해당 2 이상의 각 폭 형성점을 나타내는 2개의 좌표를 갖는 2 이상의 좌표 집합을 획득한다. 여기서 해당 2 이상의 각 직선의 간격은　도 11에서는 “1”인 것으로 한다.
다음으로 도형 폭 획득 수단(122)은 획득한 1 이상의 좌표 집합마다 해당 좌표 집합이 갖는 2 개의 각　좌표가 나타내는 2개의 점 사이의 거리를 산출한다. 그리고, 도형 폭 획득 수단(122)은 해당 1 이상의 각 교점에 대응하는 도형 폭을 획득한다.
(예 3)
본 예에서는 보조 패턴에 대응하는 도형에 해당하는 근사 도형의 생성 예에 대해 설명한다. 본 예에서 보조 패턴에 대응하는 도형은　도 7에 나타내는　도형인 것으로 한다. 즉, 해당 도형은 판단부(13)에 의해 보조 패턴을 식별하는 패턴 식별자를　획득한 도형이다. 또한, 이 때의 도형 분류 조건은 예를 들면, 이하의 조건이다.
(도형 분류 조건) 도형 폭이 200 이하인 한편, 도형 폭이 일정한 것
먼저 중심선 획득 수단(141)은 도 7의 도형을 나타내는 입력 정보를 이용하여　도 12에 나타낸 것과 같이 도 7의 도형의 중심선을 획득한다. 해당 중심선의 획득 예는 예 1과 동일하므로 설명을 생략한다.
다음으로 생성 수단(143)은 도 12의 중심선을 따라 1 이상의 직사각형을 배치한다.이 때 생성 수단(143)은 도 12의 중심선의 상단에서 하단을 따라 순서대로 직사각형을 배치한다. 또한, 이 때 생성 수단(143)은 배치하는 직사각형의 중심, 또는 4개의 꼭지점 중 어느 하나, 또는　4개의 변의 중점 중 어느 하나가 중심선과 겹치도록 배치한다. 또한, 이 때 생성 수단(143)은 직사각형끼리 겹치지 않게 직사각형을 배치한다. 또한, 이 때 생성 수단(143)은 배치한 직사각형의 크기, 배치한 위치, 배치한 위치의 수평 방향 직선과 도형 윤곽선과의 교점인 2개의 점 사이의 거리 등에 따라 다음에 배치하는 직사각형의 크기를 결정한다. 해당 배치 결과, 생성 수단(143)이　생성한 근사 도형의 예는　도 13이다.
도　12에서 생성 수단(143)은 먼저 해당 도형의 상단에 외접하는 직사각형(도 13의 직사각형 a)을 배치한다. 해당 직사각형 a의 가로 폭은 예를 들어,　도 12의 도형의 윤곽선과 수평 방향 직선과의 교점인 2개 점 사이의 거리이다. 또한, 해당 직사각형의　세로 폭은 예를 들어, 원 도형과 근사 도형의 오차가 오차 조건을 만족시키는 한편　전체 직사각형의 수가 최소가 되도록 결정된다. 다음으로 생성 수단(143)은 도 13의 직사각형 a에 인접한 도 13의 직사각형 b를 배치한다. 해당 직사각형 b의 가로 폭 및 세로 폭은 예를 들어, 직사각형 a의 가로 폭 및 세로 폭과 동일하다. 다음으로 생성 수단(143)은 도 13의 직사각형 b와 동일하게 도　13의 직사각형 c, d, e, f, g, h, i, j, k, l을 순서대로 배치한다.
또한, 직사각형끼리 겹치도록 배치한 결과, 생성 수단(143)이　생성한 근사 도형의 예는　도 14이다. 도 12에서 생성 수단(143)은 먼저 해당 도형의 상단에 외접하는 직사각형(도 14의 직사각형 a)을 배치한다. 해당 직사각형 a의 가로 폭은 예를 들어, 도 12의 도형의 윤곽선과 수평 방향　직선과의 교점인 2개　점 사이의 거리이다. 또한, 해당 직사각형의 세로 폭은 예를 들어, 미리 정해진 세로 폭의 범위 내에서 임의로 선택한다. 다음으로 생성 수단(143)은 도 14의 직사각형 a에 인접하는 도 14의 직사각형 b를 배치한다. 해당 직사각형 b의 가로 폭 및 세로 폭은 예를 들어, 직사각형 a의 가로 폭 및 세로 폭과 동일하다. 다음으로 생성 수단(143)은 도 14의 직사각형 b에 중첩되는 도 14의 직사각형 c를 배치한다. 해당 직사각형 c의 가로 폭은 예를 들어, 직사각형 b의　가로 폭과 동일하다. 또한, 해당 직사각형 c의 세로 폭은 예를 들어, 직사각형 b의 세로 폭의 2배이다. 다음으로 생성 수단(143)은 도 14의 직사각형 c와 동일하게 도 14의 직사각형 d, e, f, g, h, i, j를 순서대로 배치한다.
(예 4)
본 예에서는 제1 메인 패턴에 대응하는 도형에 대응하는 근사 도형의 생성 예에 대해 설명한다. 본 예에서 제1 메인 패턴에 대응하는 도형은 도 15에 나타내는 도형인 것으로 한다. 즉, 해당 도형은 판단부(13)에 의해　메인 패턴을 식별하는 패턴 식별자 및 제1 메인 패턴을 식별하는 패턴 식별자가 획득된 도형이다. 이 때의 도형 분류 조건은 예를 들면, 이하의 조건이다. 또한 이 때의 최대 샷 크기는 예를 들면,　이하의 크기이다.
(도형 분류 조건) 도형 폭이 200보다 큰 경우
(최대 샷 크기) 250×250
먼저 근사 윤곽선 획득 수단(142)은 도 15의 도형을 나타내는 입력 도형 정보를 이용하여 도 16에 나타낸 것과 같이 도 15의 도형의 윤곽선을 양자화하여 해당 도형 근사 윤곽선을 획득한다. 도 16에서 점선은 도 15의 도형의 윤곽선을 나타낸다.
다음으로 생성 수단(143)은 도 16의 윤곽선을 따라 최대 샷 크기 이하의 1 이상의 직사각형을 배치한다. 해당 배치 결과, 생성 수단 143이 생성한 근사 도형의 예는 도 17이다.도 16에서 생성 수단(143)은 먼저 최대 샷 크기 이하의 직사각형이고, 도 16의 윤곽선 내에　들어가는 최대의 직사각형(도 17의 직사각형 a)을 배치한다. 다음으로 생성 수단(143)은 도 16의 윤곽선 내 직사각형이 배치되어 있지 않은 영역에 대해, 도 17의 직사각형 a에 인접하는 직사각형이며, 해당 영역에 배치 할 수 있는 최대의 직사각형을 배치한다. 해당 직사각형은 도 17의 직사각형 b1과 직사각형 b2이다. 다음으로 생성 수단(143)은 도 17의 직사각형 b1, b2와 동일하게 도 17의 직사각형 c1, c2, d1, d2를 순서대로 배치한다. 그리고 생성 수단(143)은 마지막으로 도 17의 직사각형 e1, e2를 배치한다.
(예 5)
본 예에서는 제2 메인 패턴에 대응하는 도형에 대응하는 근사 도형의 생성 예에 대해 설명한다. 본 예에서 제2 메인 패턴에 대응하는 도형은 도 15에 나타내는　도형인 것으로 한다. 즉, 해당 도형은 판단부(13)에 의해　메인 패턴을 식별하는 패턴 식별자 및 제2 메인 패턴을 식별하는 패턴 식별자가 획득된 도형이다. 이 때의 도형 분류 조건은 예를 들면, 이하의 조건이다. 또한, 이 때의 최대 샷 크기는 예를 들면, 이하의 크기이다.
(도형 분류 조건) 도형 폭이 200보다 큰 경우
(최대 샷 크기) 250×250
먼저 근사 윤곽선 획득 수단(142)은 도 15의 도형을 나타내는 입력 도형 정보를 이용하여 도 16에 나타낸 것과 같이 도 15의 도형의 윤곽선을 양자화하여 해당 도형 근사 윤곽선을 획득한다. 도 16에서 점선은 도 15의 도형의 윤곽선을 나타낸다.
다음으로 생성 수단(143)은 도 16의 윤곽이 나타내는 도형을 해당 윤곽선을 구성하는 수평 직선을 따라 위에서부터 순서대로 직사각형으로 분할한다. 해당 분할 결과, 생성 수단(143)이 생성한 근사 도형의 예는 도 18이다. 도 16에서 생성 수단(143)은 먼저 위에서　2번째 수평 직선을 따라 윤곽선이 나타내는 도형을 분할한다. 그 결과, 도 18의 직사각형 a가 생성된다. 다음으로 생성 수단(143)은 도 16의 윤곽선의 위에서 3번째 수평 직선을 따라 윤곽선가 나타내는 도형을 분할한다. 그 결과, 도 18의 직사각형 b가 생성된다. 다음으로 생성 수단(143)은 도 18의 직사각형 a, b와 동일하게　도 16의 윤곽선이 나타내는 도형을 순서대로 분할한다. 그 결과, 도 18의 직사각형 c에서 직사각형 i까지가 생성된다. 또한, 본 예에서 도 15의 도형의 크기는 최대 샷 크기 이하이기 때문에　도 18의 각 직사각형의 크기는 필연적으로 최대 샷 사이즈 이하가 된다.
이상, 본 실시예에 따른 전자빔 묘화 장치(1)에 의하면, 프랙처링 시의 전체 직사각형 수를 줄여　묘화 시간을 줄일 수 있다.
본 실시예에서는 직사각형을 이용하여 1 이상의 각 도형에 근사하는 1 이상의 도형을 나타내는 근사 도형 정보를 생성하는 묘화용 도형 데이터 생성 장치(2)에 대해 설명한다.
도 19는 본 실시예의 묘화용 도형 데이터 생성 장치(2)의 블록도이다. 묘화용 도형 데이터 생성 장치(2)는 수신부(11), 도형 폭 획득부(12), 판단부(13), 생성부(14)를 구비한다. 또한, 도형 폭 획득부(12)는 거리 맵 생성 수단(121), 도형 폭 획득 수단(122)을 구비한다. 또한, 생성부(14)는 중심선 획득 수단(141), 근사 윤곽선 획득 수단(142), 생성 수단(143)을 구비한다.
또한, 묘화용 도형 데이터 생성 장치(2)가 생성한 근사 도형 정보는 도형의 묘화를 실행하는 장치(예를 들면, 실시예 1의 전자빔 묘화 장치(1)) 등에 송신된다. 그리고 근사 도형 정보를 수신한 장치는 근사 도형 정보가 나타내는 1 이상의 도형을 묘화한다.
또한, 묘화용 도형 데이터 생성 장치(2)의 전체 동작을 나타내는 흐름도는 도 9의 흐름도의 단계 S912 이외의 처리와 동일하므로 설명을 생략한다.
또한, 묘화용 도형 데이터 생성 장치(2)의 동작의 구체적 실시예는 실시예 1의 구체적 실시예와 동일하므로 설명을 생략한다.
또한, 상기 각 실시예의 전자빔 묘화 장치는 예를 들어, 독립형 장치여도 좋고,　서버 클라이언트 시스템의 서버 장치여도 좋다.
또한, 상기 각 실시예의　각 처리 또는 각 기능은 단일 장치 또는 단일 시스템에 의해　집중 처리됨으로써 실현되어도 좋고, 또는　복수의 장치 또는 복수의 시스템에 의해　분산 처리됨으로써 실현되어도 좋다.
또한, 상기 각 실시예에서 각 구성 요소는 전용 하드웨어로 구성되어도 좋고, 또는 소프트웨어에 의해 실현 가능한 구성 요소는 프로그램을 실행함으로써 실현되어도 좋다. 예를 들어, 하드디스크나 반도체 메모리 등의 기록 매체에 기록된 소프트웨어 프로그램을 CPU 등의 프로그램 실행부가 읽어내어 실행함으로써 각 구성 요소가 실현될 수 있다.
또한, 상기 각 실시예의 전자빔 묘화 장치를 실현하는 소프트웨어는 예를 들어, 다음과 같은　프로그램이다. 즉, 이 프로그램은 컴퓨터를 1 이상의 도형을 나타내는 정보인 입력 도형 정보를 수신하는 수신부, 상기 입력 도형 정보가 나타내는 1 이상의 각 도형 폭을 획득하는 도형 폭 획득부, 상기 도형 폭에 적합한 1 이상의 직사각형으로 구성된 도형이며, 상기 입력 도형 정보가 나타내는 1 이상의 각 도형에 근사하는 도형인 1 이상의 근사 도형을 나타내는 근사 도형 정보를 생성하는 생성부, 및 상기 생성부가 생성한 근사 도형 정보가 나타내는 1 이상의 근사 도형을　묘화하는 묘화부로써 기능시키기 위한 프로그램이다.
또한, 상기 각 실시예의　묘화용 도형 데이터 생성 장치를 실현하는 소프트웨어는 예를 들어,　다음과 같은 프로그램이다. 즉, 이 프로그램은 컴퓨터를 1 이상의 도형을 나타내는 정보인 입력 도형 정보를 수신하는 수신부, 상기 입력 도형 정보를 나타내는 1 이상의 각 도형 폭을 획득하는 도형 폭 획득부, 및 상기 도형 폭에 적합한 1 이상의 직사각형으로 구성된 도형이며, 상기 입력 도형 정보가 나타내는 1 이상의 각 도형에 근사하는 도형인 1 이상의 근사 도형을 나타내는 근사 도형 정보를 생성하는 생성부로써 기능시키기 위한 프로그램이다.
또한, 상기 프로그램에서 상기 프로그램이 실현하는 기능에는 하드웨어로 밖에 실현될 수 없는 기능은 포함되지 않는다.
또한, 상기 프로그램은 서버 등에서 다운로딩 됨으로써 실행되어도 좋고, 소정의 기록 매체(예를 들면, CD-ROM 등의 광디스크나 자기 디스크, 반도체 메모리 등)에 기록된 프로그램이 읽혀짐으로써 실행되어도 좋다. 또한, 이 프로그램은 프로그램 제품을 구성하는 프로그램으로써 이용되어도 좋다.
또한, 상기 프로그램을 실행하는 컴퓨터는 단수여도 좋고, 복수여도 좋다. 즉, 집중 처리를 해도 좋고, 또는 분산 처리를 해도 좋다.
또한, 도 21은 상술한 프로그램을 실행하여 상술한 실시예의 전자빔 묘화 장치 등을 실현하는 컴퓨터 시스템(9)의 개관도이다. 상술한 실시예는 컴퓨터 하드웨어 및 그 상위에서 실행되는 컴퓨터 프로그램으로 실현 될 수 있다.
도 21에서 컴퓨터 시스템(9)은 CD-ROM 드라이브(9011)와 FD 드라이브(9012)를 포함하는 컴퓨터(901), 키보드(902), 마우스(903), 및　모니터(904)를 구비한다.
도 22는 컴퓨터 시스템(9)의 블록도이다. 도 22에서 컴퓨터(901)는　CD-ROM 드라이브(9011), FD 드라이브(9012)와 더불어　MPU(9013), 부팅 프로그램 등의 프로그램을 저장하기 위한 ROM(9014), MPU(9013)에　연결되어 응용 프로그램의 명령을 일시적으로 저장하는 동시에 임시 저장 공간을 제공하는 RAM(9015), 응용 프로그램, 시스템 프로그램 및 데이터를 저장하기 위한　하드디스크(9016), 및　CD-ROM 드라이브(9011), FD 드라이브(9012), MPU(9013) 등을 상호 연결하는 버스(9017)를 구비한다. 여기에서는 도시하지 않지만, 컴퓨터(901)는 또한, LAN 연결을 제공하는 네트워크 카드를 더 구비하고 있어도　좋다.
컴퓨터 시스템(9)에 상술한 실시예의 전자빔 묘화 장치 등의 기능을　실행시키는 프로그램은 CD-ROM(9101) 또는 FD(9102)에 저장되어, CD-ROM 드라이브(9011) 또는 FD 드라이브(9012)에 삽입되어　더욱이 하드디스크(9016)에 전송되어도 좋다. 이를 대신해서 프로그램은 도시하지 않은 네트워크를 통해 컴퓨터(901)에 전송되어 하드디스크(9016)에 기억되어도 좋다. 프로그램은 실행 시 RAM(9015)에 로딩된다. 프로그램은 CD-ROM(9101), FD(9102) 또는 네트워크에서 직접 로딩되어도 좋다.
프로그램은 컴퓨터(901)에 상술한 실시예의 전자빔 묘화 장치 등의 기능을 실행시키는 운영 체제(OS) 또는　제3자의 프로그램 등은 반드시 포함하지 않아도 된다. 프로그램은 제어된 형태로 적절한 기능(모듈)을 호출하여 원하는 결과를 얻을 수 있도록 하는 명령 부분만을 포함하고 있으면 된다. 컴퓨터 시스템(9)이 어떻게 작동하는지는 주지이며, 상세한 설명은 생략한다.
본 발명은 이상의 실시예에 한정되지 않고, 여러 가지로 변경이 가능하며,　이 또한　본 발명의 범위에　속하는 것은 당연하다.
이상과 같이, 본 발명에 의한 전자빔 묘화 장치는 프랙처링 시, 전체 직사각형 수를 줄여　묘화 시간을 줄일 수 있는 효과가 있고, 포토 마스크나 웨이퍼 등에 도형을 묘화하는 여러 가지 전자빔 묘화 장치 등으로써 유용하다.
1 : 전자빔 묘화 장치
2 : 묘화용 도형 데이터 생성 장치
10 : 저장부
11 : 수신부
12 : 도형 폭 획득부
13 : 판단부
14 : 생성부
15 : 묘화부
121 : 거리 맵 생성 수단
122 :　도형 폭 획득 수단
141 : 중심선 획득 수단
142 : 근사 윤곽선 획득 수단
143 : 생성 수단

Claims (12)

1 이상의 도형을 나타내는 정보인 입력 도형 정보를 수신하는 수신부;
상기 입력 도형 정보가 나타내는 1 이상의 각 도형 폭을 획득하는 도형 폭 획득부;
상기 도형 폭에　적합하는 1 이상의 직사각형으로 구성된 도형이며, 상기 입력 도형 정보가 나타내는 1 이상의 각 도형에 근사하는 도형인 1 이상의 근사 도형을 나타내는 근사 도형 정보를 생성하는 생성부; 및
상기 생성부가 생성한 근사 도형 정보가 나타내는 1 이상의 근사 도형을 묘화하는 묘화부를 구비하는 전자빔 묘화 장치.
제1항에 있어서,
도형 폭에 대한 조건인 도형 분류 조건과 도형 폭에 기반하는 미리 정해진 패턴을 식별하는 패턴 식별자와 대응하는 정보인 2 이상의 패턴 관리 정보가 저장되는 저장부; 및
상기 도형 폭이 충족하는 도형 분류 조건에 대응하는 패턴 식별자를　획득하는 판단부를 더 구비하고,
상기 생성부는 상기 판단부가 획득한 패턴 식별자에 따라　상이한 방법으로 상기 1 이상의 각 도형에 근사하는 1 이상의 근사 도형을 나타내는 근사 도형 정보를 생성하는 전자빔 묘화 장치.
제2항에 있어서,
상기 저장부에는, 도형 폭이 상기 도형 분류 조건을 충족하는 정도로 작은 도형 패턴인 보조 패턴을 식별하는 패턴 식별자를 갖는 패턴 관리 정보; 및
도형 폭이 상기 도형 분류 조건을 충족하는 정도로 큰 도형 패턴인 메인 패턴을 식별하는 패턴 식별자를 갖는 패턴 관리 정보가　저장되는　전자빔 묘화 장치.
제3항에 있어서,
상기 생성부는 상기 1 이상의 각 도형의 중심선을 획득하는 중심선 획득 수단; 및
상기 중심선을 따라 상기 도형 폭에 적합한 1 이상의 직사각형을 배치함으로써 상기 보조 패턴에 대응하는 1 이상의 각 도형에 근사하는 1 이상의 근사 도형을 나타내는 근사 도형 정보를 생성 하는 생성 수단을 구비하는 전자빔 묘화 장치.
제3항에 있어서,
상기 저장부에는, 최대 샷 크기와 도형의 크기가 최대 샷 크기보다 큰 도형 패턴인 제1 메인 패턴을 식별하는 패턴 식별자와 도형의 크기가 최대 샷 크기 이하인 도형 패턴인 제2 메인 패턴을 식별하는 패턴 식별자가 더 저장되어 있으며,
상기 판단부는 상기 메인 패턴에 대응하는 1 이상의 각 도형의 크기가 최대 샷 크기보다 큰지 여부를 판단하여, 최대 샷 크기보다 큰 경우, 상기 제1 메인 패턴을 식별하는 패턴 식별자를 획득하고, 최대 샷 크기 이하인 경우, 상기 제2 메인 패턴을 식별하는 패턴 식별자를 획득하는 전자빔 묘화 장치.
제5항에 있어서,
상기 생성부는 상기 제1 메인 패턴에 대응하는 도형의 윤곽선이며, 수평 직선 및　수직 직선 및　미리 정해진 각도의 직선으로 구성된 윤곽선인 근사 윤곽선을 획득하는 근사 윤곽선 획득 수단; 및
상기 근사 윤곽선이 나타내는 도형의 형상에 적합한　1 이상의 직사각형을 배치함으로써 상기 제1 메인 패턴에 대응하는 1 이상의 각 도형에 근사하는 1 이상의 근사 도형을 나타내는 근사 도형 정보를 생성하는 생성 수단을 구비하는 전자빔 묘화 장치.
제5항에 있어서,
상기 생성부는 상기 제2 메인 패턴에 대응하는 도형의 윤곽선이며, 수평 직선 및　수직 직선 및　미리 정해진 각도의 직선으로 구성된 윤곽선인 근사 윤곽선을 획득하는 근사 윤곽선 획득 수단; 및
상기 근사 윤곽선이 나타내는 도형을 상기 근사 윤곽선을 따라 2 이상의 직사각형으로 분할함으로써 제2 메인 패턴에 대응하는 1 이상의 각 도형에 근사하는 1 이상의 근사 도형을 나타내는 근사 도형 정보를 생성하는 생성 수단을 구비하는 전자빔 묘화 장치.
제1항에 있어서,
상기 입력 도형 정보는 1 이상의 각 도형의 윤곽선을 나타내는 1 이상의 좌표를 갖는 정보이며,
상기 도형 폭 획득부는 상기 입력 도형 정보가 나타내는 1 이상의 각 도형의 중심선을　획득하여, 해당 중심선을 구성하는 1 이상의 각 점에서 해당 1 이상의 각 도형의 윤곽선까지의 거리를 나타내는 거리 맵을 생성하는　거리 맵 생성 수단; 및
상기 거리 맵을 이용하여 상기 1 이상의 각 도형 폭을　획득하는 도형 폭 획득 수단을 구비하는 전자빔 묘화 장치.
제4항에 있어서,
상기 생성 수단은 상기 중심선을 따라 상기 도형 폭에 적합한 1 이상의 직사각형을 해당 직사각형끼리 중첩되지 않도록 배치함으로써 상기 보조 패턴에 대응하는 1 이상의 각 도형에 근사하는 1 이상의 근사 도형을 나타내는 근사 도형 정보를 생성하는 전자빔 묘화 장치.
제4항에 있어서,
상기 생성 수단은 상기 중심선을 따라 상기 도형 폭에 적합한 1 이상의 직사각형을 해당 직사각형끼리 겹치도록 배치하여, 상기 보조 패턴에 대응하는 1 이상의 각 도형에 근사하는 1 이상의 근사 도형을 나타내는 근사 도형 정보를 생성하는 전자빔 묘화 장치.
수신부와, 도형 폭 획득 부와, 생성부와, 묘화부를 이용하여　실시되는 전자빔 묘화 방법에 있어서, 상기 수신부가1 이상의 도형을 나타내는 정보인 입력 도형 정보를 수신하는 수신 단계;
상기 도형 폭 획득부가 상기 입력 도형 정보를 나타내는 1 이상의 각 도형 폭을 획득하는 도형 폭 획득 단계;
상기 생성부가 상기 도형 폭에 적합한 1 이상의 직사각형으로 구성된 도형이며, 상기 입력 도형 정보가 나타내는 1 이상의 각 도형에 근사하는 도형인 1 이상의 근사 도형을 나타내는 근사 도형 정보를 생성하는 생성 단계;
상기 묘화부가 상기 생성부가 생성한 근사 도형 정보가 나타내는 1 이상의 근사 도형을 묘화하는 묘화 단계를 포함하는 전자빔 묘화 방법.
컴퓨터를 1 이상의 도형을 나타내는 정보인 입력 도형 정보를 수신하는 수신부;
상기 입력 도형 정보가 나타내는 1 이상의 각 도형 폭을 획득하는 도형 폭 획득부;
상기 도형 폭에 적합한 1 이상의 직사각형으로 구성된 도형이며, 상기 입력 도형 정보가 나타내는 1 이상의 각 도형에 근사하는 도형인 1 이상의 근사 도형을 나타내는 근사 도형 정보를 생성하는 생성부; 및
상기 생성부가 생성한 근사 도형 정보가 나타내는 1 이상의 근사 도형을 묘화하는 묘화부로써 기능시키기 위한 프로그램을 기록한 기록 매체.
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