JP2014197119A - 光学フィルム、偏光板、画像表示装置及び光学フィルムの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】ホメオトロピック配向の液晶層とハードコート層との間の密着性を十分に高度なものとすることができ、十分に高度な耐傷性を有するとともに、十分に優れた耐熱性を有し、熱により液晶層の配向状態が変化することを十分に抑制することが可能な光学フィルムを提供すること。
【解決手段】基材と、前記基材上に積層された液晶層と、前記液晶層上に積層されたハードコート層とを備える光学フィルムであって、
前記液晶層が液晶材料をホメオトロピック配向の状態で固定化した層であり、且つ、前記ハードコート層がウレタン（メタ）アクリレート系樹脂を含むハードコート材料を硬化してなる層であることを特徴とする光学フィルム。
【選択図】なし

Description

本発明は、光学フィルム、偏光板、画像表示装置並びに光学フィルムの製造方法に関する。

近年、画像表示装置等の分野においては、視野角向上や画質向上等の観点から、偏光板、反射防止板、位相差板等が利用されている。そして、このような偏光板、反射防止板、位相差板等の材料として、複屈折性（光学的異方性）等の光学特性を有する液晶層を備える光学フィルムの応用が検討されてきた。しかしながら、そのような液晶層を備える光学フィルムは、前記液晶層の表面に異物が接触した場合に容易に傷が付き、複屈折性等の光学特性が変化してしまうといった問題があった。そのため、このような光学フィルムにおいては、前記液晶層に傷がついて複屈折性などの性能が変化することを防止するために、前記液晶層にハードコート層（オーバーコート層）を形成させることが提案されている。

例えば、特開２００９−７５５３５号公報（特許文献１）においては、透明基材上に複屈折層が形成され、更に、前記複屈折層上にハードコート層が形成されている光学フィルムが開示されており、かかる複屈折層は、液晶性ポリマー（例えばリオトロピック液晶性ポリマー等）を含有する溶液を塗布・乾燥することによって形成した層であってもよいことが開示されている。

特開２００９−７５５３５号公報

しかしながら、上記特許文献１においては、液晶性ポリマーからなる複屈折層の特性が熱によって変化してしまうことを抑制するという観点からハードコート層を利用すること等は何ら記載されておらず、また、光学フィルムに液晶性ポリマーの配向状態を特定の状態で固定化した液晶層を備えることについても具体的な開示はない。

本発明は、ホメオトロピック配向の液晶層とハードコート層との間の密着性を十分に高度なものとすることができ、十分に高度な耐傷性を有するとともに、十分に優れた耐熱性を有し、熱により前記液晶層の配向状態が変化することを十分に抑制することが可能な光学フィルム及びその製造方法を提供することを目的とする。

本発明者らが鋭意研究を重ねた結果、先ず、上記特許文献１に記載のような従来のハードコート材料は、液晶材料をホメオトロピック配向の状態で固定化した液晶層（以下、場合により単に「ホメオトロピック配向液晶層」という。）に対して、十分に高度な密着力でハードコート層を積層するという点において、必ずしも十分なものではないことを見出した。ここにおいて、本発明者らは、配向状態が異なる液晶層（ホメオトロピック配向、ホモジニアス配向、スプレー配向等の液晶層）に対して、それぞれ、同じハードコート材料からなるハードコート層を積層しても、液晶層の配向状態によってハードコート層の密着力が異なり、特定の配向が固定化された液晶層に十分に高度な密着力を示すハードコート層を、別の配向が固定化された液晶層にそのまま適用しても、必ずしも十分に高度な密着力が得られないことも併せて見出している。また、配向状態をホメオトロピック配向の状態で固定化した液晶層が他の配向状態で固定化した液晶層と比較して、特に熱による配向のゆがみによって、その性能が大きく低下する傾向にあることに着目し、本発明者らが更に研究を重ねたところ、特許文献１に記載のような従来のハードコート材料からなるハードコート層では、ホメオトロピック配向の液晶層に対して必ずしも十分な耐熱性を付与することができず、熱による光学フィルムの品質の劣化を十分に抑制することができないことも見出した。そこで、このような従来のハードコート層の問題点を解決すべく、本発明者らが更に鋭意研究を重ねた結果、基材と、前記基材上に積層された液晶層と、前記液晶層上に積層されたハードコート層とを備える光学フィルムにおいて、前記液晶層をホメオトロピック配向の状態で液晶材料を固定化した層とし、ハードコート層をウレタン（メタ）アクリレート系樹脂を含むハードコート材料を硬化してなる層とすることにより、驚くべきことに、ホメオトロピック配向の液晶層とハードコート層との間において十分に高度な密着性が得られ、かかるハードコート層により、前記液晶層に対して十分に高度な耐傷性を付与できるとともに十分に優れた耐熱性を付与することもでき、熱により液晶層の配向状態が変化することを十分に抑制することが可能なことを見出して、本発明を完成するに至った。

すなわち、本発明の光学フィルムは、基材と、前記基材上に積層された液晶層と、前記液晶層上に積層されたハードコート層とを備える光学フィルムであって、
前記液晶層が液晶材料をホメオトロピック配向の状態で固定化した層であり、且つ、前記ハードコート層がウレタン（メタ）アクリレート系樹脂を含むハードコート材料を硬化してなる層であることを特徴とするものである。

上記本発明の光学フィルムにおいては、前記ハードコート層の厚みが０．１〜５μｍであることが好ましい。

また、上記本発明の光学フィルムにおいては、前記液晶材料がポリ（メタ）アクリレート系液晶ポリマーを含有することが好ましい。

さらに、上記本発明の光学フィルムにおいては、前記基材が環状オレフィンポリマーからなることが好ましい。

本発明の偏光板は、上記本発明の光学フィルムを備えることを特徴とするものである。また、本発明の画像表示装置は、上記本発明の偏光板を備えることを特徴とするものである。

また、本発明の光学フィルムの製造方法は、基材上に液晶材料をホメオトロピック配向の状態で固定化した液晶層を積層した後、前記液晶層上にウレタン（メタ）アクリレート系樹脂を含むハードコート材料を塗布し、硬化することによりハードコート層を積層し、
前記基材と、前記基材上に積層された前記液晶層と、前記液晶層上に積層された前記ハードコート材料を硬化してなる前記ハードコート層とを備える光学フィルムを得ることを特徴とする方法である。

本発明によれば、ホメオトロピック配向の液晶層とハードコート層との間の密着性を十分に高度なものとすることができ、十分に高度な耐傷性を有するとともに、十分に優れた耐熱性を有し、熱により液晶層の配向状態が変化することを十分に抑制することが可能な光学フィルム及びその製造方法を提供することが可能となる。

実施例１及び比較例１〜２で得られた光学フィルムに関して、加熱時間（試験時間）と厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）変化率との関係を示すグラフである。

以下、本発明をその好適な実施形態に即して詳細に説明する。

［光学フィルム］
本発明の光学フィルムは、基材と、前記基材上に積層された液晶層と、前記液晶層上に積層されたハードコート層とを備える光学フィルムであって、
前記液晶層が液晶材料をホメオトロピック配向の状態で固定化した層であり、且つ、前記ハードコート層がウレタン（メタ）アクリレート系樹脂を含むハードコート材料を硬化してなる層であることを特徴とするものである。

〈基材〉
本発明に用いられる基材は、光学フィルムに利用できるものであればよく、特に制限されず、公知の光学フィルム用の基材を適宜利用することができる。このような基材としては、例えば、有機高分子材料からなる基材、無機材料からなる基材（例えば、ガラス板、金属板、アルミニウム等の金属から形成されるフィルム等）を挙げることができる。

このような基材の中でも、コストや連続生産性の観点から、有機高分子材料からなる基材を用いることが好ましい。このような有機高分子材料としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリフェニレンオキシド、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー；ジアセチルセルロースやトリアセチルセルロース等のセルロース系ポリマー；ポリカーボネート系ポリマー；ポリメチル（メタ）アクリレート等のアクリル系ポリマー等の透明ポリマー；ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体等のスチレン系ポリマー；ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等のオレフィン系ポリマー；環状オレフィンポリマー（ポリシクロオレフィン）；塩化ビニル系ポリマー；ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー；等のポリマー材料及びこれらのブレンド物が挙げられる。なお、本発明においては、場合により「メタクリル」と「アクリル」とを総称して「（メタ）アクリル」と表記する。また、場合により「メタクリレート」と「アクリレート」とを総称して「（メタ）アクリレート」と表記する。

また、このような有機高分子材料としては、光学フィルムに好適な特性（例えば透明性等）を示すことが可能となること等から、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、環状オレフィンポリマー（シクロオレフィンポリマー：ＣＯＰ）がより好ましく、環状オレフィンポリマーが特に好ましい。

また、このような有機高分子材料からなる基材としては、透明性が高く、入手が容易であること等からは、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、環状オレフィンポリマー（シクロオレフィンポリマー：ＣＯＰ）からなるフィルム状の基材（プラスチックフィルム）が好ましい。また、このようなフィルム状の基材（プラスチックフィルム）の中でも、液晶材料がポリ（メタ）アクリレート系液晶ポリマーを含有する場合において、十分に高度な密着性を付与することができることからから、環状オレフィンポリマーからなるフィルム（以下、場合により「ＣＯＰフィルム」という。）が特に好ましい。ここで、「環状オレフィンポリマー（ＣＯＰ）」とは、ノルボルネン、ジシクロペンタジエン、テトラシクロドデセンやそれらの誘導体等の環状オレフィンから得られる樹脂の一般的な総称である。このような環状オレフィンポリマー（ＣＯＰ）としては、例えば、環状オレフィンの開環重合体、環状オレフィンの付加重合体、環状オレフィンとエチレン、プロピレン等のα−オレフィンとのランダム共重合体、これらを不飽和カルボン酸やその誘導体等で変性したグラフト変性体、これらの水素化物等が挙げられる。また、このような環状オレフィンとしては、ノルボルネン及びその誘導体、ジシクロペンタジエンが好ましい。

また、このような基材としては、特に制限されないが、位相差機能を有するものが好ましく、位相差機能を有するＣＯＰフィルムであることがより好ましい。また、このような基材（特に好ましくはＣＯＰフィルム）は、一軸延伸したもの（いわゆる一軸延伸フィルム）であっても二軸延伸したもの（いわゆる二軸延伸フィルム）であってもよい。更に、このような一軸延伸フィルムを得る際に行う一軸延伸の方法としては、２つ以上のロールの周速差を利用した縦一軸延伸、または、前記基材（特に好ましくはＣＯＰフィルム）の両サイドを掴んで幅方向に延伸するテンター延伸を採用することが好ましい。また、このような基材は、これを縦方向および横方向に延伸することにより、二軸性の光学異方性を発現させて、光学異方性を有するフィルムとしてもよい。また、このような基材としては、Ｚ軸配向処理を施したものを用いてもよい。また、このような基材としては、その接着性を制御する目的で、片面もしくは両面にコロナ処理、プラズマ処理、ＵＶ−オゾン処理、ケン化処理等の表面処理を適宜行っても良い。

また、このような基材としては、面内（フィルム状の場合、フィルム面内）のリターデーション値（以下、このような基材の面内リターデーション値は、場合により「Ｒｅ１」と省略して示す。）は、面内の主屈折率をｎｘ，ｎｙとし、厚さ方向の主屈折率をｎｚとし、厚さをｄ１（ｎｍ）とした場合に、計算式（Ａ）：
Ｒｅ１＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ１［ｎｍ］ （Ａ）
で表される。このような基材（特に好ましくはＣＯＰフィルム）の面内のリターデーション値（Ｒｅ１）としては、画像表示装置（例えば液晶表示装置）の視角改良フィルムとして使用する場合等の用途の違いによっても最適な値が異なるばかりか、視角改良フィルムで使用する場合においても画像表示装置（例えば液晶表示装置）の方式や種々の光学パラメータに依存して最適な値が異なることから、一概には言えないが、例えば、５５０ｎｍの単色光に対しては、３０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲であることが好ましく、５０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲であることがより好ましい。

また、このような基材（特に好ましくはＣＯＰフィルム）の厚さ方向のリターデーション値（以下、このような基材の厚さ方向のリターデーション値は、場合により「Ｒｔｈ１」と省略して示す。）は、面内の主屈折率をｎｘ，ｎｙとし、厚さ方向の主屈折率をｎｚとし、厚さをｄ１（ｎｍ）とした場合に、計算式（Ｂ）：
Ｒｔｈ１＝{（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ}×ｄ１［ｎｍ］ （Ｂ）
で表される。このようなＲｔｈ１の好適な値も一概に言えるものではないが、例えば、５５０ｎｍの単色光に対しては、０〜３００ｎｍの範囲であることが好ましく、０〜２００ｎｍの範囲であることがより好ましく、０〜１５０ｎｍの範囲であることが更に好ましい。ＣＯＰフィルムの厚さは、１０〜４００μｍであることが好ましく、１５〜１００μｍであることが最も好ましい。

なお、このようなＲｅ１及びＲｔｈ１は、上記範囲内の値とすることにより、例えば、画像表示装置（例えば液晶表示装置）の視角改良フィルムとして用いる場合には、画像表示の色調補正を行いながら視野角を広げることが可能となり、画像表示装置の輝度向上フィルムとして用いる場合には、良好な輝度向上効果を得ることができる。他方、前記基材のＲｅ１値が３０ｎｍより小さい場合或いは５００ｎｍより大きい場合には、十分な視角改良効果が得られないか或いは斜めから見たときに不必要な色付きが生じる傾向にある。また、前記基材のＲｔｈ１が０ｎｍより小さい場合或いは３００ｎｍより大きい場合には、十分な視角改良効果が得られないか或いは斜めから見たときに不必要な色付きが生じる傾向がある。なお、二枚以上のフィルムを利用することで、基材全体としての光学的性質が前記の条件を満足するようにしてもよい。

また、このような基材は市販品を適宜利用してもよく、例えば、基材としてＣＯＰフィルムを利用する場合、日本ゼオン株式会社製のゼオネックス、日本ゼオン株式会社製のゼオノア、ＪＳＲ株式会社製のアートン、積水化学株式会社製のエスシーナ、Topas Advanced Polymers GmbH社製のTopas、三井化学株式会社製のアペル等を適宜利用することができる。

また、このような基材としては、液晶材料を安定してホメオトロピック配向状態とするために、表面上に配向膜が形成されている基材を用いてもよい。このような配向膜を形成するための材料（配向膜形成用材料）としては、公知の材料を適宜利用することができるが、例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリビニルシンナメート、ポリビニルエーテル、ポリイミド、フッ素化ポリイミド等が挙げられる。

このような配向膜の形成工程は特に制限されず、公知の方法を適宜採用することができる。以下、かかる配向膜の形成工程として好適に採用することが可能な方法について簡単に説明する。このような配向膜を形成する際には、配向膜厚や表面特性をより容易に制御できることから、前記配向膜形成用材料を溶媒に溶解した溶液を調製し、その溶液を基材用のフィルム等（例えば、前述のＣＯＰフィルムのような基材として説明したもの等）の表面上に塗布することが好ましい。このような溶液は、前記配向膜形成用材料を溶解することができる溶媒を用いて適宜調製すればよい。例えば、前記配向膜形成用材料としてポリビニルアルコール（ＰＶＡ）を用いて、前記溶液としてＰＶＡの溶液を調製する場合、その溶媒としてはＰＶＡを溶解できる溶媒であればよいため、特に制限されるものではないが、例えば、水；メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等の低級アルコール；これらの混合物等を適宜使用できる。なお、このような配向膜形成用材料を溶媒中に溶解させる場合には、塗布工程や液晶材料の配向に影響を及ぼさない範囲において、配向膜に利用することが可能な各種の添加剤を適宜利用してもよい。また、前記配向膜形成用材料を溶媒中に溶解させる際には、溶解を促進するために加温を適宜施してもよい。

また、前記溶液を塗布する方法としては、特に制限されず、公知の方法を適宜利用することができ、例えば、大面積の配向膜を形成する場合においては、やわらかい樹脂板を用いるフレキソ印刷方式、ディスペンサー方式、グラビアコート方式、マイクログラビア方式、スクリーン印刷方式、リップコート方式、ダイコート方式等を採用した塗布方法を適宜利用することができる。このような塗布方法の中でも、グラビアコート方式、リップコート方式、ダイコート方式を採用した塗布方法が特に好ましい。

このようにして、前記溶液を塗布した後においては、塗布により得られた塗膜（配向膜）を必要により乾燥させてもよい。このような乾燥工程における乾燥温度は、前記配向膜形成用材料の種類に応じて異なるものであり、基本的には、その材料自体の耐熱性（軟化点又はガラス転移点）の観点から、その材料自体の軟化点又はガラス転移点未満の温度とすることが望ましいが、目的によっては、軟化点又はガラス転移点以上の温度としてもよい。なお、前記配向膜形成用材料がＰＶＡの場合には、前記乾燥温度は、例えば、５０℃〜１８０℃とすることが好ましく、８０℃〜１６０℃とすることがより好ましい。また、このような乾燥の時間も特に制限はないが、１０秒〜６０分とすることが好ましく、１分〜３０分とすることがより好ましい。また、このような乾燥に乾燥装置を利用する場合においては、被乾燥膜と乾燥装置との相対的な移動速度を、相対風速が６０ｍ／分〜１２００ｍ／分となるように制御することが好ましい。

なお、液晶の分野においては、配向の方向を制御するといった観点から、液晶層を形成するための基材に対して、布等で一定方向に擦るラビング処理を行うことが一般的である。一方、ホメオトロピック配向の液晶層に関して検討すると、ホメオトロピック配向は基本的に面内の異方性が生じない配向構造であるため、ラビング処理は必ずしも必要な処理ではない。そのため、前記基材上に積層する液晶層が、液晶材料をホメオトロピック配向の状態で固定化した層（ホメオトロピック配向液晶層）である本発明の光学フィルムにおいては、前記基材にラビング処理を施すことは必ずしも必要ではない。しかしながら、液晶材料を塗布した場合（特に前述のような配向膜上に塗布した場合）のはじきを抑制するといった観点からは、前記基材に対して弱いラビング処理を施すことが好ましい。また、このような弱いラビング処理としては、ラビング布をロールに巻きつけて回転させつつ、かかるロールに基材が接触するようにして基材を移動させて、基材の表面をラビング布で擦る方法を採用することが好ましい。なお、このような方法を採用する場合、布の移動速度（回転速度）と基材の移動速度の比（周速比）は、５０以下とすることが好ましく、２５以下とすることがより好ましく、１０以下でとすることが更に好ましい。周速比が５０より大きい場合、ラビングの効果が強すぎて液晶材料が完全に垂直に配向しきれず、垂直方向より面内方向に倒れた配向となる場合が生じる傾向にある。

〈液晶層〉
本発明においては、前記基材上に液晶層が積層されている。このような液晶層は、液晶材料をホメオトロピック配向の状態で固定化した層（ホメオトロピック配向液晶層）である。

このような液晶層の材料である液晶材料は、基板上においてホメオトロピック配向させて、その配向状態を固定化し得る液晶性化合物を含有する材料であればよく、特に制限されるものではない。このような液晶性化合物としては、例えば、低分子液晶化合物（重合性基を有する液晶性モノマー）や液晶性高分子化合物、それらの混合物を適宜利用することができる。

このような液晶性化合物として用いることが可能な低分子液晶化合物（重合性基を有する液晶性モノマー）としては、配向を容易に固定化できるといった観点から、光や熱により反応する重合性基を備える化合物が好ましい。このような重合性基としては、ビニル基、アクリロイル基、ビニルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基、アジリジニル基等が好ましい。なお、このような重合性基としては、反応条件等によっては、例えば、イソシアナート基、水酸基、アミノ基、酸無水物基、カルボキシル基等の他の重合性基を使用してもよい。

また、このような液晶性化合物として用いることが可能な液晶性高分子化合物としては、主鎖型液晶性ポリマーや側鎖型液晶性ポリマー等が挙げられる。このような主鎖型液晶性ポリマーとしては、例えば、ポリエステル系液晶ポリマー、ポリエステルアミド系液晶ポリマー、ポリアミド系液晶ポリマー、ポリアミドイミド系液晶ポリマー、ポリカーボネート系液晶ポリマー等を挙げることができる。また、前記側鎖型液晶性ポリマーとしては、例えば、ポリ（メタ）アクリレート系液晶ポリマー、ポリマロネート系液晶ポリマー、ポリエーテル系液晶ポリマー、ポリシロキサン系液晶ポリマー等を挙げることができる。

このような液晶性化合物の中でも、低温の配向条件であっても良好な配向性を有することが望ましいといった観点から、前記側鎖型液晶性ポリマーがより好ましく、ポリ（メタ）アクリレート系液晶ポリマーがより好ましい。また、このようなポリ（メタ）アクリレート系液晶ポリマーとしては、液晶性を示す化学構造を有するだけではなく、配向後の液晶構造をより効率よく固定化するために、重合基を有することが望まれることから、下記一般式（１）で表わされるポリ（メタ）アクリレート系液晶ポリマー（下記一般式（１）中に示す各繰り返し単位を後述のａ〜ｆで表わされるモル比の条件を満たすようにして含有するポリ（メタ）アクリレート系の液晶ポリマー）が好ましい。

なお、上記一般式（１）中、Ｒ^１は、それぞれ独立に、水素又はメチル基を表し、Ｒ^２は、それぞれ独立に、水素、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ基、シアノ基、ブロモ基、クロロ基、フルオロ基又はカルボキシル基を表し、Ｒ^３は、それぞれ独立に、水素、メチル基又はエチル基を表し、Ｒ^４は、炭素数１〜２４の炭化水素基を表し、Ｌ^１は、それぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、ｐは、１から１０までの整数を表し、ｑは０から１０までの整数を表し、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆは、それぞれ、ポリマー中の各繰り返し単位（各ユニット）のモル比であって、ａ〜ｆの和（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＋ｆ）が１．０となり且つｃとｄとｅの和（ｃ＋ｄ＋ｅ）が０とはならない（ｃ〜ｅのうちの少なくとも１つが正の値をとる）という条件を満たす（なお、モル比の計算に際しては、Ｒ^１〜Ｒ^４で表される置換基のみが異なる繰り返し単位（同じ一般式で表すことができる繰り返し単位）は同じ繰り返し単位（ユニット）と判断する。なお、ａ〜ｆの値は、前記一般式（１）中に表わされる各繰り返し単位を、上記ａ〜ｆの比率で含むポリマーが液晶性を示すように選択される必要がある。）。なお、Ｌ^１が単結合とは、Ｌ^１を介して結合している基が直接結合することを意味し、例えば式：Ａ−Ｌ^１−Ｂで表される化合物があると仮定した場合にＬ^１が単結合であるとは前記化合物が式：Ａ−Ｂで表される化合物であることを意味する。

また、上記一般式（１）中においてａ〜ｆで表わされるモル比は、それぞれ、以下に示すａ〜ｆの数値範囲内の値であることが好ましい。

ａ：好ましくは０〜０．８０、より好ましくは０．０５〜０．５０
ｂ：好ましくは０〜０．９０、より好ましくは０．１０〜０．７０
ｃ：好ましくは０〜０．５０、より好ましくは０．１０〜０．３０
ｄ：好ましくは０〜０．５０、より好ましくは０．１０〜０．３０
ｅ：好ましくは０〜０．５０、より好ましくは０．１０〜０．３０
ｆ：好ましくは０〜０．３０、より好ましくは０．０１〜０．１０
また、Ｒ^２は、好ましくは、水素、メチル基、ブチル基、メトキシ基、シアノ基、ブロモ基、フルオロ基であり、特に好ましくは、水素、メトキシ基、またはシアノ基である。また、Ｌ^１は、好ましくは、単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−又は−ＣＯ−Ｏ−である。さらに、Ｒ^４は、好ましくは、炭素数２、３、４、６、８または１８の炭化水素基である。

なお、このような一般式（１）で表わされるポリ（メタ）アクリレート系液晶ポリマーは、その効果を損なわない範囲において、前記一般式（１）中の繰り返し単位以外の他の繰り返し単位を含んでいてもよく、その場合には、前記一般式（１）中の繰り返し単位の総量に対する他の繰り返し単位の含有量のモル比（［前記一般式（１）中の繰り返し単位の総量］：［他の繰り返し単位の含有量］）が９９：１〜８０：２０であることが好ましく、９５：５〜８５：１５であることがより好ましい。

また、このような液晶性化合物として好適な側鎖型液晶性ポリマーは、重量平均分子量が１０００〜２０００００であるものが好ましく、３０００〜５００００のものが特に好ましい。このような重量平均分子量が前記範囲外の値となる場合には、液晶層の強度が不足したり、配向性が低下する傾向にある。このような重量平均分子量は、測定装置として東ソー製高速ＧＰＣ装置ＥｃｏＳｅｃ ＨＬＣ−８３２０ＧＰＣを使用し、カラムとしてＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒＨ４０００、ＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒＨ１０００、ＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒＭＰ（ＨＺ）−Ｈ、ＴＳＫｇｅｌＭｕｌｔｉｐｏｒｅＨＺ−Ｈを使用し、測定条件として、カラムオーブン温度：４０℃、分離溶媒：テトラヒドロフラン、流速：０．３５ｍｌ／ｍｉｎといった条件を採用したＧＰＣ測定により得られたデータに基いて、ポリスチレン換算の重量平均分子量として求められる値を採用する。なお、このような液晶性化合物としては１種を単独で用いてもよく、あるいは、２種以上を混合して利用してもよい。

また、このような液晶性化合物としては、固定化を行う際にカチオン重合性基を利用して重合させた場合に、得られる液晶層の耐熱性がより向上するという観点から、カチオン重合性基を含有するものがより好ましい。このようなカチオン重合性基としては、エポキシ基、オキセタニル基、ビニルオキシ基が好ましく、オキセタニル基がより好ましい。なお、このようなカチオン重合性基を含有する液晶性化合物としても、上記一般式（１）で表わされるポリ（メタ）アクリレート系液晶ポリマーは好適に利用することができる。

なお、このような液晶性化合物の合成法は特に制限されるものではなく、公知の方法（例えば通常の有機化学の合成法で用いられる方法）を適用することによって適宜合成することができる。例えば、上記一般式（１）で表わされるポリ（メタ）アクリレート系液晶ポリマーは、式（１）中の繰り返し単位を形成させることが可能な（メタ）アクリル化合物（例えば、式（１）中の繰り返し単位を形成させることが可能な（メタ）アクリル酸）をそれぞれ準備し、各（メタ）アクリル化合物中の（メタ）アクリル基をラジカル重合又はアニオン重合により共重合することにより容易に合成することができる。また、このような重合の条件は特に限定されるものではなく、公知の条件を適宜採用することができる。また、このような液晶性化合物としては、市販のものを適宜利用してもよい。

また、前記液晶材料としては、前記液晶性化合物のみを用いてもよいが、基材との密着性をより向上させることができるという観点から、前記液晶性化合物と共にオキセタン基を有する（メタ）アクリル化合物を含有するものを利用すること（前記液晶材料をオキセタン基を有する（メタ）アクリル化合物を前記液晶性化合物と共に含有する液晶性組成物として利用すること）が好ましい。このように、前記液晶材料に、オキセタン基を有する（メタ）アクリル化合物を含有した場合には、基材として難接着性材料からなる基材（例えばＣＯＰフィルム）を用いる場合においても、かかる基材と液晶層との間において十分に高度な密着力が得られ、基材と液晶層との密着性が大幅に向上する傾向にある。すなわち、前記液晶材料にオキセタン基を有する（メタ）アクリル化合物を含有した場合には、それを含有しなかった場合と比較して、難接着性材料からなる基材（例えばＣＯＰフィルム）と液晶層との間に、より十分な密着力を付与することができる傾向にある。このように、前記オキセタン基を有する（メタ）アクリル化合物により基材と液晶層との密着性が向上する理由は必ずしも明らかではないが、オキセタン基を有する（メタ）アクリル化合物によって、難接着性材料からなる基材（例えばＣＯＰフィルム）と、その基材に対する親和性が十分ではない液晶性化合物との間の密着に何らかの仲介作用が得られるためであると本発明者らは推察する。なお、本発明においては、前記オキセタン基を有する（メタ）アクリル化合物のうちの液晶性を示す化合物を単独で前記液晶性化合物として前記液晶材料に利用する場合（他の液晶性の化合物を利用しない場合）を除いて、前記液晶性化合物は、前記オキセタン基を有する（メタ）アクリル化合物以外の液晶性の化合物をいう。

このようなオキセタン基を有する（メタ）アクリル化合物としては、下記一般式（２）〜（４）で表される化合物のうちの少なくとも１種が好ましい。

上記一般式（２）〜（４）において、Ｒ^５は、それぞれ独立に、水素またはメチル基を表し、Ｒ^６は、それぞれ独立に、水素、メチル基又はエチル基を表し、Ｌ^２は、それぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−又は−ＣＯ−Ｏ−を表し、ｍは、それぞれ独立に、１から１０までの整数であり、ｎは、それぞれ独立に、０から１０までの整数である。なお、Ｌ^２が単結合とは、Ｌ^２を介して結合している基が直接結合することを意味し、例えば式：Ａ−Ｌ^２−Ｂで表される化合物があると仮定した場合にＬ^２が単結合であるとは前記化合物が式：Ａ−Ｂで表される化合物であることを意味する。

このようなオキセタン基を有する（メタ）アクリル化合物は必ずしも液晶性を示す必要はない。また、オキセタン基を有する（メタ）アクリル化合物としては、上記一般式（２）〜（４）で表わされる化合物の１種を単独で用いてもよく、あるいは、上記一般式（２）〜（４）で表わされる化合物の２種以上を混合して混合物として用いてもよい。このような一般式（２）〜（４）で表わされる化合物としては、特に制限されるものではないが、下記化合物をその好適な例として挙げることができる。

また、このようなオキセタン基を有する（メタ）アクリル化合物の合成法は特に制限されるものではなく、公知の方法（例えば通常の有機化学の合成法で用いられる方法）を適用することによって適宜合成することができる。例えば、ウィリアムソンのエーテル合成や、縮合剤を用いたエステル合成などの手段で、オキセタン基を持つ部位と（メタ）アクリル基を持つ部位をつなげることで、オキセタン基と（メタ）アクリル基との全く異なる２つの反応性基を持つオキセタン基を有する（メタ）アクリル化合物を合成することができる。このような合成にあたっては、オキセタン基がカチオン重合性を有するため、強い酸性条件下では、重合や開環などの副反応を起こすことを考慮して反応条件を選ぶ必要がある。

また、前記液晶材料には、前記液晶性化合物と共に下記一般式（５）で表されるジオキセタン化合物を更に含有させてもよい。なお、本発明においては、前記ジオキセタン化合物のうちの液晶性を示す化合物を単独で前記液晶性化合物として前記液晶材料に利用する場合（他の液晶性の化合物を利用しない場合）を除いて、前記液晶性化合物は、前記ジオキセタン化合物以外の液晶性の化合物をいう。また、下記一般式（５）で表されるジオキセタン化合物は、液晶性の有無を問わず使用できるが、ジオキセタン化合物を含有させることによる液晶性の低下を防止するといった観点からは、液晶性を示すものが好ましい。

上記一般式（５）において、Ｒ^７は、それぞれ独立に、水素、メチル基またはエチル基を表し、Ｌ^３は、それぞれ独立に、単結合または−（ＣＨ_２）_ｎ−（ｎは１〜１２の整数）を表し、Ｘ^１は、それぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−または−ＣＯ−Ｏ−を表し、Ｍ^１は、下記一般式（６）または下記一般式（７）で表されるいずれかであり、下記一般式（６）および下記一般式（７）中のＰ^１は、それぞれ独立に下記一般式（８）から選ばれる基を表し、Ｐ^２は下記一般式（９）から選ばれる基を表し、Ｌ^４は、それぞれ独立に単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−または−ＣＯ−Ｏ−を表す。

−Ｐ^１−Ｌ^４−Ｐ^２−Ｌ^４−Ｐ^１− （６）
−Ｐ^１−Ｌ^４−Ｐ^１− （７）

上記一般式（８）及び（９）中、Ｅｔ、ｉＰｒ、ｎＢｕ及びｔＢｕは、それぞれエチル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基及びターシャリーブチル基を表す。

上記一般式（５）において、Ｍ^１基から見て左右のオキセタン基を結合している連結基は同一（対称型）であっても異なっていても（非対称型）よく、液晶性は構造により異なるが示さなくともよい。また、上記一般式（５）で表される化合物は、Ｌ^３、Ｘ^１およびＭ^１の組み合わせから多くの化合物が例示されるが、好ましくは下記の化合物を挙げることができる。

上記一般式（５）で表されるジオキセタン化合物は有機化学における通常の合成方法に従って合成することができ、合成方法は特に限定されるものではない。

また、前記液晶材料として、前記液晶性化合物と共に前記オキセタン基を有する（メタ）アクリル化合物や前記ジオキセタン化合物を用いる場合（前記液晶材料を液晶性組成物として用いる場合）、そのような液晶性組成物中の前記液晶性化合物、前記オキセタン基を有する（メタ）アクリル化合物、前記ジオキセタン化合物の含有比は、質量比（［前記オキセタン基を有する化合物］：［前記液晶性化合物］：［前記ジオキセタン化合物］）で１〜３０：１００：０〜４０となる範囲であることが好ましく、３〜２０：１００：０〜３０となる範囲であることがより好ましい。このような質量比が前記数値範囲外では、ホメオトロピック配向保持能が十分なものとならなくなる傾向にあるばかりか、難接着性材料からなる基材（特にＣＯＰフィルム）と液晶層の層間密着力が優れた液晶フィルムを得ることが困難となる傾向にある。

また、このような液晶材料により形成される液晶層中の液晶性化合物自体の含有量が、７０〜９５質量％であることが好ましく、７５〜９５質量％であることがより好ましい。このような液晶性化合物の含有量が前記下限未満では充分な位相差を示さない傾向にあり、他方、前記上限を超えると配向性が低下する傾向にある。

また、このような液晶材料としては、液晶材料の固定化をカチオン重合により行う場合（例えば、前述のように、前記液晶性化合物としてカチオン重合性基を有する液晶性化合物を利用（含有）する場合）、カチオン重合をより容易に速やかに進行させるといった観点からは、前記液晶材料中に、光や熱等の外部刺激によりカチオンを発生する光カチオン発生剤及び／又は熱カチオン発生剤（場合により、これらを「カチオン発生剤」と総称します。）を含有させることが好ましい。また、前記カチオン発生剤は、必要に応じて、各種の増感剤と併用してもよい。

このような光カチオン発生剤としては、特に制限されず、適当な波長の光を照射することによりカチオンを発生できる化合物を適宜利用することができ、例えば、有機スルフォニウム塩系、ヨードニウム塩系、フォスフォニウム塩系等の化合物を適宜利用することができる。また、このような光カチオン発生剤に利用される前記化合物の対イオンとしては、アンチモネート、フォスフェート、ボレート等が好ましく用いられる。更に、このような光カチオン発生剤に利用される化合物としては、例えば、式：Ａｒ_３Ｓ^＋ＳｂＦ_６ ⁻、Ａｒ_３Ｐ^＋ＢＦ_４ ⁻、Ａｒ_２Ｉ^＋ＰＦ_６ ⁻（ただし、式中のＡｒはフェニル基又は置換フェニル基を示す。）で表わされる化合物、スルホン酸エステル類、トリアジン類、ジアゾメタン類、β−ケトスルホン、イミノスルホナート、ベンゾインスルホナート等が挙げられる。また、このような光カチオン発生剤としては、より具体的には、トリアリルスルフォニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリアリルスルフォニウムヘキサフルオロホスフェート等をあげることができる。また、市販品を利用してもよい。

また、前記熱カチオン発生剤としては、特に制限されず、適当な温度に加熱されることによりカチオンを発生できる化合物を適宜利用することができ、例えば、ベンジルスルホニウム塩類、ベンジルアンモニウム塩類、ベンジルピリジニウム塩類、ベンジルホスホニウム塩類、ヒドラジニウム塩類、カルボン酸エステル類、スルホン酸エステル類、アミンイミド類、五塩化アンチモン−塩化アセチル錯体、ジアリールヨードニウム塩−ジベンジルオキシ銅、ハロゲン化ホウ素−三級アミン付加物等を適宜利用することができる。

このようなカチオン発生剤の液晶材料中への添加量は、液晶材料に含有される液晶性化合物のメソゲン部分やスペーサ部分の構造や、オキセタン基の当量、液晶性化合物の配向条件などにより異なるものであるため一概には言えないが、例えば、前記液晶性化合物として前記側鎖型液晶性ポリマーを用いる場合には、前記側鎖型液晶性ポリマーに対して、１００質量ｐｐｍ〜２０質量％とすることが好ましく、１０００質量ｐｐｍ〜１０質量％とすることがより好ましく、０．５質量％〜８質量％とすることが更に好ましく、１質量％〜６質量％とすることが最も好ましい。このようなカチオン発生剤の液晶材料中への含有量が１００質量ｐｐｍよりも少ない場合には、発生するカチオンの量が十分なものとならず、重合を効率よく進行させることが困難となる傾向にあり、他方、２０質量％を超えると、液晶層の形成後に液晶層中のカチオン発生剤の分解残存物等の濃度が高くなり、硬化度や耐光性等が低下してしまう傾向にある。

また、前記液晶材料としては、液晶層の形成時の塗工性等の観点から、溶媒を含有していてもよい。このような溶媒としては特に制限されず、液晶材料に使用される各種化合物を溶解でき、固定化の際に適当な条件で留去でき、かつ、基材への影響が少ない溶媒であればよく、基材の種類等に応じて種々の溶媒を適宜利用することができる。このような溶媒としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンなどのケトン類、ブトキシエチルアルコール、ヘキシルオキシエチルアルコール、メトキシ−２−プロパノール、ベンジルオキシエチルアルコールなどのエーテルアルコール類、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルなどのグリコールエーテル類、酢酸エチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトンなどのエステル類、フェノール、クロロフェノールなどのフェノール類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド類、クロロホルム、テトラクロロエタン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン系などやこれらの混合系が好ましく用いられる。

このような溶媒は１種類を単独で使用してもよく或いは二種類以上を併用してもよい。また、このような溶媒は、用いる液晶性化合物の種類、他の成分の種類、それらの含有量等に応じて、その種類や含有量等を適宜設定すればよく、特に制限されるものではないが、前記溶媒の含有量は７０〜９９質量％であることが好ましく、７５〜９５質量％であることがより好ましい。このような溶媒の含有量が前記下限未満では塗工性が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えると粘度低下による塗工ムラが発生しやすい傾向にある。

また、前記液晶材料には、液晶性を損なわない範囲で、前記液晶性化合物と混和し得る種々の化合物を含有することができる。このような液晶性化合物と混和し得る化合物としては、ビニル基、（メタ）アクリル基等のラジカル重合性基やオキセタン基（前記のオキセタン基を有する化合物を除く）、オキシラニル基、ビニルオキシ基等のカチオン重合性基を有する各種の重合性化合物、カルボキシル基、アミノ基、イソシアナート基などの反応性基を有する化合物、フィルム形成能を有する各種の高分子化合物等を配合することもできる。なお、このような反応性基を有する化合物を含有させることにより、液晶材料に配向処理を施した後、かかる反応性の官能基を利用して反応を進行させることで（官能基の種類に応じて、反応させるに適した条件を適宜採用できる。）、架橋や分子量増大等を達成させることも可能となり、これにより目的とする最終製品の機械強度等の向上に寄与させることもできる。また、本発明の目的を逸脱しない範囲内で、液晶材料中に含有されている化合物の有する反応性の官能基等に応じて、反応開始剤や活性化剤、増感剤、界面活性剤、消泡剤、レベリング剤等を液晶材料中に適宜添加してもよい。

また、前記液晶層は、前記液晶材料をホメオトロピック配向の状態で固定化した層であればよく、特に制限されないが、前記液晶材料を前記基材上に塗布した後に、ホメオトロピック配向となるように配向処理し、その液晶状態を固定化することによって得られる液晶層（前記液晶材料をホメオトロピック配向の状態で固定化した液晶層）であることが好ましい。ここで、前記液晶層における「液晶材料をホメオトロピック配向の状態で固定化した」という状態は、前記液晶材料を固定化（例えば、液晶材料中に架橋基を有する化合物を導入して重合を行ってガラス状態に硬化することで固定化する等）した後に得られる液晶層においてホメオトロピック配向（いわゆる垂直配向：液晶の長軸分子方向が基板に対して実質的に垂直方向に整列している配向）が確認される状態であればよく、前記液晶材料中に含有される化合物等に由来する成分（好ましくは液晶性化合物に由来する成分（液晶性化合物自体、液晶性化合物が分解されて形成された構成物や液晶性化合物の重合物等を含む。））のうちのいずれかが、ホメオトロピック配向の状態で固定化されていればよい。なお、このような配向の状態は偏光顕微鏡を使用して、クロスニコル下での観察を行うことにより確認することができる。また、前記液晶材料の配向処理の方法や固定化（硬化）の方法等に好適な方法については後述の本発明の光学フィルムの製造方法において説明する。

このような液晶層の厚み（膜厚）としては、用途や求める特性によっても異なるものではあるが、０．１〜５０μｍであることが好ましく、０．２〜２０μｍであることがより好ましく、０．３〜１０μｍであることが更に好ましい。このような膜厚が前記下限未満では所望の位相差を発現できなくなる傾向にあり、他方、前記上限を超えると液晶の配向性が悪化する傾向にある。

また、前記液晶層は光学フィルムの用途等によっては、膜厚だけでなく、特定の位相差値を有することが要求され得る。ここで、液晶層面内の最大屈折率方向を示す方向の屈折率をＮｘ、それと直交する方向の屈折率をＮｙ、厚さ方向の屈折率をＮｚ、液晶層の厚さをｄ（ｎｍ）とすると、ホメオトロピック配向液晶層の屈折率の関係は、通常、Ｎｚ＞Ｎｘ≧Ｎｙとなる。このようなホメオトロピック配向液晶層に関して、面内のリターデーション値（Ｒｅ＝（Ｎｘ−Ｎｙ）×ｄ［ｎｍ］）としては、０ｎｍ〜５０ｎｍ（より好ましくは０ｎｍ〜１０ｎｍ）であることが好ましく、厚さ方向のリターデーション値（Ｒｔｈ＝{（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ}×ｄ［ｎｍ］）としては、−５００ｎｍ〜−１０ｎｍ（より好ましくは−３００ｎｍ〜−１０ｎｍ）であることが好ましい。なお、このようなＲｅ及びＲｔｈは波長５５０ｎｍ光に対する値である。

〈ハードコート層〉
本発明においては、前記基材上にハードコート層が積層されている。このようなハードコート層は、ウレタン（メタ）アクリレート系樹脂を含むハードコート材料を硬化してなる層である。

このように、前記ハードコート層を形成するために用いる前記ハードコート材料がウレタン（メタ）アクリレート系樹脂を含むことにより、得られるハードコート層は前記液晶層に対して高度な密着性を示すものとなる。また、このように、前記ウレタン（メタ）アクリレート系樹脂を用いることにより、形成されるハードコート層の柔軟性も十分なものとなり、カール（反り）も抑制することが可能となる。

このようなウレタン（メタ）アクリレート系樹脂としては、特に制限されず、公知のウレタン（メタ）アクリレート系樹脂を適宜利用することができ、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル及びメタクリル酸エステルのうちの少なくとも１種のモノマー；ポリオール；ジイソシアネートを原料化合物として用いて得られる、ウレタン（メタ）アクリレート系樹脂（ウレタンアクリレート系樹脂及び／又はウレタンメタクリレート系樹脂）を適宜利用することができる。すなわち、このようなウレタン（メタ）アクリレート系樹脂としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル及びメタクリル酸エステルのうちの少なくとも１種のモノマーと、ポリオールとを用いて、水酸基を１個以上有するヒドロキシアクリレート及び水酸基を１個以上有するヒドロキシメタクリレートのうちの少なくとも１種を調製した後、得られたヒドロキシアクリレート及び／又はヒドロキシメタクリレートに対してジイソシアネートを反応させて得られる、ウレタンアクリレート及びウレタンメタクリレートのうちの少なくとも１種を利用することができる。なお、このようなウレタン（メタ）アクリレート系樹脂としては、１種を単独で使用してもよく或いは２種類以上を混合して利用してもよい。

また、このようなウレタン（メタ）アクリレート系樹脂の原料化合物に利用することが可能な前記アクリル酸エステルとしては、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ブチルアクリレート等のアルキルアクリレート；シクロヘキシルアクリレート等のシクロアルキルアクリレート等があげられる。

また、このようなウレタン（メタ）アクリレート系樹脂の原料化合物に利用することが可能な前記メタクリル酸エステルとしては、例えば、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート等のアルキルメタクリレート；シクロヘキシルメタクリレート等のシクロアルキルメタクリレート等が挙げられる。

前記ウレタン（メタ）アクリレート系樹脂の原料化合物に利用することが可能な前記ポリオールとしては、水酸基を少なくとも２つ有する化合物であればよく、特に制限されないが、例えば、エチレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステル、トリシクロデカンジメチロール、１，４−シクロヘキサンジオール、スピログリコール、トリシクロデカンジメチロール、水添ビスフェノールＡ、エチレンオキサイド付加ビスフェノールＡ、プロピレンオキサイド付加ビスフェノールＡ、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセリン、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、グルコース類等が挙げられる。

前記ウレタン（メタ）アクリレート系樹脂の原料化合物に利用することが可能な前記ジイソシアネートとしては、例えば、芳香族、脂肪族又は脂環族の各種のジイソシアネート類を使用することができる。このようなジイソシアネートとしては、例えば、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、４，４−ジフェニルジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、３，３−ジメチル−４，４−ジフェニルジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、４，４−ジフェニルメタンジイソシアネート等、さらにはこれらの水添物等が挙げられる。なお、このようなウレタン（メタ）アクリレート系樹脂の調製の際、各成分の含有比や反応の条件等は特に制限されず、公知の条件等を適宜採用することができ、目的物に応じてその設定を適宜変更することができる。

また、このようなウレタン（メタ）アクリレート系樹脂としては、重量平均分子量が５００〜２５０００であるものが好ましく、５００〜１００００のものが特に好ましい。このような重量平均分子量が前記範囲外の値となる場合には、液晶層の強度が不足したり、配向性が低下する傾向にある。このような重量平均分子量は、テトラヒドロフランを分離液として使用する条件を採用したＧＰＣ測定したデータに基いて、ポリスチレン換算の重量平均分子量として求められる値を採用する。なお、このようなウレタン（メタ）アクリレート系樹脂としては１種を単独で用いてもよく、あるいは、２種以上を混合して利用してもよい。また、このようなウレタン（メタ）アクリレート系樹脂としては、市販のウレタン（メタ）アクリレート系樹脂を適宜利用することができる。

また、前記ハードコート材料においては、前記ウレタン（メタ）アクリレート系樹脂以外にも他の樹脂成分を含有してもよい。このような他の樹脂成分としては、特に制限されず、アルキル（メタ）アクリレートのポリマー（コポリマーを含む。）、ポリオール（メタ）アクリレート、置換基を有するアルキル基を含有するアルキル（メタ）アクリレートのポリマー（コポリマーを含む。）等を適宜利用することができる。また、このような他の樹脂成分としては、水酸基及びアクリロイル基のうちの少なくとも１種の置換基を有するアルキル基を含有するアルキル（メタ）アクリレートのうちの少なくとも１種のポリマー、コポリマー又はこれらの混合物からなる樹脂成分（Ａ）と；ポリオール（メタ）アクリレートと；を組み合わせて含有することが好ましい。

このような他の樹脂成分として好適に用いられる樹脂成分（Ａ）としては、水酸基及びアクリロイル基のうちの少なくとも１種の置換基を有するアルキル基を含有するアルキル（メタ）アクリレートのうちの少なくとも１種のポリマー、コポリマー又はこれらの混合物であればよく、特に制限されるものではないが、例えば、２，３−ジヒドロキシプロピルアクリレート、２，３−ジアクリロイルオキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−アクリロイルオキシプロピルアクリレート、２−アクリロイルオキシ−３−ヒドロキシプロピルアクリレート、２，３−ジヒドロキシプロピルメタクリレート、２，３−ジアクリロイルオキシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−アクリロイルオキシプロピルメタクリレート、２−アクリロイルオキシ−３−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−アクリロイルオキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレートおよび２−アクリロイルオキシメタクリレートからなる群から選択される少なくとも１種のモノマーから形成されたポリマー、コポリマー又はこれらの混合物が挙げられる。

また、前記他の樹脂成分として好適なポリオール（メタ）アクリレートとしては、特に制限されないが、例えば、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、１，６−ヘキサンジオールアクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールメタクリレート等が挙げられる。また、このようなポリオール（メタ）アクリレートとしては、ペンタエリスリトールトリアクリレートとペンタエリスリトールテトラアクリレートとの重合物からなる成分；ペンタエリスリトールトリアクリレートとペンタエリスリトールテトラアクリレートとを含む混合成分；が好ましい。このようなポリオール（メタ）アクリレートは単独で用いてもよく或いは二種類以上を混合して利用してもよい。

また、前記ハードコート材料としては、ハードコート層の形成時の塗工性等の観点から、溶媒を含有していてもよい。このような溶媒としては特に制限されず、種々の溶媒を適宜利用することができる。このような溶媒としては、例えば、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，３，５−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノール、シクロヘキサノール、酢酸イソブチル、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、２−オクタノン、２−ペンタノン、２−ヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル等が挙げられる。このような溶媒は１種類を単独で使用してもよく或いは二種類以上を併用してもよい。また、このような溶媒は、用いる樹脂成分の組成や含有量等に応じて、その種類や含有比率を適宜設定すればよい。

また、前記ハードコート材料には、本発明の効果を損なわない範囲において、レベリング剤を添加してもよい。このようなレベリング剤としては、例えば、フッ素系またはシリコーン系のレベリング剤があげられる。また、このようなレベリング剤としては、シリコーン系レベリング剤が好ましい。更に、このようなシリコーン系レベリング剤としては、特に制限されないが、例えば、反応性シリコーン、ポリジメチルシロキサン、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、ポリメチルアルキルシロキサン等が挙げられる。このようなシリコーン系レベリング剤の中でも、前記反応性シリコーンが特に好ましい。このようにしてレベリング剤として応性シリコーンを用いることにより、得られるハードコート層の表面に滑り性を付与することが可能となり、耐擦傷性が長期間にわたり持続する傾向にある。

前記ハードコート材料には、本発明の効果を損なわない範囲において、必要に応じ、顔料、充填剤、分散剤、可塑剤、紫外線吸収剤、界面活性剤、防汚剤、酸化防止剤、チクソトロピー化剤等の添加剤を適宜利用してもよい。このような添加剤は一種類を単独で使用してもよく、また二種類以上併用してもよい。

また、前記ハードコート材料には、用いる樹脂成分の種類等に応じて、公知の光重合開始剤を用いることができる。このような光重合開始剤としては、例えば、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（ＩＲＧ−１８４）、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、アセトフェノン、ベンゾフェノン、キサントン、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、チオキサントン系化合物等を利用することができる。

前記ハードコート材料中のウレタン（メタ）アクリレート系樹脂の含有量としては、特に制限されるものではないが、得られるハードコート層の硬度の観点等からは、前記ハードコート材料中の樹脂成分の総量に対して、１５〜５５質量％であることが好ましく、２５〜４５質量％であることがより好ましい。なお、ここにいう樹脂成分の総量とは、ハードコート材料中に含まれている樹脂成分の合計量をいい、例えば、ウレタン（メタ）アクリレート系樹脂とともに上述の樹脂成分（Ａ）やポリオール（メタ）アクリレートを更に含有する場合には、ウレタン（メタ）アクリレート系樹脂と樹脂成分（Ａ）とポリオール（メタ）アクリレートとの合計量（総量）をいい、更に他の樹脂成分を含有する場合には、前記合計量に更に他の樹脂成分の量を合計して得られる量（総量）をいう。また、このようなウレタン（メタ）アクリレート系樹脂の含有量が前記下限未満では硬度等の硬化物物性が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えるとフィルムのカールの発生を十分に防止することが困難となる傾向にある。

また、このような樹脂成分の総量は、前記ハードコート材料中、９０〜９９．９質量％であることが好ましく、９５〜９９．５質量％であることがより好ましい。このような樹脂成分の総量が前記下限未満では、ハードコート層を効率よく形成することが困難となる傾向にあり、他方、前記上限を超えるとハードコート層の膜厚制御が困難となる傾向にある。

また、前記ハードコート材料中に前記樹脂成分（Ａ）を含有させる場合においては、樹脂成分（Ａ）の含有量は、特に制限されるものではないが、前記ウレタン（メタ）アクリレート系樹脂１００質量部に対して２５〜１１０質量部であることが好ましく、４５〜８５質量部であることがより好ましい。このような樹脂成分（Ａ）の含有量が前記上限を超えると、ハードコート材料の塗工性が低下する傾向にあり、他方、樹脂成分（Ａ）の配合割合が前記下限未満の場合には、ハードコート材料を硬化する際に硬化収縮を防止することが困難となり、カールの発生を十分に防止することが困難となる傾向にある。

さらに、前記ハードコート材料中にポリオール（メタ）アクリレートを含有させる場合においては、ポリオール（メタ）アクリレートの含有量は、特に制限されるものではないが、前記ウレタン（メタ）アクリレート系樹脂１００質量部に対して７０〜１８０質量部であることが好ましく、１００〜１５０質量部であることがより好ましい。前記ポリオール（メタ）アクリレートの含有量が前記上限を超えると、ハードコート層の形成時に硬化収縮を効率よく防止することが困難となり、ハードコート層のカールを十分に防止することができなくなり、屈曲性の低下を十分に防止することが困難となる。また、前記ポリオール（メタ）アクリレートの含有量が前記下限未満では、ハードコート層の硬度を十分なものとすることが困難となり、耐擦傷性が低下する傾向にある。

また、前記ハードコート材料中に溶媒を含有させる場合においては、前記溶媒の含有量は９５質量％以下であることが好ましく、９０質量％以下であることがより好ましい。このような溶媒の含有量が前記上限を超えるとレベリング性が低下し、塗工ムラを生じやすくなる傾向にある。

前記レベリング剤の含有量としては、特に制限されるものではないが、前記樹脂成分の総量１００質量部に対して、５質量部以下であることが好ましく、０．０１〜５質量部であることがより好ましい。なお、このようなハードコート材料としては、各成分の調製方法やその混合方法等も特に制限されず、公知の方法で適宜製造したものを利用することができる。また、このようなハードコート材料としては、前記ウレタン（メタ）アクリレート系樹脂を含有しているものであればよく、市販品を適宜利用してもよく、例えば、大成ファインケミカル株式会社製の商品名「８ＵＸ−０１５Ａ」、東亞合成株式会社製の商品名「アロニックス Ｍ−１１００」等を使用することができる。

また、前記ハードコート層は、前記ハードコート材料を硬化してなる層であるが、このような硬化の好適な条件等については、後述の本発明の光学フィルムの製造方法において説明する。また、このようなハードコート材料を硬化して得られる、ハードコート層においては、そのハードコート層（樹脂層）中における前記ウレタン（メタ）アクリレート系樹脂に由来する成分の含有量は１５〜５５質量％であることが好ましく、２５〜４５質量％であることがより好ましい。このような含有量が前記下限未満では硬度等の硬化物物性が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えるとフィルムのカールの発生を十分に防止するのが困難となる傾向にある。

さらに、このようなハードコート層の厚み（膜厚）としては、１５μｍ以下であることが好ましく、０．１〜５μｍであることがより好ましく、０．１〜３μｍであることが更に好ましい。このような厚みが前記下限未満ではハードコート層に十分な硬度を付与することが困難となり、耐傷性が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えると、硬化時にカールが大きくなるため、例えば、フィルムを形成する際、ハードコート材料の塗工時にライン走行性が低下する傾向にある。

また、このようなハードコート層としては、その硬度は層の厚みにも影響されるものであり、特に制限されるものではないが、鉛筆硬度において、６Ｂ〜４Ｈの硬度を有することが好ましく、５Ｂ〜２Ｈの硬度を有することがより好ましい。このような硬度が前記下限未満では耐キズ性能が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えるとクラック耐性が低下する傾向にある。なお、このような鉛筆硬度の値は、１９９９年発行のＪＩＳ Ｋ５６００−５−４に規定されている方法に準拠して測定することにより求めることができる。

なお、このようなハードコート層を前記液晶層と組み合わせて用いることにより、前記液晶層の耐傷性を向上させることが可能となるばかりか、前記液晶層との間の十分な密着性を得ることが可能となる。そして、このようなハードコート層を前記液晶層と組み合わせて用いることにより、前記液晶層中の液晶の配向状態が熱により変化することを十分に抑制することが可能な、優れた耐熱性を光学フィルムに付与することも可能となる。

また、このような本発明の光学フィルムは、前記基材、前記液晶層及び前記ハードコート層を備えるものであればよく、その製造方法としては、後述の本発明の光学フィルムの製造方法を好適に採用することができる。

［光学フィルムの製造方法］
本発明の光学フィルムの製造方法は、基材上に液晶材料をホメオトロピック配向の状態で固定化した液晶層を積層した後、前記液晶層上にウレタン（メタ）アクリレート系樹脂を含むハードコート材料を塗布し、硬化することによりハードコート層を積層し、
前記基材と、前記基材上に積層された前記液晶層と、前記液晶層上に積層された前記ハードコート材料を硬化してなる前記ハードコート層とを備える光学フィルムを得ることを特徴とする方法である。

このような光学フィルムの製造方法に記載されている「基材」、「液晶層」、「ハードコート層」、「液晶材料」、「ハードコート材料」等はいずれも、上述の本発明の光学フィルムにおいて説明したものと同様のものである。

ここで、先ず、前記基材上に液晶材料をホメオトロピック配向の状態で固定化した液晶層を積層する方法について説明する。このような液晶層を積層する方法としては、基材上に液晶材料をホメオトロピック配向の状態で固定化した液晶層を、前記基材上に積層することが可能な方法であればよく、特に制限されるものではないが、前記基材上に前記液晶材料を塗布した後に、ホメオトロピック配向となるように配向処理し、その液晶状態を固定化することによって、前記基材上に前記液晶材料をホメオトロピック配向の状態で固定化した液晶層を積層する方法を採用することが好ましい。

前記基材上に前記液晶材料を塗布する方法としては、特に制限されず、前記液晶材料の種類に応じて、塗膜の均一性を確保できるような方法であればよく、溶媒を含有しない液晶材料を直接塗布する方法であっても、溶媒を含有する液晶材料（液晶材料の溶液）を塗布する方法であってもよい。このような液晶材料を塗布する方法としては、特に限定されず、公知の方法を適宜採用することができ、例えば、フレキソ印刷方式、オフセット印刷方式、ディスペンサー方式、グラビアコート方式、マイクログラビア方式、バーコート方式、スクリーン印刷方式、リップコート方式、ダイコート方式等の塗工方法を適宜採用することができる。このような塗布方法の中でも、グラビアコート方式、キスコート方式やリップコート方式とダイコート方式を採用することが好ましい。なお、前記基材上に均一な塗膜を形成するために、塗布する前に表面改質処理としてコロナ処理やプラズマ処理を行ってもよい。

また、前記液晶材料の溶液を塗布する場合には、塗布後に塗膜から溶媒を除去（留去）するための乾燥工程を施すことが好ましい。このような乾燥工程は、塗膜の均一性が維持される方法であればよく、特に限定されず、公知の方法を採用することができ、例えば、ヒーター（炉）、温風吹きつけ等の方法を採用してもよい。また、このような塗布工程より得られる塗膜の膜厚は、用いる液晶材料の種類や得られる液晶層の用途等により適宜調整されるものであるため、一概には決められないが、乾燥後の膜厚が０．１〜５０μｍ（より好ましくは０．２〜２０μｍ、更に好ましくは０．３〜１０μｍ）となるようにすることが好ましい。このような乾燥後の膜厚が前記範囲外となるような場合には、配向が不十分になる傾向にある。また、このような乾燥後の膜厚が、前記下限未満では所望の位相差を発現できなくなる傾向にあり、他方、前記上限を超えると液晶の配向性が低下する傾向にある。

また、前記基材上に前記液晶材料を塗布した後に、前記液晶材料をホメオトロピック配向となるように配向処理する方法（配向処理の方法）としては、特に制限されず、前記液晶材料中の前記液晶化合物の種類に応じてホメオトロピック配向を形成することが可能な公知の方法と適宜採用することができ、例えば、前記液晶材料の塗膜を熱処理する方法を採用してもよい。

このように配向処理の方法に熱処理する方法を採用する場合、かかる熱処理としては、使用した液晶材料に応じて、その液晶材料中の前記液晶性化合物の液晶相発現温度範囲内において加熱する方法を挙げることができ、その条件は公知の条件の中で適宜設定することができる。このような熱処理を施す配向処理の方法によって、前記液晶材料中の前記液晶性化合物が本来有する自己配向能を利用して、液晶をホメオトロピック配向させることが可能となる。また、このような熱処理の条件としては、用いる液晶性化合物等の種類によって液晶相挙動温度（転移温度）の最適条件や限界値が異なるものであるため、一概には言えないが、その温度条件が、１０〜２００℃（より好ましくは３０〜１５０℃）の温度範囲内の温度であって、且つ、前記液晶材料中の前記液晶性化合物のガラス転移点（Ｔｇ）以上の温度（更に好ましくはＴｇより１０℃以上高い温度）であるという条件を満たすことがより好ましい。このような熱処理温度が前記下限未満では、液晶配向が十分に進行しない傾向にあり、他方、前記上限を超えると、基材が劣化する等、基材の強度等に問題が生じる傾向にある。また、このような熱処理の時間についても、液晶をホメオトロピック配向させることが可能な範囲であればよく、特に制限されないが、３秒〜３０分であることが好ましく、１０秒〜１０分であることがより好ましい。このような熱処理の時間が３秒より短い場合には、液晶配向（ホメオトロピック配向）を十分に完成させることが困難となる傾向にあり、他方、３０分を超えると、液晶層の生産性が低下する傾向にある。

また、前記配向処理後において、形成された液晶状態（ホメオトロピック配向の配向状態）を固定化する方法としては、用いる液晶材料の種類に応じて公知の方法を適宜採用することができる。このような固定化の方法としては、例えば、反応性官能基を含有する液晶性化合物を含有する液晶材料を用いた場合には、光照射及び／又は加熱処理により前記反応性官能基を反応させて、ホメオトロピック配向の配向状態で配向を固定化する方法を採用してもよい。このように、反応性官能基を含有する液晶性化合物を用いた場合に、光照射及び／又は加熱処理により前記反応性官能基を反応させて、ホメオトロピック配向の配向状態で配向を固定化することで、配向を形成した後に、その液晶の配向状態を十分に保ったまま液晶を固定化することが可能である。また、このように反応性官能基を反応させるために、液晶材料に反応開始剤（例えば前述のカチオン発生剤等）を含有せしめて、その反応開始剤の機能を発現させて前記反応を進行させることが好ましい。

このように、前記液晶材料に前記反応開始剤を含有させる場合であって、かかる反応開始剤が光の照射により開始剤の機能を発現するようなものである場合（例えば、光カチオン発生剤の場合）には、光照射によりホメオトロピック配向の配向状態で配向を固定化することが好ましい。このような光照射の方法としては特に制限されず、例えば、用いる反応開始剤の吸収波長領域にスペクトルを有する光源（例えばメタルハライドランプ、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、低圧水銀灯、キセノンランプ、アークランプ、レーザーなど）を用いて、その光源からの光を照射する方法が挙げられる。なお、このような光の照射により反応開始剤を活性化させることが可能となり、効率よく反応性官能基を反応させることが可能となる。

また、このような光照射の方法において光の積算照射量としては、波長３６５ｎｍでの積算露光量として、１０〜２０００ｍＪ／ｃｍ^２であることが好ましく、５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ^２であることがより好ましい。ただし、前記反応開始剤の吸収領域と、光源のスペクトルが著しく異なる場合や、液晶性化合物自身に光源波長光の吸収能がある場合等は、この限りではない。これらの場合には、より効率よく配向状態を維持したまま、塗膜を固定化（硬化）させるという観点から、適当な光増感剤や、吸収波長の異なる２種以上の反応開始剤を混合して用いる等の方法を採用してもよい。また、このような光照射時の温度条件は、該液晶材料が液晶配向をとる温度範囲とるすことが好ましく、反応の効果を十分に上げるためには、前記液晶性化合物のＴｇ以上の液晶相温度で光照射を行うのが好ましい。

また、前記液晶材料に前記反応開始剤を含有させる場合であって、かかる反応開始剤が熱により開始剤の機能を発現するようなものである場合（例えば、熱カチオン発生剤の場合）には、加熱処理によりホメオトロピック配向の配向状態で配向を固定化することが好ましい。このような加熱処理の条件としては、特に制限されず、反応開始剤の種類に応じて、配向状態が十分に維持されるように温度条件を選択すればよく、公知の条件を適宜採用することができる。

このようにして、前記基材上に前記液晶材料を塗布した後に、ホメオトロピック配向となるように配向処理し、その液晶状態を固定化することによって、前記基材上に前記液晶材料をホメオトロピック配向の状態で固定化した液晶層を積層することが可能となる。

次に、前記液晶層上にウレタン（メタ）アクリレート系樹脂を含むハードコート材料を塗布し、硬化することによりハードコート層を積層する工程について説明する。

このようなハードコート材料を塗布する方法としては、特に制限されず、公知の方法を適宜採用することができ、例えば、例えば、ファンテンコート方式、ダイコート方式、スピンコート方式、スプレーコート方式、グラビアコート方式、ロールコート方式、バーコート方式等の塗工方法を用いることができる。

このようにして前記ハードコート材料を塗布して前記液晶層上に塗膜を形成した後に、前記塗膜を硬化させる場合、その硬化工程に先立ち、前記塗膜を乾燥させる工程を施すことが好ましい。このような乾燥工程において採用する乾燥の方法は特に制限されず、公知の方法を適宜採用でき、例えば、自然乾燥でもよいし、風を吹きつけての風乾であってもよいし、加熱乾燥であってもよいし、これらを組み合わせた方法であってもよい。

また、このようなハードコート材料を塗布する際の膜厚としては、用いるハードコート材料の種類等により適宜調整されるものであるため、一概には決められないが、乾燥後の膜厚が０．１〜１５μｍ（より好ましくは０．１〜１０μｍ、更に好ましくは０．１〜５μｍ）となるようにすることが好ましい。このような乾燥後の膜厚が、前記下限未満では乾燥ムラが多発する傾向にあり、他方、前記上限を超えると硬化後のカールの発生を十分に防止するのが困難となる傾向にある。

また、このようにして前記ハードコート材料を塗布して前記液晶層上に塗膜を形成した後、硬化前に、酸素による硬化反応阻害を防止する観点から、前記塗膜の表面上に高分子フィルム（例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）等）を積層してもよい。なお、このような高分子フィルムは、前記ハードコート材料の塗膜の硬化後に剥離することで、基板フィルム上にハードコート薄膜を形成することが可能となる。

また、前記ハードコート材料の塗膜の硬化方法は、特に制限されないが、熱により硬化する方法又はハードコート材料に対して電離放射線を照射することにより硬化する方法を採用することが好ましく、ハードコート材料に対して電離放射線を照射することにより硬化する方法を採用することがより好ましい。

さらに、このようなハードコート材料に対して電離放射線を照射することにより硬化する方法を採用する場合には、前記電離放射線としては各種活性エネルギー線を用いることができ、特に制限されないが、紫外線（ＵＶ）を用いることが好ましい。また、このような活性エネルギー線の線源としては、公知の線源を適宜利用することができ、特に制限されないが、高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプ、窒素レーザー、電子線加速装置、放射性元素等の線源を好適に利用することができる。さらに、前記電離放射線の照射量は特に制限されず、ハードコート材料を硬化させることが可能な条件であればよい。このような電離放射線の照射量としては、紫外線波長３６５ｎｍでの積算露光量として、５０〜５０００ｍＪ／ｃｍ^２であることが好ましい。このような電離放射線の照射量が、５０ｍＪ／ｃｍ^２未満であれば、硬化を十分に行うことが困難となり、得られるハードコート層の硬度が低下する傾向にあり、他方、５０００ｍＪ／ｃｍ^２を超えると、形成されるハードコート層が着色し易くなり、光学フィルムの性能が低下する傾向にある。

このように、基材上に液晶材料をホメオトロピック配向の状態で固定化した液晶層を積層した後、前記液晶層上にウレタン（メタ）アクリレート系樹脂を含むハードコート材料を塗布し、硬化することによりハードコート層を積層することで、前記基材と、前記基材上に積層された前記液晶層と、前記液晶層上に積層された前記ハードコート材料を硬化してなる前記ハードコート層とを備える光学フィルムを得ることが可能となる。そして、このようにして光学フィルムを製造することで、上記本発明の光学フィルムを得ることができる。

このような光学フィルムの製造方法により得られる上記本発明の光学フィルムにおいては、前記ホメオトロピック配向液晶層と前記特定のハードコート層とを組み合わせて利用しているため、前記液晶層と前記ハードコート層との間の密着性を十分に高度なものとすることができ、外力による剥がれなどが十分に抑制される。更に、このようにして得られる光学フィルムにおいては、前記ハードコート層によって前記液晶層に対して十分に優れた耐熱性を付与できるため、熱により液晶層の配向状態が変化することを十分に抑制することが可能であり、熱による劣化が十分に抑制される。また、このような光学フィルムは、前記液晶層上に前記ハードコート層を備えるものとなるため、耐傷性が十分に高度なものとなっており、例えば、他の材料（例えば直線偏光板）等との積層体を形成する場合において、その積層体の製造過程におけるフィルムの搬送時に、搬送ロールとの接触により液晶層に傷が入ることや、光学フィルムと偏光板とを一体加工する際に、その貼合工程で液晶層表面へのロールの接触等により液晶層に傷が入ること等が、前記ハードコート層により十分に抑制され、傷による品質の低下も十分に抑制することができる。そのため、このような光学フィルムにおいては、液晶層の特性を十分に維持し、発揮させることが可能であり、使用時や偏光板等への応用時に品質が低下することを十分に抑制できる。

また、このような光学フィルムとしては、その用途は特に制限されず、例えば、前記ホメオトロピック配向液晶層の特性を利用することが可能な用途に適宜利用できる。このようなホメオトロピック配向液晶層の特性を利用することが可能な光学フィルムの用途としては、例えば、前記ホメオトロピック配向液晶層が所定の位相差を示すので、それ自体を位相差フィルム等として利用することや、偏光板や位相差板等の光学部材（素子）の材料として利用すること等が挙げられる。例えば、このような光学フィルムは、公知の各種偏光板（例えば偏光素子単体や偏光素子の両側または片側に透光性保護フィルムを有するもの等）や公知の各種位相差フィルム（例えばポリマーフィルムや液晶性の化合物や組成物から形成されるもの等）と組み合わせて積層体とし、楕円偏光板、位相差板、色補償板、視野角改良板等の光学素子として用いてもよい。また、前記光学フィルムは、複数の位相差フィルムと積層して用いてもよい。このような積層体は通常、偏光板や位相差フィルムにズレや歪み等が発生しないように接着剤や粘着剤を用いて形成できる。更に、このような光学フィルムとしては、その構成中に膜厚方向に、より大きな屈折率を有するホメオトロピック配向（垂直配向）の液晶層を有しているため、例えば、各種画像表示装置の視野角改善のための光学素子（偏光板や位相差フィルム等）等の材料に好適に利用できる。

［偏光板、画像表示装置］
本発明の偏光板は、上記本発明の光学フィルムを備えることを特徴とするものである。また、
このような偏光板としては、特に制限されないが、上記本発明の光学フィルム中の前記ホメオトロピック配向液晶層の特性を利用することが可能となるように、上記本発明の光学フィルムを公知の光学部材と適宜組み合わせる等して偏光板として利用すればよく、例えば、上記本発明の光学フィルムと直線偏光板とを組み合わせて楕円偏光板としてもよく、上記本発明の光学フィルムと輝度上昇フィルムとを組み合わせてＬＣＤバックライト側用偏光板としてもよい。このように、前記偏光板の構成は特に制限されず、上記本発明の光学フィルム中の前記ホメオトロピック配向液晶層の特性や、その使用目的等に応じて、他の光学部材との組み合わせ等を適宜考慮して、その設計を適宜変更することができ、これにより各種偏光板として利用すればよい。なお、本発明においては、上記本発明の光学フィルムが前記ハードコート層を備えるため、他の光学部材（例えば前述の直線偏光板）等と積層体を形成して、これを偏光板として利用する場合等において、その積層体の製造過程におけるフィルムの搬送時に搬送ロールとの接触によりフィルム中の液晶層に傷が入ることや、光学フィルムと偏光板とを一体加工する際に、その貼合工程で液晶層表面へのロールの接触等による液晶層に傷が入ること等が十分に抑制され、傷による品質の低下を十分に抑制することができる。このように、上記本発明の光学フィルムがハードコート層により十分な耐傷性を有するため、本発明の偏光板は、品質の低下を十分に抑制しながら効率よく製造することが可能である。

ここで、このような本発明の偏光板について、その好適な一実施形態として、上記本発明の光学フィルムに直線偏光板を積層して得ることが可能な楕円偏光板を例に挙げて説明する。このような楕円偏光板は、上記本発明の光学フィルムと前記直線偏光板とを積層一体化したものである。このような直線偏光板としては特に制限されず、公知の直線偏光板を適宜利用することができ、例えば、偏光子の片側または両側に保護フィルムを有するものを使用できる。このような偏光子は特に制限されず、各種のものを適宜使用でき、例えば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させて一軸延伸したもの、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等のポリエン系配向フィルム等が挙げられる。これらのなかでもポリビニルアルコール系フィルムを延伸して二色性材料（沃素、染料）を吸着、配向したものが好適に用いられる。また、このような偏光子の厚さも特に制限されないが、５〜８０μｍ程度が一般的である。また、前記保護フィルムとしては、特に制限されず、公知の材料からなる保護フィルムを適宜利用することができる。このような保護フィルムとしては、偏光特性や耐久性などの点より、トリアセチルセルロース等のセルロース系ポリマーからなるものが好ましい。また、前記光学フィルムと前記直線偏光板とを積層一体化する方法も特に制限されないが、例えば、前記光学フィルムと前記直線偏光板の互いに積層すべき面の一方または両方に適宜な方法で粘着剤及び／又は接着剤層を形成した後、圧着すればよい。圧着は毎葉形態、長尺形態のいずれでも行うことができ、使用する装置もそれぞれの形態に適した装置を用いればよく、プレス、ラミネーター等を例示できる。また、このような粘着剤層及び／又は接着剤層を形成するための材料も特に制限されず、公知の材料を適宜利用することができる。

また、本発明の画像表示装置は、上記本発明の偏光板を備えることを特徴とするものである。このような本発明の画像表示装置としては、上記本発明の偏光板を備えていればよく、画像表示装置の種類は特に制限されず、液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置、プラズマディスプレイ等のような公知の画像表示装置を適宜利用することができる。また、上記本発明の偏光板を画像表示装置に配置する方法等も特に制限されず、公知の方法を適宜利用することができる。このように、上記本発明の偏光板を備える本発明の画像表示装置は、膜厚方向に、より大きな屈折率を有するホメオトロピック配向（垂直配向）の液晶層を備える上記本発明の光学フィルムを利用したものとなることから、その特性に応じて、例えば、その画像表示装置の視野角を十分に広げたり、輝度を十分に向上させたりすること等が可能となり、これにより視野角向上や画質向上を十分に図ることができる。

以下、実施例及び比較例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。

（調製例１：液晶フィルム［ホメオトロピック液晶層とＣＯＰフィルムの積層体］の調製）
先ず、ラジカル重合により合成して一般式（１０）：

で表わされる側鎖型液晶性ポリマーを準備した。このようにして得られた側鎖型液晶性ポリマーの分子量をＧＰＣにより測定（測定条件：東ソー製高速ＧＰＣ装置ＥｃｏＳｅｃ ＨＬＣ−８３２０ＧＰＣを使用。カラムはＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒＨ４０００、ＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒＨ１０００、ＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒＭＰ（ＨＺ）−Ｈ、ＴＳＫｇｅｌＭｕｌｔｉｐｏｒｅＨＺ−Ｈを使用。カラムオーブン温度：４０℃、分離溶媒：テトラヒドロフラン、流速：０．３５ｍｌ／ｍｉｎを採用）したところ、ポリスチレン換算による重量平均分子量は９７００であった。なお、上記一般式（１０）における数値の表記は、各ユニットの構成比を表すものであって、ブロック重合体を意味するものではない。

次いで、上記一般式（１０）で表わされる側鎖型液晶性ポリマー０．７７ｇと、下記一般式（１１）：

で表されるアクリル化合物０．１５ｇと、下記一般式式（１２）：

で表されるジオキセタン化合物０．０８ｇとを、９ｍｌのシクロヘキサノン中に添加し、溶解させて溶液を得た後に、暗所にて、前記溶液に対して、トリアリルスルフォニウムヘキサフルオロアンチモネートを５０質量％含有するプロピレンカーボネート溶液（アルドリッチ社製、試薬）を０．１ｇ加え、孔径０．４５μｍのポリテトラフルオロエチレン製のフィルターでろ過することにより溶液状態の液晶材料（溶媒の含有量９０質量％、溶媒：シクロヘキサノン）を調製した。

次いで、前記溶液状態の液晶材料を、ＣＯＰフィルム（ＪＳＲ株式会社製の商品名「アートン」、Ｒｅ１＝１００ｎｍ、膜厚２８μｍ）上にスピンコート法で塗布し、得られた塗膜を６０℃のホットプレートで１０分乾燥した後に、前記乾燥後の塗膜とＣＯＰフィルムとの積層物に対して、９０℃のオーブンで２分間熱処理を施し、前記塗膜（液晶層）を形成する液晶材料を配向させて、液晶材料がホメオトロピック配向した塗膜（膜厚１．１μｍ）を備える積層体を得た。次いで、前記液晶材料がホメオトロピック配向した塗膜を備える積層体を、６０℃に加熱したアルミ板上に密着させて置き、その上から、高圧水銀灯ランプにより、６００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外光（ただし、３６５ｎｍの波長の光を測定した光量）を照射して、前記配向処理後の塗膜（液晶層）を硬化させて、配向状態を固定化し、配向状態が固定化された液晶層（膜厚１．０μｍ）を備える液晶フィルム（液晶層／ＣＯＰフィルム）を得た。

このようにして得られた液晶フィルムを、クロスニコルさせた偏光顕微鏡下で観察すると、ディスクリネーションがなくモノドメインの均一な配向で、このフィルムを傾けて斜めから光を入射し、同様にクロスニコルで観察したところ、光の透過が観測された。また、得られた液晶フィルムの光学位相差を王子計測機器株式会社製の自動複屈折計（商品名「ＫＯＢＲＡ２１ ＡＤＨ」）を用いて測定した。なお、このような光学位相差の測定に際しては、測定光を液晶フィルムの表面に対して垂直或いは斜めの方向から入射したところ、液晶フィルムの表面に対して垂直方向での位相差（面内位相差）がほぼゼロで、液晶層の遅相軸方向に斜めから位相差を測定したところ、測定光の入射角度の増加に伴い位相差値が増加したことから、液晶層がホメオトロピック配向の状態で固定化されていることが確認された。なお、このような測定により、前記液晶フィルム中の前記液晶層の単独のリターデーション（波長５５０ｎｍ光に対するリターデーション）は、Ｒｅが０ｎｍ、Ｒｔｈが−２３ｎｍと見積もられた。

（実施例１）
調製例１で得られた液晶フィルム（ホメオトロピック配向の液晶層／ＣＯＰフィルム）の液晶層上に、ウレタンアクリレート系樹脂を含有するハードコート材料（大成ファインケミカル株式会社製の商品名「８ＵＸ−０１５Ａ（ウレタンアクリレート系樹脂の重量平均分子量：１０００、溶媒：無し、不揮発成分の含有量：９９質量％）」と、光重合開始剤（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、チバ・ジャパン株式会社製の商品名「ＩＲＧ−１８４」）との混合物（混合物中の光重合開始剤の含有量０．４質量％））を、乾燥硬化後の厚みが１．５μｍとなるようにして塗布した後、得られた塗膜の表面上にポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを積層した。次いで、前記塗膜に対して前記ＰＥＴフィルム側から６００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線光（ただし、３６５ｎｍの波長の光を測定した光量）を照射してハードコート材料を硬化させ、ハードコート層を形成し、ＰＥＴフィルム／ハードコート層／ホメオトロピック液晶層／ＣＯＰフィルムの層構成を持つ多層フィルムを得た（ハードコート層の厚みは１．５μｍ）。次いで、得られた多層フィルムから前記ＰＥＴフィルムを剥離して光学フィルム（ＣＯＰフィルム／ホメオトロピック配向液晶層／ハードコート層の層構成）を得た。

（比較例１）
調製例１で得られた液晶フィルムをそのまま比較のための光学フィルムとした。

（比較例２）
ウレタンアクリレート系樹脂を含有するハードコート材料の代わりに、ウレタンアクリレート系樹脂以外のアクリレート系樹脂を含有するハードコート材料（大成ファインケミカル株式会社製の商品名「８ＫＸ−０７７（アクリレート系樹脂の重量平均分子量：２１０００、溶媒：酢酸ブチル：ノルマルプロピルアセテート：メチルエチルケトン＝１０：６０：３０混合溶媒、不揮発成分の含有量：４０質量％：なお、ウレタン（メタ）アクリレート系樹脂を含まない材料である。）」と、光重合開始剤（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、チバ・ジャパン株式会社製の商品名「ＩＲＧ−１８４」）との混合物（混合物中の光重合開始剤の含有量０．４質量％））を用いた以外は、実施例１と同様にして、比較のための光学フィルム（ＣＯＰフィルム／ホメオトロピック配向液晶層／ハードコート層の層構成）を得た。

（比較例３）
先ず、調製例１で採用した方法と同様の方法を採用して溶液状態の液晶材料（液晶性組成物）を調製した。次に、ラビング処理を行ったポリビニルアルコール／ポリエチレンナフタレート（ＰＶＡ／ＰＥＮ：なお、ＰＶＡは日本酢ビポバール株式会社製の商品名「ＰＸＰ−０５」を使用し、ＰＥＮは帝人株式会社製の商品名「テオネックス Ｑ５１」を使用）の積層体からなる基板フィルムのＰＶＡ層上に、前記溶液状態の液晶材料を塗工し、得られた塗膜を６０℃のホットプレートで１０分乾燥した後に、前記乾燥後の塗膜と基板フィルム（ＰＶＡ／ＰＥＮフィルム）との積層物に対して、１４５℃のオーブンを用いて１分間の熱処理を施し、一度、オーブンから熱処理後の積層物を取り出して室温（２５℃）まで冷却した後、かかる冷却後の積層物に対して、１４５℃のオーブンを用いて１分３０秒間の熱処理を施すことにより、前記塗膜（液晶層）を形成する液晶材料を配向させて、液晶材料がホモジニアス配向した塗膜（膜厚１．１μｍ）を備える積層体を得た。次いで、前記液晶材料がホモジニアス配向した塗膜を備える積層体を、６０℃に加熱したアルミ板上に密着させて置き、その上から、高圧水銀灯ランプにより、６００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外光（ただし、３６５ｎｍの波長の光を測定した光量）を照射して、前記配向処理後の塗膜（液晶層）を硬化させて、配向状態を固定化し、配向状態が固定化された液晶層（膜厚１．０μｍ）を備えるフィルム（液晶層／基板フィルム［ＰＶＡ／ＰＥＮ］の層構成）を得た。

このようにして得られたフィルムの液晶層上にＵＶ硬化型アクリル樹脂（東亞合成製ＵＶ−３４００）を塗布し、塗膜を形成した後、該塗膜の表面上をトリアセチルセルロース
（ＴＡＣ）フィルム（富士フイルム株式会社製の商品名「ＴＤＹ８０」）で覆い、積層体（ＴＡＣ／ＵＶ−３４００／液晶層／ＰＶＡ／ＰＥＮの層構成）を得た。次に、得られた積層体の上から高圧水銀灯ランプにより、６００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外光（ただし、３６５ｎｍの波長の光を測定した光量）を照射して、前記アクリル樹脂の塗膜を硬化させた後、該積層体から基板フィルム（ＰＶＡ／ＰＥＮフィルム）を剥離することにより、液晶フィルム（ＴＡＣ／ＵＶ−３４００／液晶層の層構成）を得た。

調製例１で得られた液晶フィルム（ホメオトロピック配向の液晶層／ＣＯＰフィルム）の代わりに、上述のようにして得られた液晶フィルム（ＴＡＣ／ＵＶ−３４００／液晶層の層構成）を用いた以外は、実施例１と同様にして、液晶層上にハードコート層を形成し、光学フィルム（ＴＡＣ／ＵＶ−３４００／液晶層／ハードコート層の層構成）を得た。なお、液晶層の配向状態をクロスニコルで観察したところ、液晶層がホモジニアス配向の状態で固定化されていることが確認された。

（比較例４）
先ず、調製例１で採用した方法と同様の方法を採用して溶液状態の液晶材料（液晶性組成物）を調製した。次に、ラビング処理を行ったポリビニルアルコール／ポリエチレンナフタレート（ＰＶＡ／ＰＥＮ：なお、ＰＶＡは日本酢ビポバール株式会社製の商品名「ＰＸＰ−０５」を使用し、ＰＥＮは帝人株式会社製の商品名「テオネックス Ｑ５１」を使用）の積層体からなる基板フィルムのＰＶＡ層上に、前記溶液状態の液晶材料を塗工し、得られた塗膜を６０℃のホットプレートで１０分乾燥した後に、前記乾燥後の塗膜と基板フィルム（ＰＶＡ／ＰＥＮフィルム）との積層物に対して、１４５℃のオーブンを用いて１分間の熱処理を施し、一度、オーブンから熱処理後の積層物を取り出して室温（２５℃）まで冷却した後、かかる冷却後の積層物に対して、１２５℃のオーブンを用いて１分３０秒間の熱処理を施すことにより前記塗膜（液晶層）を形成する液晶材料を配向させて、液晶材料がスプレー配向した塗膜（膜厚１．１μｍ）を備える積層体を得た。次いで、前記液晶材料がスプレー配向した塗膜を備える積層体を、６０℃に加熱したアルミ板上に密着させて置き、その上から、高圧水銀灯ランプにより、６００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外光（ただし、３６５ｎｍの波長の光を測定した光量）を照射して、前記配向処理後の塗膜（液晶層）を硬化させて、配向状態を固定化し、配向状態が固定化された液晶層（膜厚１．０μｍ）を備えるフィルム（液晶層／基板フィルム［ＰＶＡ／ＰＥＮ］の層構成）を得た。

このようにして得られたフィルムの液晶層上にＵＶ硬化型アクリル樹脂（東亞合成製ＵＶ−３４００）を塗布し、塗膜を形成した後、該塗膜の表面上をトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（富士フイルム株式会社製の商品名「ＴＤＹ８０」）で覆い、積層体（ＴＡＣ／ＵＶ−３４００／液晶層／ＰＶＡ／ＰＥＮの層構成）を得た。次に、得られた積層体の上から高圧水銀灯ランプにより、６００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外光（ただし、３６５ｎｍの波長の光を測定した光量）を照射して、前記アクリル樹脂の塗膜を硬化させた後、該積層体から基板フィルム（ＰＶＡ／ＰＥＮフィルム）を剥離することにより、液晶フィルム（ＴＡＣ／ＵＶ−３４００／液晶層の層構成）を得た。

調製例１で得られた液晶フィルム（ホメオトロピック配向の液晶層／ＣＯＰフィルム）の代わりに、上述のようにして得られた液晶フィルム（ＴＡＣ／ＵＶ−３４００／液晶層）を用いた以外は、実施例１と同様にして、液晶層上にハードコート層を形成し、光学フィルム（ＴＡＣ／ＵＶ−３４００／液晶層／ハードコート層の層構成）を得た。なお、液晶層の配向状態をクロスニコルで観察したところ、液晶層がスプレー配向の状態で固定化されていることが確認された。

［実施例及び比較例で得られた光学フィルムの特性評価］
〈ハードコート層が光学フィルムの位相差に及ぼす影響についての評価〉
実施例１及び比較例１で得られた光学フィルムを用いて、ハードコート層が光学フィルムの位相差に及ぼす影響を評価した。このような光学フィルムの位相差は、王子計測機器株式会社製の自動複屈折計（商品名「ＫＯＢＲＡ２１ ＡＤＨ」）を用いて測定し、各光学フィルムの表面に対して垂直方向から測定光を入射する条件と、各光学フィルムの表面に対して斜め５０度（該表面に対して測定光がなす角度）から測定光を入射する条件で、それぞれ位相差を測定した（測定回数Ｎ＝２として平均値を求めた）。得られた結果を表１に示す。

表１に示す結果からも明らかなように、実施例１及び比較例１で得られた光学フィルムは共に、正面位相差、斜め方向（５０°）の位相差はほぼ同等の値となっており、ハードコート層を積層することによって位相差にほとんど変化がないことが認められた。このような結果から、ハードコート層の積層工程において液晶層の特性を積層前と比較して十分に維持することが可能であることが確認された。

＜光学フィルムにおける液晶層とハードコート層の層間密着力の測定＞
実施例１及び比較例２〜４で得られた各光学フィルムの層間密着力は以下のようにして測定した。すなわち、先ず、実施例等で得られた各光学フィルムをそれぞれ用い、ラミネーター（ムサシノキカイ社製）を使用してロール速度０．７５ｍ／ｍｉｎの条件で、セパレーター／粘着層／光学フィルム（基材（ＣＯＰフィルム又はＴＡＣ／ＵＶ−３４００の積層フィルム）／液晶層／ハードコート層）／セロテープ（登録商標）からなる積層サンプルをそれぞれ作成した。なお、このような粘着層の積層には、セパレーター／粘着層／セパレーターという構成を有する両面テープ（日東電工株式製の両面テープ（商品名「Ｎ５０１Ｆ」）を利用して、その両面テープの一方のセパレーターを剥がして、基材（ＣＯＰフィルム又はＴＡＣ／ＵＶ−３４００の積層フィルム）の表面上に粘着層が接するようにして利用した。また、前記セロテープ（登録商標）としては、ニチバン株式会社製の商品名「ＣＴ−１８Ｓ」を使用した（なお、セロテープ（登録商標）はハードコート層の表面上に配置した。）。このようにして得られた各積層サンプルから、それぞれ長さ１００ｍｍ、幅２５ｍｍの短冊状試料を切り出した後、短冊状試料中のセパレーターを剥がして、該試料をガラスプレパラートに貼り合せ、層間密着力の評価用の試験サンプルとした。そして、前記試験サンプルを用いて、東洋精機株式会社製の商品名「ストログラフＥ−Ｌ」により、前記試験サンプルの表面からセロテープ（登録商標）を９０°方向に剥離（セロテープ（登録商標）／ハードコート層の層間を剥離）して、前記試験サンプルの９０°剥離強度を測定（測定回数Ｎ＝３回、温度２３℃、剥離速度３００ｍｍ／ｍｉｎ）して、液晶層／ハードコート層の層間が剥離された際に加えられた力のモーメントの平均値（平均密着力）を求めて、液晶層とハードコート層との間の平均密着力を測定した。得られた結果を表２に示す。

表２に示す結果からも明らかなように、実施例１で得られた光学フィルムにおいては、ハードコート層／ホメオトロピック配向液晶層の層間の平均密着力（ハードコート層がホメオトロピック液晶層から剥離された際に加えた力のモーメントの平均値）は４６２Ｎ／ｍ（実施例１）であり、実施例１で得られた光学フィルムにおいては、ハードコート層／ホメオトロピック液晶層の層間の密着性が十分に優れたものとなることが確認された。他方、比較例２で得られた光学フィルムにおいては、平均密着力は４３４Ｎ／ｍであることが確認された。また、比較例３及び比較例４で得られた光学フィルムにおいては、平均密着力はそれぞれ２４Ｎ／ｍおよび３５Ｎ／ｍと低く、液晶層の配向状態がホメオトロピック配向以外の状態にある場合には、ウレタン（メタ）アクリレート系樹脂を含有するハードコート材料を積層しても十分な密着性を得ることができないことも確認された。

このような結果から、ハードコート層の材料にウレタン（メタ）アクリレート系樹脂を含有するハードコート材料を用いることで、ウレタン（メタ）アクリレート系樹脂以外の（メタ）アクリレート系樹脂を含有するハードコート材料と比較して、より高度な水準の密着性が達成されることが確認された。また、ウレタン（メタ）アクリレート系樹脂を含有するハードコート材料を用いた場合には、ホメオトロピック配向の液晶層に対して、特異的に、十分に高度な密着性を付与できることが確認された。

＜鉛筆硬度の測定＞
実施例１及び比較例１〜２で得られた各光学フィルムの鉛筆硬度を測定した。すなわち、各光学フィルムをガラス板（厚さ２ｍｍ）上にテープで固定した測定サンプル（ガラス／ＣＯＰ／液晶層／ハードコート層）をそれぞれ作成した後、コーテック株式会社製の鉛筆硬度試験器（商品名「ＫＴ−ＶＦ２３８０」）を用いて、ハードコート層側の面の硬度を、１９９９年発行のＪＩＳ Ｋ５６００−５−４に規定されている方法に準拠してそれぞれ測定することにより求めた。得られた結果を表３に示す。

表３に示す結果からも明らかなように、ハードコート層を利用した場合（実施例１、比較例２）においては鉛筆硬度が４Ｂであるのに対して、ハードコート層を利用しなかった場合（比較例１）には鉛筆硬度が６Ｂ以下であり、ハードコート層を利用することで硬化度が十分に増加することが確認された。

また、ハードコート層を積層した本発明の光学フィルム（実施例１）と、ハードコート層を積層していない比較のための光学フィルム（比較例１）とに対してそれぞれクリーニングクロス（クラレ社製の商品名「クリネスタ」）を用い、前記クリーニングクロスを荷重７５０ｇとなるような負荷をかけながら、各光学フィルムの表面（基材と反対側の表面）上を１０回往復させて、その後、各光学フィルムの表面の傷の状態を偏光顕微鏡にて確認した。その結果、比較のための光学フィルム（比較例１）においては液晶層に直接傷が発生したのに対して、本発明の光学フィルム（実施例１）においては、ハードコート層に傷がついても、傷が液晶層に達することはなく、ハードコート層により液晶層に傷がつくことが十分に防止されていることが確認された。

＜耐熱性の測定＞
実施例１及び比較例１〜２で得られた各光学フィルムの耐熱性を評価するために、先ず、各光学フィルムをそれぞれ３ｃｍ×４ｃｍの長方形サイズにカットしたサンプルを作成し、該サンプル中のハードコート層の表面に、厚み２５μｍの粘着剤層とセパレーターフィルムとの積層体（一般的なＬＣＤグレードのノンキャリア糊）を貼り合わせ、次いで、セパレーターフィルムを剥離し、ガラス板（２ｍｍ厚）に貼り付けてガラス／粘着剤層／ハードコート層／ホメオトロピック液晶層／ＣＯＰフィルムの順に積層された耐熱性評価用の試料を得た。なお、このような試料の調整方法と同様の方法を採用して、熱処理を施す前と後のホメオトロピック液晶層の状態を比較評価するために、熱処理を施さないブランクサンプルも準備した。そして、前記耐熱性評価用の試料に対しては、ドライオーブン（トーマス科学器械株式会社製の「パイルアップオーブンＴＡＨ−２１Ｈ」中、９０℃、乾燥条件下で加熱する熱処理を施した（総加熱時間：５１５時間）。

このようにして得られた熱処理後の試料と、熱処理を施していない試料（ブランクサンプル）の位相差（厚み方向のリターデーション：Ｒｔｈ）をそれぞれ測定し、ブランクサンプルに対する熱処理後の試料のＲｔｈの変動率（％）を測定し、かかるＲｔｈの変動率に基づいて、耐熱性を評価した。なお、Ｒｔｈの変動率の測定に際して、前記熱処理の加熱時間を２４時間、１４４時間、３１２時間、５１５時間とした段階で前記試料の厚み方向のリターデーション（Ｒｔｈ）をそれぞれ測定して、各熱処理時間経過後の試料のＲｔｈをそれぞれ求めた。また、位相差は、王子計測機器株式会社製の自動複屈折計（商品名「ＫＯＢＲＡ２１ ＡＤＨ」）を用い、波長５９０ｎｍ光を用いて測定した。得られた結果を表４及び図１に示す。

表４及び図１に示す結果からも明らかなように、本発明の光学フィルム（実施例１）においては、５１５時間加熱した後においてもＲｔｈの変動率が−１．７８％であるのに対して、ハードコート層を積層していない場合（比較例１）及びハードコート層を積層していてもハードコート材料がウレタン（メタ）アクリレート系樹脂を含まないものである場合（比較例２）には、それぞれ、５１５時間加熱した後のＲｔｈの変動率が−４．２９％（比較例１）、−３．０５％（比較例２）であることが確認された。このような結果から、ウレタン（メタ）アクリレート系樹脂を含むハードコート材料を硬化して得られたハードコート層を備える場合（実施例１）には、熱によるＲｔｈの変動を非常に高度な水準で抑制できることが確認され、熱により、ホメオトロピック配向の液晶層の配向状態が変化することを十分に抑制できることが確認された。

上述のような測定結果から、本発明（実施例１）によれば、液晶層とハードコート層との間の密着性を十分に高度なものとすることができ、そのハードコート層により液晶層に十分な耐傷性を付与できるばかりか、液晶層に十分に優れた耐熱性を付与できるため、品質の劣化（熱や傷による劣化）が十分に抑制された光学フィルムが得られることが確認された。

以上説明したように、本発明によれば、ホメオトロピック配向の液晶層とハードコート層との間の密着性を十分に高度なものとすることができ、十分に高度な耐傷性を有するとともに、十分に優れた耐熱性を有し、熱により液晶層の配向状態が変化することを十分に抑制することが可能な光学フィルム及びその製造方法を提供することが可能となる。

したがって、本発明の光学フィルムは、各種画像表示装置に用いるための光学素子（例えば偏光板、位相差フィルム等）に利用するための材料等として特に有用である。

Claims (7)

1. 基材と、前記基材上に積層された液晶層と、前記液晶層上に積層されたハードコート層とを備える光学フィルムであって、
   前記液晶層が液晶材料をホメオトロピック配向の状態で固定化した層であり、且つ、前記ハードコート層がウレタン（メタ）アクリレート系樹脂を含むハードコート材料を硬化してなる層であることを特徴とする光学フィルム。
2. 前記ハードコート層の厚みが０．１〜５μｍであることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルム。
3. 前記液晶材料がポリ（メタ）アクリレート系液晶ポリマーを含有することを特徴とする請求項１又は２に記載の光学フィルム。
4. 前記基材が環状オレフィンポリマーからなることを特徴とする請求項１〜３のうちのいずれか一項に記載の光学フィルム。
5. 請求項１〜４のうちのいずれか一項に記載の光学フィルムを備えることを特徴とする偏光板。
6. 請求項５に記載の偏光板を備えることを特徴とする画像表示装置。
7. 基材上に液晶材料をホメオトロピック配向の状態で固定化した液晶層を積層した後、前記液晶層上にウレタン（メタ）アクリレート系樹脂を含むハードコート材料を塗布し、硬化することによりハードコート層を積層し、
   前記基材と、前記基材上に積層された前記液晶層と、前記液晶層上に積層された前記ハードコート材料を硬化してなる前記ハードコート層とを備える光学フィルムを得ることを特徴とする光学フィルムの製造方法。