WO2007111081A1

WO2007111081A1 - 楕円偏光板、その製造方法およびそれを用いた液晶表示装置

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Publication number: WO2007111081A1
Application number: PCT/JP2007/054124
Authority: WO
Inventors: Tetsuya Uesaka; Kenji Hosaki
Original assignee: Nippon Oil Corporation
Priority date: 2006-03-24
Filing date: 2007-02-27
Publication date: 2007-10-04
Also published as: TW200745635A; KR20090007713A

Abstract

楕円偏光板の層構造を簡略化することによって、高温、高湿条件下においても剥がれなどの不具合が生じることがない楕円偏光板として、透光性保護フィルム、偏光素子および光学異方素子が、この順に積層されている楕円偏光板であって、該光学異方素子が少なくとも正の一軸性を示す液晶性組成物を液晶状態においてホメオトロピック配向させた後、該配向を固定化したホメオトロピック配向液晶層を含むことを特徴とする楕円偏光板が提供される。

Description

明細書楕円偏光板、その製造方法およびそれを用いた液晶表示装置 [技術分野]

本発明は、ホメオト口ピック配向構造を固定化した液晶層を有する楕円偏光板およびその製造方法に関する。さらに本発明は、前記の楕円偏光板を配置した液晶表示装置に関する。

[背景技術]

位相差フィルムは、液晶表示装置の画質向上に用いられるなど工業的に重要な役割を担っている。位相差フィルムとしては、プラスチックフィルムの延伸によるものと、液晶を配向させたものとに大別できる。後者は、多様な屈折率構造を実現できるポテンシャルをもっているため、より注目に値する。

例えば、厚方向により大きな屈折率を有するフィルムは、液晶表示装置の視野角改善に有効と考えられるが、このようなフィルムは液晶のホメオト口ピック配向（垂直配向）を利用するのが近道と考えられる。液晶分子のホメオトロピック配向は、液晶の長軸分子方向が基板に対して実質的に垂直方向に整列することである。ホメオト口ピック配向は、液晶表示装置のように、 2枚のガラス基板の中に液晶を入れて電界をかけることで得られることは良く知られているが、この配向状態をフィルムにすることは非常に難しく、また従来報告されている方法には課題がある。例えば主鎖型液晶性高分子をホメオト口ピック配向させた後、ガラス固定化によりフィルムを得ている（特許文献 1〜3 )。しかしホメオトロピック配向においては、液晶性高分子が膜厚方向に並ぶため面内方向にクラックが入りやすいという問題があると推察されるが、これらの報告では架橋による材料の強化などの対策は講じられていない。特許文献 4では側鎖型液晶性高分子のホメォトロピック配向をガラス化により固定化しているが、前記主鎖型液晶性高分子以上に強度的には問題があると考えられる。

一方、側鎖型液晶性高分子に重合性の低分子液晶を加えているが（特許文献 5 および 6 )、低分子液晶は単独で重合するため側鎖型液晶性高分子の強度の補強には限界がある。特許文献 7では、側鎖型液晶性高分子にラジカル重合性の基や、ビュルエーテル基、エポキシ基といったカチォン重合性の基を導入した材料を用いている。しかし、ラジカル重合は一般に酸素阻害を受けるため、重合が不十分になる恐れがあり、設備的に酸素を取り除こうとすると装置が大掛かりになる。ビニルエーテル基ゃェポキシ基は酸素阻害の影響を受けないためこの点では有利であるが、ビュルエーテル基のエーテル結合は不安定で開裂しやすいという問題があり、エポキシ基は液晶化合物中への導入が煩雑であり、また架橋処理を施したとき高い重合度を得ることが難しい。さらにはホメオト口ピック配向を得るために、液晶化合物中に多量の非液晶性の構造単位を導入しており、安定した液晶性の発現に疑問が残る。このように従来のホメオト口ピック配向性フィルムの製造には課題が残されていた。 .

また、位相差フィルムは偏光板と貼り合せた楕円偏光板として液晶表示装置に使用されるが、位相差フィルムと偏光板を粘 ·接着層で貼り合わせる場合、粘 ' 接着層の分だけ厚みが増し、楕円偏光板の製造工程でロールに巻き取る際に、 1 ロールあたりの卷き取り量が少なくなり生産性が悪くなるという.問題や、最終製品の液晶パネルの厚みが増すという問題がある。また、異種の複数の層から構成されるため各層の熱や湿度に対する伸縮挙動の違いにより、各層の界面が剥がれる等の不具合が生じる場合があった。

( 1 ) 特許文献 1 ：特許第 2853064号公報.

( 2 ) 特許文献 2 ：特許第 30 1 8 1 20号公報

( 3 ) 特許文献 3 ：特許第 30 78948号公報

( 4 ) 特許文献 4 :特開 2002— 1 74725号公報

( 5 ) 特許文献 5.：特開 2002— 333 524号公報

( 6 ) 特許文献 6 ：特開 2002— 333642号公報

( 7 ) 特許文献 Ί ：特開 2003— 29 27号公報

[発明の開示]

本発明の目的は、楕円偏光板の層構造を簡略化することによって、厚みが抑えられ、高温、高湿条件下においても剥がれなどの不具合が生じることがなく、さらにはホメオト口ピック配向構造を固定化した液晶層からなる光学異方素子と偏光素子とを、長尺フィルム形態から連続的に貼り合わせ可能な楕円偏光板と、その製造方法およびそれを使用した液晶表示装置を提供することを目的とする。

すなわち本発明の第 1は、透光性保護フィルム、偏光素子および光学異方素子とが、この順に積層されている楕円偏光板であって、該光学異方素子が少なくとも正の一軸性を示す液晶性組成物を液晶状態においてホメオト口ピック配向させた後、該配向を固定化したホメオト口ピック配向液晶層を含むことを特徴とする楕円偏光板、に関する。 _ ' 本発明の第 2は、透光性保護フィルム、偏光素子および光学異方素子が長尺フイルム形態であることを特徴とする本発明の第 1に記載の楕円偏光板、に関する。本発明の第 3は、ホメオト口ピック配向液晶層が、ォキセタニル基を有する側鎖型の液晶性高分子を含む液晶†生組成物を、液晶状態でホメォト口ピック配向させた後、前記ォキセタエル基を反応せしめてホメオト口ピック配向を固定化したホメオト口ピック配向液晶層であることを特徴とする本発明の第 1に記載の楕円偏光板、に関する。

本発明の第 4は、ホメオト口ピック配向液晶層が、以下の式 [1] 〜 [2] を満たすことを特徴とする本発明の第 1に記載の楕円偏光板、に関する。

[1] 0≤R e≤ 50

[2] - 500≤R t h≤-30

(ここで、 R eはホメォト口ピック'配向液晶層の面内のリターデーション値を意味し、 R t hはホメオト口ピック配向液晶層の厚さ方向のリターデーション値を意味する。前記 R e及び R t hは、それぞれ R e = (Νχ-Ny) X d [nm]、 R t h = (N x -N z ) X d [nm] である。また、 dはホメオト口ピック配向液晶層の厚さ、 Nx, Nyはホメオト口ピック配向液晶層面内の主屈折率、 N z は厚さ方向の主屈折率であり、 N z >Nx≥Nyである。）

本発明の第 5は、透光性保護フィルムが、トリァセチルセルロースであることを特徴とする本発明の第 1〜4のいずれかに記載の楕円偏光板に、関する。

本発明の第 6は、透光性保護フィルムが、シクロォレフイン系ポリマーであることを特徴とする本発明の第 1〜 4のいずれかに記載の楕円偏光板、に関する。本発明の第 7は、楕円偏光板の厚みが 1 50 μπι以下であることを特徴とする本発明の第 1〜 6のいずれかに記載の楕円偏光板、に関する。本発明の第 8は、偏光素子と光学異方素子との間に、光学異方素子の液晶層がホメオト口ピック配向を形成させる配向膜が更に設けられていることを特徴とする本発明の第 1〜 7のいずれかに記載の楕円偏光板、に関する。

本発明の第 9は、光学異方素子の偏光素子とは反対側の表面に透光性オーバーコート層が設けられていることを特徴とする本発明の第 1〜8のいずれかに記載の楕円偏光板、に関する。

本発明の第 1 0は、透光性オーバーコート層がァクリル系樹からなることを特徴とする本発明の第 9に記載の楕円偏光板、に関する。.

本発明の第 1 1は、本発明の第 1〜1 0のいずれかに記載の楕円偏光板に、さらに少なくとも 1つの光学フィルムが積層されていることを特徴とする楕円偏光板、'に関する。

本発明の第 1 2は、光学的に等方性の基板上に少なくとも正の一軸性を示す液晶性組成物を液晶状態においてホメオト口ピック配向させた後、該配向を固定化したホメオト口ピック配向液晶を形成した積層体を得、次いで偏光素子を、該積層体と透光性保護フィルムに挟持されるように貼り合わせることを特徴とする楕円偏光板の製造方法、に関する。

本発明の第 1 3は、（1 ) 透光性保護フィルムを、接着剤層 1を介して偏光素子と接着し、透光性保護フィルム Z接着剤層 1ノ偏光素子からなる積層体（A) を得る第 1工程、（2 ) 配向基板上 fc正の一軸性を示す液晶性組成物の層を形成し、該層をホメオト口ピック配向させた後、配向を固定化した光学異方素子を形成して、配向基板/光学異方素子からなる積層体（B ) を得る第 2工程、（3 ) 前記積層体（B ) の光学異方素子側を、接着剤層 2を介して、前記積層体'（A) の偏光素子側と接着せしめた後、配向基板を剥離して光学異方素子を前記積層体 (A) に転写し、透光性保護フィルムノ接着剤層 1 偏光素子 Z接着剤層 2 光学異方素子からなる楕円偏光板を得る第 3工程、の各工程を少なくとも経ることを特徴とする楕円偏光板の製造方法、に関する。

本発明の第 1 4は、（1 ) 透光性保護フィルムを、接着剤層 1を介して偏光素子と接着し、透光性保護フィルム接着剤層 1 偏光素子からなる積層体（A) を得る第 1工程、（2 ) 前記積層体（A) の偏光素子上に、正の一軸性を示す液晶性組成物の層を形成し、該層をホメオト口ピック配向させた後、配向を固定化した光学異方素子を形成させて、透光性保護フィルムノ接着剤層 1 Z偏光素子ノ光学異方素子からなる楕円偏光板を得る第 2工程、の各工程を少なくとも経ることを特徴とする楕円偏光板の製造方法、に関する。

本発明の第 1 5は、透光性保護フィルムが、トリァセチルセルロースまたはシクロォレフィン系ポリマーであることを特徴とする本発明の第 1 2、 1 3または

1 4に記載の楕円偏光板の製造方法、に関する。

本発明の第 1 6は、透光性保護フィルムが表面処理されていことを特徴とする本発明の第 1 2、 1 3または 1 4に記載の楕円偏光板の製造方法、に関する。本発明の第 1 7は、表面処理が、鹼化処理であることを特徴とする本発明の第 1 6に記載の楕円偏光板の製造方法、に関する。

本発明の第 1 8は、表面処理が、コロナ放電処理であることを特徴とする本発明の第 1 6に記載の楕円偏光板の製造方法、に関する。

本発明の第 1 9は、積層体（A) の偏光素子面が表面処理されていることを特徴とする本発明の第 1 2、 1 3または 1 4に記載の楕円偏光板の製造方法、に関する。

本発明の第 2 0は、偏光素子面の表面処理が、コロナ放電処理であることを特徴とする本発明の第 1 9に記載の楕円偏光板の製造方法、に関する。

本発明の第 2 1は、液晶セルの少なくとも片側の面に、本発明の第 1〜1 1のいずれかに記載の楕円偏光板を配置'した液晶表示装置、に関する。

[発明の効果] , 本発明の楕円偏光板は、新規なォキセタニル基を有する（メタ）アクリル化合物を重合して得られる側鎖型液晶性高分子を含有する液晶性組成物を用い、当該液晶性組成物の配向状態を固定化することにより耐熱性に優れ、硬度が高く、機械的強度に優れたホメォト口ピック配向した液晶層から少なくとも構成される光学異方素子と偏光素子との接着性に優れ、貼り合わせ工程において液晶層に損傷が起こり難く、耐湿熱性の良好な液晶表示装置用の楕円偏光板として有用である。さらに偏光素子との貼り合わせ工程においても、長尺フィルム形態で貼合することができるために、従来法より貼合工程が合理化できる利点がある。 [発明を実施するための最良の形態]

以下、本発明について詳述する。

本発明では、光学異方素子を偏光素子に直接あるいは接着剤を介して接着することや偏光素子表面に光学異方素子を形成すること等により楕円偏光板を製造することができる。そうすることによって、従来のような偏光素子の両側がトリアセチルセルロースフィルムのような光学用フィルムで保護された偏光板に光学異方素子を貼合した楕円偏光板よりも層数を減らすことができる。その結果として、楕円偏光板の総厚を薄く出来るとともに、熱あるいは湿度による各層の伸縮挙動の違いによるひずみの影響が小さくなり、貼り合わせた界面での剥がれ等の不具合をなくすことが可能である。

本発明で得られる楕円偏光板の層構成は、以下のような（I ) 〜（m) のいずれかの構成からなり、必要に応じて透光性オーバーコート層等の部材が更に追加されるが、これらに本発明において正の一軸性を示す液晶性組成物を液晶状態においてホメオト口ピック配向構造を固定化したホメオト口ピック配向液晶層からなる光学異方素子を使用する点を除いては特に制限は無い。厚みの薄い楕円偏光板を得ると言う点では、（I ) 〜（in) のいずれの構成を用いても構わない。

構成（ I ) ：透光性保護フィルム/接着剤層 1 /偏光素子/接着剤層 2 /光学的等方性基板/ 接着剤層 3 _ 光学異方素子

構成（Π ) ：透光性保護フィルムノ接着剤層 1 /偏光素子/接着剤層 2ノ光学異方素子

構成（π) ：透光性保護フィルム接着剤層 1 Z偏光素子 Z光学異方素子以下、本発明に用いられる構成部材について順に説明する。

本発明にいう光学異方素子とは、少なくとも正の一軸性を示す液晶性組成物を液晶状態においてホメオト口ピック配向させた後、該配向を固定化したホメオト口ピック配向液晶層を含むものをいう。

本発明において、ホメオト口ピック配向を固定化したホメオト口ピック配向液晶層を得るに当たっては、構成（ I ) および（Π ) においては、特定の液晶性組成物を配向基板上に展開して液晶性組成物層を形成する方法が挙げられる。また構成（m) においては、偏光素子上に特定の液晶性組成物を展開して液晶性組成物層を形成する方法が挙げられる。

まず本発明に用いられる液晶性組成物について説明する。

本発明に用いられる液晶性組成物は、少なくともポリ（メタ）アタリレートやポリシロキサンなどの側鎖型の液晶性高分子を主たる構成成分として含むものが好ましい。特に側鎖型の液晶性高分子の側鎖に重合可能なォキセタニル基を有するものが好ましい。より具体的には、下記式（1) で表されるォキセタニル基を有する（メタ）アクリル化合物の（メタ）アクリル部位の単独寫合、もしくは他の（メタ）アクリル化合物と共重合して得られる側鎖型液晶性高分子が好ましく用いられる。

上記式（1) 中、は水素またはメチル基を表し、 R₂は水素、メチル基またはェチル基を表し、 L および L ₂はそれぞれ個別に単結合、 —〇_、一 O— CO—または一 CO— O—のいずれかを表し、 Mは式 .（2)、（3) または式 (4)' を表し、 nおよび mはそれぞれ 0〜10の整数を示す。

一 I I一 L 3一 1 2一 L 4―丄 3一 (2/

-P₁-L₃-P₃- (3)

— P₃— （4)

式（2)、 (3) および（4) 中、 P および P ₂はそれぞれ個別に式（5) から選ばれる基を表し、 P₃は式（6) から選ばれる基を表し、 L₃および L₄はそれぞれ個別に単結合、一 CH=CH―、一 C≡C―、一O—、一O— CO—または一 CO— O—を表す。式（5 ) ：

これらォキセタニル基を有する（メタ）アクリル化合物の合成法は特に制限されるものではなく、通常の有機化学の合成法で用いられる方法を適用することによって合成することができる。例え ^:ば、ウィリアムソンのエーテル合成や、縮合剤を用いたエステル合成などの手段でォキセタニル基を持つ部位と（メタ）ァクリル基を持つ部位を結合することで、ォキセタニル基と（メタ）アクリル基の 2 つの反応性官能基を持つォキセタニル基を有する（メタ）アクリル化合物を合成することができる。

式（ 1 ) で表されるォキセタニル基を有する（メタ）アクリル化合物の（メタ）アクリル基を単独重合もしくは、他の（メタ）アクリル化合物と共重合することにより下記式（7 ) で表されるユニットを含む側鎖型液晶性高分子が得られる。重合条件は特に限定されるものではなく、通常のラジカル重合ゃァニオン重合の条件を採用することができる。 )

ラジカル重合の例としては、（メタ）アクリル化合物をジメチルホルムナミド (DMF) などの溶媒に溶かし、 2, 2 ' ーァゾビスイソブチロニトリル（A I BN) や過酸化ベンゾィル（B PO) などを開始剤として、' 60〜1 20°Cで数時間反応させる方法が挙げられる。また、液晶相を安定に出現させるために、臭化銅（ I ) 2， 2，一ビビリジル系や 2， 2, 6， 6—テトラメチルピペリジノォキシ . フリーラジカル（TEMPO) 系などを開始剤としたリビングラジカル重合を行い、分子量分布を制御する方法も有効である。これらのラジカル重合は脱酸素条件で行うことが好ましい。

ァニオン重合の例としては、（メタ）アクリル化合物をテトラヒドロフラン (THF) などの溶媒に溶かし、有機リチウム化合物、有機ナトリウム化合物、グリニャール試薬などの強塩基を開始剤として、反応させる方法が挙げられる。また、開始剤や反応温度を最適化することでリビングァェオン重合とし、分子量分布を制御することもできる。これ'らのァ二オン重合は、厳密に脱水かつ脱酸素条件で行う必要がある。

また、このとき共重合する（メタ）アクリル化合物は特に限定されるものではなく、合成される高分子が液晶性を示せばよいが、合成される高分子の液晶性を高めるため、メソゲン基を有する（メタ）アクリル化合物が好ましい。例えば下記式で示されるような（メタ）アクリル化合物を好ましい化合物として例示することができる。

ここで、 Rは、水素、炭素数 1〜1 2のアルキル基、炭素数 1〜1 2のアルコキシ基またはシァノ基を表す。また、 nは 1〜2 0、好ましくは 1〜 1 2の整数を表す。

側鎖型液晶性高分子は、式（7 ) で表されるユニットを 5〜1 0 0モル％含むものが好ましく、 1 0〜1 0 0モル％含むものが特に好ましい。また、側鎖型液晶性高分子は、重量平均分子量が 2 , 0 0 0〜1 0 0， 0 0 0であるものが好ましく、 5 , 0 0 0〜5 0 , 0 0 0のものが特に好ましい。

本発明で用いる液晶性組成物においては、前記側鎖型液晶性高分子の他に、液晶性を損なわずに混和し得る種々の化合物を含有することができる。含有することができる化合物としては、ォキセタニル基、エポキシ基、ビュルエーテル基などのカチオン重合性官能基を有する化合物、フィルム形成能を有する各種の高分子物質、液晶性を示す各種の低分子液晶化合物や高分子液晶性化合物などが挙げられる。さらに本発明の目的を逸脱せず、液晶性組成物の層の形成を均一にならしめるためのレべリング剤、界面活性剤、安定剤等を添加してもよい。

前記の側鎖型液晶性高分子を組成物として用いる場合、組成物全体に占める前記の側鎖型液晶性高分子の割合は、 1 0質量％以上、好ましくは 3 0質量％以上、さらに好ましくは 5 0質量％以上である。側鎖型液晶性高分子の含有量が 1 0質量％未満では組成物中に占める配向を固定化するための重合性基の濃度が低くなり、重合後の機械的強度が不十分となるなどして好ましくない。 ' また前記液晶性組成物は配向処理された後、ォキセタニル基をカチオン重合させて架橋することにより、当該液晶状態を固定化するという工程をとるため、液晶性組成物中に、光や熱などの外部刺激でカチオンを発生する光力チオン発生剤および Zまたは熱カチオン発生剤を含有させておくことが好ましい。また必要によっては各種の増感剤を併用してもよい。

光力チオン発生剤とは、適当な波長の光を照射することによりカチオンを発生できる化合物を意味し、有機スルフォニゥム塩系、ョードニゥム塩系、フォスフォウム塩系などを例示することが出来る。これら化合物の対イオンとしては、アンチモネート、フォスフェート、ボレートなどが好ましく用いられる。具体的な化合物としては、 A r ₃ S + S b F ₆—、 A r 3 P ⁺ B F ₄ - , A r ₂ I ⁺ P F ₆— (ただし、 A rはフエニル基または置換フエ-ル基を示す。）などが挙げられる。また、スルホン酸エステル類、トリアジン類、ジァゾメタン類、 ]3—ケトスルホン、イミノスルホナート、ベンゾインスルホ^ ""一トなども用いることができる。熱カチオン発生剤とは、適当な温度に加熱されることによりカチオンを発生できる化合物であり、例えば、ベンジルスルホ -ゥム塩類、ベンジルアンモユウム塩類、ベンジルピリジニゥム塩類、ベンジルホスホニゥム塩類、ヒドラクニゥム塩類、カルボン酸エステル類、スルホン酸エステル類、ァミンイミド類、五塩化アンチモン—塩化ァセチル錯体、ジァリ一ルョードニゥム塩ージベンジルォキシ銅、ハロゲン化ホウ素一三級ァミン付加物などを挙げることができる。

これらのカチオン発生剤の液晶性組成物中への添加量は、用いる側鎖型液晶性高分子を構成するメソゲン部分ゃスぺーサ部分の構造や、ォキセタニル基当量、液晶の配向条件などにより異なるため一概には言えないが、側鎖型液晶性高分子に対し、通常 1 0 0質量 p p π！〜 2 0質量％、好ましくは 1 0 0 0質量 p p m〜 1 0質量％、より好ましくは 0 . 2質量％〜7質量。 /₀、最も好ましくは 0 . 5質量。/。〜 5質量％の範囲である。 1 0 0質量 p p mよりも少ない場合には、発生するカチオンの量が十分でなく重合が進行しないおそれがあり、また 2 0質量％よりも多い場合には、液晶層中に残存するカチオン発生剤の分解残存物等が多くなり耐光性などが悪化するおそれがあるため好ましくない。

本発明のホメオト口ピック配向液晶層は、該液晶層の厚さを d、液晶層面内の主屈折率を Nx、 Ny、'厚さ方向の主屈折率を N z、かつ、 N.x≥Nyとした場合、面内のリタ一デーシヨン値（R e) を、 R e = (Nx—Ny) X d [nm]、厚さ方向のリタ一デーシヨン値（R t h) を、 R t h= (N X -N z ) X d [n m] としたとき、 R eおよび R t hは、輝度向上フィルムとして使用する場合や液晶表示装置の視角改良ブイルムとして使用する場合等用途の違いにより、また視角改良フィルムで使用する場合においても液晶表示装置の方式や種々の光学パラメ一ターに依存することから一概には言えないが、 5 50 の単色光に対して、 R eは、通常 0 nm〜50 nm、好ましくは 0 η π！〜 30 n m、さらに好ましくは 0 nm〜： L 0 nmの範囲であり、かつ、 R t hは、 '通常一 500〜一 30 nm、好ましくは一 400〜― 50 nm、さらに好ましくは一 400〜一 1 00 nmに制御されたものである。

前記 R e及び R t hを上記範囲にすることにより、液晶表示装置の視角改良フイルムとしては、液晶表示の色調補正を行いながら視野角を広げることが可能となる。 R eが 50 nmより大きい場合、大きい面内のリタ一デーシヨン値の影響で、液晶表示素子の正面特性を悪化させる恐れがある。また、 R t hがー 3 O n mより大きいあるいは一 500 nmより小さい場合には、十分な視角改良効果が得られないかあるいは、斜めから見たときに不必要な色付きが生じる恐れがある。前記液晶層の膜厚は、用いる液晶性組成物の光学異方性（複屈折）や液晶表示装置の方式や種々の光学パラメーターに依存することから一概には言えないが、通常 0. 2 μπι〜1 0 μπι、好ましくは 0. 3 μ η！〜 5 μ m、さらに好ましくは 0. 5 /ζη！〜 2 μπιである。膜厚が 0. 2 μπιより薄い場合、十分な視角改良効果を得ることができない恐れがある。また 1 0 μπιを越えると、液晶表示装置が不必要に色付く恐れがある。次に配向基板について説明する。

配向基板または支持基板としては、まず平滑な平面を有するものが好ましく、有機高分子材料からなるフィルムやシート、ガラス板、金属板などを挙げることができる。コストゃ連続生産性の観点からは有機高分子からなる長尺のフィルムが好ましい。当該フィルムやシートを構成する有機高分子材料の例としては、ポリビュルアルコール- ポリイミド、ポリフエ二レンスルフイド、ポリフエ二レンォキシド、ポリエーテノレケトン、ポリエーテノレエーテノレケトン、ポリエーテノレスルフォン、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリアリレート、トリァセチルセルロース、シクロォレフイン系ポリマー等が例示できる。前述の液晶性組成物を用い、安定してホメオト口ピック配向を得るためには、これらの基板を構成する材料が長鎖（通常炭素数 4以上、好ましくは 8以上）のァルキル基を有しているか、または前記フィルムゃシートの表面に当該アルキル基を有する化合物層を形成して配向膜としたものがより好ましい前記の長鎖アルキル基を有する化合物としては長鎖アルキル基を有するポリビニルアルコールが好ましい。液晶の分野においては、液晶の配向性向上を主目的として前記基板表面を布等でこするラビング処理を行うことが一般的であるが、本発明のホメオト口ピック配向液晶層は、面内の異方性が基本的に生じない配向構造であるため、必ずしもラビング処理を必要としない。しかしながら、液晶性組成物を塗布したときのはじき抑制の観点からは弱いラビング処理を施すことがより好ましい。ラビング条件を規定する重要な設定値としては周速比がある。これはラビング布をロールに巻きつけて回転させつつ基板を擦る場合の、布の移動速度と基板の移動速度の比を表す。本発明においては弱いラビング処理とは、通常周速比が 5 0以下、より好ましくは 2 5以下、特に好ましくは 1 0以下である。周速比が 5 0より大きい場合、ラビングの効果が強すぎて液晶性組成物が完全にホメォトロピック（垂直）配向しきれず、垂直方向より面内方向に倒れた配向となる恐れがある。液晶性組成物を配向基板上に展開して液晶性組成物層を形成する方法としては、液晶性組成物を溶融状態で直接配向基板上に塗布する方法や、液晶性組成物の溶液を配向基板上に塗布後、塗膜を乾燥して溶媒を留去させる方法が挙げられる。溶液の調製に用いる溶媒に関しては、本発明の液晶性組成物を溶解でき適当な条件で留去できる溶媒であれば特に制限はなく、一般的にアセトン、メチルェチルケトン、イソホロン、シクロへキサノンなどのケトン類、ブトキシェチルアルコール、へキシルォキシェチノレアルコール、メトキシ一 2—プロノノーノレなどのエーテノレアルコーノレ類、エチレングリコーノレジメチノレエーテノレ、ジエチレングリコールジメチノレエーテノレなどのグリコールエーテル類、酢酸ェチノレ、乳酸ェチル、 _γ—ブチロラクトンなどのエステル類、フエノール、クロロフエノールなどのフェノール類、 Ν , Ν—ジメチルホルムアミド、 Ν , Ν—ジメチルァセトアミド、 N—メチルピロリドンなどのアミド類、クロ口ホルム、テトラクロロェタン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン系炭化水素などやこれらの混合系が好ましく用いられる。また、配向基板上に均一な塗膜を形成するために、界面活性剤、消泡剤、レベリング剤などを溶液に添加してもよい。

液晶性組成物を直接塗布する方法でも、溶液を塗布する方法でも、塗布方法については、塗膜の均一性が確保される方法であれば、特に限定されることはなく公知の方法を採用することができる。例えば、各種のダイコート法、バー —ト法、カーテンコート法、ディップコート法、ロールコート法などが挙げられる。液晶性組成物の溶液を塗布する方法では、塗布後に溶媒を除去するための乾燥工程を入れることが好ましい。この乾燥工程は、塗膜の均一性が維持される方法であれば、特に限定されることなく公知の方法を採用することができる。例えば、ヒーター（炉）、温風吹きつけなどの方法が挙げられる。

続いて、配向基板上に形成された液晶性組成物層を、熱処理などの方法で液晶配向を形成し、用いた液晶性組成物に適した方法、例えば、光照射および/または加熱処理で反応させ固定化する。最初の熱処理では、使用した液晶性組成物の液晶相発現温度範囲に加熱することで、該液晶性組成物が本来有する自己配向能により液晶を配向させる。熱処理の条件としては、用いる液晶性組成物の液晶相挙動温度（転移温度）により最適条件や限界値が異なるため一概には言えないが、通常 1 0〜 2 5 0 °C、好ましくは 3 0 °C〜 1 6 0 °Cの範囲であり、該液晶性組成物のガラス転移点（T g ) 以上の温度、さらに好ましくは T gより 1 0 °C以上高い温度で熱処理するのが好ましい。あまり低温では、液晶配向が充分に進行しないおそれがあり、また高温では液晶性組成物中のカチオン童合性反応基や配向基板に悪影響を与えるおそれがある。また、熱処理時間については、通常 3秒〜 3 0分、好ましくは 1 0秒〜 1 0分の範囲である。 3秒より短い熱処理時間では、液晶配向が充分に完成しないおそれがあり、また 3 0分を超える熱処理時間では、生産性が悪くなるため、どちらの場合も好ましくない。

該液晶性組成物層を熱処理などの方法で配向を形成したのち、配向状態を保つたまま液晶性組成物を組成物中のォキセタニル基の重合反応により硬化させる。硬化工程は、完成した液晶配向を硬化（架橋）反応により液晶配向状態を固定化し、より強固な膜に変性することを目的にしている。本発明の液晶性組成物は重合性のォキセタニル基を持っため、その反応基の重合（架橋）には、カチオン重合開始剤（光力チオン発生剤および Zまたは熱カチオン発生剤）を用いるのが好ましいことは前述のとおりである。また、重合開始剤としては、熱カチオン発生剤より光力チオン発生剤の使用が好ましい。

光力チオン発生剤を用いた場合、光力チオン発生剤の添加後、液晶の配向のための熱処理までの工程を暗条件（光力チオン発生剤が解離しない程度の光遮断条件）で行えば、液晶性組成物は配向段階までは硬化することなく、充分な流動性をもって配向することができる。この後、適当な波長の光を発する光源からの光を照射することによりカチオンを発生させ、液晶性組成物層を硬化させる。

光照射の方法としては、用いる光力チオン発生剤の吸収波長領域にスぺクトルを有するようなメタルハライドランプ、高圧水銀灯、低圧水銀灯、キセノンランプ、アークランプ、レーザーなどの光源からの光を照射し、光力チオン発生剤を開裂させる。 1平方センチメートルあたりの照射量としては、積算照射量として通常：！〜 2 0 0 0 m J、好ましくは 1 0〜： L O O O m Jの範囲である。ただし、光力チオン発生剤の吸収領域と光源のスぺクトルが著しく異なる場合や、液晶性組成物を構成する液晶性高分子に光源波長の吸収能がある場合などはこの限りではない。これらの場合には、適当な光増感剤や、吸収波長の異なる 2種以上の光カチオン発生剤を混合して用いるなどの方法を採ることもできる。

光照射時の温度は、該液晶性組成'物が液晶相をとる温度範囲である必要がある。また、硬化の効果を充分にあげるためには、該液晶性組成物の T g以上の温度で光照射を行うのが好ましい。次に偏光素子について説明する。

本発明に使用できる偏光素子は、特に制限されず、各種のものを使用できる。偏光素子としては、たとえば、ポリビュルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビュルアルコール系フィルム、エチレン ·酢酸ビュル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ョゥ素ゃ二色性染料等の二色性物質を吸着させたもの、ポリ塩化ビュルの脱塩酸処理物等のポリェン系配向フィルム等が挙げられる。これらのなかでもポリビニルアルコール系フィルムを延伸して二色性材料（沃素、染料）を吸着 ·配向したものが好適に用いられる。偏光素子の厚さも特に制限されないが、 5〜 5 0 μ m程度が一般的である。

ポリビニルアルコール系フィルムをョゥ素で染色し一軸延伸した偏光素子は、例えば、ポリビュルアルコールをヨウ素の水溶液に浸漬することによって染色し、元長の 3〜 7倍に延伸することで作製することができる。必要に応じてホウ酸やョゥ化カリゥムなどの水溶液に浸漬することもできる。さらに必要に応じて染色の前にポリビエルアルコール系フィルムを水に浸漬して水洗してもよい。ポリビュルアルコール系フィルムを水洗することでポリビュルアルコール系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるほかに、ポリビニルアルコール系フィルムを膨潤させることで染色のムラなどの不均一を防止する効果もある。延伸はヨウ素で染色した後に行っても良いし、染色しながら延伸してもよし、また延伸してからヨウ素で染色してもよレ、。ホウ酸やヨウ化カリウムなどの水溶液中や水浴中でも延伸することができる。次に透光性保護フィルムについて説明する。

透光性保護フィルムとしては、光学的に等方なフィルムが好ましく、例えばフジタック（富士写真フィルム社製品）ゃコニカタック（コェ力ミノルタォプト社製品）などのトリァセチルセルロース（T A C ) フィルム、アートンフィルム ( J S R社製品）、ゼォノアフィルム、ゼォネックスフイルム（日本ゼオン社製品）などのシクロォレフイン系ポリ'マー、 T P Xフィルム（三井化学社製品）、ァクリプレンフィルム（三菱レーヨン社製品）などが挙げられるが、楕円偏光板とした場合の平面性、耐熱性や耐湿性などからトリァセチルセルロース、シクロォレフィン系ポリマーが好ましい。透光性保護フィルムの厚さは、一般には 1 〜 1 0 0； a mが好ましく、特に 5〜 5 0 μ πιとするのが好ましい。

透光性保護フィルムとしては、表面にハードコート層や反射防止処理、スティッキング防止や、光拡散ないしアンチグレアを目的とした処理を施したものを用いることができる。

ハードコート処理は偏光板表面の傷付き防止などを目的に施されるものであり、例えばァクリル系、シリコーン系などの適宜な紫外線硬化型樹脂による硬度や滑り特性等に優れる硬化皮膜を当該保護フィルムの表面に付加する方式などにて形成することができる。反射防止処理は偏光板表面での外光の反射防止を目的に施されるものであり、従来に準じた反射防止膜などの形成により達成することができる。また、ステイツキング防止処理は隣接層との密着防止を目的に施される。またアンチグレア処理は偏光板の表面で外光が反射して偏光板透過光の視認を阻害することの防止等を目的に施されるものであり、例えばサンドプラスト方式やエンボス加工方式による粗面化方式や透明微粒子の配合方式などの適宜な方式にて保護フィルムの表面に微細凹凸構造を付与することにより形成することができる。前記表面微細凹凸構造の形成に含有させる微粒子として、例えば平均粒径が 0 . 5〜5 0 μ πιのシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコユア、酸化錫、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化アンチモン等からなる導電性のこともある無機系微粒子、架橋又は未架橋のポリマー等からなる有機系微粒子などの透明微粒子が用いられる。表面微細凹 lii構造を形成する場合、微粒子の使用量は、表面微細凹凸構造を形成する透明樹脂 1 0 0重量部に対して一般的に 2〜5 0重量部程度であり、 5〜2 5重量部が好ましい。アンチグレア層は、偏光板透過光を拡散して視角などを拡大するための光拡散層（視角拡大機能など）を兼ねるものであってもよい。

. なお、反射防止層、ステイツキング防止層、光拡散層、アンチグレア層等は、透光性保護フィルムそのものに設けることができるほか、別途光学層として透光性保護フィルム層とは別体のものとして設けることもできる。次に、本発明に使用される接着剤層および透光性オーバーコート層について説明する。

本発明において、透光性保護フィルムと偏光素子の間、偏光素子と等方性基板の間、偏光素子と光学異方素子の間には、接着剤層（粘着剤層を含む。）が設けられる。また光学異方素子には必要により透光性オーバーコート層が設けられる。かかる接着剤層またはオーバーコート層を形成する接着剤またはオーバーコ一ト材としては、当該液晶層や偏光素子等に対して十分な接着力を有し、前記液晶層の光学的特性を損なわないものであれば、特に制限はなく、例えば、アクリル樹脂系、メタクリル樹脂系、エポキシ樹脂系、エチレン一酢酸ビュル共重合体系、ゴム系、ウレタン系、ポリビュルエーテル系およびこれらの混合物系や、熱硬化型および/または光硬化型、電子線硬化型等の各種反応性のものを挙げることができる。これらの接着剤層は、液晶層を保護する透明保護層（オーバーコート層）の機能を兼ね備えたものも含まれる。なお、上記接着剤として粘着剤を用いることもできる。

前記反応性のものの反応（硬化）条件は、接着剤を構成する成分、粘度や反応温度等の条件により変化するため、それぞれに適した条件を選択して行えばよい。例えば、光硬化型の場合は、好ましくは各種の公知の光開始剤を添加し、メタルハライドランプ、高圧水銀灯、低圧水銀灯、キセノンランプ、 T一クランプ、レ一ザ一、シンクロトロン放射光源などの光源からの光を照射し、反応を行わせればよい。単位面積 ( 1平方センチメートル) 当たりの照射量としては、積算照射量として通常 l〜2 0 0 0 m j、好ましくは 1 0〜1 0 0 0 m Jの範囲である。ただし、光開始剤の吸収領域と光源のスペクトルが著しく異なる場合や、あるいは反応性の化合物自身に光源波長の吸収能がある場合などはこの限りではない。これらの場合には、適当な光増感剤や、あるいは吸収波長の異なる 2種以上の光開始剤を混合して用いるなどの方法を採ることも出来る。電子線硬化型の場合の加速電圧は、通常 1 0 k V〜 2 0◦ k V、好ましくは 5 0 k V〜 1 0 0 k Vである。

接着剤層およびオーバーコート層の厚みは、前述のように接着剤を構成する成分、接着剤の強度や使用温度などにより異なるが、通常 l〜3 0 ^ m、さらに好ましくは 3〜 1 0 /z mである。この'範囲外では接着強度が不足したり、端部よりの滲み出しなどがあったりして好ましくない。

また、これらの接着剤はその特性を損なわない範囲で、光学特性の制御あるいは基板の剥離性や浸食性を制御することを目的として、各種微粒子等や表面改質剤を添加することもできる。

前記微粒子としては、接着剤を構成する化合物とは屈折率の異なる微粒子、透明性を損なわず帯電防止性能向上のための導電性微粒子、耐摩耗性向上のための微粒子等が例示でき、より具体的には、微細シリカ、微細アルミナ、 I T O (Indium Tin Oxide) 微粒子、銀微粒子、各種合成樹脂微粒子などが挙げられる。

また、前記表面改質剤としては、接着剤との相溶性がよく接着剤の硬化性や硬化後の光学性能に影響を及ぼさない限り特に限定されず、イオン性、非イオン性の水溶性界面活性剤、油溶性界面活性剤、高分子界面活性剤、フッ素系界面活性剤、シリコーン等の有機金属系界面活性剤、反応性界面活性剤等が使用できる。とりわけ、パーフルォロアルキル化合物、パーフルォロポリエーテル化合物などのフッ素系界面活性剤、あるいはシリコーン等の有機金属系界面活性剤は表面改質効果が大きいため、特に望ましい。表面改質剤の添加量は、接着剤に対し 0 . 0 1〜 1 0質量％の範囲が望ましく、より望ましくは 0 . 0 5〜5質量％、さらに望ましくは 0 . 1〜3質量％でぁる。この範囲よりも添加量力 S少なすぎると添加効果が不十分となり、一方多すぎると接着強度が下がりすぎるなどの弊害を生じる恐れがある。なお、表面改質剤は、単独で用いても良いし、必要に応じて複数種類を併用しても良い。さらに本発明の効果を損なわない範囲で、酸化防止剤、紫外線吸収剤などの各種添加剤を配合しても良い。

なお、オーバーコート層は、後述する各種の表面処理に耐性を有することがさらに好ましい。次に、本発明の楕円偏光板の製造方法について詳細に説明する。

本発明で得られる楕円偏光板の層構成は、図 1〜図 3に示すような以下の 3通りから選ばれる。

構成（ I ) ：透光性保護フィルム /接着剤層 1 /偏光素子/接着剤層 2 /等方性基板/接着剤層 3ノ光学異方素子

構成（Π ) ：透光性保護フィルム/接着剤層 1 偏光素子/接着剤層 2 /光学異方素子

構成（EO ：透光性保護フィルム/接着剤層 1ノ偏光素子/光学異方素子楕円偏光板の製造方法としては、特に限定されないが、一例として以下の方法で製造することができる。

まず、構成（I ) の製造方法について説明する。

構成（ I ) は、光学的に等方性の基板上に少なくとも正の一軸性を示す液晶性組成物を液晶状態においてホメオト口ピック配向させた後、該配向を固定化したホメオト口ピック配向液晶を形成した積層体を得、次いで偏光素子を、該積層体と透光性保護フィルムに挟持されるように貼り合わせることを特徴とする。 4124 この構成（ I) のより具体的な製造方法としては、次の 3つの方法を例示することができる。

構成（ I) の第 1の製造方法は、

(1) 透光性保護フィルムを、接着剤層 1を介して偏光素子と接着し、透光性保護フィルム //接着剤層 1Z偏光素子からなる積層体（A) を得る第 1工程、

(2) 配向基板上に正の一軸性を示す液晶性組成物の層を形成し、該層をホメォトロピック配向させた後、配向を固定化した液晶層（光学異方考子）を形成して、配向基板/光学異方素子からなる積層体（B) を得る第 2工程、

(3) 前記積層体（B) の光学異方素子側を、接着剤層 3を介して、光学的に等方性の基板と接着せしめた後、配向基板を剥離して光学異方素子を光学的等方性基板に転写し、光学的等方性 ¾板接着剤層 3/光学異方素子からなる積層体

(C) を得る第 3工程、

(4) 前記積層体（C) の光学的等方性基板側を、接着剤層 2を介して、前記積層体（A) の偏光素子側と接着せしめ、透光性保護フィルム/接着剤層 1/偏光素子/接着剤層 2 /光学的等方性基板 Z接着剤層 3 /光学異方素子からなる楕円偏光板を得る第 4工程、

の各工程を少なくとも経る方法である。

以下、第 1工程から第 4工程までの製造方法について順に説明する。

まず、第 1工程である積層体（A) の製造方法について説明する。

偏光素子上に、接着剤層 1を形成し、接着剤層 1を介して透光性保護フィルムと偏光素子を密着した後、必要により接着剤層を反応（硬化）させる。かくして透光性保護フィルム上に接着剤層 1を介し偏光素子が接着された透光性保護フィルム Z接着剤層 1/偏光素子からなる構成の積層体（A) 得ることができる。次いで、第 2工程である積層体（B) の製造方法について説明する。

配向基板上に、正の一軸性を示す液晶性組成物の塗膜を適切な方法で形成し、必要に応じて溶媒等を除去し、加熱等により液晶性組成物のホメオト口ピック配向を完成せしめ、用いた液晶性組成物に適した手段により液晶性組成物層の配向を固定化する。かくして配向基板上にホメオト口ピック配向を固定化した光学異方素子を有する積層体（B) を得ることができる。

次いで、第 3工程の製造方法について説明する。前記積層体（B) の光学異方素子側を、接着剤層 3を介して、光学的に等方性の基板と接着せしめた後、必要により接着剤層 3を反応（硬化）させた後、配向基板を剥離して光学異方素子を光学的等方性基板に転写し、光学的等方性基板/ 接着剤層 3 Z光学異方素子からなる積層体（C) を得る。

なお、配向基板として、光学的に等方性の基板を用いる場合にはこの第 3工程 (転写工程）は省略することができる。しかしながら、配向基板として、光学的に等方でない場合、あるいは得られる光学異方素子が最終的に目的とする使用波長領域において不透明である場合、もしくは配向基板の膜厚が厚すぎて実際の使用に支障を生じるなどの問題がある場合、配向基板上で形成された形態から、光学的に等方な、あるいは得られる光学異方素子が最終的に目的とする使用波長領域において透明なフィルム、もしくは光学異方素子を液晶セルなどに貼合するまでの間、仮に支持しておくためのフィルムに転写した形態も使用しうる。転写方法としては公知の方法を採用することができる。例えば、特開平 4— 5 70 1 7 号公報ゃ特開平 5— 3 333 1 3号公報に記載されているように液晶層を粘着剤もしくは接着剤を介して、配向基板とは異なる光学的に等方な基板を積層した後に、必要により粘着剤もしくは接着剤をつかって表面の硬化処理を施し、該積層体から配向基板を剥離することで液晶層のみを転写する方法等を挙げることがでさる。

本発明に使用される光学的に等方'な基板とは、面内のリタ一デーシヨン値（R e 1) 力 1 0 nm以下、好ましくは 0〜5 nmである。また、厚さ方向のリターデーション値（R t h 1) は、 60 nm以下、好ましくは 0〜 1 0 nmである。この範囲外では得られる楕円偏光板の性能に悪影響を及ぼすことがあり好ましくない。なお、 R e 1は、当該基板の面内の主屈折率を n Xおよび n y (n x≥ n y)、フィルム厚みを d [nm] としたとき、 R e l = (n x_n y) X d で表される値である。 R t h 1は、当該基板の厚さ方向の屈折率を n z、フィルム厚みを d [nm] としたとき、 R t h l = (n χ-n z) X d で表される値でめる。

また膜厚も適宜選定でき、通常は 5〜1 00 ^ 111、好ましくは 1 0〜50 μπι である。

光学的に等方性の基板としては、前述した透光性保護フィルムと同様なものを用いることができる。例えば、フジタック（富士写真フィルム社製品)' やコニカタック（コニ力社製品）などのトリァセチルセルロースフィルム、アートンフィルム（ J S R社製品）ゃゼォノアフィルム、ゼォネックスフイルム（日本ゼオン社製品）などのシクロォレフイン系ポリマー、 T P Xフィルム（三井化学社製品）、アタリプレンフィルム（三菱レーヨン社製品）などが挙げられるが、楕円偏光板とした場合の耐熱性や耐湿性などからトリァセチルセルロース、シクロォレフイン系ポリマーが好ましい。

なお、積層体（C ) 光学異方素子の表面に透光性オーバーコート層を設けても良い。

次いで、第 4工程の製造方法について説明する。

前記積層体（C ) の光学的等方性基板側を、接着剤層 2を介して、前記積層体 ( A) の偏光素子側と密着した後、必要により接着剤層 2を反応（硬化）させる。かくして、透光性保護フィルム Z接着剤層 1ノ偏光素子/接着剤層 2 光学的等方性基板/接着剤層 3 Z光学異方素子からなる楕円偏光板を得る。

構成（I ) の第 2の製造方法は、前記第 2工程に従って製造した配向基板（配向基板が光学的等方性の場合）光学異方素子からなる積層体（B ) の配向基板側、または前記第 3工程に従って製造した光学的等方性基板/接着剤層 3 /光学異方素子からなる積層体（C ) の光学的等方性基板側と、偏光素子と、透光性保護フィルムとを、この順に接着剤を介して同時に貼り合わせる方法である。

上記の光学異方素子、偏光素子、透光性保護フィルムは、長尺フィルム形態でそれぞれ MD方向に揃えた状態で、ロール t oロールで連続的に重ね合わせて積層することができる。

構成（ I ) の第 3の製造方法は、前記第 2工程に従って製造した配向基板（配向基板が光学的等方性の場合） Z光学異方素子からなる積層体（B ) の配向基板側、または前記第 3工程に従って製造した光学的等方性基板/接着剤層 3 /光学異方素子からなる積層体（C ) の光学的等方性基板側と、偏光素子とを、接着剤層 2を介して貼り合わせて偏光素子ノ接着剤層 2 光学的等方性基板/接着剤層 3 Z光学異方素子の積層体を得、次いで該積層体の偏光素子側と、光学的等方性基板とを、接着剤層 1を介して貼り合わせる方法である。次に、構成（π) の製造方法について説明する。

構成（Π) は、

(1) 透光性保護フィルムを、接着剤層 1を介して偏光素子と接着し、透光性保護フィルム Ζ接着剤層 1/偏光素子からなる積層体（Α) を得る第 1工程、

(2) 配向基板上に正の一軸性を示す液晶性組成物の層を形成し、該層をホメォトロピック配向させた後、配向を固定化した光学異方素子を形成して、配向基板 _ 光学異方素子からなる積層体（Β) を得る第 2工程、

(3) 前記積層体（Β) の光学異方素子側を、接着剤層 2を介して、前記積層体 (Α) の偏光素子側と接着せしめた後、配向基板を剥離して光学異方素子を前記積層体（Α) に転写し、透光性保護フィルム/接着剤層 1/偏光素子接着剤層

2ノ光学異方素子からなる楕円光板を得る第 3工程、

の各工程を少なくとも経ることを特徴とする。

以下、第 1工程から第 3工程までの製造方法について順に説明する。

第 1工程の積層体（Α) の製造方法は、前記構成（ I ) の第 1工程と同様である。

また第 2工程の積層体（Β) の製造方法も前記構成（ I ) の第 2工程と同様である。

次いで、第 3工程の製造方法について説明する。

前記積層体（Β) の光学異方素'子側を、接着剤層 2を介して、前記積層体 (Α) の偏光素子側と密着した後、必要により接着剤層 2を反応（硬化）させた後、配向基板を剥離して光学異方素子を前記積層体（Α) に転写する。

かくして、透光性保護フィルム Ζ接着剤層 1Z偏光素子/接着剤層 2/光学異方素子からなる楕円偏光板を得る。

なお、積層体（Β) のホメオト口ピック配向液晶層の積層体（Α) への転写に際して、必要によってはホメオト口ピック配向液晶層を配向基板とは異なる別の基板に転写した後、積層体（Α) へ再転写してもよい。

得られた楕円偏光板は、光学異方素子の表面保護のため、透光性オーバーコート層を設けたり、一時的な表面保護フィルムを貼合しても良い。ここで透光性ォ一バーコ一トとしては、前述の接着剤から選定することもできる。次いで、構成（m) の製造方法について説明する。

構成（m) は、

( 1 ) 透光性保護フィルムを、接着剤層 1を介して偏光素子と接着し、透光性保護フィルム//接着剤層 1 /偏光素子からなる積層体（Α) 'を得る第 1工程、

( 2 ) 前記積層体（A) の偏光素子上に、正の一軸性を示す液晶性組成物の層を形成し、該層をホメオト口ピック配向させた後、配向を固定化した光学異方素子を形成させて、透光性保護フィルム接着剤層 1 偏光素子 Z光学異方素子からなる楕円偏光板を得る第 2工程、

の各工程を少なくとも経ることを特徴とする。

以下、第 1工程から第 2工程までの製造方法について順に説明する。

まず、第 1工程である積層体（A) の製造方法は、前記構成（ I ) の第 1工程と同様である。

第 2工程の製造方法について説明する。

第 1工程で製造した積層体（A) の偏光素子上に、液晶性組成物の塗膜を適切な方法で形成し、必要に応じて溶媒等を除去し、加熱等により液晶性組成物のホメォトロピック配向を完成せしめ、用いた液晶性組成物に適した手段により液晶性組成物のホメオト口ピック配向を固定化する。かくして積層体（A) 上にホメオト口ピック配向を固定化した光学異方素子を有する、透光性保護フィルム Z接着剤層 1 偏光素子/光学異方素子なる構成の楕円偏光板を得ることができる。得られた楕円偏光板は、光学異方素子の表面保護のため、透光性オーバーコート層を設けたり、一時的な表面保護フィルムを貼合しても良い。ここで透光性ォ一バーコ一トとしては、前述の接着剤から選定することもできる。

なお、構成（ΙΠ) の第 2工程において、偏光素子上に、偏光素子の液晶性組成物に対する配向性によっては、当該液晶性組成物をホメオト口ピック配向.させるような適切な配向膜を設けた後にラビングを施し、液晶性組成物の層を形成する方法も本発明に含まれる（図 4 )。

また本発明では、光学異方素子を粘着剤層もしくは接着剤層を介して繰り返し積層することにより、光学異方素子の層を複数、積層することも可能である。本発明において、透光性保護フィルム、偏光素子、光学異方素子、前記積層体 (A)、 ( B ) および（C ) は、接着剤を介して接着するに際し、接着性を向上させる目的でそれぞれの接着面のいずれか一方、もしくは両方を表面処理を施しておくのが好ましい。

表面処理はの方法としては、鹼化処理、コロナ放電処理、火炎処理、低圧 U V 照射、プラズマ処理等を挙げることができ、より好ましくは、透光性保護フィルムとして例えばトリァセチルセルロースを用いた場合は鹼化処理が、またシク口ォレフィン系ポリマーを用いた場合は、コロナ放電処理がそれぞれ好ましい。

前記の鹼化処理は、通常アルカリ水溶液に接触させることによって行われる。アルカリ水溶液としては、水酸化カリウム、水酸化ナトリウムなどが用いられ、アルカリ濃度としては、約 0 . 1〜1 0質量％、好ましくは約 0 . 5〜5質量％、さらに好ましくは約 1〜 3質量。 /₀程度の希薄溶液で十分である。処理条件としては、室温で 1〜 6 0分、好ましくは 3 0分以下、さらに好ましくは 1 5分以下の温和な条件で十分である。処理後は十分に水洗することが必要なことはいうまでもない。液晶層にオーバーコート層が設けられていれば、鹼化処理工程において液晶層が浸食されたり、 '損傷を受けたりすることはない。

コロナ放電処理も通常の条件でよく、例えば、接着剤層と接する面に処理を施す。処理条件としては、接着剤層と接する面やコロナ処理装置等により異なるが、例えばエネルギー密度として l〜3 0 0 W ' m i n /m ²が好適である。コロナ放電処理を施すことによって表面張力は増大するが、 4 0 d y n / c m以上に高くしておくことが望ましい。

接着剤層の形成は公知の方法で行うことができ、例えば前記の液晶層の形成と同様に行らてもよく、またシリコーン等の易剥離処理を設けた適当な基板上に前記の接着剤層を形成したいわゆるノンキヤリァ接着剤を用いてもよい。光学異方素子と偏光素子との貼合は強度を向上させる、貼合界面に空気の残存による泡の発生を防止する、などのためにラミネーター、ロール、加圧器等を用いて加圧、加熱等を加えてもよい。

上記の光学異方素子、偏光素子および透光性保護フィルムは、貼合する場合は長尺フィルム形態でそれぞれ MD方向に揃えた状態で、連続的に重ね合わせて積層することができる。

また、これらの 3者は、前記製造方法以外にも、偏光素子の両側へ同時に光学異方素子およぴ透光性保護フィルムを貼合しても、偏光素子へ光学異方素子、透光性保護フィルムの順に、または透光性保護フィルム、光学異方素子の順に貼合してもよい。

かくして得られる本発明の楕円偏光板の総厚は、用いた透光性保護フィルム、偏光素子、接着剤、光学異方素子等の各厚さにより変化するが、 1 5 0 μ πι以下、好ましくは 1 0 0 μ m以下がよい。総厚が 1 5 0 mを越えると長尺フィルムをロールに所定長巻いた時にロール径が太くなりすぎ、従来の輸送用包装容器に収納が困難になったり、従来の輸送容器に収納できるようにすると長さが短くなつたりして好ましくない。

また、本発明の楕円偏光板に、さらに少なくとも 1枚の光学フィルムが積層された楕円偏光板を使用してもよレ、。

光学フィルムとしては、透明性と均一性に優れたものであれば特に制限されないが、高分子延伸フィルムや、液晶からなる液晶性フィルムが好ましく使用できる。高分子延伸フィルムとしては、セルロース系、ポリカーボネート系、ポリアリレート系、ポリスルフォン系、ポリアクリル系、ポリエーテルスルフォン系、環状ォレフィン系高分子等からなる 1軸又は 2軸位相差フィルムを例示することができる。中でもポリカーボネート系ゃ環状ォレフィン系高分子がコスト面およびフィルムの均一性から好ましい。

また、ここで言う液晶からなる液'晶性フィルムとは、液晶を配向させてその配向状態から生じる光学異方性を利用できるフィルムであれば特に制限されるものではない。例えばネマチック液晶やディスコチック液晶、スメクチック液晶等を利用した各種光学機能性フィルム等、公知のものを使用することができる。' 液晶性フィルムの分子配列構造は、スメクチック、ネマチック、ねじれネマチック、コレステリックなどのいずれの分子配列構造であってもよく、配向基板付近及ぴ空気界面付近ではそれぞれホモジユアス配向及びホメオト.口ピック配向状態であり、液晶性高分子の平均のダイレクターがフィルムの法線方向から傾斜しているいわゆるハイブリッド配向であってもよい。

ここに例示した光学フィルムは、液晶表示装置を構成するにあたり、 1枚のみの使用でも良いし、複数枚使用しても良い。また、高分子延伸フィルムと、液晶性フィルムの両方を使用することもできる。以下に本発明の楕円偏光板を適用する液晶表示装置について説明する。本発明の液晶表示装置は、前記楕円偏光板を少なくとも有する。本発明の楕円偏光板を液晶セルに配置する場合には、楕円偏光板の光学異方素子側を液晶セル面に近接するように配置することが必要である。

液晶表示装置は一般的に、偏光板、液晶セル、および必要に応じて位相差補償板、反射層、光拡散層、パックライト、フロントライト、光制フィルム、導光板、プリズムシート等の部材から構成されるが、本発明においては前記楕円偏光板を使用する点を除いて特に制限は無い。また前記楕円偏光板の使用位置は特に制限はなく、また、 1力所でも複数力所でも良い。

液晶表示装置に用いる偏光板は特に制限されず、前述した楕円偏光板に使用するものと同様の偏光素子から得られるものを使用することができる。

液晶セルとしては特に制限されず、電極を備える一対の透明基板で液晶層を狭持したもの等の一般的な液晶セルが使用できる。

液晶セルを構成する透明基板としては、液晶層を構成する液晶性を示す材料を特定の配向方向に配向させるものであれば特に制限はない。具体的には、基板自体が液晶,を配向させる性質を有していている透明基板、基板自体は配向能に欠けるが、' 液晶を配向させる性質を有する配向膜等をこれに設けた透明基板等がいずれも使用できる。また、液晶セルの'電極は、公知のものが使用できる。通常、液晶層が接する透明基板の面上に設けることができ、配向膜を有する基板を使用する場合は、基板と配向膜との間に設けることができる。

液晶層を形成する液晶性を示す材料としては、特に制限されず、各種の液晶セルを構成し得る通常の各種低分子液晶物質、高分子液晶物質およびこれらの混合物が挙げられる。また、これらに液晶性を損なわない範囲で色素やカイラル剤、非液晶性物質等を添加することもできる。

液晶セルは、電極基板および液晶層の他に、後述する各種の方式の液晶セルとするのに必要な各種の構成要素を備えていても良い。

液晶セルの方式としては、 T N (Twisted Nematic) 方式、 S T N (Super Twisted Nematic) 方式、 E C B (Electrically Controlled Birefringence) 方式、 I P S (In-Plane Switching) 方式、 V A (Vertical Alignment) 方式、 O C B ( Optically Compensated Birefringence ) 方式、 H A N ( Hybrid Aligned Nematic) 方式、 A S M (Axially Symmetric Aligned Microcell) 方式、ノヽーフトーングレイスケール方式、ドメイン分割方式、あるいは強誘電性液晶、反強誘電性液晶を利用した表示方式等の各種の方式が挙げられる。

また、液晶セルの駆動方式も特に制限はなく、 S T N— L C D等に用いられるパシブマトリクス方式、並びに T F T (Thin Film Transistor) 電極、 T F D (Thin Film Diode) 電極等の能動電極を用いるアクティブマトリクス方式、プラズマァドレス方式等のいずれの駆動方式であっても良い。

液晶表示装置に用いる位相差補償板としては、透明性と均一性に優れたものであれば特に制限されず、前述の光学フィルムから適宜選定することができる。位相差補償板は、液晶表示装置を構成するにあたり、 1枚のみの使用でも良いし、複数枚使用しても良い。

反射層としては、特に制限されず、アルミニウム、銀、金、クロム、白金等の金属やそれらを含む合金、酸化マグネシウム等の酸化物、誘電体の多層膜、選択反射を示す液晶又はこれらの組み合わせ等を例示することができる。これら反射層は平面であっても良く、また曲面であっても良い。さらに反射層は、凹凸形状など表面形状に加工を施して拡散反射性を持たせたもの、液晶セルの観察者側と反対側の前記電極基板上の電極を兼備させたもの、反射層の厚みを薄くしたり、穴をあける等の加工を施すことで光を一部透過させるようにした半透過反射層であっても良く、またそれらを組み合わせたものであっても良い。

光拡散層は、入射光を等方的あるいは異方的に拡散させる性質を有するものであれば、特に制限はない。例えば 2種以上の領域からなり、その領域間に屈折率差をもつものや、表面形状に凹凸を付けたものが挙げられる。前記 2種以上の領域からなり、その領域間に屈折率差をもつものとしては、マトリックス中にマトリックスとは異なる屈折率を有する粒子を分散させたものが例示される。光拡散層はそれ自身が粘接着性を有するものであっても良い。

光拡散層の膜厚は、特に制限されるものではないが、通常 1 0 μ πι以上 5 0 0 μ ηα以下であることが望ましい。

また光拡散層の全光線透過率は、 5 0 %以上であることが好ましく、特に 7 0 %以上であることが好ましい。さらに当該光拡散層のヘイズ値は、通常 1 0〜 95 %であり、好ましくは 40〜 90 %であり、さらに好ましくは 60〜 90 % であることが望ましい。

バックライト、フロントライト、光制御フィルム、導光板、プリズムシートとしては、特に制限されず公知のものを使用することができる。

本発明の液晶表示装置は、前記した構成部材以外にも他の構成部材を付設することができる。例えば、カラーフィルターを本発明の液晶表示装置に付設することにより、色純度の高いマルチカラー又はフルカラー表示を行うことができる力ラー液晶表示装置を作製することができる。

[産業上の利用可能性]

本発明により、高温、高湿条件下においても剥がれなどの不具合が生じることがない楕円偏光板が提供され、液晶表示装置用の楕円偏光板として有用に用いられる。

[実施例]

以下に実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではなレ、。

なお、実施例で用いた各分析方法は以下の通りである。

(1) G PCの測定

化合物をテトラヒドロフランに溶解し、東ソ一社製 8020 GP Cシステムで、 T S K-GE L S u p e r H 1000、 S u p e r H2000、 S u p e r H 3000、 S u p e r H4000を直列につなぎ、溶出液としてテトラヒドロフランを用いて測定した。分子量の較正にはポリスチレンスタンダードを用いた。

(2) 顕微鏡観察

ォリンパス光学社製 BH 2偏光顕微鏡で液晶の配向状態を観察した。

(3) ホメオト口ピック配向液晶層の光学パラメータ測定

王子計測機器（株）製自動複屈折計 KOBRA2 1 ADHを用いた。

(4) 膜厚の測定

S LOAN社製 SURF ACE TEXTURE ANALYS I S SYS T EM D e k t a k 30 3 0 S Tを用いた。また、干渉波測定（日本分光 (株）製紫外 ·可視 ·近赤外分光光度計 V— 5 70) と屈折率のデータから膜厚を求める方法も併用した。

(5) DS Cの測定

相転移温度は、 P e r k i n— E l me r社製示差走査熱量計 D S C 7により昇降温速度 1 0°CZ分で測定した。

<実施例 1 >

(1) 積層体 Aの作製

ラジカル共重合により、下記式（8) で示される側鎖型液晶性高分子化合物を合成した。 G PCによる分子量はポリスチレン換算で、数平均分子量 Mn = 80 00、重量平均分子量 Mw= 1 5000であった。なお、式（8) はブロック重合体の構造で表記しているがモノマーの構成比を表すものである。 .

式（ 8 ) の側鎖型液晶性高分子化合物 1 0. 0 gを、 90m lのシク口へキサノンに溶かし、暗所でトリァリルスルフォニゥムへキサフルォロアンチモネ一ト 50%プロピレンカーボネート溶液（アルドリッチ社製、試薬） 1. O gを加えた後、孔径 0. 45 μ mのポリテトラフルォロエチレン製フィルターでろ過して液晶性組成物の溶液を調製した。

配向基板は以下のようにして調製した。 6 50mm幅、厚さ 38 μιηの長尺のポリエチレンテレフタレートフィルム（ΡΕΤ、東レ（株）製）上に連続的に、ァルキル変性ポリビュルアルコール（PVA、（株）クラレ製、 MP— 203) の 5 質量％溶液（溶媒は、水とイソプロピルアルコールの質量比 1 ： 1の混合溶媒）をダイコーターを用いて塗布 ·乾燥し、 1 30°〇で加熱処理して？層厚 1. 2 μ mの配向基板フイノレムを得た。次いで、 PVA層をレーヨンのラビング布でラビングした。ラビング時の周速比（ラビング布の移動速度基板フィルムの移動速度）は 4とした。

このようにして得られた配向基板に、上記で得た液晶性組成物の溶液を、ダイコーターを用いて連続的に塗布 ·乾燥した後、 1 30°CX 1 0分間加熱処理をして液晶性組成物層をホメオト口ピック配向させた。次いで、 60°Cに加熱した金属ドラムに密着させながら、その上から、高圧水銀灯ランプにより 60 Om J / cm²の紫外光（ただし 3 6 5 nmで測定した光量）を照射して、液晶性組成物を硬化させて、 PETフィルム/ PV A層/光学異方素子（液晶層 A) からなる積層体 Aを得た。

(2) 積層体 Bの作製

基板として用いた P ETフィルムは大きな複屈折を持ち光学用フィルムとして好ましくないため、得られた配向基板上の光学異方素子（液晶層 A) を、紫外線硬化型接着剤を介して、トリァセチルセルロース（TAC) フィルム（膜厚 40 β m) に早した。

すなわち、 P ETフィルム上の硬化した液晶層 Aの上に、、紫外線硬化型接着 '剤を 5 μ m厚となるように塗布し、 TACフィルム（ 40 μ m厚）でラミネートして、 TACフィルム側から紫外線を照射して接着剤を硬化させた後、 PVA層および PETフィルムを剥離し、積層体子 B (光学異方素子（液晶層 A) /接着剤層/ T ACフィルム）を得た。 '

得られた積層体 Bを偏光顕微鏡下で観察すると、ディスクリネーシヨンがなくモノドメインの均一な配向で、. コノスコープ観察から正の一軸性屈折率構造を有するホメオト口ピック配向であることがわかった。 KOBRA2 1 ADHを用いて測定した T ACフィルムと液晶層を合わせた面内方向のリターデーション値 (R e) は 0. 5 nm、厚さ方向のリターデーション値（R t h) は一 1 50 η mであった。なお、 TACフィルム単体は負の一軸性で R eがー 0. 5 nm、 R t hは + 40 nmであったことから、液晶層単独の R eは 0 n m、 R t l — l 90 nmと見積もられた。

さらに積層体 Bの液晶層部分のみをかきとり、 D S Cを用いてガラス転移点を測定したところ、 T gは 1 00°Cであった。また液晶層表面の鉛筆硬度は 2 H程度で、充分に強固な膜が得られた。 (3) 楕円偏光板 Cの作製

積層体 Bを室温で、 2質量％水酸化カリゥム水溶液中に 5分間浸漬して鹼化処理を行い、流水中で洗浄した後乾燥させた。延伸したポリビュルアルコールに沃素を吸着させた偏光素子の一方の面に、アクリル系接着剤を用いて、鹼化した積層体 Bを液晶層が外側となるように連続的に貼り合わせた。

ついで、偏光素子の他方の面には験化した T ACフィルムを貼り合わせ、本発明の楕円偏光板 Cを作製した。総膜厚は約 1 30 imであり、通常のもの（厚み 1 60 ^m) よりも薄くすることが出来た。この楕円偏光板 Cを光学検査したところ液晶層にシミゃ傷などの損傷は見られなかった。この楕円偏光板 Cの積層体 B側をァクリル系粘着剤を介してガラス板に貼り付け、 60°C90%RHの恒温恒湿槽に入れ、 500時間経過後に取り出して観察したところ、剥がれや泡の発生などの異常は一切認められなかった。

く実施例 2〉

(1) 積層体 Dの作製方法

実施例 1で作製した P E T配向基板上の液晶層を、紫外線硬化型接着剤を介して、ゼォノアフィルム（膜厚 40 μιη、日本ゼオン社製）に転写した。すなわち、 Ρ ΕΤフィルム上の硬化した液晶層の上に、接着剤を 5 μπι厚となるように塗布し、ゼォノアフィルムでラミネートして、ゼォノアフィルム側から紫外線を照射して接着剤を硬化させた後、 P VA'層および Ρ ΕΤフィルムを剥離し、積層体 D を得た。

得られた積層体 D (光学異方素子（液晶層 A) /接着剤層/ゼォノアフィルム）を偏光顕微鏡下で観察すると、ディスクリネーシヨンがなくモノドメインの均一な配向で、コノスコープ観察から正の一軸性屈折率構造を有するホメォト口ピック配向であることがわかった。 KOBRA 2 1 ADHを用いて測定したゼォノアフィルムと液晶層をあわせた面内方向のリタ一デーシヨン値（R e) は 0. 1 nm、厚さ方向のリターデーション値（R t h) は一 1 1 0 nmであった。なお、ゼォノアフィルム単体は等方性で R eが 0. l nm、 1 1 11は+ 1 11111でぁつたことから、液晶層単独での R eが O nm、 R t hが一 1 1 0 nmと見積もられた。

(2) 接着剤の調製ウレタン系接着剤として、主剤となるポリエステルポリオールプレポリマーである東洋モートン（株）製の E L— 4 3 6 A (固形分濃度 3 5質量。 /。の水溶液） 1 0 0部に、イソシァネート系硬化剤である東洋モートン（株）製の「E L— 4 3 6 B」（有効成分 1 0 0 %品） 3 0部を配合し、さらに水を加えて固形分濃度が 2 0質量⁰ /₀となるように希釈した。一方、ポリビュルアルコール系接着剤として、（株）クラレ製のカルボキシル基変性ポリビュルアルコール「クラレポバール K L 3 1 8」（酢酸ビュルとィタコン酸ナトリウムのモル比約 9 8 ： '2の共重合体のケン化物、ケン化度 8 5〜9 0モル。/。、分子量約 8 5 , 0 0 0 ) の 3質量％水溶液を調製した。得られたウレタン系接着剤とポリビュルアルコル系水溶液とを、質量比 1 ： 1 (固形分質量比では 2 0 ： 3 ) で混合し、混合接着剤とした。

( 3 ) 楕円偏光板 Eの作製

延伸したポリビュルアルコールに沃素を吸着させた偏光素子の両面に、調製した混合接着剤を混合後 1分以内に塗布し、その一方の面には、積層体 Dのゼオノァ面側に 2 5 0 W · m i n Zm ²の条件でコロナ処理を施し、そのコロナ処理後 3 0秒以内にそのコロナ処理面で貼り合わせた。 '

ついで、偏光素子の他方の面には鹼化した T A Cフィルムを貼り合わせ、本発明の楕円偏光板 Eを作製した。総膜厚は約 1 3 O w mであり、通常のもの（1 6 0 μ ηι) よりも薄くすることが出来た。この楕円偏光板 Εを光学検査したところ液晶層にシミゃ傷などの損傷は見られなかった。この楕円偏光板 Εの積層体 D側をアタリル系粘着剤を介してガラス板に貼り付け、 6 0 °C 9 0 % R Hの恒温恒湿槽に入れ、 5 0 0時間経過後に取り出して観察したところ、剥がれや泡の発生などの異常は一切認められなかった。

<比較例 1 >

( 1 ) 楕円偏光板 Fの作製

延伸したポリビエルアルコールに沃素を吸着させた偏光素子の両側に、ァクリル系接着剤を用いて、鹼化した T A Cフィルムを貼り合わせて偏光板を作製した。積層体 Bを鹼化処理することなく、その液晶側をァクリル系粘着剤を介してこの偏光素子に貼合して楕円偏光板 Fを作製した。この楕円偏光板 Fは厚さ約 2 0 0 μ ηιと厚く、卷き厚が大きくなるために一回の操作での処理長さは実施例 1の楕円偏光板の作製に比べて短くならざるを得なかった。 ' 楕円偏光板 Fの積層体 B側にアタリル系粘着剤を塗布しガラス板に貼りつけて、実施例 1と同様の試験を行ったところ、 500時間経過後に端部に 0. 5 mmの剥がれが認められた。

ぐ比較例 2 >

(楕円偏光板 Gの作製）

延伸したポリビニルアルコールに沃素を吸着させた偏光素子の両側に、ァクリル系接着剤を用いて、鹼化した T ACフィルムを貼り合わせて偏光板を作製した。積層体 Dをコロナ処理することなく、その液晶側をァクリル系粘着剤を介してこの偏光素子に貼合して楕円偏光板 Gを作製した。この楕円偏光板 Gは厚さ約 20 0 μπιと厚く、卷き厚が大きくなるために一回の操作での処理長さは実施例 2の楕円偏光板の作製に比べて短くならざるを得なかった。

楕円偏光板 Gの積層体 D側にアクリル系粘着剤を塗布しガラス板に貼りつけて、実施例 1と同様の試験を行ったところ、 500時間経過後に端部に 0. 5mmの剥がれが認められた。

く実施例 3 >

(積層体 Hの作製） ' T ACフィルム（40 ^ 111、富士写真フィルム社製）を室温で、 2質量％の水酸化カリゥム水溶液中に 5分間浸漬'して鹼化処理を行い、流水中で洗浄した後乾燥させた。延伸したポリビュルアルコールに沃素を吸着させた偏光素子の一方の面に、接着剤層 1としてアクリル系接着剤を用いて、鹼化した TACフィルムを貼り合わせ、積層体 Hを作製した。総膜厚は約 6 5 μπιであり、通常のもの（1 05 μπι) よりも薄くすることが出来た。

(楕円偏光板 Iの作製）

実施例 1で得た積層体 Αの光学異方素子上に市販の UV硬化型接着剤（UV_ 3400、東亞合成（株）製）を 5 μηιの厚さに接着剤層 2として塗布し、この上に積層体 Ηの偏光素子側をラミネートし、約 60 Om Jの UV照射により該接着剤層 2を硬化させた。 P E Tフィルム/ P V A層 Z光学異方素子ノ接着剤層 2 ノ偏光素子接着剤層 1ZT ACフィルムが一体となった積層体から P E Tフィルムおよび PV A層を剥離することにより、 T ACフィルム/接着剤層 1/偏光素子/接着剤層 2 /光学異方素子からなる楕円偏光板 Iを得た。該楕円偏光板 I の総厚みは、 7 5 μ ηιであった。

この楕円偏光板 Iを光学検査したところ、シミゃ傷などの損傷は見られなかつた。この楕円偏光板 Iの光学異方素子側をァクリル系粘着剤を介してガラス板に貼り付け、 6 0 °C 9 0 % R Hの恒温恒湿槽に入れ、 5 0 0時間経過後に取り出して観察したところ、剥がれや泡の発生などの異常は一切認められなかった。

<実施例 4 >

(積層体 Jの作製） .

延伸したポリビュルアルコールに沃素を吸着させた偏光素子の一方の面に、接着剤層 1として実施例 2で調製した混合接着剤を混合後 1分以内に塗布し、その一方の面には、ゼォノアフィルム（膜厚 4 0 _w m、日本ゼオン社製）に 2 5 0 W · m i n Zm ²の条件でコロナ処理を施し、そのコロナ処理後 3 0秒以内にそのコロナ処理面で貼り合わせて、本発明の積層体 Jを作製した。総膜厚は約 6 5 μ πιであり、通常のもの（1 0 5 w m) よりも薄くすることが出来た。

(楕円偏光板 Kの作製） '

実施例 1で作製した積層体 Aの光学異方素子上に市販の U V硬化型接着剤（U V— 3 4 0 0、東亞合成（株）製）を 5 μ πχの厚さに接着剤層 2として塗布し、この上に積層体 Jの偏光素子側をラミネートし、約 6 0 0 m Jの U V照射により該接着剤層 2を硬化させた。 P E Tフ'ィルム Z P V A層/光学異方素子 Z接着剤層 2 Z偏光素子/接着剤層 1ノゼォノアフィルムが一体となつた積層体から P E T フィルムおよび P V A層を剥離することにより、. ゼォノアフィルム/接着剤層 1 /偏光素子/接着剤層 2 光学異方素子からなる楕円偏光板 Kを得た。該楕円偏光板 Kの総厚みは、 7 5 つであった。

この楕円偏光板 Kを光学検査したところ、シミゃ傷などの損傷は見られなかつた。この楕円偏光板 Kの光学異方素子側をァクリル系粘着剤を介してガラス板に貼り付け、 6 0 °C 9 0 % R Hの恒温恒湿槽に入れ、 5 0 0時間経過後に取り出して観察したところ、剥がれや泡の発生などの異常は一切認められなかった。

ぐ実施例 5 >

(楕円偏光板 Lの作製）

実施例 4で作製した積層体 Jの偏光素子上に、実施例 1で調製した液晶性組成物の溶液を、ダイコーターを用いて連続的に塗布 ·乾墚した後、 1 3 b°CX 1 0 分間加熱処理をして液晶組成物をホメオト口ピック配向させた。次いで、 6 0°C に加熱した金属ドラムに密着させながら、その上から、高圧水銀灯ランプにより

600111】/ 0 111²の紫外光（ただし 3 6 5 nmで測定した光量）を照射して、液晶性組成物を硬化させて、ゼォノアフィルム Z接着剤層 1Z偏光素子/光学異方素子からなる楕円偏光板 Lを得た。該楕円偏光板 Lの総厚みは、 70 μιηであつた。

この楕円偏光板 Lを光学検査したところ、シミや傷などの損傷は見られなかつた。この楕円偏光板 Lの光学異方素子側を,ァクリル系粘着剤を介してガラス板に貼り付け、 60 °C 90 %RHの恒温恒湿槽に入れ、 500時間経過後に取り出して観察したところ、剥がれや泡の発生などの異常は一切認められなかった。

<実施例 6 >

(積層体 Mの作製）

実施例 4で作製した積層体 Jの偏光素子上に、アルキル変性ポリビュルアルコール（PVA、（株）クラレ製、 MP— 20 3) の 5質量％溶液（溶媒は、水とィソプロピルアルコールの質量比 1 ： 1の混合溶媒）をダイコーターを用いて連続的に塗布 ·乾燥し、 1 30°Cで加熱処理してゼォノアフィルム接着剤層 1 偏光素子/ PV A配向膜からなる積層体 Mを得た。

(楕円偏光板 Nの作製） '

積層体 Mの PV A配向膜上に、実施例 1で調製した液晶性組成物の溶液を、ダイコーターを用いて連続的に塗布 .乾燥した後、 1 30°CX 1 0分間加熱処理をして液晶性組成物をホメオト口ピック配向させた。次いで、 60°Cに加熱した金属ドラムに密着させながら、その上から、高圧水銀灯ランプにより 60 Om J Z cm²の紫外光（ただし 3 6 5 nmで測定した光量）を照射して、液晶性組成物を硬化させて、光学異方素子を有するゼォノアフィルム/接着剤層 1/偏光素子 ZPV A配向膜ノ光学異方素子層からなる楕円偏光板 Nを得た。該楕円偏光板 N の総厚みは、 73 μπιであった。

この楕円偏光板 Nを光学検査したところ、シミゃ傷などの損傷は見られなかつた。この楕円偏光板 Nの光学異方素子側をァクリル系粘着剤を介してガラス板に貼り付け、 60 °C 90 %RHの恒温恒湿槽に入れ、 500時間経過後に取り出して観察したところ、剥がれや泡の発生などの異常は一切認められなかつた。

<実施例 7 >

実施例 1で作製した楕円偏光板 Cを用いて、図 5に示すように、バックライト、下偏光板、 I P S型液晶セル、上偏光板の順で配置された市販の I P S型の液晶テレビの上偏光板の代わりに、楕円偏光板 Cを配置した。その結果、偏光板のみの場合に比べ、視野角が拡大し、斜めから見ても良好な画像が得られることが分かった。

く実施例 8 >

実施例 2で作製した楕円偏光板 Eを用いて、図 5に示すように、バックライト、下偏光板、 I P S型液晶セル、上偏光板の順で配置された市販の I P S型の液晶テレビの上偏光板の代わりに、楕円偏光板 Eを配置した。その結果、偏光板のみの場合に比べ、視野角が拡大し、斜めから見ても良好な画像が得られることが分かった。

<実施例 9 >

実施例 3で作製した楕円偏光板 Iを用いて、図 5に示すように、バックライト、下偏光板、 I P S型液晶セル、上偏光板の順で配置された市販の I P S型の液晶テレビの上偏光板の代わりに、楕円偏光板 Iを配置した。その結果、偏光板のみの場合に比べ、視野角が拡大し、斜めから見ても良好な画像が得られることが分かった。 '

<実施例 1 0〉

実施例 4で作製した楕円偏光板 Kを用いて、図 5に示すように、バックライト、下偏光板、 I P S型液晶セル、上偏光板の順で配置された市販の I P S型の液晶テレビの上偏光板の代わりに、楕円偏光板 Kを配置した。その結果、偏光板のみの場合に比べ、視野角が拡大し、斜めから見ても良好な画像が得られることが分力つた。

[図面の簡単な説明]

図 1は、本発明の楕円偏光板の構成例を模式的に示す立面断面図である。

図 2は、本発明の楕円偏光板の別の構成例を模式的に示す立面断面図である。図 3は、本発明の楕円偏光板の別の構成例を模式的に示す立面断面図である。図 4は、本発明の楕円偏光板の別の構成例を模式的に示す立面断面図である。図 5は、実施例 7〜1 0で用いた液晶表示装置の概念図である。

(符号の説明）

1 透光性保護フィルム

2 接着剤層 1

3 偏光素子

4 接着剤層 2

5 光学的に等方性の基板

6 接着剤層 3

7 ホメオト口ピック配向液晶層

8 偏光板

9 上偏光板

1 0 I P S液晶パネル

1 1 下偏光板 '

1 2 バックライト

Claims

1. 透光性保護フィルム、偏光素子おょぴ光学異方素子とが、この順に積層されている楕円偏光板であって、該光学異方素子が少なくとも正の一軸性を示す液晶性組成物を液晶状態においてホメォト口ピック配向させた後、該配向を固定化したホメオト口ピック配向液晶層を含むことを特徴とする楕円偏光板。

2. 透光性保護フィルム、偏光素子および光学異方素子が長尺フィルム形態であることを特徴とする請青求項 1に記載の楕円偏光板。

3. ホメオト口ピック配向液晶層が、ォキセタニル基を有する側鎖型の液晶性高分子を含む液晶性組成物を、液の晶状態でホメオト口ピック配向させた後、前記ォキセタニル基を反応せしめてホメオト口ピック配向を固定化したホメオト口ピック配向液晶層であることを特徴とする請求囲項 1に記載の楕円偏光板。

4. ホメオト口ピック配向液晶層が、以下の式 [1] 〜 [2] を満たすことを特徴とする請求項 1に記載の楕円偏光板。

[1] 0≤R e≤ 50

[2] - 500≤R t h≤- 30

(ここで、 R eはホメオト口ピック配向液晶層の面内のリターデーション値を意味し、 R t hはホメオト口ピック配向液晶層の厚さ方向のリターデーション値を意味する。前記 R e及び R t hは、'それぞれ R e = (N x -N y ) X d [nm]、 R t h = (N x -N z ) X d [nm] である。また、 dはホメオト口ピック配向液晶層の厚さ、 Nx, Nyはホメオト口ピック配向液晶層面内の主屈折率、 N z は厚さ方向の主屈折率であり、 N z >N X yである。）

5. 透光性保護フィルムが、トリァセチルセルロースであることを特徴とする請求項 1〜4のいずれかに記載の楕円偏光板。

6. 透光性保護フィルムが、シクロォレフイン系ポリマーであることを特徴とする請求項 1〜 4のいずれかに記載の楕円偏光板。

7. 楕円偏光板の厚みが 1 50 m以下であることを特徴とする請求項 1〜 6のいずれかに記載の楕円偏光板。

8. 偏光素子と光学異方素子との間に、光学異方素子の液晶層がホメォト口ピック配向を形成させる配向膜が更に設けられていることを特徴とする請求項 1〜 7のいずれかに記載の楕円偏光板。

9 . 光学異方素子の偏光素子とは反対側の表面に透光性オーバーコート層が設けられていることを特徴とする請求項 1〜8のいずれかに記載の楕円偏光板。

1 0 . 透光性オーバーコート層がァクリル系樹脂からなることを特徴とする請求項 9に記載の楕円偏光板。

1 1 . 請求項 1〜1 0のいずれかに記載の楕円偏光板に、さらに少なくとも 1枚の光学フィルムが積層されていることを特徴とする楕円偏光板。

1 2 . 光学的に等方性の基板上に少なくとも正の一軸性を示す液晶性組成物を液晶状態においてホメオト口ピック配向させた後、該配向を固定化したホメオト口ピック配向液晶を形成した積層体を得、次いで偏光素子を、該積層体と透光性保護フィルムに挟持されるように貼り合わせることを特徴とする楕円偏光板の製造方法。

1 3 . ( 1 ) 透光性保護フィルムを、接着剤層 1を介して偏光素子と接着し、透光性保護フィルムノ接着剤層 1 /偏光素子からなる積層体（A) を得る第 1工程、

( 2 ) 配向基板上に正の一軸性を示す液晶性組成物の層を形成し、該層をホメオト口ピック配向させた後、配向を固定化した光学異方素子を形成して、配向基板/光学異方素子からなる積層体（δ ) を得る第 2工程、

( 3 ) 前記積層体（Β ) の光学異方素子側を、接着剤層 2を介して、前記積層体（Α) の偏光素子側と接着せしめた後、配向基板を剥離して光学異方素子を前記積層体（Α) に転写し、透光性保護フィルム接着剤層 1ノ偏光素子接着剤層 2 光学異方素子からなる楕円偏光板を得る第 3工程、

の各工程を少なくとも経ることを特徴とする楕円偏光板の製造方法。

1 4 . ( 1 ) 透光性保護フィルムを、接着剤層 1を介して偏光素子と接着し、透光性保護フィルム接着剤層 1 偏光素子からなる積層体（Α) を得る第 1工程、

( 2 ) 前記積層体（Α) の偏光素子上に、正の一軸性を示す液晶性組成物の層を形成し、該層をホメオト口ピック配向させた後、配向を固定化した光学異方素子を形成させて、透光性保護フィルムノ接着剤層 1ノ偏光素子/光学異方素子からなる楕円偏光板を得る第 2工程、

1 5. 透光性保護フィルムが、トリァセチルセルロースまたはシクロォレフィン系ポリマーであることを特徴とする請求項 1 2、 1 3または 14に記載の楕円偏光板の製造方法。 '

16. 透光性保護フィルムが表面処理されていることを特徴とする請求項 1 2、 1 3または 14に記載の楕円偏光板の製造方法。

1 7. 表面処理が、験化処理であることを特徴とする請求項 16に記載の楕円偏光板の製造方法。

1 8. 表面処理が、コロナ放電処理であることを特徴とする請求項 16に記載の楕円偏光板の製造方法。

1 9. 積層体（A) の偏光素子面が表面処理されていることを特徴とする請求項 1 2、 1 3または 14に記載の楕円偏光板の製造方法。

20. 偏光素子面の表面処理が、コロナ放電処理であることを特徴とする請求項 1 9に記載の楕円偏光板の製造方法。

21. 液晶セルの少なくとも片側の面に、請求項 1〜 1 1のいずれかに記載の楕円偏光板を配置した液晶表示装置。