JP2014194872A - 非水電解液用添加剤、非水電解液、及び、蓄電デバイス - Google Patents

非水電解液用添加剤、非水電解液、及び、蓄電デバイス Download PDF

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Abstract

【課題】蓄電デバイスに用いた場合に、電極表面上に安定な固体電解質界面を形成して電池の寿命や容量等の電池特性を改善することができる非水電解液用添加剤を提供する。また、該非水電解液用添加剤を用いた非水電解液、及び、該非水電解液を用いた蓄電デバイスを提供する。
【解決手段】下記式(1)で表されるジスルホン酸スクシンイミド化合物からなる非水電解液用添加剤。
[化1]
Figure 2014194872

式(1)中、R、R、R、及び、Rは、水素、ハロゲン、置換されていてもよい炭素数1〜6のアルキル基、又は、R及びRのいずれかとR及びRのいずれかとが連結してなる置換されていてもよいo−フェニレン基を示す。
【選択図】なし

Description

本発明は、蓄電デバイスに用いた場合に、電極表面上に安定な固体電解質界面を形成して電池の寿命や容量等の電池特性を改善することができる非水電解液用添加剤に関する。また、本発明は、該非水電解液用添加剤を用いた非水電解液、及び、該非水電解液を用いた蓄電デバイスに関する。
近年、環境問題の解決、持続可能な循環型社会の実現に対する関心が高まるにつれ、リチウムイオン電池に代表される非水電解液二次電池の研究が広範囲に行われている。なかでもリチウムイオン電池は高い使用電圧とエネルギー密度から、ノート型パソコン、携帯電話等の電源として用いられている。これらリチウムイオン電池は、鉛電池やニッケルカドミウム電池と比較してエネルギー密度が高く、高容量化が実現されるため期待されている。
しかしながら、リチウムイオン電池には、充放電サイクルの経過に伴って電池の容量が低下するという問題がある。これは長期間の充放電サイクルの経過に伴い、電極反応による電解液の分解や電極活物質層への電解質の含浸性の低下、更にリチウムイオンのインターカレーション効率の低下が生じること等が要因に挙げられる。
充放電サイクルの経過に伴う電池の容量の低下を抑制する方法として、電解液に各種添加剤を加える方法が検討されている。添加剤は、最初の充放電時に分解され、電極表面上に固体電解質界面(SEI)と呼ばれる被膜を形成する。SEIは、充放電サイクルの最初のサイクルにおいて形成するため、電解液の分解に電気が消費されることはなく、リチウムイオンはSEIを介して電極を行き来することができる。すなわち、SEIの形成は充放電サイクルを繰り返した場合の二次電池の劣化を防ぎ、電池特性、保存特性又は負荷特性等を向上させることに大きな役割を果たすと考えられている。
SEIを形成する電解液用添加剤として、例えば、特許文献1〜3には、環状モノスルホン酸エステルが開示されている。また、特許文献4には、含硫黄芳香族化合物が開示されており、特許文献5にはジスルフィド化合物が開示されている。更に、特許文献6〜9にはジスルホン酸エステルが開示されている。
また、特許文献10〜13には、ビニレンカーボネートやビニルエチレンカーボネートを含有する電解液が提案されており、特許文献14、15では1,3−プロパンスルトンやブタンスルトンを含有する電解液が提案されている。
特開昭63−102173号公報 特開2000−003724号公報 特開平11−339850号公報 特開平05−258753号公報 特開2001−052735号公報 特開2009−038018号公報 特開2005−203341号公報 特開2004−281325号公報 特開2005−228631号公報 特開平04−87156号公報 特開平05−74486号公報 特開平08−45545号公報 特開2001−6729号公報 特開昭63−102173号公報 特開平10−50342号公報
電解液に用いる添加剤によって電極表面に被膜として形成するSEIは、サイクル特性、充放電効率、内部抵抗等、多くの電池特性に深く関与している。
例えば、特許文献10〜15に開示されているビニレンカーボネート系化合物や1,3−プロパンスルトン等のスルトン系化合物を添加剤として用いた電解液は、負極表面上に電気的還元分解を生じて生成したSEI被膜によって、不可逆的容量低下を抑制することが可能となっている。そのため、ビニレンカーボネート系化合物やスルトン系化合物は電解液用添加剤として多用されている。しかしながら、これらの化合物によるSEI被膜は電極保護作用として機能するものの、Liイオンのイオン伝導性が低いため、内部抵抗を低下させる性能は小さかった。更に、長期間の使用に耐えうるほどの強度がないため、使用中にSEI被膜が分解したり亀裂が生じたりすることによって負極表面が露出し、電解液溶媒の分解が生じて電池特性が低下するという問題があった。また、高温条件下でのSEIの劣化により亀裂が生じ、被膜の肥大に伴って内部抵抗が上昇するという問題があった。
このように、従来の非水電解液用添加剤は充分な性能が得られておらず改善の余地があった。即ち、安定性に優れ、サイクル特性、充放電効率、内部抵抗等を向上させるSEIを電極表面上に形成し、非水電解液二次電池の電池特性を向上させる新規な電解液用添加剤の開発が望まれていた。
本発明は、蓄電デバイスに用いた場合に、電極表面上に安定な固体電解質界面を形成して電池の寿命や容量等の電池特性を改善することができる非水電解液用添加剤を提供することを目的とする。また、本発明は、該非水電解液用添加剤を用いた非水電解液、及び、該非水電解液を用いた蓄電デバイスを提供することを目的とする。
本発明は、下記式(1)で表されるジスルホン酸スクシンイミド化合物(以下、「本発明にかかるジスルホン酸スクシンイミド化合物」ともいう)からなる非水電解液用添加剤である。
Figure 2014194872
式(1)中、R、R、R、及び、Rは、水素、ハロゲン、置換されていてもよい炭素数1〜6のアルキル基、又は、R及びRのいずれかとR及びRのいずれかとが連結してなる置換されていてもよいo−フェニレン基を示す。
以下に、本発明について詳述する。
本発明者らは、非水溶媒を溶媒として用いた電解液において、特定の構造を有するジスルホン酸スクシンイミド化合物を添加することにより、蓄電デバイスに用いた場合に、電極表面上に安定な固体電解質界面を形成して電池の寿命や容量等の電池特性を改善することができることを見出し、本発明を完成させるに至った。
前記式(1)中、R、R、R、及び、Rで示されるハロゲンとしては、フッ素が好ましい。フッ素であることにより、本発明にかかるジスルホン酸スクシンイミド化合物は、電気化学的還元を受けやすい低いLUMOエネルギーを示すものとなる。
前記式(1)中、R、R、R、及び、Rで示されるアルキル基の炭素数が7以上であると、非水溶媒への溶解性が低下するおそれがある。R、R、R、及び、Rで示されるアルキル基の炭素数の好ましい上限は4である。
前記式(1)中、R、R、R、及び、Rで示される置換されていてもよい炭素数1〜6のアルキル基としては、具体的には例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。なかでも、メチル基であることが好ましい。
また、R、R、R、及び、Rで示されるアルキル基が置換されている場合、その置換数は、炭素数nに対し、置換基はn個〜(2n+1)個の任意の置換数とする。
、R、R、及び、Rで示されるアルキル基が置換されている場合、ハロゲンで置換されていることが好ましく、フッ素で置換されていることがより好ましい。フッ素で置換されていることにより、本発明にかかるジスルホン酸スクシンイミド化合物は、電気化学的還元を受けやすい低いLUMOエネルギーを示すものとなる。
前記式(1)中、R及びRのいずれかとR及びRのいずれかとが連結して置換されていてもよいo−フェニレン基となる場合、ベンゼン環が含まれることにより、本発明にかかるジスルホン酸スクシンイミド化合物は、電気化学的還元を受けやすい低いLUMOエネルギーを示すものとなる。
前記式(1)中、R及びRのいずれかとR及びRのいずれかとが連結してなるo−フェニレン基が置換されている場合、炭素数1〜4のアルキル基又はハロゲンで置換されていることが好ましい。
前記o−フェニレン基がアルキル基で置換されている場合、o−フェニレン基上のアルキル基の炭素数が5以上であると、非水溶媒への溶解性が低下するおそれがある。o−フェニレン基上のアルキル基の炭素数の好ましい上限は2である。
前記o−フェニレン基がハロゲンで置換されている場合、フッ素で置換されていることが好ましい。
前記式(1)で表されるジスルホン酸スクシンイミド化合物としては、具体的には例えば、メタンジスルホン酸ビス(フェニルアミド)、メタンジスルホン酸ビス(メチルフェニルアミド)、メタンジスルホン酸ビス(エチルフェニルアミド)、メタンジスルホン酸ビス(プロピルフェニルアミド)、メタンジスルホン酸ビス(ブチルフェニルアミド)、メタンジスルホン酸ビス(ペンチルフェニルアミド)、メタンジスルホン酸ビス(ヘキシルフェニルアミド)、メタンジスルホン酸ビス(ジベンジルアミド)、メタンジスルホン酸ビス(ベンジルメチルアミド)、メタンジスルホン酸ビス(ベンジルエチルアミド)、メタンジスルホン酸ビス(ベンジルプロピルアミド)、メタンジスルホン酸ビス(ベンジル−n−ブチルアミド)、メタンジスルホン酸ビス(ベンジルペンチルアミド)、メタンジスルホン酸ビス(ベンジルヘキシルアミド)、メタンジスルホン酸ビスジフェニルアミド、メタンジスルホン酸ビス(ベンジルフェニルアミド)、メタンジスルホン酸ビス(フェネチルフェニルアミド)、メタンジスルホン酸ビス(フェニル(3−フェニルプロピル)アミド)、メタンジスルホン酸ビス(フェニル(4−フェニルブチル)アミド)、メタンジスルホン酸ビス(フェニル(5−フェニルペンチル)アミド)、メタンジスルホン酸ビス(フェニル(6−フェニルヘキシル)アミド)、メタンジスルホン酸ビス(フェニル(3−フェニルプロピル)アミド)、メタンジスルホン酸ビス(4−フルオロフェニルアミド)、メタンジスルホン酸ビス[(4−フルオロフェニル)メチルアミド]、メタンジスルホン酸ビス[(4−フルオロフェニル)エチルアミド]、メタンジスルホン酸ビス[(4−フルオロフェニル)プロピルアミド]、メタンジスルホン酸ビス[(4−フルオロフェニル)n−ブチルアミド]、メタンジスルホン酸ビス[(4−フルオロフェニル)ペンチルアミド]、メタンジスルホン酸ビス[(4−フルオロフェニル)ヘキシルアミド]、メタンジスルホン酸ビス[(4−フルオロベンジル)メチルアミド]、メタンジスルホン酸ビス[(4−フルオロベンジル)エチルアミド]、メタンジスルホン酸ビス[(4−フルオロベンジル)プロピルアミド]、メタンジスルホン酸ビス[(4−フルオロベンジル)n−ブチルアミド]、メタンジスルホン酸ビス[(4−フルオロベンジル)ペンチルアミド]、メタンジスルホン酸ビス[(4−フルオロベンジル)ヘキシルアミド]、メタンジスルホン酸ビス[(4−フルオロフェニル)フェニルアミド]、メタンジスルホン酸ビス[(4−フルオロベンジル)フェニルアミド]、メタンジスルホン酸ビス[(4−フルオロフェネチル)フェニルアミド]、メタンジスルホン酸ビス[フェニル(3−(4−フルオロフェニル)プロピルアミド]、メタンジスルホン酸ビス[フェニル(4−(4−フルオロフェニル)ブチルアミド]、メタンジスルホン酸ビス[フェニル(5−(4−フルオロフェニル)ペンチルアミド]等が挙げられる。
本発明の非水電解液用添加剤は、得られる非水電解液が、高い放電容量維持率と低い内部抵抗比を示すものとなることから、本発明にかかるジスルホン酸スクシンイミド化合物として、下記式(2−1)で表される化合物、下記式(2−2)で表される化合物、下記式(2−3)で表される化合物、下記式(2−4)で表される化合物、下記式(2−5)で表される化合物、下記式(2−6)で表される化合物、下記式(2−7)で表される化合物、下記式(2−8)で表される化合物、下記式(2−9)で表される化合物、及び、下記式(2−10)で表される化合物からなる群より選択される少なくとも1種のジスルホン酸スクシンイミド化合物からなることが好ましい。
なお、式(2−2)、式(2−4)、及び、式(2−9)における「Me」はメチル基、式(2−3)における「Hex」はヘキシル基、式(2−4)における「Et」はエチル基を示す。
Figure 2014194872
本発明にかかるジスルホン酸スクシンイミド化合物を製造する方法としては、例えば、R、R、R、及び、Rを置換基として有するスクシンイミド型2級アミン又はフタルイミド型2級アミン(R、R、R、及び、Rは、式(1)と同様のものである)とメタンジスルホニルクロライドとを反応させる方法等が挙げられる。
具体的には例えば、上記式(2−1)で表されるジスルホン酸スクシンイミド化合物を製造する場合は、まず、スクシンイミドに、メタンジスルホニルクロライドを滴下し、次いで、トリエチルアミンを滴下して撹拌し、反応終了後、有機層に抽出し、晶析操作により析出した結晶をろ過する方法を用いることができる。なお、該化合物を製造する場合、必要に応じて、1,2−ジメトキシエタン等の反応溶媒を用いることもできる。
また、上記式(2−2)、(2−3)、(2−4)、(2−5)、(2−6)、(2−7)、(2−8)、(2−9)、及び、(2−10)で表されるジスルホン酸スクシンイミド化合物を製造する場合は、上記式(2−1)で表されるジスルホン酸アミド化合物を製造する方法におけるピロリジン−2,5−ジオンに代えて、それぞれ3−メチルスクシンイミド、3−ヘキシルスクシンイミド、3−エチル−4−メチルスクシンイミド、3,4−ジ(2,2,2−トリフルオロエチル)スクシンイミド、3,3−ジトリフルオロメチルスクシンイミド、3−フルオロスクシンイミド、フタルイミド、5−メチルフタルイミド、4−フルオロフタルイミドをメタンジスルホニルクロライドと反応させる方法を用いることができる。
本発明にかかるジスルホン酸スクシンイミド化合物は、最低空分子軌道(LUMO)エネルギーの好ましい下限が−2.8eV、好ましい上限が0.0eVである。前記LUMOエネルギーが−2.8eV未満であると、過剰な分解を起こし、電極上に高い抵抗を示す被膜を形成することがある。前記LUMOエネルギーが0.0eVを超えると、非水電解液二次電池等の電極表面上に安定なSEIを形成することができないことがある。前記LUMOエネルギーのより好ましい下限は−1.5eV、より好ましい上限は−0.15eVである。
なお、前記「最低空分子軌道(LUMO)エネルギー」は、半経験的分子軌道計算法:PM3と密度汎関数法:B3LYP法とを組み合わせて算出される。具体的に本発明では、Gaussian03(Revision B.03、米ガウシアン社製ソフトウェア)を用いて算出された値を用いる。
本発明にかかるジスルホン酸スクシンイミド化合物は、電気化学的還元を受けやすい低いLUMOエネルギーを示すため、該化合物からなる本発明の非水電解液用添加剤は、非水電解液二次電池等の蓄電デバイスに用いる非水電解液に添加された場合に、電極表面上に安定なSEIを形成してサイクル特性、充放電容量、内部抵抗等の電池特性を改善することができる。また、本発明にかかるジスルホン酸スクシンイミド化合物は、水分や温度変化に対して安定であるため、該化合物からなる本発明の非水電解液用添加剤は、長期間、室温で保存することが可能である。したがって、該非水電解液用添加剤を含有する非水電解液も、長期間の保存及び使用に耐えることができる。
本発明の非水電解液用添加剤、非水溶媒、及び、電解質を含有する非水電解液もまた、本発明の1つである。
本発明の非水電解液における本発明の非水電解液用添加剤の含有量(即ち、前記式(1)で表されるジスルホン酸スクシンイミド化合物の含有量)は特に限定されないが、好ましい下限は0.005質量%、好ましい上限は10質量%である。本発明の非水電解液用添加剤の含有量が0.005質量%未満であると、蓄電デバイスに用いた場合に電極表面での電気化学反応によって安定なSEIを充分に形成できないおそれがある。本発明の非水電解液用添加剤の含有量が10質量%を超えると、溶解しにくくなるだけでなく非水電解液の粘度が上昇し、イオンの移動度を充分に確保できなくなるため、電解液の導電性等を充分に確保することができず、蓄電デバイスに用いた場合に放電特性及び充電特性等に支障をきたすおそれがある。本発明の非水電解液用添加剤の含有量のより好ましい下限は0.01質量%である。
前記非水溶媒としては、得られる非水電解液の粘度を低く抑える等の観点から、非プロトン性溶媒が好適である。なかでも、環状カーボネート、鎖状カーボネート、脂肪族カルボン酸エステル、ラクトン、ラクタム、環状エーテル、鎖状エーテル、及び、これらのハロゲン誘導体からなる群より選択される少なくとも1種を含有することが好ましい。
前記非水溶媒としては、具体的には例えば、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、炭酸ブチレン等の環状カーボネート、炭酸ジメチル、炭酸ジエチル、炭酸エチルメチル等の鎖状カーボネートや、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸メチル、イソ酪酸メチル、トリメチル酢酸メチル等の脂肪族カルボン酸エステルや、γ−ブチロラクトン等のラクトンや、ε−カプロラクタム、N−メチルピロリドン等のラクタムや、テトラヒドロフラン、2−メチルテトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、1,3−ジオキソラン等の環状エーテルや、1,2−エトキシエタン、エトキシメトキシエタン等の鎖状エーテルや、4−フルオロ−1,3−ジオキソラン−2−オン、4−クロロ−1,3−ジオキソラン−2−オン、4,5−ジフルオロ−1,3−ジオキソラン−2−オン等のハロゲン誘導体等が挙げられる。これらの非水溶媒は、単独で用いてもよいし、複数種を混合して用いてもよい。
前記電解質としては、リチウムイオンのイオン源となるリチウム塩が好ましい。なかでも、LiAlCl、LiBF、LiPF、LiClO、LiAsF、及び、LiSbFからなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましく、LiBF、LiPFであることがより好ましい。これらの電解質は、単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
本発明の非水電解液における前記電解質の濃度は特に限定されないが、好ましい下限は0.1mol/L、好ましい上限は2.0mol/Lである。前記電解質の濃度が0.1mol/L未満であると、非水電解液の導電性等を充分に確保することができず、蓄電デバイスに用いた場合に放電特性及び充電特性等に支障をきたすおそれがある。前記電解質の濃度が2.0mol/Lを超えると、粘度が上昇し、イオンの移動度を充分に確保できなくなるため、非水電解液の導電性等を充分に確保することができず、蓄電デバイスに用いた場合に放電特性及び充電特性等に支障をきたすおそれがある。前記電解質の濃度のより好ましい下限は0.5mol/L、より好ましい上限は1.5mol/Lである。
本発明の非水電解液、正極、及び、負極を備えた蓄電デバイスもまた、本発明の1つである。前記蓄電デバイスとしては、非水電解液二次電池や電気二重層キャパシタ等が挙げられる。これらの中でもリチウムイオン電池、リチウムイオンキャパシタが好適である。
図1は、本発明の蓄電デバイスの一例を模式的に示した断面図である。
図1において、蓄電デバイス1は、正極集電体2の一方面側に正極活物質層3が設けられてなる正極板4、及び、負極集電体5の一方面側に負極活物質層6が設けられてなる負極板7を有する。正極板4と負極板7とは、本発明の非水電解液8と非水電解液8中に設けたセパレータ9を介して対向配置されている。
本発明の蓄電デバイスにおいて、正極集電体2及び負極集電体5としては、例えば、アルミニウム、銅、ニッケル、ステンレス等の金属からなる金属箔を用いることができる。
本発明の蓄電デバイスにおいて、正極活物質層3に用いる正極活物質としては、リチウム含有複合酸化物が好ましく用いられ、具体的には例えば、LiMnO、LiFeO、LiCoO、LiMn、LiFeSiO等のリチウム含有複合酸化物が挙げられる。
本発明の蓄電デバイスにおいて、負極活物質層6に用いる負極活物質としては、例えば、リチウムを吸蔵、放出することができる材料が挙げられる。このような材料としては、黒鉛、非晶質炭素等の炭素材料や、酸化インジウム、酸化シリコン、酸化スズ、酸化亜鉛、及び酸化リチウム等の酸化物材料等が挙げられる。
また、負極活物質として、リチウム金属、及び、リチウムと合金を形成することができる金属材料を用いることもできる。前記リチウムと合金を形成することができる金属としては、例えば、Cu、Sn、Si、Co、Mn、Fe、Sb、Ag等が挙げられ、これらの金属とリチウムを含む2元又は3元からなる合金を用いることもできる。
これらの負極活物質は単独で用いてもよいし、2種以上を混合して用いてもよい。
本発明の蓄電デバイスにおいて、セパレータ9としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、フッ素樹脂等からなる多孔質フィルムを用いることができる。
本発明によれば、蓄電デバイスに用いた場合に、電極表面上に安定な固体電解質界面を形成して電池の寿命や容量等の電池特性を改善することができる非水電解液用添加剤を提供することができる。また、本発明によれば、該非水電解液用添加剤を用いた非水電解液、及び、該非水電解液を用いた蓄電デバイスを提供することができる。
本発明の蓄電デバイスの一例を模式的に示した断面図である。
以下に実施例を掲げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されない。
(実施例1)
(メタンジスルホン酸ビス(スクシンイミド)(化合物1)の作製)
撹拌機、冷却管、温度計及び滴下ロートを備え付けた200mL容の4つ口フラスコに、スクシンイミド10.9g(0.11モル)、及び、1,2−ジメトキシエタン70.0gを仕込み、1,2−ジメトキシエタン20.0gに溶解させたメタンジスルホニルクロライド10.7g(0.05モル)を0℃に維持しながら20分間かけて滴下した。引き続き同温度に維持しながら、1,2−ジメトキシエタン20.0gに混合させたトリエチルアミン10.6g(0.10モル)を1時間かけて滴下し、同温度に維持しながら終夜撹拌した。
反応終了後、反応液をろ過し、ろ液にトルエン100.0g及び水50.0gを添加して分液した。得られた有機層より溶媒の一部を25℃で減圧留去し、析出した結晶をろ過し、得られた結晶を乾燥することにより、前記式(2−1)で表されるメタンジスルホン酸ビス(スクシンイミド)5.1g(0.015モル)を取得した。メタンジスルホン酸ビス(スクシンイミド)の収率は、メタンジスルホニルクロライドに対して30.4%であった。
なお、得られたメタンジスルホン酸ビス(スクシンイミド)は、下記の物性を有することから同定することができた。
H−核磁気共鳴スペクトル(溶媒:CDCl)δ(ppm):5.53(s、2H)、7.23(dd、8H)
(実施例2)
(メタンジスルホン酸ビス(3−メチルスクシンイミド)(化合物2)の作製)
撹拌機、冷却管、温度計及び滴下ロートを備え付けた200mL容の4つ口フラスコに、3−メチルスクシンイミド12.4g(0.11モル)、及び、1,2−ジメトキシエタン70.0gを仕込み、1,2−ジメトキシエタン20.0gに溶解させたメタンジスルホニルクロライド10.7g(0.05モル)を、0℃に維持しながら20分間かけて滴下した。引き続き同温度に維持しながら、1,2−ジメトキシエタン20.0gに溶解させたトリエチルアミン10.6g(0.10モル)を、1時間かけて滴下し、同温度に維持しながら終夜撹拌した。
反応終了後、反応液をろ過し、ろ液にトルエン100.0g及び水50.0gを添加して分液した。得られた有機層より溶媒の一部を25℃で減圧留去し、析出した結晶をろ過し、得られた結晶を乾燥することにより、前記式(2−2)で表されるメタンジスルホン酸ビス(3−メチルスクシンイミド)11.4g(0.031モル)を取得した。メタンジスルホン酸ビス(3−メチルスクシンイミド)の収率は、メタンジスルホニルクロライドに対して62.5%であった。
なお、得られたメタンジスルホン酸ビス(3−メチルスクシンイミド)は、下記の物性を有することから同定することができた。
H−核磁気共鳴スペクトル(溶媒:CDCl)δ(ppm):5.53(s、2H)、2.90(m、2H)、2.69(d、4H)、1.24(d、6H)
(実施例3)
(メタンジスルホン酸ビス(3−ヘキシルスクシンイミド)(化合物3)の作製)
撹拌機、冷却管、温度計及び滴下ロートを備え付けた200mL容の4つ口フラスコに、3−ヘキシルスクシンイミド20.1g(0.11モル)、及び、1,2−ジメトキシエタン70.0gを仕込み、1,2−ジメトキシエタン20.0gに溶解させたメタンジスルホニルクロライド10.7g(0.05モル)を、0℃に維持しながら20分間かけて滴下した。引き続き同温度に維持しながら、1,2−ジメトキシエタン20.0gに溶解させたトリエチルアミン10.6g(0.10モル)を、1時間かけて滴下し、同温度に維持しながら終夜撹拌した。
反応終了後、反応液をろ過し、ろ液にトルエン100.0g及び水50.0gを添加して分液し、得られた有機層より溶媒を25℃で減圧留去した。引き続きトルエン40.0gを添加した後、メタノール10.0gを滴下することにより、結晶を析出させた。析出した結晶をろ過し、得られた結晶を乾燥することにより、前記式(2−3)で表されるメタンジスルホン酸ビス(3−ヘキシルスクシンイミド)3.5g(0.007モル)を取得した。メタンジスルホン酸ビス(3−ヘキシルスクシンイミド)の収率は、メタンジスルホニルクロライドに対して13.1%であった。
なお、得られたメタンジスルホン酸ビス(3−ヘキシルスクシンイミド)は、下記の物性を有することから同定することができた。
H−核磁気共鳴スペクトル(溶媒:CDCl)δ(ppm):5.53(s、2H)、2.72(m、2H)、2.69(dd、4H)、1.53(m、4H)、1.29(m、12H)、1.33(m、4H)、0.96(t、6H)
(実施例4)
(メタンジスルホン酸ビス(3−エチル−4−メチルスクシンイミド)(化合物4)の作製)
撹拌機、冷却管、温度計及び滴下ロートを備え付けた200mL容の4つ口フラスコに、3−エチル−4−メチルスクシンイミド15.5g(0.11モル)、及び、1,2−ジメトキシエタン70.0gを仕込み、1,2−ジメトキシエタン20.0gに溶解させたメタンジスルホニルクロライド10.7g(0.05モル)を、0℃に維持しながら50分間かけて滴下した。引き続き同温度に維持しながら、1,2−ジメトキシエタン20.0gに溶解させたトリエチルアミン10.6g(0.10モル)を、50分間かけて滴下し、同温度に維持しながら終夜撹拌した。
反応終了後、反応液をろ過し、ろ液にトルエン100.0g及び水50.0gを添加して分液し、得られた有機層より溶媒を25℃で減圧留去した。引き続き、メタノール35.0gを添加し、結晶を析出させた。析出した結晶をろ過し、得られた結晶を乾燥することにより、前記式(2−4)で表されるメタンジスルホン酸ビス(3−エチル−4−メチルスクシンイミド)2.7g(0.019モル)を取得した。メタンジスルホン酸ビス(3−エチル−4−メチルスクシンイミド)の収率は、メタンジスルホニルクロライドに対して38.2%であった。
なお、得られたメタンジスルホン酸ビス(3−エチル−4−メチルスクシンイミド)は、下記の物性を有することから同定することができた。
H−核磁気共鳴スペクトル(溶媒:CDCl)δ(ppm):5.53(s、2H)、2.89(m、2H)、2.71(m、2H)、1.57(m、4H)、1.24(d、6H)、1.96(t、6H)
(実施例5)
(メタンジスルホン酸ビス(3,4−ビス(2,2,2−トリフルオロエチル)スクシンイミド)(化合物5)の作製)
撹拌機、冷却管、温度計及び滴下ロートを備え付けた200mL容の4つ口フラスコに、3,4−ジ(2,2,2−トリフルオロエチル)スクシンイミド28.9g(0.11モル)、及び、1,2−ジメトキシエタン70.0gを仕込み、1,2−ジメトキシエタン20.0gに溶解させたメタンジスルホニルクロライド10.7g(0.05モル)を、0℃に維持しながら20分間かけて滴下した。引き続き同温度に維持しながら、1,2−ジメトキシエタン20.0gに溶解させたトリエチルアミン10.6g(0.10モル)を11時間かけて滴下し、同温度に維持しながら終夜撹拌した。
反応終了後、反応液をろ過し、ろ液にトルエン100.0g及び水50.0gを添加して分液した。得られた有機層より溶媒の一部を25℃で減圧留去し、析出した結晶をろ過し、得られた結晶を乾燥することにより、前記式(2−5)で表されるメタンジスルホン酸ビス(3,4−ジ(2,2,2−トリフルオロエチル)スクシンイミド)18.0g(0.027モル)を得た。メタンジスルホン酸ビス(3,4−ジ(2,2,2−トリフルオロエチル)スクシンイミド)の収率は、メタンジスルホニルクロライドに対して53.0%であった。
なお、得られたメタンジスルホン酸ビス(3,4−ジ(2,2,2−トリフルオロエチル)スクシンイミド)は、下記の物性を有することから同定することができた。
H−核磁気共鳴スペクトル(溶媒:CDCl)δ(ppm):5.53(s、2H)、2.71(m、4H)2.05(m、8H)
(実施例6)
(メタンジスルホン酸ビス(3,3−ジトリフルオロメチルスクシンイミド)(化合物6)の作製)
撹拌機、冷却管、温度計及び滴下ロートを備え付けた200mL容の4つ口フラスコに、3,3−ジトリフルオロメチルスクシンイミド25.9g(0.11モル)、及び、1,2−ジメトキシエタン70.0gを仕込み、1,2−ジメトキシエタン20.0gに溶解させたメタンジスルホニルクロライド10.7g(0.05モル)を、0℃に維持しながら20分間かけて滴下した。引き続き、同温度に維持しながら、1,2−ジメトキシエタン20.0gに溶解させたトリエチルアミン10.6g(0.10モル)を、1時間かけて滴下し、同温度に維持しながら終夜撹拌した。
反応終了後、反応液をろ過し、ろ液にトルエン100.0g及び水50.0gを添加して分液した。得られた有機層より溶媒の一部を25℃で減圧留去し、析出した結晶をろ過し、得られた結晶を乾燥することにより、前記式(2−6)で表されるメタンジスルホン酸ビス(3,3−ジトリフルオロメチルスクシンイミド)7.9g(0.013モル)を取得した。メタンジスルホン酸ビス(3,3−ジトリフルオロメチルスクシンイミド)の収率は、メタンジスルホニルクロライドに対して25.4%であった。
なお、得られたメタンジスルホン酸ビス(3,3−ジトリフルオロメチルスクシンイミド)は、下記の物性を有することから同定することができた。
H−核磁気共鳴スペクトル(溶媒:CDCl)δ(ppm):5.53(s、2H)、2.65(d、4H)
(実施例7)
(メタンジスルホン酸ビス(3−フルオロスクシンイミド)(化合物7)の作製)
撹拌機、冷却管、温度計及び滴下ロートを備え付けた200mL容の4つ口フラスコに、N−(3−フルオロスクシンイミド)12.9g(0.11モル)、及び、1,2−ジメトキシエタン70.0gを仕込み、1,2−ジメトキシエタン20.0gに溶解させたメタンジスルホニルクロライド10.7g(0.05モル)を、0℃に維持しながら20分間かけて滴下した。引き続き同温度に維持しながら、1,2−ジメトキシエタン20.0gに溶解させたトリエチルアミン10.6g(0.10モル)を、1時間かけて滴下し、同温度に維持しながら終夜撹拌した。
反応終了後、反応液をろ過し、ろ液にトルエン150.0g、水80.0g及び1,2−ジメトキシエタン70.0gを添加して分液した。得られた有機層より溶媒の一部を25℃で減圧留去し、析出した結晶をろ過し、得られた結晶を乾燥することにより、前記式(2−7)で表されるメタンジスルホン酸ビス(3−フルオロスクシンイミド)5.2g(0.014モル)を取得した。メタンジスルホン酸ビス(3−フルオロスクシンイミド)の収率は、メタンジスルホニルクロライドに対して28.7%であった。
なお、得られたメタンジスルホン酸ビス(3−フルオロスクシンイミド)は、下記の物性を有することから同定することができた。
H−核磁気共鳴スペクトル(溶媒:CDCl)δ(ppm):5.53(s、2H)、4.56(m、2H)、2.89(d、4H)
(実施例8)
(メタンジスルホン酸ビス(フタルイミド)(化合物8)の作製)
撹拌機、冷却管、温度計及び滴下ロートを備え付けた200mL容の4つ口フラスコに、フタルイミド16.2g(0.11モル)、及び、1,2−ジメトキシエタン70.0gを仕込み、1,2−ジメトキシエタン20.0gに溶解させたメタンジスルホニルクロライド10.7g(0.05モル)を、0℃に維持しながら20分間かけて滴下した。引き続き同温度に維持しながら、1,2−ジメトキシエタン20.0gに溶解させたトリエチルアミン10.6g(0.10モル)を、1時間かけて滴下し、同温度に維持しながら終夜撹拌した。
反応終了後、反応液をろ過し、ろ液にトルエン150.0g、水80.0g及び1,2−ジメトキシエタン70.0gを添加して分液した。得られた有機層より溶媒の一部を25℃で減圧留去し、析出した結晶をろ過し、得られた結晶を乾燥することにより、前記式(2−8)で表されるメタンジスルホン酸ビス(フタルイミド)6.1g(0.014モル)を取得した。メタンジスルホン酸ビス(フタルイミド)の収率は、メタンジスルホニルクロライドに対して28.7%であった。
なお、得られたメタンジスルホン酸ビス(フタルイミド)は、下記の物性を有することから同定することができた。
H−核磁気共鳴スペクトル(溶媒:CDCl)δ(ppm):8.20−8.11(m、4H)、7.71−7.66(m、4H)、5.53(s、2H)
(実施例9)
(メタンジスルホン酸ビス(5−メチルフタルイミド)(化合物9)の作製)
撹拌機、冷却管、温度計及び滴下ロートを備え付けた200mL容の4つ口フラスコに、5−メチルフタルイミド17.7g(0.11モル)、及び、1,2−ジメトキシエタン70.0gを仕込み、1,2−ジメトキシエタン20.0gに溶解させたメタンジスルホニルクロライド10.7g(0.05モル)を、0℃に維持しながら20分間かけて滴下した。引き続き同温度に維持しながら、1,2−ジメトキシエタン20.0gに溶解させたトリエチルアミン10.6g(0.10モル)を11時間かけて滴下し、同温度に維持しながら終夜撹拌した。
反応終了後、反応液をろ過し、ろ液にトルエン100.0g及び水50.0gを添加して分液した。得られた有機層より溶媒の一部を25℃で減圧留去し、析出した結晶をろ過し、得られた結晶を乾燥することにより、前記式(2−9)で表されるメタンジスルホン酸ビス(5−メチルフタルイミド)12.5g(0.027モル)を得た。メタンジスルホン酸ビス(5−メチルフタルイミド)の収率は、メタンジスルホニルクロライドに対して53.0%であった。
なお、得られたメタンジスルホン酸ビス(5−メチルフタルイミド)は、下記の物性を有することから同定することができた。
H−核磁気共鳴スペクトル(溶媒:CDCl)δ(ppm):8.04−8.01(m、2H)、7.99−7.91(m、2H)7.51−7.48(m、2H)、5.53(s、2H)、2.35(s、6H)
(実施例10)
(メタンジスルホン酸ビス(4−フルオロフタルイミド)(化合物10)の作製)
撹拌機、冷却管、温度計及び滴下ロートを備え付けた200mL容の4つ口フラスコに、4−フルオロフタルイミド18.2g(0.11モル)、及び、1,2−ジメトキシエタン70.0gを仕込み、1,2−ジメトキシエタン20.0gに溶解させたメタンジスルホニルクロライド10.7g(0.05モル)を、0℃に維持しながら20分間かけて滴下した。引き続き同温度に維持しながら、1,2−ジメトキシエタン20.0gに溶解させたトリエチルアミン10.6g(0.10モル)を11時間かけて滴下し、同温度に維持しながら終夜撹拌した。
反応終了後、反応液をろ過した後、ろ液にトルエン100.0g及び水50.0gを添加して分液した。得られた有機層より溶媒の一部を25℃で減圧留去し、析出した結晶をろ過し、得られた結晶を乾燥することにより、前記式(2−10)で表されるメタンジスルホン酸ビス(4−フルオロフタルイミド)12.7g(0.027モル)を得た。メタンジスルホン酸ビス(4−フルオロフタルイミド)の収率は、メタンジスルホニルクロライドに対して53.0%であった。
なお、得られたメタンジスルホン酸ビス(5−メチルフタルイミド)は、下記の物性を有することから同定することができた。
H−核磁気共鳴スペクトル(溶媒:CDCl)δ(ppm):7.99−7.92(m、2H)、7.70−7.62(m、2H)7.42−7.38(m、2H)、5.53(s、2H)、2.35(s、6H)
(比較例1)
化合物1を用いなかったこと以外は、実施例1と同様にして非水電解液を調製した。
(比較例2)
化合物1に代えて、1,3−プロパンスルトンを含有割合が1.0質量%となるように添加したこと以外は、実施例2と同様にして非水電解液を調製した。
(比較例3)
化合物1に代えて、ビニレンカーボネート(VC)を含有割合が1.0質量%となるように添加したこと以外は、実施例2と同様にして非水電解液を調製した。
(比較例4)
ビニレンカーボネート(VC)の含有割合を2.0質量%となるようにしたこと以外は、比較例3と同様にして非水電解液を調製した。
(比較例5)
化合物1に代えて、フルオロエチレンカーボネート(FEC)を含有割合が1.0質量%となるように添加したこと以外は、実施例2と同様にして非水電解液を調製した。
(比較例6)
フルオロエチレンカーボネート(FEC)の含有割合を2.0質量%となるようにしたこと以外は、比較例5と同様にして非水電解液を調製した。
<評価>
(LUMOエネルギーの測定)
実施例で得られた化合物1〜10について、LUMO(最低空分子軌道)エネルギーを測定するため、Gaussian03ソフトウェアにより、半経験的分子軌道計算を行った。軌道計算により得られた化合物1〜10のLUMOエネルギーを表1に示した。
Figure 2014194872
表1より、本発明にかかるジスルホン酸スクシンイミド化合物(化合物1〜10)のLUMOエネルギーは負の値を示す約−0.32eVから約−0.62eVであり、これらのジスルホン酸アミド化合物は、低いLUMOエネルギーを有していることがわかる。そのため、化合物1〜10を非水電解液用添加剤として非水電解液二次電池に用いた場合、非水電解液の溶媒(例えば、環状カーボネートや鎖状カーボネート:LUMOエネルギー約1.2eV)よりも先に化合物1〜10の電気化学的還元が起こり、電極上にSEIが形成されるため電解液中の溶媒分子の分解を抑制することができる。その結果、高い抵抗を示す溶媒の分解被膜が電極上に形成されにくくなり電池特性の向上が期待される。
以上より、本発明にかかるジスルホン酸スクシンイミド化合物は充分に低いLUMOエネルギーを有しており、リチウムイオン電池等の非水電解液二次電池の電極上に安定なSEIを形成する新規の非水電解液用添加剤として有効であることを示している。
(電池の作製)
正極活物質としてLiMn、及び、導電性付与剤としてカーボンブラックを乾式混合し、バインダーとしてポリフッ化ビニリデン(PVDF)を溶解させたN−メチル−2−ピロリドン(NMP)中に均一に分散させ、スラリーを作製した。得られたそのスラリーを正極集電体となるアルミ金属箔(角型、厚さ20μm)上に塗布後、NMPを蒸発させることにより正極シートを作製した。得られた正極シート中の固形分比率は、質量比で、正極活物質:導電性付与剤:PVDF=80:10:10とした。
一方、負極シートとして、市販の黒鉛塗布電極シート(宝泉社製)を用いた。
上記「LSVの測定」と同様にして得られた非水電解液中にて、負極シートと正極シートとを、ポリエチレンからなるセパレータを介して積層し、円筒型二次電池を作製した。
(放電容量維持率及び内部抵抗比の測定)
得られた各円筒型二次電池に対して、25℃において、充電レートを0.3C、放電レートを0.3C、充電終止電圧を4.2V、及び、放電終止電圧を2.5Vとして充放電サイクル試験を行った。200サイクル後の放電容量維持率(%)及び内部抵抗比を表2に示した。なお、200サイクル後の「放電容量維持率(%)」とは、200サイクル試験後の放電容量(mAh)を、10サイクル試験後の放電容量(mAh)で割った値に100をかけたものである。また、200サイクル後の「内部抵抗比」とは、サイクル試験前の抵抗を1としたときの、200サイクル試験後の抵抗を相対値で示したものである。
Figure 2014194872
表2から、実施例のジスルホン酸スクシンイミド化合物を含む非水電解液を用いた円筒型二次電池は、比較例の非水電解液を用いた円筒型二次電池と比較して、電極表面上に充放電サイクルに対して安定なSEIを形成していることがわかる。また、実施例のジスルホン酸スクシンイミド化合物を用いた非水電解液は、比較例の非水電解液に比べて、内部抵抗比が低い値を維持しており、サイクル時による内部抵抗の増加を抑制できることが分かる。
本発明によれば、蓄電デバイスに用いた場合に、電極表面上に安定な固体電解質界面を形成して電池の寿命や容量等の電池特性を改善することができる非水電解液用添加剤を提供することができる。また、本発明によれば、該非水電解液用添加剤を用いた非水電解液、及び、該非水電解液を用いた蓄電デバイスを提供することができる。
1 蓄電デバイス
2 正極集電体
3 正極活物質層
4 正極板
5 負極集電体
6 負極活物質層
7 負極板
8 非水電解液
9 セパレータ

Claims (11)

  1. 下記式(1)で表されるジスルホン酸スクシンイミド化合物からなることを特徴とする非水電解液用添加剤。
    Figure 2014194872
    式(1)中、R、R、R、及び、Rは、水素、ハロゲン、置換されていてもよい炭素数1〜6のアルキル基、又は、R及びRのいずれかとR及びRのいずれかとが連結してなる置換されていてもよいo−フェニレン基を示す。
  2. 下記式(2−1)で表される化合物、下記式(2−2)で表される化合物、下記式(2−3)で表される化合物、下記式(2−4)で表される化合物、下記式(2−5)で表される化合物、下記式(2−6)で表される化合物、下記式(2−7)で表される化合物、下記式(2−8)で表される化合物、下記式(2−9)で表される化合物、及び、下記式(2−10)で表される化合物からなる群より選択される少なくとも1種のジスルホン酸スクシンイミド化合物からなることを特徴とする請求項1記載の非水電解液用添加剤。
    Figure 2014194872
  3. ジスルホン酸スクシンイミド化合物は、最低空分子軌道エネルギーが−2.8〜0.0eVであることを特徴とする請求項1又は2記載の非水電解液用添加剤。
  4. 請求項1、2又は3記載の非水電解液用添加剤、非水溶媒、及び、電解質を含有することを特徴とする非水電解液。
  5. 非水溶媒は、非プロトン性溶媒であることを特徴とする請求項4記載の非水電解液。
  6. 非プロトン性溶媒は、環状カーボネート、鎖状カーボネート、脂肪族カルボン酸エステル、ラクトン、ラクタム、環状エーテル、鎖状エーテル、及び、これらのハロゲン誘導体からなる群より選択される少なくとも1種であることを特徴とする請求項5記載の非水電解液。
  7. 電解質は、リチウム塩を含有することを特徴とする請求項4、5又は6記載の非水電解液。
  8. リチウム塩は、LiAlCl、LiBF、LiPF、LiClO、LiAsF、及び、LiSbFからなる群より選択される少なくとも1種であることを特徴とする請求項7記載の非水電解液。
  9. 請求項4、5、6、7又は8記載の非水電解液、正極、及び、負極を備えたことを特徴とする蓄電デバイス。
  10. 蓄電デバイスがリチウムイオン電池であることを特徴とする請求項9記載の蓄電デバイス。
  11. 蓄電デバイスがリチウムイオンキャパシタであることを特徴とする請求項9記載の蓄電デバイス。
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