JP2014177511A - 蛍光体、およびその製造方法、ならびにその蛍光体を用いた発光装置 - Google Patents

蛍光体、およびその製造方法、ならびにその蛍光体を用いた発光装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2014177511A
JP2014177511A JP2013050584A JP2013050584A JP2014177511A JP 2014177511 A JP2014177511 A JP 2014177511A JP 2013050584 A JP2013050584 A JP 2013050584A JP 2013050584 A JP2013050584 A JP 2013050584A JP 2014177511 A JP2014177511 A JP 2014177511A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
phosphor
light emitting
emitting device
light
reaction solution
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2013050584A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroki Taira
松 亮 介 平
Keiko Albessard
恵 子 アルベサール
Naohisa Matsuda
田 直 寿 松
Masahiro Kato
藤 雅 礼 加
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Toshiba Materials Co Ltd
Original Assignee
Toshiba Corp
Toshiba Materials Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp, Toshiba Materials Co Ltd filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP2013050584A priority Critical patent/JP2014177511A/ja
Priority to TW103105649A priority patent/TWI648371B/zh
Priority to PCT/JP2014/054076 priority patent/WO2014141851A1/ja
Publication of JP2014177511A publication Critical patent/JP2014177511A/ja
Priority to US14/849,103 priority patent/US10020427B2/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/50Wavelength conversion elements
    • H01L33/501Wavelength conversion elements characterised by the materials, e.g. binder
    • H01L33/502Wavelength conversion materials
    • H01L33/504Elements with two or more wavelength conversion materials
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K11/00Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
    • C09K11/08Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials
    • C09K11/61Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials containing fluorine, chlorine, bromine, iodine or unspecified halogen elements
    • C09K11/617Silicates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L24/10, H01L24/18, H01L24/26, H01L24/34, H01L24/42, H01L24/50, H01L24/63, H01L24/71
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/50Wavelength conversion elements
    • H01L33/501Wavelength conversion elements characterised by the materials, e.g. binder
    • H01L33/502Wavelength conversion materials
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16135Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/16145Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32245Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32245Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/32257Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic the layer connector connecting to a bonding area disposed in a recess of the surface of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/484Connecting portions
    • H01L2224/48463Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond
    • H01L2224/48465Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond the other connecting portion not on the bonding area being a wedge bond, i.e. ball-to-wedge, regular stitch
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/49105Connecting at different heights
    • H01L2224/49107Connecting at different heights on the semiconductor or solid-state body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation

Abstract

【課題】青色領域に発光ピークを有する光で励起されて発光する、発光効率の高い赤色発光蛍光体およびその蛍光体の製造方法の提供。
【解決手段】下記一般式(A):
(Si1−x―y,Ti,Mn)F (A)
で表わされる組成を有する化合物であり、粉末X線回折分析により得られた(400)面に帰属される回折線の半値幅が0.2°以下であることを特徴とする蛍光体。この蛍光体は、反応溶液として過マンガン酸カリウムおよびフッ化水素を含有する水溶液を準備し、前記反応溶液中にSi源を浸漬し、20分以上80分以下反応させることにより製造することができる。
【選択図】図1

Description

本発明は、蛍光体、およびその製造方法、ならびにその蛍光体を用いた発光装置に関するものである。
発光ダイオード(Light−emitting Diode:LED)発光装置は、主に励起光源としてのLEDチップと蛍光体との組み合わせから構成され、その組み合わせによって様々な色の発光色を実現することができる。
白色光を放出する白色LED発光装置には、青色領域の光を放出するLEDチップと蛍光体との組み合わせが用いられている。例えば、青色光を放つLEDチップと、蛍光体混合物との組み合わせが挙げられる。蛍光体としては主に青色の補色である黄色発光蛍光体が使用され、擬似白色光LED発光装置として使用されている。その他にも青色光を放つLEDチップと、緑色ないし黄色発光蛍光体、および赤色発光蛍光体が用いられている3波長型白色LEDが開発されている。
赤色発光蛍光体の一つとしてKSiF:Mn蛍光体が知られている。白色LED発光装置に用いられる蛍光体には、励起光源であるLEDチップから放射される光をよく吸収し、かつ高い効率で可視光を発光することが求められている。白色LED発光装置を照明用途に使用する場合には、物体の見え方を示す演色性などから2種類以上の蛍光体を有するものが望ましい。
本発明は、青色領域に発光ピークを有する光で励起されて発光する、発光効率の高い赤色発光蛍光体、およびかかる蛍光体の製造方法、ならびにかかる蛍光体を用いた発光装置を提供することを目的とするものである。
実施形態による蛍光体は、下記一般式(A):
(Si1−x―y,Ti,Mn)F (A)
(式中、
1.8≦a≦2.2、
5.2≦b≦6.3、
0≦x≦0.3、かつ
0<y≦0.05
である。)
で表わされる組成を有する化合物であり、粉末X線回折分析により得られた(400)面に帰属される回折線の半値幅が0.2°以下であることを特徴とするものである。
また、実施形態による蛍光体の製造方法は、前記蛍光体の製造方法であって、過マンガン酸カリウムおよびフッ化水素酸を含有する水溶液中にSi源を浸漬し、20分以上80分以下反応させる工程を有する、ことを特徴とするものである。
また、実施形態による発光装置は、440nm以上470nm以下の波長領域の光を発光する発光素子と、前記の蛍光体を含む蛍光体層とを具備することを特徴とするものである。
実施形態にかかる蛍光体のXRD測定により得られた回折パターン及びPDF#01−075−0694の回折パターン。 実施形態による蛍光体のXRD測定により得られた(400)に帰属される回折線の半値幅と外部量子効率の関係。 他の実施形態にかかる蛍光体の励起スペクトル。 実施形態にかかる発光装置の断面図。 他の実施形態にかかる発光装置の断面図。 発光素子の拡大図。 他の実施形態にかかる発光装置の断面図。
以下、本発明の実施形態を説明する。以下に示す実施の形態は、本発明の技術思想を具体化するための蛍光体および発光装置を示すものであり、本発明は以下の例示に限定されるものではない。
また、本明細書は特許請求の範囲に示される部材を、記載した実施形態に特定するものではない。特に実施形態に記載されている構成部品の大きさ、材質、形状、その配置等は本発明の範囲を限定する趣旨ではなく、説明例に過ぎない。なお、各図面が示す部材の大きさや位置関係等においても説明を明確にするため誇張していることがある。さらに、同一の名称、符号については同一、もしくは同質の部材を示しており、詳細な説明を省略する。本発明を構成する各要素は、複数の要素を同一の部材で構成して、同一の部材で複数の要素を兼用してもよく、逆に同一の部材の機能を複数の部材で分担して実現することも可能である。
本発明者らは、主としてケイフッ化カリウムからなり、マンガンで付活された蛍光体について鋭意検討および研究を重ねた結果、蛍光体の外部量子効率と蛍光体の粉末X線回折分析(X−ray diffractometry:以下、XRDということがある)測定により得られる回折線の半値幅に相関があることを見出した。
実施形態にかかる赤色発光蛍光体は、主としてケイフッ化カリウムからなり、マンガンで付活された蛍光体である。この蛍光体は、下記一般式(A)で表わされる。
(Si1−x−y,Ti,Mn)F (A)
式中、
1.8≦a≦2.2、好ましくは1.9≦a≦2.1、
5.2≦b≦6.2、好ましくは5.7≦b≦6.1、
0≦x≦0.3、好ましくは0≦x≦0.2、
かつ0<y≦0.06、好ましくは0.01≦y≦0.05、
である。
さらに、この蛍光体のXRD測定により得られる(400)面に帰属される回折線の半値幅は0.20°以下、好ましくは0.15°以下であることを特徴とする。
aおよびbの値が上記範囲内にあることで、蛍光体は優れた発光効率を発揮することができる。
実施形態にかかる蛍光体は、賦活剤としてマンガンを含有する。マンガンが含有されないと(y=0)、紫外から青色領域に発光ピークを有する光で励起しても発光を確認することはできない。したがって、前記式(A)におけるyは0より大きいことが必要である。また、マンガンの含有量が多くなると発光効率が改良される傾向にあり、yは0.01以上であることが好ましい。また、赤色発光の蛍光体を得るためにはマンガンの価数は+4価であることが好ましい。
しかし、マンガンの含有量が多すぎる場合には、濃度消光現象が生じて、蛍光体の発光強度が弱くなる傾向にある。こうした不都合を避けるために、マンガンの含有量(y)は0.06以下であることが必要であり、0.05以下であることが好ましい。
また、実施形態による蛍光体は、主としてケイフッ化カリウムからなるものであるが、そのケイ素の一部がチタンによって置き換わっていてもよい。しかしながら、チタンの含有量が大きくなると、すなわちxの値が大きすぎると蛍光体はKSiFで示される結晶構造を保持できなくなり、発光特性が異なるものとなってしまう。したがって、実施形態による蛍光体が、KSiFと同等の発光波長を維持するためには、xは0.3以下であることが必要であり、0≦x≦0.2であることが好ましい。なお、蛍光体がKSiFと同等の結晶構造を有するか否かは、粉末X線回折測定を行い、そのプロファイルが粉末X線回折強度データベース(PDF:Powder Diffraction File)のPDF#01−075−0694に一致するか否かで判断することができる。
蛍光体全体に対する各元素の含有量を分析するには、例えば以下のような方法が挙げられる。K、Si、Ti、Mnなどの金属元素は、合成された蛍光体をアルカリ融解し、例えばIRIS Advantage型ICP発光分光分析装置(商品名、サーモフィッシャーサイエンティフィック社製)によりICP発光分光法にて分析することができる。また、非金属元素Fは合成された蛍光体を熱加水分解により分離し、例えばDX−120型イオンクロマトグラフ分析装置(商品名、日本ダイオネクス株式会社製)により分析することができる。また、Fの分析は上述した金属元素と同様にアルカリ融解した後に、イオンクロマトグラフ法にて分析を行うことも可能である。
なお、実施形態による蛍光体は、化学量論的には酸素を含まないものである。しかしながら、蛍光体の合成プロセス中、または合成後の蛍光体表面の分解等により、酸素が不可避的に蛍光体中に混入してしまうことがある。蛍光体中の酸素の含有量はゼロであることが望ましいが、蛍光体の酸素含有量とフッ素含有量とか、[酸素含有量]/[(フッ素含有量)+(酸素含有量)]<0.05の関係を満たすものであれば、発光効率が大きく損なわれることがないので好ましい。
さらに、実施形態による蛍光体は、Na、Rb、Csなどのアルカリ金属元素や、Ge、Snなその他の元素を少量含有してもよい。これら元素が少量含有される場合であっても蛍光体は類似の発光スペクトルを示し、所望の効果を達成することができる。ただし、蛍光体の安定性、蛍光体合成時の反応性などの観点から、これらの元素の含有量は少ないことが好ましい。また、これらの元素を含む蛍光体を合成しようとすると、合成手順を変更する必要がある場合もあり、製造コストを抑制するために、式(A)に含まれる金属元素以外の金属元素を用いないことが好ましい。
実験を重ねた結果、特定の組成を有する、マンガンで賦活されたケイフッ化カリウムからなる蛍光体において、そのXRD測定により得られる回折線の半値幅が特定の領域で狭いほど外部量子効率が向上することが見出された。
ここでXRD測定は、例えばM18XHF22−SRA型微小領域X線回折装置(商品名、ブルーカー・エイエックスエス株式会社より市販)等によって行うことができる。合成した蛍光体サンプルを、XRD測定すること寄って、蛍光体サンプルの回折パターンを得ることができる。XRD測定はNIST(National Institute of Standards and Technology)のSi標準粉末(SRM 640c)を測定した際に(2,2,0)面の回折線の半値幅が0.13°以下となる条件で行う。例えば、40KV、100mA、0.002°ステップ、0.01°/min.の条件で測定を行う。
実施形態による蛍光体をXRD測定し、得られた回折パターンを粉末X線回折強度データベースにて同定すると、PDF#01−075−0694に一致し、実施形態による蛍光体がKSiFに同定される。実施形態による蛍光体のXRD回折パターンと、PDF#01−075−0694の回折パターンとを対比すると、図1に示す通りである。図1の回折パターンは2θ=10°〜60°の範囲で測定したものである。
上述のPDFによると2θ=18.88°、31.07°、38.30°、44.52°付近にそれぞれ(111)、(220)、(222)、(400)の面方位に帰属される強い強度の回折線が確認される。上記数値は上述したように少量の他元素を添加したり、合成条件を変化したりすることによってもシフトすることがある。
本発明者等は上記面方位に帰属される回折線の半値幅が狭いほど、外部量子効率が高くなる傾向を見出した。すなわち、NISTのSi標準粉末(SRM 640c)で回折角(2θ)の角度補正を行って測定をした場合に、2θ=44〜45°の範囲、好ましくは44.42〜44.62°、特に2θ=44.52°付近に認められる、(400)に帰属される回折線と外部量子効率には強い相関関係があることが見出された。PDF#01−075−0694において、この回折線に対応する回折線のピーク位置は2θ=44.519に確認される。
ここで外部量子効率とは以下で規定する吸収率αと内部量子効率η´を乗じて算出した値である。
Figure 2014177511
式中
E(λ):蛍光体へ照射した励起光源の全スペクトル(フォトン数換算)
R(λ):蛍光体の励起光源反射光スペクトル(フォトン数換算)
P(λ):蛍光体の発光スペクトル(フォトン数換算)
である
つまり外部量子効率(η)は(I)×(II)によって算出可能である。
外部量子効率、内部量子効率、吸収率は例えばC9920−02G型絶対PL量子収率測定装置(商品名、浜松ホトニクス株式会社製)により測定することができる。上記発光特性を測定する際の励起光としてはピーク波長が440〜460nm付近、半値幅5〜15nmの青色光を使用することができる。
(400)に帰属される回折線の半値幅と外部量子効率の関係は図2に示す通りであった。この図から、上記回折線の半値幅が狭くなるに従って、外部量子効率が向上していることが確認できる。回折線の半値幅は0.20°以下、好ましくは0.15°以下の範囲で良好な外部量子効率を有していることを見出した。半値幅下限は、この図からは明らかではないが、装置の測定下限値よりも狭い範囲でも外部量子効率はすぐれているものと考えられる。ここで、XRD測定による半値幅の求め方は、例えば上述のような装置または条件で測定を行い、得られた回折パターンにおいて(400)に帰属される回折線のピーク強度が1/2となる回折角のうち、最大の回折角と最小の回折角との差で定義される。
このようなXRD回折線の半値幅と外部量子効率との関係は、(222)面に帰属される回折線においても観測される。すなわち、このような回折線は、NISTのSi標準粉末(SRM 640c)で回折角(2θ)の角度補正を行って測定をした場合に、2θ=37.7〜38.7°の範囲、特に2θ=38.3°付近に認められる。PDF#01−075−0694において、この回折線に対応する回折線のピーク位置は2θ=38.301に確認される。したがって、得られた回折パターンにおいて(400)または(222)に帰属される回折線の半値幅が、0.20°以下であることが好ましく、0.15°以下であることがより好ましい。
実施形態にかかる蛍光体は、例えば、以下の方法により製造することができる。
まず、反応溶液として、過マンガン酸カリウム(KMnO)とフッ化水素(HF)を含有する水溶液を準備する。この反応溶液に、反応系にSiを供給し得るSi源を投入する。ここで、Si源としては、ケイ素を含む各種の材料を用いることができる。具体的には、単結晶シリコン、多結晶シリコン、非晶質シリコン、結晶性二酸化ケイ素および非晶質二酸化ケイ素などが挙げられる。
反応溶液にSi源を投入した後、一定時間反応させることにより、Si源の表面に所望の蛍光体が形成される。なお、Si源の形状は特に限定されないが、後述するようにSi源の表面に形成された蛍光体をSi源から剥離させる必要があるので、微粉末状ではないことが好ましい。すなわちSi源から蛍光体を単離させるためには、Si源の容積が形成される蛍光体の容積に対して相対的に大きいことが好ましい。例えば、形成される蛍光体結晶の容積に対して、20000倍以上の容積を有する粒子、板状材料、棒状材料の形状であるSi源を用いることができる。容積が大きく異なるSi源を用いれば、その表面に形成された蛍光体結晶を物理的に擦り取ったり、超音波振動などによって蛍光体結晶をSi源から剥離させたあと、篩によって分別したりすることが可能となる。具体的には、シリコンウェハーのようなシリコン基板、粒状のアモルファスシリコン、シリコン基板の表面に形成させた二酸化ケイ素膜などが挙げられる。
また、上記反応溶液はKMnOとHFの配合モル比が1/200〜1/40の範囲であることが好ましい。更に反応溶液中のKMnO濃度が1質量%以上であることが好ましい。上記範囲を超えると、合成された蛍光体の外部量子効率が低下する問題や、反応性が低下して十分な量の蛍光体が合成できないために高コストになるといった問題が生じることがある。反応温度は特に限定されないが、温度が高いほうが反応効率がよくなる傾向にあるので、高い温度で反応を行うことが好ましいが、製造コストの観点からは過度の昇温は好ましくない。具体的には、80℃までの範囲で反応を行うことが好ましい。
上記合成方法により、高発光効率の実施態様による蛍光体を合成することができる。
実施形態による蛍光体は、(400)に帰属される回折線の半値幅が0.20°以下の範囲であるという特徴と有しており、このために高い外部量子効率が達成されるものである。この理由は以下のようなものであると推定される。
実施形態による蛍光体の粒形は、主に立方体に近似した形状をしている。これはKSiFの結晶構造が立方晶系の空間群Fm−3mに帰属されるためだと考えられる。つまりKSiFは各結晶軸の長さが等しく、各結晶軸の間の3つの角が90°であるため、立方体に近似した粒子形状を有している。
このような結晶構造を有する蛍光体において、XRD測定により得られた回折線の半値幅が狭いことは、その面方向の面間隔が均一でかつ規則正しく並んだ構造を構成していることを示している。
つまり実施形態の蛍光体におけるKSiF結晶構造中の(400)は各辺方向の原子が規則正しく、均一な構造を有しており、そのために優れた外部量子効率を示すものと推定される。
また、実施形態による蛍光体の製造方法においては、反応時間が限定されている。すなわち、一定の反応時間で製造された蛍光体が優れた特性を示す。このような蛍光体の特性と反応時間との関連性は以下のように考察される。
実施形態による製造方法において、蛍光体はSi源の表面に形成される。形成された蛍光体結晶は反応の進行とともに成長し、結晶がある程度大きくなると自然に溶液中に剥がれ落ち、容器底部に堆積する。すなわち、形成される蛍光体は、Si源表面に付着したものと溶液中に堆積したものの2種類が存在する。溶液中に堆積した蛍光体は、反応混合物から反応溶液を除去し、洗浄、乾燥することにより、単離される。一方、Si源表面に付着したまま残存している蛍光体は、Si源表面から物理的に剥離した後に、洗浄、乾燥することにより単離される。しかしながら、本発明者らの検討によれば、このような方法で製造される蛍光体は物理的な衝撃に比較的弱いものである。具体的にはSi源表面に付着した蛍光体のかき取りを行ったり、大粒径化した蛍光体を粉砕して小粒径化するなどの物理的衝撃を加えると発光特性が著しく低下する現象が確認された。大粒子蛍光体を粉砕した際の発光特性および量子効率とXRD測定で得られた回折線の半値幅との関係を示すと下記表1に示す通りであった。表中、吸収率、内部量子効率および外部量子効率は、粉砕前の蛍光体の測定値を100%とした場合の相対値で表している。
Figure 2014177511
実施形態による製造方法において、反応時間が短すぎる条件では、形成された蛍光体粒子は十分に成長できないため、Si源表面に付着した状態で残存するものが多い。このため、回収のためにかき取りが必要となり、物理的な応力により発光効率が低下してしまうと考えられる。また、反応時間が短すぎると回収される蛍光体の収量が低下する問題も生じる。このため、実施形態による製造方法においては、反応時間は20分以上であることが好ましい。
一方、反応時間が長くなると収量は増加し、反応溶液の底に堆積した蛍光体量も増加する傾向があるが、同時に粒子成長が進み平均粒径が大きくなる傾向にある。このため、過度に大きな粒径を有する蛍光体は、粉砕などに付され、その際に加えられる物理的な応力により発光効率が低下してしまうと考えられる。このため、実施形態による製造方法においては、反応時間が80分以下であることが必要であり、70分以下であることが好ましい。また、反応温度については後述する実施例では反応温度が20℃の場合を例示したが、10〜70℃の温度範囲で合成可能である。上記反応時間に関しては反応温度やSi源の形状によって最適な時間は変化するが、反応温度が高く、Si源の表面積が大きくなるほど、最適な反応時間は短くなる傾向を有する。
なお、実施形態による蛍光体の結晶粒子の大きさは特に限定されないが、その蛍光体を発光装置に塗付して使用する際には、平均粒径が1〜50μmであることが好ましく、5〜40μmであることがより好ましく、5〜30μmであることが特に好ましい。ここで、平均粒径は、例えば、日機装株式会社製マイクロトラックMT3300EXIIなどの粒度分析計により測定することができる。粒径が過度に小さいと蛍光体の発光特性が低下する可能性がある。また、粒径が過度に大きいと蛍光体を発光装置に塗布する際の、塗付装置のノズルが目詰まりを起こしたり、塗付した発光装置の色ムラが生じたりする原因となることがあるので注意が必要である。蛍光体粒子の平均粒径を好ましい範囲に調整するためには、乳鉢等で粉砕する必要があるが、前記した通り、物理的衝撃により発光特性が低下することがあるので好ましくない。
なお、実施形態による蛍光体の製造方法においては、反応溶液中で蛍光体の結晶が成長するが、実施形態による蛍光体は水への溶解度がゼロでないために、反応溶液中で結晶中の元素と反応溶液中の元素が一部交換して、より良好な結晶構造が形成されるものと考えられる。
反応溶液中に堆積した蛍光体粒子は純水などを使用して洗浄することができる。KMnOを含有した反応溶液は濃紫色をしているために十分洗浄して除去する必要がある。
このようにして製造された蛍光体粒子の表面に、例えば防湿やデバイス作製時の塗付性向上のため、コーティング処理により表層を形成させることもできる。この表層を構成する材料としては、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、フッ素樹脂、テトラエトキシシラン(TEOS)、シリカ、ケイ酸亜鉛、ケイ酸アルミニウム、カルシウムポリフォスフェート、シリコーンオイル、およびシリコーングリースから選択される少なくとも一種からなるものを挙げることができる。ケイ酸亜鉛およびケイ酸アルミニウムは、例えばZnO・cSiO(1≦c≦4)、及びAl・dSiO(1≦d≦10)でそれぞれ表わされる。表層は蛍光体粒子表面が完全に覆われている必要はなく、粒子表面の一部が露出していてもよい。蛍光体粒子の表面の一部に、上述したような材質からなる表層が存在していれば、表面全体が完全に被覆されていなくてもその効果が得られる。表層は、その分散液または溶液の中に蛍光体粒子を所定時間浸漬した後、加熱等により乾燥させることによって配置される。蛍光体としての本来の機能を損なうことなく、表層の効果を得るために、表層は、蛍光体粒子の0.1〜5%の体積割合で存在することが好ましい。
また、実施形態による蛍光体は使用する発光装置への塗布方法に応じて分級することもできる。分級によって粒径を調製する場合には、結晶粒子に対する物理的応力が少ないため、発光特性低下が少ない。青色領域に発光ピークを有する励起光を使用した通常の白色LEDなどでは、一般的に平均粒径が1〜50μmに分級された蛍光体粒子を用いることが好ましい。分級後の蛍光体の粒径が過度に小さいと、発光強度が低下してしまうことがある。また、粒径が過度に大きいとLEDに塗布する際、蛍光体層塗布装置に蛍光体が目詰まりし作業効率や歩留りの低下、出来上がった発光装置の色ムラの原因となることがある。
本発明の実施形態にかかる蛍光体は、青色の波長領域に発光ピークを有する発光素子と組み合わせて、実施形態にかかるLED発光装置を得ることができる。実施形態にかかるLED発光装置は、従来のKSiF:Mn赤色蛍光体を用いたLED発光装置より、発光強度が高い。
実施形態に係る蛍光体は紫外から青色領域に発光ピークを有する励起光源にて励起可能である。この蛍光体を発光装置に用いる場合には、図3に示された実施形態による蛍光体の励起スペクトルからわかるように、440nm以上470nm以下の波長領域に発光ピークを有する発光素子を励起光源として利用することが望ましい。上述の波長範囲外に発光ピークを有する発光素子を用いることは、発光効率の観点からは好ましくない。発光素子としては、LEDチップやレーザーダイオードなどの固体光源素子を使用できる。
実施形態にかかる蛍光体は、赤色の発光をする蛍光体である。したがって、緑色発光蛍光体および黄色発光蛍光体と組み合わせて用いることにより、白色発光装置を得ることができる。使用する蛍光体は発光装置の目的に合わせて任意に選択することができる。例えば、色温度が低い白色発光装置を提供する際には、実施形態による蛍光体と黄色発光蛍光体と組み合わせることにより、効率と演色性を両立した発光装置を提供することができる。
緑色発光蛍光体および黄色発光蛍光体は、520nm以上570nm以下の波長領域に主発光ピークを有する蛍光体ということができる。このような蛍光体としては、例えば、(Sr,Ca,Ba)SiO:Eu、Ca(Sc,Mg)Si12:Ce等のケイ酸塩蛍光体、(Y,Gd)(Al,Ga)12:Ce、(Ca,Sr,Ba)Ga:Eu等の硫化物蛍光体、(Ca,Sr,Ba)Si:Eu、(Ca,Sr)−αSiAlON等のアルカリ土類酸窒化物蛍光体などが挙げられる。なお、主発光ピークとは、発光スペクトルのピーク強度が最も大きくなる波長のことであり、例示された蛍光体の発光ピークは、これまで文献などで報告されている。なお、蛍光体作製時の少量の元素添加やわずかな組成変動により、10nm程度の発光ピークの変化が認められることがあるが、そのような蛍光体も前記の例示された蛍光体に包含されるものとする。
また、実施形態による蛍光体を用いた発光装置には、上記以外の、青緑色発光蛍光体、橙色発光蛍光体、赤色発光蛍光体も用途に応じて使用することができる。
橙色発光蛍光体、赤色発光蛍光体としては(Sr,Ca,Ba)SiO:Eu等のケイ酸塩蛍光体、Li(Eu,Sm)W等のタングステン酸塩蛍光体、(La,Gd,Y)S:Eu等の酸硫化物蛍光体、(Ca,Sr,Ba)S:Eu等の硫化物蛍光体、(Sr,Ba,Ca)Si:Eu、(Sr,Ca)AlSiN:Eu等の窒化物蛍光体などが挙げられる。実施形態による蛍光体に更にこれらの蛍光体を組み合わせて使用することにより、効率だけでなく、照明用途での演色性や、バックライト用途での色域を更に調整することができる。
図4には、実施形態にかかる発光装置の断面を示す。
図示する発光装置は、樹脂ステム200はリードフレームを成形してなるリード201およびリード202と、これに一体成形されてなる樹脂部203とを有する。樹脂部203は、上部開口部が底面部より広い凹部205を有しており、この凹部の側面には反射面204が設けられる。
凹部205の略円形底面中央部には、発光チップ206がAgペースト等によりマウントされている。発光チップ206としては、紫外発光を行なうもの、あるいは可視領域の発光を行なうものを用いることができる。例えば、GaAs系、GaN系等の半導体発光ダイオード等を用いることが可能である。発光チップ206の電極(図示せず)は、Auなどからなるボンディングワイヤ209および210によって、リード201およびリード202にそれぞれ接続されている。なお、リード201および202の配置は、適宜変更することができる。
樹脂部203の凹部205内には、蛍光層212が配置される。この蛍光層212は、実施形態にかかる蛍光体207を、例えばシリコーン樹脂からなる樹脂層211中に5質量%以上50質量%以下の割合で分散することによって形成することができる。蛍光体は、有機材料である樹脂や無機材料であるガラスなど種々のバインダーによって、付着させることができる。
有機材料のバインダーとしては、上述したシリコーン樹脂の他にエポキシ樹脂、アクリル樹脂など耐光性に優れた透明樹脂が適している。無機材料のバインダーとしてはアルカリ土類ホウ酸塩等を使用した低融点ガラス等、粒径の大きな蛍光体を付着させるために超微粒子のシリカ、アルミナ等、沈殿法により得られるアルカリ土類リン酸塩等が適している。これらのバインダーは、単独でも2種以上を組み合わせて用いてもよい。
また、蛍光層に使用される蛍光体には、必要に応じて表面にコーティング処理を施すことができる。この表面コーティングにより、蛍光体が熱、湿度、紫外線等の外的要因から劣化が防止される。さらに、蛍光体の分散性を調整することが可能となり、蛍光体層の設計を容易に行なうことができる。
発光チップ206としては、n型電極とp型電極とを同一面上に有するフリップチップ型のものを用いることも可能である。この場合には、ワイヤの断線や剥離、ワイヤによる光吸収等のワイヤに起因した問題を解消して、信頼性の高い高輝度な半導体発光装置が得られる。また、発光チップ206にn型基板を用いて、次のような構成とすることもできる。具体的には、n型基板の裏面にn型電極を形成し、基板上の半導体層上面にはp型電極を形成して、n型電極またはp型電極をリードにマウントする。p型電極またはn型電極は、ワイヤにより他方のリードに接続することができる。発光チップ206のサイズ、凹部205の寸法および形状は、適宜変更することができる。
図5には、他の実施形態にかかる発光装置の断面図を示す。図示する発光装置は、樹脂ステム100と、その上にマウントされた半導体発光素子106Fと、この半導体発光素子106Fを覆う封止体111とを有する。封止樹脂ステム100は、リードフレームから形成されたリード101、102と、これと一体的に成型されてなる樹脂部103とを有する。リード101、102は、それぞれの一端が近接対向するように配置されている。リード101、102の他端は、互いに反対方向に延在し、樹脂部103から外部に導出されている。
樹脂部103には開口部105が設けられ、開口部の底面には、保護用ツェナー・ダイオード106Eが接着剤107によってマウントされている。保護用ツェナー・ダイオード106Eの上には、半導体発光素子106Fが実装されている。すなわち、リード101の上にダイオード106Eがマウントされている。ダイオード106Eからリード102にワイヤ109が接続されている。
半導体発光素子106Fは、樹脂部103の内壁面に取り囲まれており、この内壁面は光取り出し方向に向けて傾斜し、光を反射する反射面104として作用する。開口部105内に充填された封止体111は、蛍光体110を含有している。半導体発光素子106Fは、保護用ツェナー・ダイオード106Eの上に積層されている。蛍光体110として、実施形態にかかる蛍光体が用いられる。
以下に、発光装置のチップ周辺部分について詳細に説明する。図6に示されるように、保護用ダイオード106Eは、n型シリコン基板150の表面にp型領域152が形成されたプレーナ構造を有する。p型領域152にはp側電極154が形成され、基板150の裏面にはn側電極156が形成されている。このn側電極156に対向して、ダイオード106Eの表面にもn側電極158が形成されている。こうした2つのn側電極156と158とは、ダイオード106Eの側面に設けられた配線層160によって接続される。さらに、p側電極154およびn側電極158が設けられたダイオード106Eの表面には、高反射膜162が形成されている。高反射膜162は、発光素子106Fから放出される光に対して高い反射率を有する膜である。
半導体発光素子106Fにおいては、バッファ層122、n型コンタクト層123、n型クラッド層132、活性層124、p型クラッド層125、およびp型コンタクト層126が、透光性基板138の上に順次積層されている。さらに、n側電極127がn型コンタクト層123の上に形成され、p側電極128がp型コンタクト層126の上に形成されている。活性層124から放出される光は、透光性基板138を透過して取り出される。
このような構造の発光素子106Fは、バンプを介してダイオード106Eにフリップ・チップ・マウントされている。具体的には、バンプ142によって、発光素子106Fのp側電極128がダイオード106Eのn側電極158に電気的に接続されている。また、バンプ144によって、発光素子106Fのn側電極127が、ダイオード106Eのp側電極154に電気的に接続されている。ダイオード106Eのp側電極154には、ワイヤ109がボンディングされ、このワイヤ109はリード102に接続されている。
図7には、砲弾型の発光装置の例を示す。半導体発光素子51は、リード50’にマウント材52を介して実装され、プレディップ材54で覆われる。ワイヤ53により、リード50が半導体発光素子51に接続され、キャスティング材55で封入されている。プレディップ材54中には、実施形態にかかる蛍光体が含有される。
上述したように、実施形態にかかる発光装置、例えば白色LEDは一般照明等だけでなく、カラーフィルターなどのフィルターと発光装置を組み合わせて使用される発光デバイス、例えば液晶用バックライト用の光源等としても最適である。具体的には、液晶のバックライト光源や青色発光層を使用した無機エレクトロルミネッセンス装置の赤色発光材料としても使用することができる。
以下、実施例および比較例を示して本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はその趣旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
(実施例1)
原料として、市販のSi単結晶を準備した。また、KMnO粉末10.8gを200mlのHF水溶液(49質量%)と200mlの混合溶液中で十分混合し反応溶液とした。上記反応溶液中に室温(20℃)でSi単結晶を80分間反応させた。この際、反応溶液が均一になるようにゆっくり撹拌して反応させた。この結果、Si単結晶の表面に蛍光体が形成され、成長して大きくなった蛍光体粒子は、応力を加えることなくSi単結晶表面から剥離して、容器底部に堆積した。得られた蛍光体について定量分析を実施した結果、蛍光体の組成はK2.1(Si0.98,Mn0.02)F5.8組成であることが判明した。また、XRD測定により得られた回折パターンから結晶構造はKSiFに同定された。
反応時間を10分にした他は実施例1と同様の方法で得られた蛍光体を比較例1とする。比較例1の蛍光体の結晶構造もXRD測定の回折パターンからKSiFに同定された。
実施例1と比較例1のXRD測定により得られた(400)面に同定された回折ピークの半値幅を比較すると、実施例1が0.10に対して、比較例1は0.25であった。また、実施例1及び比較例1の蛍光体の外部量子効率を比較すると、実施例1の蛍光体は比較例1の蛍光体に対して2.45倍の外部量子効率と効率が改善していた。
さらに、下記表1に示すように反応時間または蛍光体組成を変化させて、実施例2〜5の蛍光体を作製した。表1には合成を行った反応時間と(400)面および(222)面に帰属される回折線の半値幅、比較例1に対する相対外部量子効率も併せて記載する。
表1から実施形態による蛍光体は、比較例1の蛍光体と比較して発光効率が改善していることが明らかである。
Figure 2014177511
また、実施例1の蛍光体をピーク波長450nmのLEDチップと、ピーク波長が555nmで半値幅が105nmのYAl12:Ce蛍光体と組み合わせて、白色LED発光装置を作製した。作製した白色LEDは比較例1を使用した白色LEDと比較すると、白色の効率が改善していることを確認した。
200…樹脂ステム; 201…リード; 202…リード; 203…樹脂部
204…反射面; 205…凹部; 206…発光チップ
207…ボンディングワイヤ; 208…ボンディングワイヤ; 209…蛍光層
210…蛍光体; 211…樹脂層;
100…樹脂ステム; 101…リード
102…リード; 103…樹脂部; 104…反射面; 105…開口部
106E…ツェナー・ダイオード; 106F…半導体発光素子; 107…接着剤
109…ボンディングワイヤ; 110…蛍光体; 111…封止体
122…バッファ層; 123…n型コンタクト層; 124…活性層
125…p型クラッド層; 126…p型コンタクト層; 127…n側電極
128…p側電極; 132…n型クラッド層; 138…透光性基板
142…バンプ; 144…バンプ; 150…n型シリコン基板
152…p型領域; 154…p側電極; 156…n側電極; 158…n側電極
160…配線層; 162…高反射膜
50、50’…リード; 51…半導体発光素子; 52…マウント材
53…ボンディングワイヤ; 54…プレディップ材; 55…キャスティング材。

Claims (14)

  1. 下記一般式(A):
    (Si1−x―y,Ti,Mn)F (A)
    (式中、
    1.8≦a≦2.2、
    5.2≦b≦6.3、
    0≦x≦0.3、かつ
    0<y≦0.05
    である。)
    で表わされる組成を有する化合物であり、粉末X線回折分析により得られた(400)面に帰属される回折線の半値幅が0.2°以下であることを特徴とする蛍光体。
  2. 粉末X線回折分析により得られた(222)面に帰属される回折線の半値幅が0.2°以下である、請求項1に記載の蛍光体。
  3. 平均粒径が、1〜50μmである、請求項1または2に記載の蛍光体。
  4. 前記蛍光体の酸素含有量とフッ素含有量とが、[酸素含有量]/[(フッ素含有量)+(酸素含有量)]<0.05を満たす、請求項1〜4のいずれか1項に記載の蛍光体。
  5. 反応溶液として過マンガン酸カリウムおよびフッ化水素を含有する水溶液を準備し、前記反応溶液中にSi源を浸漬し、20分以上80分以下反応させる工程を有することを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載の蛍光体の製造方法。
  6. 前記Si源が、単結晶シリコン、多結晶シリコン、非晶質シリコン、結晶性二酸化ケイ素および非晶質二酸化ケイ素からなる群から選択される、請求項5に記載の方法。
  7. 前記Si源が、シリコン基板である、請求項5に記載の方法。
  8. 前記反応溶液中の過マンガン酸カリウムとフッ化水素との配合モル比が、100/1〜20/1である、請求項5〜7のいずれか1項に記載の方法。
  9. 前記反応溶液中の過マンガン酸カリウム濃度が1質量%以上である、請求項5〜8のいずれか1項に記載の方法。
  10. 440nm以上470nm以下の波長領域の光を発光する発光素子と、請求項1〜4のいずれか1項に記載の蛍光体を含む蛍光体層とを具備することを特徴とする発光装置。
  11. 前記蛍光体層が、緑色発光蛍光体または黄色発光蛍光体をさらに含む、請求項10に記載の発光装置。
  12. 前記の緑色発光蛍光体または黄色発光蛍光体が、(Sr,Ca,Ba)SiO:Eu、Ca(Sc,Mg)Si12:Ce、(Y,Gd)(Al,Ga)12:Ce、(Ca,Sr,Ba)Ga:Eu、(Ca,Sr,Ba)Si:Eu、および(Ca,Sr)−αSiAlONからなる群から選択される、請求項11に記載の発光装置。
  13. 前記蛍光体層が、橙色発光蛍光体または赤色発光蛍光体をさらに含む、請求項10〜12のいずれか1項に記載の発光装置。
  14. 前記の橙色発光蛍光体または赤色発光蛍光体が、(Sr,Ca,Ba)SiO:Eu、Li(Eu,Sm)W、(La,Gd,Y)S:Eu、(Ca,Sr,Ba)S:Eu、(Sr,Ba,Ca)Si:Eu、および(Sr,Ca)AlSiN:Euからなる群から選択されるものである、請求項10〜13のいずれか1項に記載の発光装置。
JP2013050584A 2013-03-13 2013-03-13 蛍光体、およびその製造方法、ならびにその蛍光体を用いた発光装置 Pending JP2014177511A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013050584A JP2014177511A (ja) 2013-03-13 2013-03-13 蛍光体、およびその製造方法、ならびにその蛍光体を用いた発光装置
TW103105649A TWI648371B (zh) 2013-03-13 2014-02-20 Phosphor, manufacturing method thereof, and illuminating device using the same
PCT/JP2014/054076 WO2014141851A1 (ja) 2013-03-13 2014-02-20 蛍光体、およびその製造方法、ならびにその蛍光体を用いた発光装置
US14/849,103 US10020427B2 (en) 2013-03-13 2015-09-09 Phosphor, manufacturing method therefor, and light-emitting device using the phosphor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013050584A JP2014177511A (ja) 2013-03-13 2013-03-13 蛍光体、およびその製造方法、ならびにその蛍光体を用いた発光装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2014177511A true JP2014177511A (ja) 2014-09-25

Family

ID=51536527

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013050584A Pending JP2014177511A (ja) 2013-03-13 2013-03-13 蛍光体、およびその製造方法、ならびにその蛍光体を用いた発光装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US10020427B2 (ja)
JP (1) JP2014177511A (ja)
TW (1) TWI648371B (ja)
WO (1) WO2014141851A1 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9929321B2 (en) 2016-08-04 2018-03-27 Kabushiki Kaisha Toshiba Phosphor, producing method thereof and light-emitting device employing the phosphor
US9944848B2 (en) 2014-09-30 2018-04-17 Nichia Corporation Fluoride fluorescent material, method for producing the same, and light emitting device
US10711186B2 (en) 2015-02-12 2020-07-14 Kabushiki Kaisha Toshiba Phosphor, producing method thereof, and light-emitting device employing the phosphor
JP2022136300A (ja) * 2020-03-27 2022-09-15 日亜化学工業株式会社 発光装置及びそれを備えた灯具

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6342146B2 (ja) 2013-12-09 2018-06-13 株式会社東芝 蛍光体、およびその製造方法、ならびにその蛍光体を用いた発光装置
CN106244143B (zh) * 2015-06-04 2019-08-27 隆达电子股份有限公司 具有优选方向的荧光粉、其制备方法及包含其的发光元件封装结构
KR102397910B1 (ko) 2015-07-06 2022-05-16 삼성전자주식회사 불화물계 형광체, 불화물계 형광체 제조방법 및 발광장치
JPWO2017104406A1 (ja) * 2015-12-18 2018-10-04 三菱ケミカル株式会社 蛍光体、発光装置、照明装置および画像表示装置
JP2017157621A (ja) * 2016-02-29 2017-09-07 豊田合成株式会社 白色発光装置
US10883045B2 (en) * 2016-05-02 2021-01-05 Current Lighting Solutions, Llc Phosphor materials including fluidization materials for light sources
JP2018002813A (ja) * 2016-06-29 2018-01-11 株式会社東芝 蛍光体および発光装置
JP6812231B2 (ja) * 2016-12-20 2021-01-13 デンカ株式会社 フッ化物蛍光体の製造方法
US10608148B2 (en) 2018-05-31 2020-03-31 Cree, Inc. Stabilized fluoride phosphor for light emitting diode (LED) applications

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7497973B2 (en) 2005-02-02 2009-03-03 Lumination Llc Red line emitting phosphor materials for use in LED applications
CN101939857B (zh) 2008-02-07 2013-05-15 三菱化学株式会社 半导体发光装置、背光源、彩色图像显示装置以及这些中使用的荧光体
JP5545665B2 (ja) * 2008-03-25 2014-07-09 国立大学法人群馬大学 蛍光体の製造方法
JP5682104B2 (ja) * 2008-09-05 2015-03-11 三菱化学株式会社 蛍光体及びその製造方法と、その蛍光体を用いた蛍光体含有組成物及び発光装置、並びに、その発光装置を用いた画像表示装置及び照明装置
JP5446511B2 (ja) * 2009-06-30 2014-03-19 三菱化学株式会社 蛍光体及びその製造方法と、その蛍光体を用いた蛍光体含有組成物及び発光装置、並びに、その発光装置を用いた画像表示装置及び照明装置
JP5519440B2 (ja) * 2010-08-03 2014-06-11 日東電工株式会社 発光装置
TWI457418B (zh) * 2010-09-29 2014-10-21 Au Optronics Corp 白光發光二極體裝置、發光裝置及液晶顯示器
JP5105132B1 (ja) 2011-06-02 2012-12-19 三菱化学株式会社 半導体発光装置、半導体発光システムおよび照明器具
US9765257B2 (en) * 2012-03-12 2017-09-19 Nitto Denko Corporation Emissive compacts and method of making the same
JP5840540B2 (ja) * 2012-03-15 2016-01-06 株式会社東芝 白色照明装置

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9944848B2 (en) 2014-09-30 2018-04-17 Nichia Corporation Fluoride fluorescent material, method for producing the same, and light emitting device
US10400166B2 (en) 2014-09-30 2019-09-03 Nichia Corporation Fluoride fluorescent material and light emitting device
US10711186B2 (en) 2015-02-12 2020-07-14 Kabushiki Kaisha Toshiba Phosphor, producing method thereof, and light-emitting device employing the phosphor
US9929321B2 (en) 2016-08-04 2018-03-27 Kabushiki Kaisha Toshiba Phosphor, producing method thereof and light-emitting device employing the phosphor
JP2022136300A (ja) * 2020-03-27 2022-09-15 日亜化学工業株式会社 発光装置及びそれを備えた灯具
JP7311819B2 (ja) 2020-03-27 2023-07-20 日亜化学工業株式会社 発光装置及びそれを備えた灯具

Also Published As

Publication number Publication date
TWI648371B (zh) 2019-01-21
US20150380614A1 (en) 2015-12-31
WO2014141851A1 (ja) 2014-09-18
TW201441339A (zh) 2014-11-01
US10020427B2 (en) 2018-07-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2014141851A1 (ja) 蛍光体、およびその製造方法、ならびにその蛍光体を用いた発光装置
WO2014141852A1 (ja) 蛍光体、およびその製造方法、ならびにその蛍光体を用いた発光装置
TWI502052B (zh) 矽磷酸鹽磷光體
JP5190475B2 (ja) 蛍光体およびそれを用いた発光装置
JP4413955B2 (ja) 蛍光体および発光装置
JP6342146B2 (ja) 蛍光体、およびその製造方法、ならびにその蛍光体を用いた発光装置
JP4199267B2 (ja) 蛍光体、その製造方法、および発光装置
JP6603458B2 (ja) 蛍光体、およびその製造方法、ならびにその蛍光体を用いた発光装置
JP5421205B2 (ja) 発光装置
JP2009035673A (ja) 蛍光体および発光装置
JP6486990B2 (ja) 蛍光体、およびその製造方法、ならびにその蛍光体を用いた発光装置
JP5915801B1 (ja) フッ化物蛍光体及びその製造方法並びに発光装置
WO2016136066A1 (ja) フッ化物蛍光体複合体、およびその製造方法、ならびにその複合体を用いた発光装置
JP5066204B2 (ja) 蛍光体、および発光装置
JP6344460B2 (ja) フッ化物蛍光体の製造方法
US10032967B2 (en) Phosphor and light-emitting device
JP6066003B2 (ja) フッ化物蛍光体及びその製造方法並びに発光装置
JP2017210580A (ja) 蛍光体、およびその製造方法、ならびにその蛍光体を用いた発光装置
TWI619799B (zh) Phosphor, manufacturing method thereof, and illuminating device using the same
JP2017052826A (ja) 蛍光材料、およびその製造方法、ならびにその蛍光材料を用いた発光装置
JP2013157615A (ja) 発光装置モジュール