JP2014139253A - プロピルフェニルエーテル誘導体、並びにそれを含むメラニン生成抑制剤、美白剤、抗菌剤及び化粧料 - Google Patents

Abstract

【課題】フェノール基の水酸基に、水酸基等が置換したプロピル基が結合したプロピルフェニルエーテル誘導体化合物を有効成分とし、優れたメラニン生成抑制効果（美白効果）を有するとともに経時安定性等に優れた化粧料又は皮膚外用剤を提供する。
【解決手段】ｔ−ブチル基等が置換したフェノール基の水酸基に、水酸基等が置換したプロピル基が結合したプロピルフェニルエーテル誘導体化合物及びその塩を有効成分として含有する化粧料又は皮膚外用剤。
【選択図】なし

Description

本発明は、化粧料の原料等として好適に用いられるプロピルフェニルエーテル誘導体に関する。本発明は、又、前記プロピルフェニルエーテル誘導体を活性成分とするメラニン生成抑制剤、美白剤、及び抗菌剤、並びに前記プロピルフェニルエーテル誘導体を配合することを特徴とする化粧料に関する。

近年、化粧料を使用する際には、メラニン生成抑制効果等の美白効果や抗菌効果、又抗アクネ、抗フケ、抗シワ等の様々な効果を期待して使用することが多くなっている。そこで、化粧料の原料には前記の効果を奏するものが望まれている。中でも、美白効果、特にメラニン生成抑制効果に対する期待は大きい。

皮膚が紫外線に曝露されると、皮膚内で活性酸素が発生し又その周囲の細胞から様々な物質が放出される。この活性酸素や様々な物質により、メラノサイトが活性化されチロシナーゼ活性が高まりメラニンが過剰に生成される。このメラニンは、表皮細胞に受け渡され、その結果皮膚の色調が変化し黒化する。さらに、メラニンの生成と排出のバランスが崩れ、表皮細胞にメラニンが過剰に蓄積されるとしみやそばかすとなる。そこで、メラニンの過剰な蓄積を防ぐため、コウジ酸、ハイドロキノン、アルブチン等のハイドロキノン誘導体、ビタミンＣ及びその誘導体等の種々の美白剤が提案されている。

しかしながら、コウジ酸、アルブチンや、ビタミンＣ及びその誘導体は、メラニンの生成を抑制し黒化を防ぐ効果を示すものの、その効果は不十分である。さらに、コウジ酸やビタミンＣ及びその誘導体の多くは、化粧料に配合した際、経時での着色の問題もある。

又、ハイドロキノンは安全性や安定性に問題があり化粧品には使用し難いものとなっている。そこで、この問題を改善するために種々のハイドロキノンの誘導体が提案されている。例えば、特許文献１ではハイドロキノンアルキルエーテル類等が提案されているが、これらはハイドロキノンを母骨格としており安全性が懸念される。

又、フェノール性の水酸基を有した２−（４−ヒドロキシフェニル）エタノールのアシル化誘導体（特許文献２）や、アルキルフェニルエーテル配糖体（特許文献３）も提案されている。しかし、これらの誘導体は、フェノール性の水酸基をエステル結合やグリコシド結合で結合させているため、一般的に安定性が悪いと考えられ、加水分解によって、フェノール性の水酸基が遊離するため安全性への問題が懸念される。

高いメラニン生成抑制効果を有する化合物としては、ｔｅｒｔ−ブチルフェノール等のアルキルフェノール類も知られている。しかし、これらの化合物は安全性が低く化粧料に応用できるものではなかった（非特許文献１）。

一方、化粧品市場では、化粧品製剤の防腐のため、さらに、ニキビの原因の一種であるアクネ菌、頭皮のフケや痒みの原因となるマラセチア菌、腋臭の原因となる菌等の活動を抑制するために新たな抗菌性化合物も求められている。そして、アクネ菌に対して抗菌作用を示すものとしてトコフェリルリン酸塩が提案されている（特許文献４）。しかしながら、この化合物は、アクネ菌に対してのみに効果を示し広く抗菌効果を示さないものである。

特開平６−１９２０６２公報 特許第４６５８８９８号 特許第３３４０９３０号 特許第４８２８１２６号

Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｉｎｖｅｓｔｉｇａｔｉｖｅ Ｄｅｒｍａｔｏｌｏｇｙ，Ｖｏｌ．１１４（１），ｐｐ１５７−１６４（２０００）

近年、化粧料への要求はさらに高度化しており、より優れたメラニン生成抑制効果等の美白効果、又は／及び、抗菌効果を有するとともに、経時安定性等に優れる化粧料の開発が望まれている。そこで、本発明は、優れたメラニン生成抑制効果（美白効果）や抗菌効果を有するとともに、経時安定性等にも優れ、化粧料の原料として好適に用いられる化合物を提供することを課題とする。

本発明は、又、前記化合物を有効成分として含有し、肌の黒化を防ぎ、しみやそばかす等の色素沈着を改善するメラニン生成抑制剤、美白剤を提供することを課題とする。

本発明は、又、前記化合物を有効成分として含有し、化粧品の菌汚染、ニキビやふけを防ぐことができる抗菌剤を提供することを課題とする。

本発明は、さらに、前記化合物を配合することを特徴とする化粧料、とりわけ美白化粧料を提供することを課題とする。

本発明者らは、上記実情に鑑みて鋭意検討した結果、特定の官能基で置換されたプロピルフェニルエーテル誘導体化合物及びその塩が、優れたメラニン生成抑制効果、及び／又は、抗菌効果を有し、安定性に優れることを見出し、本発明を完成した。

本発明は、下記一般式（Ｉ）、（Ｉａ）又は（Ｉｂ）で表されることを特徴とするプロピルフェニルエーテル誘導体（請求項１）を提供する。

式（Ｉ）、（Ｉａ）又は（Ｉｂ）中、
Ｒは、−ＣＨ_２−ＣＨＲ^２−ＣＨ_２Ｒ^１又は−ＣＨ（ＣＨ_２Ｒ^２）−ＣＨ_２Ｒ^１を表し、
Ｒａは、−ＣＨ_２−ＣＨＲ^２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨＲ^２−ＣＨ_２−又は−ＣＨ_２−ＣＨＯＨ−ＣＨ_２−を表し、
Ｒｂは、炭素数１〜５の、直鎖若しくは分岐状の脂肪族炭化水素基を表し、
Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立に、水素、Ｒ^８Ｏ、Ｒ^９Ｓ、Ｒ^１０Ｒ^１１Ｎ、Ｒ^１２Ａ、炭素数１〜２２の、直鎖若しくは分岐状の、飽和若しくは不飽和の脂肪族炭化水素基、又は、炭素数３〜２２の飽和若しくは不飽和の環式炭化水素基を表し、
Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１１及びＲ^１２は、それぞれ独立に、炭素数１〜２２の、直鎖若しくは分岐状の、飽和若しくは不飽和の脂肪族炭化水素基、水酸基で水素が置換されていてもよい炭素数３〜２２の飽和若しくは不飽和の環式炭化水素基、又は水素を表し、
Ａは、リン酸エステル基、硫酸エステル基、エステル基、チオエステル基もしくはアミド基又はこれらの塩を表すが、ただし
Ｒ^１又はＲ^２の少なくとも一方は水酸基、又はＲ^１２Ａ−で表されＡがリン酸エステル基、硫酸エステル基若しくはエステル基又はこれらの塩である基であり、かつ
Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ独立に、
フェニル基で水素が置換されていてもよい炭素数１〜１２の直鎖若しくは分岐状の、飽和若しくは不飽和の脂肪族炭化水素基、炭素数１〜５のアルコキシ基、フェニル基、又は水素を表すが、
Ｒ^１及びＲ^２が、同時に、水酸基及びＲ^１２Ａ−で表されＡがリン酸エステル基、硫酸エステル基若しくはエステル基又はこれらの塩である基からなる群より選ばれる基であるときは、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７の炭素数の合計は２以上である。

式（Ｉ）中のＲが−ＣＨ_２−ＣＨＲ^２−ＣＨ_２Ｒ^１の場合、又は、−ＣＨ（ＣＨ_２Ｒ^２）−ＣＨ_２Ｒ^１の場合、式（Ｉ）のプロピルフェニルエーテル誘導体化合物は、それぞれ、次に示す構造式（Ｉｃ）、又は、構造式（Ｉｄ）で表される。

Ｒ^１及びＲ^２並びにＲ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１１及びＲ^１２は、炭素数１〜２２の脂肪族炭化水素又は炭素数３〜２２の環式炭化水素であってもよい。ここで、炭素数１〜２２の脂肪族炭化水素は、直鎖状又は分岐状のいずれであってもよく、かつ直鎖状又は分岐状のいずれの場合も、飽和又は不飽和のいずれの炭化水素であってもよい。さらに、炭素数３〜２２の環式炭化水素とは、飽和又は不飽和の環を有する炭化水素を意味し、不飽和の環には芳香環も含まれる。炭素数３〜２２の環式炭化水素は、その水素が水酸基で置換されていてもよい。

Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は、炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素であってもよい。ここで、炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素は、直鎖状であってもよいし又は分岐状であってもよく、かつ直鎖状又は分岐状のいずれの場合も、飽和の炭化水素であってもよく又は不飽和の炭化水素であってもよい。

Ｒ^１又はＲ^２は、Ｒ^１２Ａで表される官能基であってもよいが、ここで、Ａで表されるリン酸エステル基、硫酸エステル基、エステル基、チオエステル基及びアミド基は、それぞれ次に示す構造式で表される２価基である。式中、＊はＲ^１２との結合基を表す。

一般式（Ｉ）、（Ｉａ）又は（Ｉｂ）で表されるプロピルフェニルエーテル誘導体化合物及びその塩であるプロピルフェニルエーテル誘導体の中でも、Ｒ^１又は／及びＲ^２が、水素、炭素数１〜２２の、直鎖若しくは分岐状の、飽和若しくは不飽和の脂肪族炭化水素基、Ｒ^８Ｏ、Ｒ^９Ｓ及びＲ^１０Ｒ^１１Ｎから選ばれる基であるプロピルフェニルエーテル誘導体は、より優れたメラニン生成抑制効果を示すので好ましい。中でも、Ｒ^１がＲ^８Ｏであり、Ｒ^２が水酸基である場合はより好ましい。

そこで、本発明はその好ましい態様として、一般式（Ｉ）、（Ｉａ）又は（Ｉｂ）で表され、Ｒ^１又は／及びＲ^２が、水素、炭素数１〜２２の、直鎖若しくは分岐状の、飽和若しくは不飽和の脂肪族炭化水素基、Ｒ^８Ｏ、Ｒ^９Ｓ及びＲ^１０Ｒ^１１Ｎから選ばれる基であるプロピルフェニルエーテル誘導体（請求項２）、並びに、Ｒ^１がＲ^８Ｏであり、Ｒ^２が水酸基であるプロピルフェニルエーテル誘導体（請求項３）を提供する。

前記の好ましい態様のプロピルフェニルエーテル誘導体の中でも、一般式（Ｉ）で表されるものは、さらに優れたメラニン生成抑制効果を示す。中でも、Ｒ^１がＲ^８Ｏであり、Ｒ^２が水酸基であるものが好ましい。そこで、本発明はその好ましい態様として、前記のＲ^１がＲ^８Ｏであり、Ｒ^２が水酸基であるプロピルフェニルエーテル誘導体であって、一般式（Ｉ）で表されるプロピルフェニルエーテル誘導体（請求項４）を提供する。

そしてこのプロピルフェニルエーテル誘導体の中でも、Ｒ^８が水素又は炭素数１〜２２の、直鎖若しくは分岐状の、飽和若しくは不飽和の脂肪族炭化水素基であるもの（請求項５）は特に好ましく、とりわけＲ^８が炭素数１〜２２の、直鎖若しくは分岐状の、飽和若しくは不飽和の脂肪族炭化水素基であるもの（請求項６）が好ましい。

なお、Ｒ^２が、Ｒ^１２Ａで表され、Ａがリン酸エステル基、硫酸エステル基若しくはエステル基又はそれらの塩であるものは、生体内で、ホスファターゼ、エステラーゼ等により容易に加水分解され水酸基を生じ、特に優れたメラニン生成抑制効果を示すプロピルフェニルエーテル誘導体となる。従って、Ｒ^２が、Ｒ^１２Ａで表され、Ａがリン酸エステル基、硫酸エステル基若しくはエステル基又はそれらの塩である場合も、優れたメラニン生成抑制効果を示すので好ましい。

又、一般式（Ｉ）で表されるプロピルフェニルエーテル誘導体の場合は、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７が、水素、又は、炭素数１〜１２の、直鎖若しくは分岐状の、飽和若しくは不飽和の脂肪族炭化水素であるものが、優れたメラニン生成抑制効果を示すので好ましい。中でも、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７の少なくとも１つの基が分岐状の脂肪族炭化水素であり、かつＲ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７の炭素数の合計が４以上であるものがより好ましい。さらに好ましくは、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７の少なくとも１つの基が、ｔｅｒｔ−ブチル基又はｓｅｃ−ブチル基の場合である。

そこで、本発明はその好ましい態様として、一般式（Ｉ）で表されるプロピルフェニルエーテル誘導体であって、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７が、それぞれ独立に、水素、又は、炭素数１〜１２の、直鎖若しくは分岐状の、飽和若しくは不飽和の脂肪族炭化水素であるプロピルフェニルエーテル誘導体（請求項７）、一般式（Ｉ）で表され、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７の少なくとも１つの基が、分岐状の脂肪族炭化水素であり、かつＲ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７の炭素数の合計が４以上であるプロピルフェニルエーテル誘導体（請求項８）、及び、一般式（Ｉ）で表され、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７の少なくとも１つの基が、ｔｅｒｔ−ブチル基又はｓｅｃ−ブチル基であるプロピルフェニルエーテル誘導体（請求項９）を提供する。

一般式（Ｉａ）で表されるプロピルフェニルエーテル誘導体化合物及びその塩であるプロピルフェニルエーテル誘導体の中でも、Ｒａが−ＣＨ_２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ_２−であるものは、優れたメラニン生成抑制効果を示すので好ましい。そこで、本発明はその好ましい態様として、一般式（Ｉａ）で表されるプロピルフェニルエーテル誘導体であって、Ｒａが−ＣＨ_２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ_２−であるプロピルフェニルエーテル誘導体（請求項１０）を提供する。

一般式（Ｉｂ）で表されるプロピルフェニルエーテル誘導体化合物及びその塩であるプロピルフェニルエーテル誘導体の中でも、Ｒｂが−Ｃ（ＣＨ_３）_２−であるものは、優れたメラニン生成抑制効果を示すので好ましい。そこで、本発明はその好ましい態様として、一般式（Ｉｂ）で表されるプロピルフェニルエーテル誘導体であって、Ｒｂが−Ｃ（ＣＨ_３）_２−であるプロピルフェニルエーテル誘導体（請求項１１）を提供する。

前記のプロピルフェニルエーテル誘導体の中でも、特に優れたメラニン生成抑制効果を示すとともに容易に製造できるものとして、以下に示す構造式（II）、式（III）、式（Ａ）、式（Ｃ）、式（Ｄ）、式（Ｅ）、式（Ｆ）、式（Ｇ）、式（Ｈ）、式（Ｐ）、式（Ｊ）又は式（Ｋ）で表される化合物を挙げることができる。

なお、以下に示す構造式では、炭素原子、及び該炭素原子に結合する水素原子を省略して表すことがある。例えば、式（II）、式（III）の（プロピル基の）１位、３位の位置はＣＨ_２基であり、２位の位置はＣＨ基である。又（フェニル基の）１’位、４’位の位置は炭素原子であり、２’位、３’位、５’位、６’位の位置はＣＨ基である。式（ＩＩ）の４’位に結合している基はｔｅｒｔ−ブチル基であり、１位に結合している基はエトキシ基である。

中でも、構造式（II）、式（Ａ）、式（Ｃ）、式（Ｅ）、式（Ｆ）、式（Ｇ）、式（Ｈ）、式（Ｐ）、式（Ｊ）又は式（Ｋ）で表される化合物は新規の化合物である。そこで本発明は、特に優れたメラニン生成抑制効果を示す新規な化合物として以下に示す態様を提供する。

構造式（II）で表されるプロピルフェニルエーテル誘導体（請求項１２）。
構造式（Ａ）で表されるプロピルフェニルエーテル誘導体（請求項１３）。
構造式（Ｃ）で表されるプロピルフェニルエーテル誘導体（請求項１４）。
構造式（Ｅ）で表されるプロピルフェニルエーテル誘導体（請求項１５）。
構造式（Ｆ）で表されるプロピルフェニルエーテル誘導体（請求項１６）。
構造式（Ｇ）で表されるプロピルフェニルエーテル誘導体（請求項１７）。
構造式（Ｈ）で表されるプロピルフェニルエーテル誘導体（請求項１８）。
構造式（Ｐ）で表されるプロピルフェニルエーテル誘導体（請求項１９）。
構造式（Ｊ）で表されるプロピルフェニルエーテル誘導体（請求項２０）。
構造式（Ｋ）で表されるプロピルフェニルエーテル誘導体（請求項２１）。

一般式（Ｉ）で表される本発明のプロピルフェニルエーテル誘導体は、優れたメラニン生成抑制効果、優れた美白効果、優れた抗菌効果を示すとともに、優れた安定性を有しており、化粧料（皮膚外用剤を含む）に好適に配合することができる。そこで、本発明は、前記のプロピルフェニルエーテル誘導体に加えて、以下に示す、メラニン生成抑制剤、美白剤、抗菌剤、及び化粧料を提供する。

すなわち本発明は、請求項１ないし請求項２１のいずれか１項に記載のプロピルフェニルエーテル誘導体を有効成分として配合することを特徴とするメラニン生成抑制剤を提供する（請求項２２）。

前記のように、式（III）や式（Ｄ）で表されるプロピルフェニルエーテル誘導体は、優れたメラニン生成抑制効果を示す。そこで、前記メラニン生成抑制剤の具体的な態様として、式（III）で表されるプロピルフェニルエーテル誘導体を有効成分として配合することを特徴とするメラニン生成抑制剤（請求項２３）、式（Ｄ）で表されるプロピルフェニルエーテル誘導体を有効成分として配合することを特徴とするメラニン生成抑制剤（請求項２４）を提供する。

本発明は、又、請求項１ないし請求項２１のいずれか１項に記載のプロピルフェニルエーテル誘導体を有効成分として配合することを特徴とする美白剤を提供する（請求項２５）。

本発明は、さらに、請求項１ないし請求項２１のいずれか１項に記載のプロピルフェニルエーテル誘導体を有効成分として配合することを特徴とする抗菌剤を提供する（請求項２６）。

さらに本発明は、請求項１ないし請求項２１のいずれか１項に記載のプロピルフェニルエーテル誘導体化合物及びその塩を配合することを特徴とする化粧料を提供する（請求項２７）。化粧料への本発明のプロピルフェニルエーテル誘導体の配合量は、通常０．０００１質量％から１０質量％が好ましい。０．００１質量％未満の場合は、本発明が有するメラニン生成抑制効果や抗菌効果を十分に発揮できない場合が多い。一方、１０質量％を超える場合は、剤系を壊す可能性があり、又配合量に見合った効果が望めない場合が多い。

本発明のプロピルフェニルエーテル誘導体は優れた美白効果を示すので、前記の本発明の化粧料は、特に美白を目的とした美白化粧料として好適に用いられる。又、抗菌を目的とした化粧料としても好適に用いられる。

本発明の、前記一般式（Ｉ）で示されるプロピルフェニルエーテル誘導体化合物又はその塩は、優れたメラニン生成抑制効果や抗菌効果を有し、かつ安定性に優れている。従って、このプロピルフェニルエーテル誘導体を有効成分として配合することを特徴とする本発明のメラニン生成抑制剤は、優れたメラニン生成抑制効果や美白効果を示すとともに安定性に優れており、美白剤として用いられる。又、このプロピルフェニルエーテル誘導体を有効成分として配合することを特徴とする本発明の抗菌剤は優れた抗菌効果を有する。従って、このプロピルフェニルエーテル誘導体を配合することにより、優れたメラニン生成抑制効果や美白効果、抗菌効果を有し安定性に優れる化粧料が得られる。特に、本発明の化粧料は、優れた美白効果を有する化粧料として好適に用いられる。

以下に、本発明の実施形態について説明するが、本発明の範囲はこの実施形態に限定されるものではない。

本発明のプロピルフェニルエーテル誘導体化合物の具体例としては、例えば、以下に示す化合物を挙げることができる。
１−Ｏ−アルキル−２−ヒドロキシ−３−（４’−アルキルフェノキシ）プロピル、
１−Ｏ−アルキル−２−ヒドロキシ−３−（２’−アルキルフェノキシ）プロピル、
１−Ｏ−アルキル−２−ヒドロキシ−３−（３’−アルキルフェノキシ）プロピル、
１−アルキル−２−ヒドロキシ−３−（４’−アルキルフェノキシ）プロピル、
１−アルキル−２−ヒドロキシ−３−（２’−アルキルフェノキシ）プロピル、
１−アルキル−２−ヒドロキシ−３−（３’−アルキルフェノキシ）プロピル、
１，２−ジ−ヒドロキシ−３−（４’−アルキルフェノキシ）プロピル、
１，２−ジ−ヒドロキシ−３−（２’−アルキルフェノキシ）プロピル、
１，２−ジ−ヒドロキシ−３−（３’−アルキルフェノキシ）プロピル、
１，３−ジ−ヒドロキシ−２−（４’−アルキルフェノキシ）プロピル、
１，３−ジ−ヒドロキシ−２−（２’−アルキルフェノキシ）プロピル、
１，３−ジ−ヒドロキシ−２−（３’−アルキルフェノキシ）プロピル、
１−Ｏ−アルキル−３−ヒドロキシ−２−（４’−アルキルフェノキシ）プロピル、
１−Ｏ−アルキル−３−ヒドロキシ−２−（２’−アルキルフェノキシ）プロピル、
１−Ｏ−アルキル−３−ヒドロキシ−２−（３’−アルキルフェノキシ）プロピル、
１−アルキル−３−ヒドロキシ−２−（４’−アルキルフェノキシ）プロピル、
１−アルキル−３−ヒドロキシ−２−（２’−アルキルフェノキシ）プロピル、
１−アルキル−３−ヒドロキシ−２−（３’−アルキルフェノキシ）プロピル、
１−Ｏ−アルキル−２−ヒドロキシ−３−（２’，４’−ジ−アルキルフェノキシ）プロピル、
１−アルキル−２−ヒドロキシ−３−（２’，４’−アルキルフェノキシ）プロピル、
１，２−ジ−ヒドロキシ−３−（２’，４’−アルキルフェノキシ）プロピル、
１，３−ジ−ヒドロキシ−２−（２’，４’−アルキルフェノキシ）プロピル、

１−Ｎ−アルキル−２−ヒドロキシ−３−（４’−アルキルフェノキシ）プロピル、
１−Ｎ−アルキル−２−ヒドロキシ−３−（２’−アルキルフェノキシ）プロピル、
１−Ｎ−アルキル−２−ヒドロキシ−３−（３’−アルキルフェノキシ）プロピル、
１−Ｎ−アルキル−３−ヒドロキシ−２−（４’−アルキルフェノキシ）プロピル、
１−Ｎ−アルキル−３−ヒドロキシ−２−（２’−アルキルフェノキシ）プロピル、
１−Ｎ−アルキル−３−ヒドロキシ−２−（３’−アルキルフェノキシ）プロピル、

１−Ｓ−アルキル−２−ヒドロキシ−３−（４’−アルキルフェノキシ）プロピル、
１−Ｓ−アルキル−２−ヒドロキシ−３−（２’−アルキルフェノキシ）プロピル、
１−Ｓ−アルキル−２−ヒドロキシ−３−（３’−アルキルフェノキシ）プロピル、
１−Ｓ−アルキル−３−ヒドロキシ−２−（４’−アルキルフェノキシ）プロピル、
１−Ｓ−アルキル−３−ヒドロキシ−２−（２’−アルキルフェノキシ）プロピル、
１−Ｓ−アルキル−３−ヒドロキシ−２−（３’−アルキルフェノキシ）プロピル、

１−アシル−２−ヒドロキシ−３−（４’−アルキルフェノキシ）プロピル、
１−アシル−２−ヒドロキシ−３−（２’−アルキルフェノキシ）プロピル、
１−アシル−２−ヒドロキシ−３−（３’−アルキルフェノキシ）プロピル、

１−ホスホリル−２−ヒドロキシ−３−（４’−アルキルフェノキシ）プロピル、
１−ホスホリル−２−ヒドロキシ−３−（２’−アルキルフェノキシ）プロピル、
１−ホスホリル−２−ヒドロキシ−３−（３’−アルキルフェノキシ）プロピル、

なお、前記の例示の中で、Ｏ−アルキルとはアルコキシ基を意味し、Ｎ−アルキルとはアルキルアミノ基又はジアミノアルキル基を意味し、Ｓ−アルキルとは、チオアルコキシ基を意味する。

上記の例示化合物におけるアルキルとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、ベヘニル基等の直鎖アルキル基、
イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、イソヘキシル基、ネオヘキシル基、ｓｅｃ−ヘキシル基、ｔｅｒｔ−ヘキシル基、２−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、２，２−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、イソヘプチル基、イソオクチル基、ネオオクチル基、ｓｅｃ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、イソノニル基、イソデシル基、ネオデシル基、ｓｅｃ−デシル基、ｔｅｒｔ−デシル基、イソウンデシル基、イソドデシル基、イソトリデシルグリシジル基、イソテトラデシル基、イソペンタデシル基、イソヘキサデシル基、イソヘプタデシル基、イソヘキサデシル基、イソオクタデシル基、イソノナデシル基、イソベヘニル基等の分岐鎖アルキル基等を挙げることができる。

本発明のプロピルフェニルエーテル誘導体の具体例としては、上記の例示化合物中のアルキルが、ビニル基、アリル基、ブテニル基、イソブテニル基、クロチル基、オクテニル基、デセニル基、ドデセニル基等のアルケニル基に置き換わったものも挙げることができる。

上記の例示化合物におけるアシルとしては、アセチル基、ホルミル基、プロパノイル基、ブタノイル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基、オクタノイル基、ノナイル基、デカノイル基、ウンデカノイル基、ドデカノイル基、テトラデカノイル基、ヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基、エイコサノイル基、ヘキサデセノイル基、オクタデセノイル基、オレイル基、オクタデカトリエノイル基、イコサテトラエノイル基、イソオクタノイル基、イソパルミトイル基、イソステアロイル基、２−プロピルペンタノイル基、２−ブチルヘキサノイル基、２−ペンチルヘプタノイル基等が挙げられる。

上記の例示化合物におけるホスホリル基がアルキルホスホリル基に置き換わった化合物も本発明に含まれる。

本発明のプロピルフェニルエーテル誘導体は、既に公知の諸種の方法により製造することができる。例えば、下記構造式(IV)で表されるフェノール化合物と、下記構造式(Ｖ)で表されるアルキルハライドとを反応させる方法を挙げることができる。

式中、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は、前記一般式（Ｉ）の場合と同じ意味を表し、Ｘはハロゲンを表す。

さらに、構造式(IV)で表されるフェノール化合物と、グリシドール、グリシジルエーテル、エポキシアルカン等のエポキシ化合物とを反応させる方法、構造式(IV)で表されるフェノール化合物と、アルキルハライドや硫酸ジアルキル等のアルキル化剤と反応させる方法等も挙げることができる。又、前記方法で得られたプロピルフェニルエーテル誘導体と酸無水物や酸ハライド等のアシル化剤を反応させることでアシル化体を得ることができる。

前記の反応で使用できる溶媒の種類は特に制限されない。例えば、溶媒としては、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール等の低級アルコール、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジオキサン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ピリジン等から選ばれる溶媒又はこれらの混合溶媒を挙げることができる。含水溶媒としては、水のみからなるもの、及び水を主体とし、メタノール、エタノール、イソプロパノール等の低級アルコール、ＤＭＳＯ、ＤＭＦ、ジオキサン、ＴＨＦ、ピリジン等から選ばれる溶媒の混合溶媒を挙げることができる。また、特に溶媒を使用せず目的物を得られる場合は溶媒を使用しなくても良い。

又、前記の反応は、酸触媒、塩基性触媒、相間移動触媒等の触媒を使用して行うこともできる。

前記のようにして製造されるプロピルフェニルエーテル誘導体は、シリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィー、イオン交換樹脂等の樹脂を用いたカラムクロマトグラフィー、活性炭処理、抽出、蒸留、結晶化等の手段により精製することができる。

本発明の化粧料には、この必須成分の他に、通常、用いられる成分、例えば、油性原料、界面活性剤、他の保湿剤、高分子化合物、酸化防止剤、他の美白剤、紫外線吸収剤、金属イオン封鎖剤、タンパク加水分解物、アミノ酸又はそれらの誘導体、ｐＨ調整剤、防腐剤、増粘剤、色素や他の薬剤等を適宜配合することができる。

油性原料としては、例えば、オリーブ油、椿油、マカデミアナッツ油、茶実油、ヒマシ油、トリ（カプリン／カプリル）グリセリル等の油脂類、ホホバ油、カルナウバロウ、キャンデリラロウ、ラノリン、ミツロウ等のロウ類、流動パラフィン、パラフィン、ワセリン、セレシン、マイクロクリスタリンワックス、スクワラン等の炭化水素類、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、イソステアリン酸等の脂肪酸類、セチルアルコール、ステアリルアルコール、イソステアリルアルコール等の高級アルコール類、ミリスチン酸イソプロピル、ミリスチン酸−２−オクチルドデシル、２−エチルへキサン酸セチル、リンゴ酸ジイソステアリル、トリ−２−エチルヘキサノイン、等のエステル類、メチルポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン等のシリコーン類等が挙げられる。

界面活性剤としては、例えば、高級脂肪酸石鹸、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、アシル−Ｎ−メチルタウリン塩、Ｎ−アシルアミノ酸塩、アルキルリン酸エステル塩等のアニオン性界面活性剤、塩化アルキルトリメチルアンモニウム、塩化ジアルキルジメチルアンモニウム等のカチオン性界面活性剤、アルキルジメチルアミノ酢酸ベタイン、アルキルアミドアミノ酢酸ベタイン、２−アルキル−Ｎ−カルボキシ−Ｎ−ヒドロキシイミダゾリニウムベタイン等の両性界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、多価アルコール脂肪酸エステル、ポリエーテル変性シリコーン等の非イオン性界面活性剤等が挙げられる。

保湿剤としては、例えば、グリセリン、プロピレングリコール、マルチトール、ソルビトール、１,３-ブチレングリコール、乳酸ナトリウム、ポリエチレングリコール、ピロリドンカルボン酸ナトリウム、ヒアルロン酸ナトリウム等が挙げられる。

高分子化合物としては、例えば、カルボキシビニルポリマー、カルボキシメチルセルロースナトリウム、キサンタンガム、ポリビニルアルコール、高分子のジメチルポリシロキサン等が挙げられる。酸化防止剤としては、例えば、ビタミンＥやタンニン、ＢＨＴ（ブチルヒドロキシトルエン）等を挙げることができる。

本発明のプロピルフェニルエーテル誘導体は美白効果を有するが、本発明の化粧料には、他の美白剤も加えることができる。他の美白剤としては、例えば、エラグ酸、コウジ酸、カミツレエキス、甘草エキス、ルシノール、ローズマリーエキス、アルブチン、トラネキサム酸、４−メトキシサリチル酸カリウム塩、アスコルビン酸、グリセリルアスコルビン酸、アスコルビン酸グルコシド、アスコルビン酸リン酸マグネシウムといったアスコルビン酸誘導体等を挙げることができる。

紫外線吸収剤としては、メトキシケイヒ酸エチルヘキシル、オクトクリレン、４−ｔｅｒｔ−ブチル４’−メトキシジベンゾイルメタン、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル等を挙げることができる。金属イオン封鎖剤としては、例えば、シトラマル酸、アガル酸、グリセリン酸、シキミ酸、ヒノキチオール、没食子酸、タンニン酸、コーヒー酸、エチレンジアミン四酢酸、エチレングリコールジアミン四酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、フィチン酸、ポリリン酸、メタリン酸、ならびにこれらの類似体ならびにこれらのアルカリ金属塩及びカルボン酸エステル等を挙げることができる。

タンパク加水分解物としては、例えば、乳タンパク、絹タンパク、小麦タンパク、米タンパク、エンドウタンパク、コラーゲン、ケラチン、大豆、ゴマ、コンキオリン、海洋コラーゲン等のタンパク加水分解物ならびにその誘導体等が挙げられる。アミノ酸又はそれらの誘導体としては、例えば、グリシン、バリン、ロイシン、イソロイシン、セリン、トレオニン、フェニルアラニン、アルギニン、リジン、アスパラギン、アスパラギン酸、グルタミン、グルタミン酸、シスチン、システイン、メチオニン、トリプトファン、プロリン、ヒスチジン等のアミノ酸とその誘導体が挙げられる。

ｐＨ調整剤としては、例えば、乳酸、クエン酸、グリコール酸、コハク酸、酒石酸、リンゴ酸、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素アンモニウム等が挙げられる。防腐剤としては、例えば、パラオキシ安息香酸アルキルエステル、安息香酸、安息香酸ナトリウム、ソルビン酸、ソルビン酸カリウム、フェノキシエタノール等が挙げられる。

増粘剤としては、例えば、アラビアガム、トラガカントガム、キャブロガム、グアーガム、ペクチン、寒天、クインスシード、デンプン、アルゲコロイド、キサンタンガム、デキストラン、サクシノグルカン、コラーゲン、ゼラチン、カゼイン、アルブミン、カルボキシメチルデンプン、メチルセルロース、エチルセルロース、メチルヒドロキシプロピルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ニトロセルロース、セルロース硫酸ナトリウム、カルボキシメチルセルロースナトリウム、アルギニン酸ナトリウム、ポリビニルメチルエーテル、カルボキシビニルポリマー、ポリアクリル酸ナトリウム、ポリエチレンアクリレート、ポリアクリルアミド、カチオンポリマー等が挙げられる。

色素としては、タール色素、天然色素、無機顔料、高分子粉体等が挙げられる。香料としては、天然香料、合成香料、調合香料等が挙げられる。

他の薬剤としては、肌荒れ防止剤または抗炎症剤を挙げることができる。肌荒れ防止剤または抗炎症剤としては、例えば、グリチルリチン酸ジカリウム、グリチルレチン酸ステアリル、サリチル酸メチル、ピリドキシン塩酸塩、アラントイン、海塩、ソウハクヒエキス、アロエエキス、クチナシエキス、カミツレエキス、カンゾウエキス、ムクロジエキス、キョウニンエキス、オウゴンエキス、甜茶エキス、ビワエキス、イチョウエキス、オトギリソウエキス、セイヨウノコギリソウエキス、ベニバナエキス、トウヒエキス、サルビアエキス、シラカバエキス、チンピエキス、トウニンエキス、ガイヨウエキス、アルテアエキス、アルニカエキス、ニンジンエキス、シャクヤクエキス、センキュウエキス、ゲンチアナエキス、冬虫夏草エキス、オウバクエキス、インチンコウエキス、ゲンノショウコエキス、モモ葉エキス、クマザサエキス、ヨクイニンエキス、マロニエエキス、サンザシエキス、オウレンエキス、レイシエキス、トウキンセンカエキス、ペパーミントエキス、コンフリーエキス、ブッチャーブルームエキス、ウスベニアオイエキス、ヤグルマソウエキス、トゲナシエキス等が挙げられる。その他、育毛用薬剤、ニキビ用薬剤、ふけ・かゆみ用薬剤、腋臭防止用薬剤等も他の薬剤として挙げることができる。

本発明の化粧料の剤系は任意であり、溶液系、可溶化系、乳化系、ゲル系、粉末分散系、水−油二層系等いずれも可能であり、目的とする製品に応じて上記一般式（Ｉ）で表されるヒドロキシプロピルアルキルフェニルエーテル誘導体又はその塩と上記任意配合成分とを配合して製造することができる。

次に、本発明を実施するための具体的な形態を実施例によって説明するが、本発明の範囲は以下の実施例により限定されるものではない。

合成例１ １−（４’−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）プロピルの合成
４-ｔｅｒｔ−ブチルフェノール（１．００ｇ）に、水酸化ナトリウム（０．２６ｇ）、テトラブチルアンモニウムブロマイド（０．４３ｇ）を加え室温にて攪拌し、臭化プロピル（１．６４ｇ）を加え、さらに５０℃にて５時間攪拌したあと、酢酸エチル、水を加え酢酸エチルで目的物を抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で濃縮して得られた残渣１．３７ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン／酢酸エチル＝２０／１混液にて溶出し、減圧下にて濃縮を行い、生成物を得た。得られた生成物は、ＨＰＴＬＣ分析にて、各原料とは異なるＲｆ値でありＵＶ吸収を有するスポットが確認され、原料から次に示す構造式で表される１−（４’−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）プロピルと考えられる。

合成例２ １−（４’−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）エチルの合成
４-ｔｅｒｔ−ブチルフェノール（１．００ｇ）に、水酸化ナトリウム（０．２６ｇ）、テトラブチルアンモニウムブロマイド０．４３ｇを加え室温にて攪拌し、臭化エチル（２．２０ｇ）を加え、さらに４０℃にて５時間攪拌したあと、酢酸エチル、水を加え酢酸エチルで目的物を抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で濃縮して得られた残渣０．９７ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン／酢酸エチル＝２０／１混液にて溶出し、減圧下にて濃縮を行い、生成物を得た。得られた生成物は、ＨＰＴＬＣ分析にてＵＶ吸収のある化合物であることが確認され、原料から次に示す構造式で表される１−（４’−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）エチルと考えられる。

合成例３ １，２−ジ−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルの合成
フェニルグリシジルエーテル（１．００ｇ）に、水（５．００ｇ）、ＤＭＳＯ（１０．０ｇ）を加え攪拌し、濃硫酸（０．０６ｇ）を加え、８０℃にて５時間攪拌したあと、酢酸エチル、水を加え酢酸エチルで目的物を抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で濃縮して得られた残渣０．８５ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン／酢酸エチル＝２／１混液にて溶出し、減圧下にて濃縮を行い、生成物を得た。得られた生成物は、ＨＰＴＬＣ分析にてＵＶ吸収のある化合物であることが確認され、原料から次に示す構造式で表される１，２−ジ−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルと考えられる。

合成例４ １，２−ジ−ヒドロキシ−３−（２’−メチルフェノキシ）プロピルの合成
２−メチルフェノール（１．００ｇ）に、水酸化ナトリウム（０．３７ｇ）、テトラブチルアンモニウムブロマイド（０．３０ｇ）を加え室温にて攪拌し、グリシドール（０．７５ｇ）を加え、さらに５０℃にて５時間攪拌したあと、酢酸エチル、水を加え抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で濃縮して得られた残渣１．４９ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン／酢酸エチル＝１／１混液にて溶出し、減圧下にて濃縮を行い、生成物（０．４７ｇ）を得た。得られた生成物は、ＨＰＴＬＣ分析にてＵＶ吸収のある化合物であることが確認され、原料から次に示す構造式で表される１，２−ジ−ヒドロキシ−３−（２’−メチルフェノキシ）プロピルと考えられる。

実施例１ １，２−ジ−ヒドロキシ−３−（４’−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）プロピルの合成
４-ｔｅｒｔ−ブチルフェノール（１．００ｇ）に、水酸化ナトリウム（０．２６ｇ）、テトラブチルアンモニウムブロマイド（０．４３ｇ）を加え室温にて攪拌し、グリシドール（０．５０ｇ）を加え、さらに室温にて５時間攪拌したあと、酢酸エチル、水を加え酢酸エチルで目的物を抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で濃縮して得られた残渣１．３７ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン／酢酸エチル＝１／１混液にて溶出し、減圧下にて濃縮を行い生成物（０．７０ｇ）を得た。

得られた生成物について、¹Ｈ−ＮＭＲ、^１３Ｃ−ＮＭＲ測定を行い、この測定結果よりこの生成物は、前記構造式（III）で表される１，２−ジ−ヒドロキシ−３−（４’−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）プロピルであることが確認された。

ＮＭＲ（核磁気共鳴分光法）による分析結果を以下に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ １．２９（９Ｈ，ｓ），２．４９（ＯＨ，ｂｒｓ），２．９９（ＯＨ，ｂｒｓ），３．７４（１Ｈ，ｄｄ），３．８３（１Ｈ，ｄｄ），４．０２（２Ｈ，ｍ），４．１０（１Ｈ，ｍ），６．８５（２Ｈ，ｄ），７．３０（２Ｈ，ｄ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ ３１．４，３４．１，６３．７，６９．１，７０．４，１１３．９，１２６．３，１４４．０，１５６．１

実施例２ ２−ヒドロキシ−３−（４’−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）プロピルの合成
４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール（１．００ｇ）に、水酸化ナトリウム（０．５３ｇ）、テトラブチルアンモニウムブロマイド（０．４３ｇ）を加え室温にて攪拌し、プロピレンオキサイド（１．１６ｇ）を加え５０℃にて５時間攪拌したあと、酢酸エチル、水を加え酢酸エチルで目的物を抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で濃縮して得られた残渣１．３７ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン／酢酸エチル＝１／１混液にて溶出し、減圧下にて濃縮を行い、生成物（０．２０ｇ）を得た。

得られた生成物について、¹Ｈ−ＮＭＲ、^１３Ｃ−ＮＭＲ測定を行い、この測定結果より、この生成物は、下記構造式で表される２−ヒドロキシ−３−（４’−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）プロピルであることが確認された。

ＮＭＲ（核磁気共鳴分光法）による分析結果を以下に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ １．２９（９Ｈ，ｓ），１．３５（３Ｈ,ｄ）,１．６２（ＯＨ,ｂｒｓ），３．９３（２Ｈ，ｄｄ），５．２４（１Ｈ，ｍ），６．８５（２Ｈ，ｄ），７．３０（２Ｈ，ｄ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ １６．７，２１．３，３１．５，３４．１，６８．９，７０．０，１１４．１，１２６．２，１４３．８，１５６．３，１７０．６

実施例３ １−Ｏ−エチル−２−ヒドロキシ−３−（４’−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）プロピル及び２−Ｏ−エチル−１−ヒドロキシ−３−（４’−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）プロピルの合成
４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール（１．００ｇ）に、水酸化ナトリウム（０．２６ｇ）、テトラブチルアンモニウムブロマイド（０．４３ｇ）を加え室温にて攪拌し、エチルグリシジルエーテル（０．５０ｇ）を加え、さらに室温にて５時間攪拌したあと、酢酸エチル、水を加え酢酸エチルで目的物を抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で濃縮して得られた残渣１．３７ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン／酢酸エチル＝１／１混液にて溶出し、減圧下にて濃縮を行い、生成物Ｌ（０．３５ｇ）及び生成物Ｍ（０．０３ｇ）を得た。

生成物Ｌについて、¹Ｈ−ＮＭＲ、^１３Ｃ−ＮＭＲ測定を行い、この測定結果より、生成物Ｌは、前記構造式（II）で表される１−Ｏ−エチル−２−ヒドロキシ−３−（４’−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）プロピルであることが確認された。

ＮＭＲ（核磁気共鳴分光法）による分析結果を以下に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ １．２２（３Ｈ，ｔ），１．３０（９Ｈ，ｓ），３．５９（４Ｈ，ｍ），４．０１（２Ｈ，ｍ），４．１５（１Ｈ，ｍ），６．８６（２Ｈ，ｄ），７．３０（２Ｈ，ｄ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ １５．１，３１．５，３４．１，６６．９，６８．９，６９．１，７１．３，１１４．０，１２６．３，１４３．８，１５６．３

生成物Ｍについても、¹Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲ測定を行い、この測定結果より、生成物Ｍは、下記構造式（VI）で表される２−Ｏ−エチル−１−ヒドロキシ−３−（４’−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）プロピルであることが確認された。

ＮＭＲ（核磁気共鳴分光法）による分析結果を以下に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ １．２５（３Ｈ，ｔ），１．３０（９Ｈ，ｓ），３．７１（５Ｈ，ｍ），４．０３（２Ｈ，ｔ−ｌｉｋｅ）６．８５（２Ｈ，ｄ），７．３０（２Ｈ，ｄ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ １５．７，３１．６，３４．２，６２．７，６６．０，６７．４，７８．０，１１４．０，１２６．３，１４３．８，１５６．４

実施例４ １−Ｏ−エチル−２−ヒドロキシ−３−（４’−ｓｅｃ−ブチルフェノキシ）プロピルの合成
４−ｓｅｃ−ブチルフェノール（１．００ｇ）に、水酸化ナトリウム（０．２６ｇ）、テトラブチルアンモニウムブロマイド（０．４３ｇ）を加え室温にて攪拌し、エチルグリシジルエーテル（０．５０ｇ）を加え、さらに室温にて５時間攪拌したあと、酢酸エチル、水を加え酢酸エチルで目的物を抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で濃縮して得られた残渣１．１７ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン／酢酸エチル＝１／１混液にて溶出し、減圧下にて濃縮を行い、生成物Ａ（０．３８ｇ）及び生成物Ｂ（０．０４ｇ）を得た。

生成物Ａについて、¹Ｈ−ＮＭＲ、^１３Ｃ−ＮＭＲ測定を行い、この測定結果より、生成物Ａは、前記構造式（Ａ）で表される１−Ｏ−エチル−２−ヒドロキシ−３−（４’−ｓｅｃ−ブチルフェノキシ）プロピルであることが確認された。

ＮＭＲ（核磁気共鳴分光法）による分析結果を以下に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ ０．８０（３Ｈ，ｔ），１．２１（６Ｈ，ｍ），１．５５（２Ｈ，ｍ），２．５４（１Ｈ，ｍ），３．５９（４Ｈ，ｍ），４．０１（２Ｈ，ｍ），４．１３（１Ｈ，ｍ），６．８４（２Ｈ，ｄ），７．０９（２Ｈ，ｄ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ １２．２，１５．１，２２．０，３１．３，４０．８，６６．９，６８．９，６９．２，７０．５，１１４．３，１２８．０，１４０．５，１５６．４

また、生成物Ｂは、ＨＰＴＬＣ分析にてＵＶ吸収のある化合物であることが確認された。そして、原料及びその反応性等から得られた生成物Ｂは、下記構造式（Ｂ）で表される１−ヒドロキシ−２−Ｏ−エチル−３−（４’−ｓｅｃ−ブチルフェノキシ）プロピルと考えられる。

実施例５ １，２−ジ−ヒドロキシ−３−（４’−ｓｅｃ−ブチルフェノキシ）プロピルの合成
４-ｓｅｃ−ブチルフェノール（１．００ｇ）に、水酸化ナトリウム（０．２６ｇ）、テトラブチルアンモニウムブロマイド（０．４３ｇ）を加え室温にて攪拌し、グリシドール（０．５０ｇ）を加え、さらに室温にて５時間攪拌したあと、酢酸エチル、水を加え酢酸エチルで目的物を抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で濃縮して得られた残渣１．２６ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン／酢酸エチル＝１／１混液にて溶出し、減圧下にて濃縮を行い、生成物（０．６５ｇ）を得た。

得られた生成物について、¹Ｈ−ＮＭＲ、^１３Ｃ−ＮＭＲ測定を行い、この測定結果より、この生成物は、前記構造式（Ｄ）で表される１，２−ジ−ヒドロキシ−３−（４’−ｓｅｃ−ブチルフェノキシ）プロピルであることが確認された。

ＮＭＲ（核磁気共鳴分光法）による分析結果を以下に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ ０．８０（３Ｈ，ｔ），１．２０（３Ｈ，ｄ），１．５５（２Ｈ，ｍ），２．５４（１Ｈ，ｍ），３．７４（１Ｈ，ｄｄ），３．８３（１Ｈ，ｄｄ），４．０１（１Ｈ，ｍ），４．１０（１Ｈ，ｍ），６．８４（２Ｈ，ｄ），７．０９（２Ｈ，ｄ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ １２．２，２２．０，３１．３，４０．８，６３．７，６９．２，７０．５，１１４．３，１２８．０，１４０．５，１５６．４

実施例６ １，２−ジ−ヒドロキシ−３−（２’−ｓｅｃ−ブチルフェノキシ）プロピルの合成
２-ｓｅｃ−ブチルフェノール（１．００ｇ）に、水酸化ナトリウム（０．２６ｇ）、テトラブチルアンモニウムブロマイド（０．４３ｇ）を加え室温にて攪拌し、グリシドール（０．５０ｇ）を加え、さらに室温にて５時間攪拌したあと、酢酸エチル、水を加え酢酸エチルで目的物を抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で濃縮して得られた残渣１．４３ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン／酢酸エチル＝１／１混液にて溶出し、減圧下にて濃縮を行い、生成物（０．６５ｇ）を得た。

得られた生成物について、¹Ｈ−ＮＭＲ、^１３Ｃ−ＮＭＲ測定を行い、この測定結果より、この生成物は、下記構造式（Ｐ）で表される１，２−ジ−ヒドロキシ−３−（２’−ｓｅｃ−ブチルフェノキシ）プロピルであることが確認された。

ＮＭＲ（核磁気共鳴分光法）による分析結果を以下に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ ０．８４（３Ｈ，ｔ），１．２０（３Ｈ，ｄ），１．６０（２Ｈ，ｍ），２．６６（ＯＨ，ｂｒｓ）３．０６（１Ｈ，ｍ），３．７８（１Ｈ，ｄｄｄ），３．８７（１Ｈ，ｄｄ），４．０５（２Ｈ，ｄ），４．１４（１Ｈ，ｍ），６．８５（１Ｈ，ｄ），６．９６（２Ｈ，ｄｔ−ｌｉｋｅ），７．１６（２Ｈ，ｍ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ １２．２，２２．５，２９．９，３３．６，６３．９，６９．３，７０．６，１１４．５，１２１．３，１２６．６，１２６．９，１３５．９，１５５．７

実施例７ １，２−ジ−オクタノイル−３−（４’−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）プロピルの合成
実施例１で得られた、１，２−ジ−ヒドロキシ−３−（４’−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）プロピル（１．００ｇ）に、ＤＭＦ７ｍＬ、トリエチルアミン（０．３０ｇ）を加え室温にて攪拌し、ｎ−カプリル酸無水物（０．８０ｇ）を加えた。８０℃にて２時間攪拌したあと、酢酸エチル、水を加え酢酸エチルで目的物を抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で濃縮して得られた残渣１．９７ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン／酢酸エチル＝５／１混液にて溶出し、減圧下にて濃縮を行い、生成物（０．６５ｇ）を得た。

得られた生成物について、¹Ｈ−ＮＭＲ、^１３Ｃ−ＮＭＲ測定を行い、この測定結果より、この生成物は、前記構造式（Ｃ）で表される１，２−ジ−オクタノイル−３−（４’−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）プロピル（０．６５ｇ）であることが確認された。

ＮＭＲ（核磁気共鳴分光法）による分析結果を以下に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ ０．８８（６Ｈ，ｍ），１．３０（２５Ｈ，ｓ），１．６３（４Ｈ，ｍ），２．３６（４Ｈ，ｍ），４．０１（２Ｈ，ｍ），４．２６（３Ｈ，ｍ），６．８５（２Ｈ，ｄ），７．３１（２Ｈ，ｄ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ １４．１，２２．６，２４．７，２４．９，２９．０，２９．０７，２９．１３，３４．０９，３４．１４，３４．２０，６５．２，６８．７，６８．６５，６８．７０，１１４．０，１２６．４，１４４．１，１５６．１，１７４．２，１７９．８

実施例８ ２−ヒドロキシ−１，３−ジ−（４’−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）プロピルの合成
エピクロロヒドリン（１．００ｇ）に、水酸化ナトリウム（０．４３ｇ）、テトラブチルアンモニウムブロマイド（０．４３ｇ）を加え室温にて攪拌し、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール（１．９６ｇ）を加え、さらに室温にて５時間攪拌したあと、酢酸エチル、水を加え酢酸エチルで目的物を抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で濃縮して得られた残渣１．８７ｇに、テトラブチルアンモニウムブロマイド（０．１９ｇ）、水酸化ナトリウム（０．２４ｇ）を加え、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール（１．９６ｇ）を加えた。８０℃にて２時間攪拌したあと、酢酸エチル、水を加え抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に濃縮をし得られた残渣２．５６ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１混液にて溶出し、減圧下にて濃縮を行い、生成物（０．４８ｇ）を得た。

得られた生成物について、¹Ｈ−ＮＭＲ、^１３Ｃ−ＮＭＲ測定を行い、この測定結果より、この生成物は、下記構造式で表される２−ヒドロキシ−１，３−ジ−（４’−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）プロピルであることが確認された。

ＮＭＲ（核磁気共鳴分光法）による分析結果を以下に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ １．３０（１８Ｈ，ｓ），１．６３（ＯＨ，ｂｒｓ），２．６４（ＯＨ，ｂｒｓ），４．１３（４Ｈ，ｍ），４．１７（１Ｈ，ｍ），６．８７（４Ｈ，ｍ），７．２８（４Ｈ，ｄ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ ３１．４，３４．１，６８．７，６８．８，１１４．０，１２６．３，１４３．９，１５６．１

実施例９ １−（４”−ヒドロキシフェノキシ）−２−ヒドロキシ−３−（４’−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）プロピルの合成
エピクロロヒドリン（１．００ｇ）に、水酸化ナトリウム（０．４３ｇ）、テトラブチルアンモニウムブロマイド（０．４３ｇ）を加え室温にて攪拌し、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール（１．９６ｇ）を加えた。さらに室温にて５時間攪拌したあと、酢酸エチル、水を加え酢酸エチルで目的物を抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で濃縮して得られた残渣１．８７ｇに、テトラブチルアンモニウムブロマイド（０．１９ｇ）、水酸化ナトリウム（０．２４ｇ）を加え、ハイドロキノン（１．４３ｇ）を加え、８０℃にて２時間攪拌したあと、酢酸エチル、水を加え抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に濃縮をし得られた残渣２．５６ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン／酢酸エチル＝３／１混液にて溶出し、減圧下にて濃縮を行い、生成物（０．２７ｇ）を得た。

得られた生成物について、¹Ｈ−ＮＭＲ、^１３Ｃ−ＮＭＲ測定を行い、この測定結果より、この生成物は、下記構造式で表される１−（４”−ヒドロキシフェノキシ）−２−ヒドロキシ−３−（４’−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）プロピルであることが確認された。

ＮＭＲ（核磁気共鳴分光法）による分析結果を以下に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ １．３０（９Ｈ，ｓ），１．６４（ＯＨ，ｂｒｓ），２．６４（ＯＨ，ｂｒｓ），４．１０（４Ｈ，ｍ），４．１３（１Ｈ，ｂｒｓ），６．８１（４Ｈ，ｍ），７．３１
^１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ ３１．５，３４．１，６８．７，６８．８，６９．４，１１４．０，１１５．５，１２６．３，１４４．０，１５３．０，１５６．１

実施例１０ ジ［２−ヒドロキシ−３−（４’−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）プロピル］エーテルの合成
エピクロロヒドリン（１．００ｇ）に、水酸化ナトリウム（０．４３ｇ）、テトラブチルアンモニウムブロマイド０．４３ｇを加え室温にて攪拌し、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール（１．９６ｇ）を加え、さらに室温にて５時間攪拌したあと、酢酸エチル、水を加え酢酸エチルで目的物を抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で濃縮して得られた残渣１．８７ｇに、テトラブチルアンモニウムブロマイド（０．１９ｇ）、水酸化ナトリウム（０．２４ｇ）を加え、実施例１で得られた１，２−ジ−ヒドロキシ−３−（４’−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）プロピル（２．１９ｇ）を加え、８０℃にて２時間攪拌したあと、酢酸エチル、水を加え抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に濃縮をし得られた残渣２．５６ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン／酢酸エチル＝５／１混液にて溶出し、減圧下にて濃縮を行い、生成物（０．３５ｇ）を得た。

得られた生成物について、¹Ｈ−ＮＭＲ、^１３Ｃ−ＮＭＲ測定を行い、この測定結果より、この生成物は、下記構造式で表されるジ［２−ヒドロキシ−３−（４’−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）プロピル］エーテルであることが確認された。

ＮＭＲ（核磁気共鳴分光法）による分析結果を以下に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ １．２９（１８Ｈ，ｓ），１．６７（ＯＨ，ｂｒｓ），２．８２（ＯＨ，ｂｒｓ），３．２８（ＯＨ，ｂｒｓ），３．７１（２Ｈ，ｍ），３．８５（２Ｈ，ｍ），３．９８（４Ｈ，ｍ），４．１４（２Ｈ，ｍ），６．８４（４Ｈ，ｍ），７．２９（４Ｈ，ｍ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ ３１．５，３４．１，６７．７，６７．８，６８．５，６８．７，６９．０８，６９．１５，６９．１８，６９．４２，７１．５，７１．６，７２．１，７２．４，７２．７，１１４．０，１２６．２４，１２６．２９，１４３．７，１４３．８，１４３．９，１５６．１，１５６．２，１５６．３

実施例１１ １−Ｏ−セチル−２−ヒドロキシ−３−（４’−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）プロピルの合成
エピクロロヒドリン（１．００ｇ）に、水酸化ナトリウム（０．４３ｇ）、テトラブチルアンモニウムブロマイド０．４３ｇを加え室温にて攪拌し、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール（１．９６ｇ）を加え、さらに室温にて５時間攪拌したあと、酢酸エチル、水を加え抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で濃縮して得られた残渣１．８７ｇに、セチルアルコール（３．１６ｇ）、濃硫酸（０．２１ｇ）を加え、８０℃にて２４時間攪拌したあと、酢酸エチル、水を加え酢酸エチルで目的物を抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で濃縮して得られた残渣３．０２ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン／酢酸エチル＝２／１混液にて溶出し、減圧下にて濃縮を行い、生成物（０．３０ｇ）を得た。

得られた生成物について、¹Ｈ−ＮＭＲ、^１３Ｃ−ＮＭＲ測定を行い、この測定結果より、この生成物は、下記構造式で表される１−Ｏ−セチル−２−ヒドロキシ−３−（４’−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）プロピルであることが確認された。

ＮＭＲ（核磁気共鳴分光法）による分析結果を以下に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ ０．８６（９Ｈ，ｔ），１．２４，１．２８（３５Ｈ，ｓ），１．５６（２Ｈ，ｍ），３．４６（２Ｈ，ｍ），３．５６（２Ｈ，ｍ），３．９９（２Ｈ，ｍ），４．１３（１Ｈ，ｍ），６．８４（２Ｈ，ｄ），７．２８（２Ｈ，ｄ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ １４．１，２２．７，２６．１，２９．３，２９．５，２９．６，２９．７，３１．５，３１．９，３４．０，６８．９，６９．１，７１．４，７１．７，１１４．０，１２６．２，１４３．７，１５６．３

実施例１２ １，２−ジ−ヒドロキシ−３−（４’−ｎ−ブチルフェノキシ）プロピルの合成
４−ｎ−ブチルフェノール（１．００ｇ）に、水酸化ナトリウム（０．２６ｇ）、テトラブチルアンモニウムブロマイド（０．４３ｇ）を加え室温にて攪拌し、グリシドール（０．５０ｇ）を加えた。さらに５０℃にて５時間攪拌したあと、酢酸エチル、水を加え酢酸エチルで目的物を抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で濃縮して得られた残渣１．２８ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン／酢酸エチル＝２／１混液にて溶出し、減圧下にて濃縮を行い、生成物（０．５８ｇ）を得た。

得られた生成物について、¹Ｈ−ＮＭＲ、^１３Ｃ−ＮＭＲ測定を行い、この測定結果より、この生成物は、下記構造式で表される１，２−ジ−ヒドロキシ−３−（４’−ｎ−ブチルフェノキシ）プロピルであることが確認された。

ＮＭＲ（核磁気共鳴分光法）による分析結果を以下に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ ０．９０（３Ｈ，ｔ），１．３２（２Ｈ，ｍ），１．５４（２Ｈ，ｍ），２．５２（２Ｈ，ｔ），３．７１（１Ｈ，ｄｄ），３．８０（１Ｈ，ｄｄ），３．９８（２Ｈ，ｍ），４．０７（１Ｈ，ｍ），６．８０（２Ｈ，ｄ），７．０６（２Ｈ，ｄ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ １３．９，２２．２，３３．８，３４．７，６３．７，６９．１，７０．４，１１４．３，１２９．３，１３５．７，１５６．３

実施例１３ １，２−ジ−ヒドロキシ−３−（４’−イソプロピルフェノキシ）プロピルの合成
４−イソプロピルフェノール（１．００ｇ）に、水酸化ナトリウム（０．２９ｇ）、テトラブチルアンモニウムブロマイド（０．２４ｇ）を加え室温にて攪拌し、グリシドール（０．６０ｇ）を加え、さらに５０℃にて５時間攪拌したあと、酢酸エチル、水を加え酢酸エチルで目的物を抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で濃縮して得られた残渣１．３８ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン／酢酸エチル＝２／１混液にて溶出し、減圧下にて濃縮を行い、生成物（０．５３ｇ）を得た。

得られた生成物について、¹Ｈ−ＮＭＲ、^１３Ｃ−ＮＭＲ測定を行い、この測定結果より、この生成物は、下記構造式で表される１，２−ジ−ヒドロキシ−３−（４’−イソプロピルフェノキシ）プロピルであることが確認された。

ＮＭＲ（核磁気共鳴分光法）による分析結果を以下に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ １．２０（６Ｈ，ｄ），２．８４（１Ｈ，ｍ），３．７２（１Ｈ，ｄｄ），３．８１（１Ｈ，ｄｄ），３．９９（２Ｈ，ｄ−ｌｉｋｅ），４．０８（１Ｈ，ｍ），６．８２（２Ｈ，ｄ），７．１２（２Ｈ，ｄ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ ２４．１，３３．２，６３．７，６９．２，７０．４，１１４．３，１２７．３，１４１．７，１５６．４

実施例１４ １，２−ジ−ヒドロキシ−３−（４’−エチルフェノキシ）プロピルの合成
４−エチルフェノール（１．００ｇ）に、水酸化ナトリウム（０．３３ｇ）、テトラブチルアンモニウムブロマイド（０．２６ｇ）を加え室温にて攪拌し、グリシドール（０．６７ｇ）を加え、さらに５０℃にて５時間攪拌したあと、酢酸エチル、水を加え酢酸エチルで目的物を抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で濃縮して得られた残渣１．２６ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン／酢酸エチル＝２／１混液にて溶出し、減圧下にて濃縮を行い、生成物（０．４０ｇ）を得た。

得られた生成物について、¹Ｈ−ＮＭＲ、^１３Ｃ−ＮＭＲ測定を行い、この測定結果より、この生成物は、下記構造式で表される１，２−ジ−ヒドロキシ−３−（４’−エチルフェノキシ）プロピルであることが確認された。

ＮＭＲ（核磁気共鳴分光法）による分析結果を以下に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ １．１８（３Ｈ，ｓ），２．５７（２Ｈ,ｄ），３．７２（１Ｈ，ｄｄ），３．８１（１Ｈ，ｄｄ），３．９９（１Ｈ，ｂｒｄ），４．０７（１Ｈ，ｂｒｄ），６．８１（２Ｈ，ｄ），７．０８（２Ｈ，ｄ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ １５．８，２７．９，６３．７，６９．２，７０．４，１１４．４，１２８．８，１３７．１，１５６．３

実施例１５ １，２−ジ−ヒドロキシ−３−（４’−ｔｅｒｔ−アミルフェノキシ）プロピルの合成
４−ｔｅｒｔ−アミルフェノール（１．００ｇ）に、水酸化ナトリウム（０．２４ｇ）、テトラブチルアンモニウムブロマイド（０．２０ｇ）を加え室温にて攪拌し、グリシドール（０．５０ｇ）を加え、さらに５０℃にて５時間攪拌したあと、酢酸エチル、水を加え酢酸エチルで目的物を抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で濃縮して得られた残渣１．２２ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン／酢酸エチル＝２／１混液にて溶出し、減圧下にて濃縮を行い、生成物（０．５０ｇ）を得た。

得られた生成物について、¹Ｈ−ＮＭＲ、^１３Ｃ−ＮＭＲ測定を行い、この測定結果より、この生成物は、下記構造式で表される１，２−ジ−ヒドロキシ−３−（４’−ｔｅｒｔ−アミルフェノキシ）プロピルであることが確認された。

ＮＭＲ（核磁気共鳴分光法）による分析結果を以下に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ ０．６５（３Ｈ，ｔ），１．３５（９Ｈ，ｍ），１．５９（１Ｈ，ｑ），３．５８（４Ｈ，ｍ），４．００（２Ｈ，ｍ），４．１５（１Ｈ，ｍ），６．８４（２Ｈ，ｄ），７．２２（２Ｈ，ｄ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ ９．１，１５．１，２８．６，３６．９，３７．３，６６．９，６８．９，６９．１，７１．３，１１３．９，１２６．９，１４２．０，１５６．２

実施例１６ １，２−ジ−ヒドロキシ−３−（４’−α−クミルフェノキシ）プロピルの合成
４−α−クミルフェノール（１．００ｇ）に、水酸化ナトリウム（０．１９ｇ）、テトラブチルアンモニウムブロマイド（０．１５ｇ）を加え室温にて攪拌し、グリシドール（０．３８ｇ）を加えた。さらに５０℃にて５時間攪拌したあと、酢酸エチル、水を加え酢酸エチルで目的物を抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で濃縮して得られた残渣１．０５ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン／酢酸エチル＝２／１混液にて溶出し、減圧下にて濃縮を行い生成物（０．３１ｇ）を得た。

得られた生成物について、¹Ｈ−ＮＭＲ、^１３Ｃ−ＮＭＲ測定を行い、この測定結果より、この生成物は、下記構造式で表される１，２−ジ−ヒドロキシ−３−（４’−α−クミルフェノキシ）プロピルであることが確認された。

ＮＭＲ（核磁気共鳴分光法）による分析結果を以下に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ １．６６（６Ｈ，ｓ），（１Ｈ，ｍ），３．７３（１Ｈ，ｄｄ），３．８３（１Ｈ，ｄｄ），４．０１（２Ｈ，ｍ），４．１０（１Ｈ，ｍ），６．８１（２Ｈ，ｄ），７．１６（３Ｈ，ｍ），７．２５（４Ｈ，ｍ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ ３０．８，４２．３，６３．７，６９．１，７０．４，１１３．９，１２５．６，１２６．７，１２７．８６，１２７．９４，１４３．６，１５０．７，１５６．２

実施例１７ １，２−ジ−ヒドロキシ−３−［４’−（１”，１”，３”，３”−テトラメチルブチルフェノキシ］プロピルの合成
４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール（１．００ｇ）に、水酸化ナトリウム（０．１９ｇ）、テトラブチルアンモニウムブロマイド（０．１５ｇ）を加え室温にて攪拌し、グリシドール（０．４０ｇ）を加え、さらに５０℃にて５時間攪拌したあと、酢酸エチル、水を加え酢酸エチルで目的物を抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で濃縮して得られた残渣１．１０ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン／酢酸エチル＝２／１混液にて溶出し、減圧下にて濃縮を行い、生成物（０．４０ｇ）を得た。

得られた生成物について、¹Ｈ−ＮＭＲ、^１３Ｃ−ＮＭＲ測定を行い、この測定結果より、この生成物は、下記構造式（Ｇ）で表される１，２−ジ−ヒドロキシ−３−［４’−（１”，１”，３”，３”−テトラメチルブチルフェノキシ］プロピルであることが確認された。

ＮＭＲ（核磁気共鳴分光法）による分析結果を以下に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ ０．７０（９Ｈ，ｓ），１．２２（３Ｈ，ｍ），１．３３（３Ｈ，ｓ），１．６９（２Ｈ，ｓ），３．５８（４Ｈ，ｍ），４．００（２Ｈ，ｍ），４．１５（１Ｈ，ｍ），６．８３（２Ｈ，ｄ），７．２６（２Ｈ，ｄ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ １５．１，３１．６，３１．７，３２．３，３７．９，５６．９，６６．９，６８．９，６９．１，７１．３，１１３．７，１２７．１，１４２．６，１５６．２

実施例１８ １−ヒドロキシ−３−（４’−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）プロピルの合成
４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール（１．００ｇ）に、水酸化ナトリウム（０．１９ｇ）、テトラブチルアンモニウムブロマイド（０．２１ｇ）を加え室温にて攪拌し、３−ブロモ−１−ヒドロキシプロピル（１．０２ｇ）を加え、さらに５０℃にて５時間攪拌したあと、酢酸エチル、水を加え酢酸エチルで目的物を抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で濃縮して得られた残渣１．９８ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン／酢酸エチル＝２／１混液にて溶出し、減圧下にて濃縮を行い、生成物（０．３８ｇ）を得た。

得られた生成物は、ＨＰＴＬＣ分析にてＵＶ吸収のある化合物であることが確認され、原料から下記構造式で表される１−ヒドロキシ−３−（４’−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）プロピルと考えられる。

実施例１９ １，２−ジ−ヒドロキシ−３−（２’，６’−ジ−ｓｅｃ−ブチルフェノキシ）プロピルの合成
２，６−ジ−ｓｅｃ−ブチルフェノール（１．００ｇ）に、水酸化ナトリウム（０．１９ｇ）、テトラブチルアンモニウムブロマイド（０．１６ｇ）を加え室温にて攪拌し、グリシドール（０．４０ｇ）を加えた。さらに５０℃にて５時間攪拌したあと、酢酸エチル、水を加え酢酸エチルで目的物を抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で濃縮して得られた残渣１．２４ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン／酢酸エチル＝３／１混液にて溶出し、減圧下にて濃縮を行い、生成物（０．１７ｇ）を得た。

得られた生成物は、ＨＰＴＬＣ分析にてＵＶ吸収のある化合物であることが確認され、原料から下記構造式で表される１，２−ジ−ヒドロキシ−３−（２’，６’−ジ−ｓｅｃ−ブチルフェノキシ）プロピルと考えられる。

実施例２０ １，２−ジ−ヒドロキシ−３−（２’，４’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）プロピルの合成
２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール（１．００ｇ）に、水酸化ナトリウム（０．１９ｇ）、テトラブチルアンモニウムブロマイド（０．１６ｇ）を加え室温にて攪拌し、グリシドール（０．４０ｇ）を加え、さらに５０℃にて５時間攪拌したあと、酢酸エチル、水を加え酢酸エチルで目的物を抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で濃縮して得られた残渣１．１５ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン／酢酸エチル＝２／１混液にて溶出し、減圧下にて濃縮を行い、生成物（０．３１ｇ）を得た。

得られた生成物について、¹Ｈ−ＮＭＲ、^１３Ｃ−ＮＭＲ測定を行い、この測定結果より、この生成物は、下記構造式で表される１，２−ジ−ヒドロキシ−３−（２’，４’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）プロピルであることが確認された。

ＮＭＲ（核磁気共鳴分光法）による分析結果を以下に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ １．２９（９Ｈ，ｓ），１．３８（９Ｈ，ｓ），３．７７（１Ｈ，ｄｄ），３．８８（１Ｈ，ｄｄ），４．０５（２Ｈ，ｍ），４．１８（１Ｈ，ｍ），６．８０（１Ｈ，ｄ），７．１６（１Ｈ，ｍ），７．３２（１Ｈ，ｄ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ ３０．０，３１．５，３４．３，３５．０，６４．０，６８．９，７０．８，１１１．５，１２３．５，１２４．１，１３７．１，１４３．２，１５４．８

実施例２１ １，２−ジ−ヒドロキシ−３−（２’，４’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェノキシ）プロピルの合成
２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェノール（１．００ｇ）に、水酸化ナトリウム（０．１８ｇ）、テトラブチルアンモニウムブロマイド（０．１５ｇ）を加え室温にて攪拌し、グリシドール（０．３４ｇ）を加え、さらに５０℃にて５時間攪拌したあと、酢酸エチル、水を加え酢酸エチルで目的物を抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で濃縮して得られた残渣１．２０ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン／酢酸エチル＝２／１混液にて溶出し、減圧下にて濃縮を行い、生成物（０．２７ｇ）を得た。

得られた生成物について、¹Ｈ−ＮＭＲ、^１３Ｃ−ＮＭＲ測定を行い、この測定結果より、この生成物は、下記構造式で表される１，２−ジ−ヒドロキシ−３−（２’,４’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェノキシ）プロピルの合成であることが確認された。

ＮＭＲ（核磁気共鳴分光法）による分析結果を以下に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ １．３６（２１Ｈ，ｂｒｓ），３．７６（１Ｈ，ｄｄ），３．８７（１Ｈ，ｄｄ），４．０６（２Ｈ，ｍ），４．１６（１Ｈ，ｍ），６．６３（１Ｈ，ｓ），７．２９（１Ｈ，ｓ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ ２２．８，３０．１，３１．１，３４．８，３５．５，６４．０，６８．９，７０．８，１１６．５，１２５．１，１３４．２，１３４．８，１４０．０，１５４．４

実施例２２ １，２−ジ−ヒドロキシ−３−（２’，６’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メチルフェノキシ）プロピルの合成
２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール（１．００ｇ）に、水酸化ナトリウム（０．１８ｇ）、テトラブチルアンモニウムブロマイド（０．１５ｇ）を加え室温にて攪拌し、グリシドール（０．３４ｇ）を加え、さらに５０℃にて５時間攪拌したあと、酢酸エチル、水を加え酢酸エチルで目的物を抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で濃縮して得られた残渣１．１５ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン／酢酸エチル＝２／１混液にて溶出し、減圧下にて濃縮を行い生成物（０．３１ｇ）を得た。

得られた生成物は、ＨＰＴＬＣ分析にてＵＶ吸収のある化合物であることが確認され、原料から下記構造式で表される１，２−ジ−ヒドロキシ−３−（２’，６’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メチルフェノキシ）プロピルと考えられる。

実施例２３ １，２−ジ−ヒドロキシ−３−（２’−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシフェノキシ）プロピルの合成
２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノール（１．００ｇ）に、水酸化ナトリウム（０．２２ｇ）、テトラブチルアンモニウムブロマイド（０．１８ｇ）を加え室温にて攪拌し、グリシドール（０．４５ｇ）を加え、さらに５０℃にて５時間攪拌したあと、酢酸エチル、水を加え酢酸エチルで目的物を抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で濃縮して得られた残渣１．３９ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン／酢酸エチル＝２／１混液にて溶出し、減圧下にて濃縮を行い、生成物（０．５０ｇ）を得た。

得られた生成物は、ＨＰＴＬＣ分析にてＵＶ吸収のある化合物であることが確認され、原料から下記構造式で表される１，２−ジ−ヒドロキシ−３−（２’−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシフェノキシ）プロピルと考えられる。

実施例２４ １，２−ジ−ヒドロキシ−３−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシフェノキシ）プロピルの合成
３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノール（１．００ｇ）に、水酸化ナトリウム（０．２２ｇ）、テトラブチルアンモニウムブロマイド（０．１８ｇ）を加え室温にて攪拌し、グリシドール（０．４５ｇ）を加え、さらに５０℃にて５時間攪拌したあと、酢酸エチル、水を加え酢酸エチルで目的物を抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で濃縮して得られた残渣１.２０ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン／酢酸エチル＝２／１混液にて溶出し、減圧下にて濃縮を行い、生成物（０．４１ｇ）を得た。

得られた生成物は、ＨＰＴＬＣ分析にてＵＶ吸収のある化合物であることが確認され、原料から下記構造式で表される１，２−ジ−ヒドロキシ−３−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシフェノキシ）プロピルと考えられる。

実施例２５ ２，２−ビス［４’−（１”，２”−ジ−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］プロパンの合成
２，２−ビス（４−グリシジルオキシフェニル）プロパン（１．００ｇ）に、水（５．０ｇ）、ＤＭＳＯ（１０．０ｇ）を加え室温にて攪拌し、濃硫酸（０．０６ｇ）を加え、さらに８０℃にて２時間攪拌したあと、酢酸エチル、水を加え酢酸エチルで目的物を抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で濃縮して得られた残渣１．５４ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン／酢酸エチル＝３／１混液にて溶出し、減圧下にて濃縮を行い、生成物（０．４０ｇ）を得た。

得られた生成物は、ＨＰＴＬＣ分析にてＵＶ吸収のある化合物であることが確認され、原料から下記構造式で表される２，２−ビス［４’−（１”，２”−ジ−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］プロパンと考えられる。

実施例２６ １−Ｏ−（２”−エチルヘキシル）−２−ヒドロキシ−３−（２’−ｓｅｃ−ブチルフェノキシ）プロピルの合成
２−エチルヘキシルグリシジルエーテル（１．００ｇ）に、水酸化ナトリウム（０．２２ｇ）、テトラブチルアンモニウムブロマイド（０．１７ｇ）を加え室温にて攪拌し、２−ｓｅｃ−ブチルフェノール（０．８９ｇ）を加え、さらに室温にて５時間攪拌したあと、酢酸エチル、水を加え酢酸エチルで目的物を抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で濃縮して得られた残渣１．６７ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン／酢酸エチル＝２／１混液にて溶出し、減圧下にて濃縮を行い、生成物（０．１０ｇ）を得た。

得られた生成物は、ＨＰＴＬＣ分析にてＵＶ吸収のある化合物であることが確認され、原料から下記構造式で表される１−Ｏ−（２”−エチルヘキシル）−２−ヒドロキシ−３−（２’−ｓｅｃ−ブチルフェノキシ）プロピルと考えられる。

実施例２７ １−Ｏ−エチル−２−ヒドロキシ−３−（２’−ｓｅｃ−ブチルフェノキシ）プロピルの合成
２−ｓｅｃ−ブチルフェノール（１．００ｇ）に、水酸化ナトリウム（０．２７ｇ）、テトラブチルアンモニウムブロマイド（０．２２ｇ）を加え室温にて攪拌し、エチルグリシジルエーテル（０．７５ｇ）を加え、さらに５０℃にて５時間攪拌したあと、酢酸エチル、水を加え酢酸エチルで目的物を抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で濃縮して得られた残渣１．６９ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン／酢酸エチル＝２／１混液にて溶出し、減圧下にて濃縮を行い、生成物（０．５４ｇ）を得た。

得られた生成物について、¹Ｈ−ＮＭＲ、^１３Ｃ−ＮＭＲ測定を行い、この測定結果より、この生成物は、下記構造式（Ｊ）で表される１−Ｏ−エチル−２−ヒドロキシ−３−（２’−ｓｅｃ−ブチルフェノキシ）プロピルであることが確認された。

ＮＭＲ（核磁気共鳴分光法）による分析結果を以下に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ ０．８３（３Ｈ，ｔ），１．２３（６Ｈ，ｍ），１．５７（２Ｈ，ｍ），３．０７（１Ｈ，ｍ），３．５９（４Ｈ，ｍ），４．０１（２Ｈ，ｄ−ｌｉｋｅ），４．１７（１Ｈ，ｍ），６．８４（１Ｈ，ｄ），６．９３（１Ｈ，ｔ−ｌｉｋｅ），７．１４（２Ｈ，ｍ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ １２．２，１５．１，２０．４，２９．９，３３．６，６６．９，６８．９，６９．２，７１．４，１１１．５，１２１．０，１２６．５，１２６．８，１３５．９，１５５．９

実施例２８ １−Ｏ−エチル−２−ヒドロキシ−３−（４’−α−クミルフェノキシ）プロピルの合成
４−クミルフェノール（１．００ｇ）に、水酸化ナトリウム（０．１９ｇ）、テトラブチルアンモニウムブロマイド（０．１５ｇ）を加え室温にて攪拌し、エチルグリシジルエーテル（０．５３ｇ）を加え５０℃にて５時間攪拌したあと、酢酸エチル、水を加え酢酸エチルで目的物を抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で濃縮して得られた残渣１．５０ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン／酢酸エチル＝２／１混液にて溶出し、減圧下にて濃縮を行い、生成物（０．４７ｇ）を得た。

得られた生成物について、¹Ｈ−ＮＭＲ、^１３Ｃ−ＮＭＲ測定を行い、この測定結果より、この生成物は、下記構造式で表される１−Ｏ−エチル−２−ヒドロキシ−３−（４’−α−クミルフェノキシ）プロピルであることが確認された。

ＮＭＲ（核磁気共鳴分光法）による分析結果を以下に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ １．２２（３Ｈ，ｔ），１．６６（６Ｈ，ｍ），３．５８（４Ｈ，ｍ），４．００（２Ｈ，ｍ），４．１５（１Ｈ，ｍ），６．８４（２Ｈ，ｄ），７．１６（３Ｈ，ｍ），７．２５（４Ｈ，ｍ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ １５．１，３０．８，４２．３，６６．９，６８．９，６９．１，７１．３，１１３．９，１２５．５，１２６．７，１２７．８，１２７．９，１４３．３，１５０．８，１５６．４

実施例２９ １−Ｏ−エチル−２−ヒドロキシ−３−（３’−メチル−４’−イソプロピルフェノキシ）プロピルの合成
３−メチル−４−イソプロピルフェノール（１．００ｇ）に、水酸化ナトリウム（０．２７ｇ）、テトラブチルアンモニウムブロマイド（０．２２ｇ）を加え室温にて攪拌し、エチルグリシジルエーテル（０．７５ｇ）を加え、さらに５０℃にて５時間攪拌したあと、酢酸エチル、水を加え酢酸エチルで目的物を抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で濃縮して得られた残渣１．６０ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン／酢酸エチル＝２／１混液にて溶出し、減圧下にて濃縮を行い、生成物（０．７４ｇ）を得た。

得られた生成物について、¹Ｈ−ＮＭＲ、^１３Ｃ−ＮＭＲ測定を行い、この測定結果より、この生成物は、下記構造式（Ｆ）で表される１−Ｏ−エチル−２−ヒドロキシ−３−（３’−メチル−４’−イソプロピルフェノキシ）プロピルであることが確認された。

ＮＭＲ（核磁気共鳴分光法）による分析結果を以下に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ １．２２（９Ｈ，ｔ），２．９２（３Ｈ，ｓ），３．０５（１Ｈ，ｍ），３．５７（４Ｈ，ｍ），３．９８（２Ｈ，ｍ），４．１３（１Ｈ，ｍ），６．７２（２Ｈ，ｄ），７．１３（１Ｈ，ｄ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ １５．１，１９．４，２３．４，２８．６，６６．９，６８．８，６９．１，７１．３，１１１．８，１１６．４，１２５．６，１３６．４，１３９．５，１５６．２

実施例３０ １−Ｏ−エチル−２−ヒドロキシ−３−（２’，６’−ジ−ｓｅｃ−ブチルフェノキシ）プロピルの合成
２，６−ジ−ｓｅｃ−ブチルフェノール（１．００ｇ）に、水酸化ナトリウム（０．１９ｇ）、テトラブチルアンモニウムブロマイド（０．１６ｇ）を加え室温にて攪拌し、エチルグリシジルエーテル（０．５４ｇ）を加え５０℃にて５時間攪拌したあと、酢酸エチル、水を加え酢酸エチルで目的物を抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で濃縮して得られた残渣１．３１ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン／酢酸エチル＝２／１混液にて溶出し、減圧下にて濃縮を行い、生成物（０．３９ｇ）を得た。

得られた生成物について、¹Ｈ−ＮＭＲ、^１３Ｃ−ＮＭＲ測定を行い、この測定結果より、この生成物は、下記構造式で表される１−Ｏ−エチル−２−ヒドロキシ−３−（２’，６’−ジ−ｓｅｃ−ブチルフェノキシ）プロピルであることが確認された。

ＮＭＲ（核磁気共鳴分光法）による分析結果を以下に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ ０．８２（６Ｈ，ｍ），１．２３（９Ｈ，ｓ），１．５９（４Ｈ，ｓ），２．５１（１Ｈ，ｍ），３．０３（１Ｈ，ｍ），３．５６（３Ｈ，ｍ），３．６４（１Ｈ，ｄｄ），３．９９（２Ｈ，ｄ−ｌｉｋｅ），４．１６（１Ｈ，ｍ），６．７７（１Ｈ，ｄ），６．９３（２Ｈ，ｄ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ １２．２，１５．１，２０．４，２１．９，２２．０，２９．８，３１．３，３１．４，３３．８，４１．０，６６．９，６９．０，６９．３，７１．５，１１１．３，１１１．２９，１１１．３２，１２４．４，１２４．５，１２５．６，１２５．８，１３５．４，１４０．１，１５３．９

実施例３１ １，２−ジ−ヒドロキシ−３−（３’−メチル−４’−イソプロピルフェノキシ）プロピルの合成
３−メチル−４−イソプロピルフェノール（１．００ｇ）に、水酸化ナトリウム（０．２７ｇ）、テトラブチルアンモニウムブロマイド（０．２２ｇ）を加え室温にて攪拌し、グリシドール（０．７５ｇ）を加え５０℃にて５時間攪拌したあと、酢酸エチル、水を加え酢酸エチルで目的物を抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で濃縮して得られた残渣１．５４ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン／酢酸エチル＝１／１混液にて溶出し、減圧下にて濃縮を行い、生成物（０．６８ｇ）を得た。

得られた生成物について、¹Ｈ−ＮＭＲ、^１３Ｃ−ＮＭＲ測定を行い、この測定結果より、この生成物は、下記構造式（Ｅ）で表される１，２−ジ−ヒドロキシ−３−（３’−メチル−４’−イソプロピルフェノキシ）プロピルであることが確認された。

ＮＭＲ（核磁気共鳴分光法）による分析結果を以下に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ １．１８（６Ｈ，ｄ），２．２９（３Ｈ，ｓ），３．０５（１Ｈ，ｍ），３．７２（１Ｈ，ｄｄ），３．８１（１Ｈ，ｄｄ），３．９９（２Ｈ，ｍ），４．０９（１Ｈ，ｍ），６．７１（１Ｈ，２ｍ），７．１４（１Ｈ，ｄ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ １９．４，２３．４，６３．７，６９．１，７０．４，１１１．８，１１６．３，１２５．７，１３６．５，１３９．８，１５５．９

実施例３２ ２，２−ビス［４’−（１”−Ｏ−エチル−２”−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］プロパンの合成
２，２−ビス（４−グリシジルオキシフェニル）プロパン（１．００ｇ）に、エタノール（０．１４）及び濃硫酸（０．０３ｇ）を加え、５０℃にて５時間攪拌したあと、酢酸エチル、水を加え酢酸エチルで目的物を抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で濃縮して得られた残渣１．０４ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン／酢酸エチル＝１／１混液にて溶出し、減圧下にて濃縮を行い、生成物（０．２９ｇ）を得た。

得られた生成物について、¹Ｈ−ＮＭＲ、^１３Ｃ−ＮＭＲ測定を行い、この測定結果より、この生成物は、下記構造式で表される２，２−ビス［４’−（１”−Ｏ−エチル−２”−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］プロパンであることが確認された。

ＮＭＲ（核磁気共鳴分光法）による分析結果を以下に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ １．１９（６Ｈ，ｔ），１．６１（６Ｈ，ｓ），２．５０（４Ｈ，ｓ），３．５６（８Ｈ，ｍ），３．９９（４Ｈ，ｍ），４．１３（２Ｈ，ｍ），６．８０（２Ｈ，ｄ），７．１１（２Ｈ，ｄ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ １５．１，３１．０，４１．７，６８．９，６９．０，７１．３，１１３．９，１２７．７，１４３．５，１５６．３

実施例３３ １−Ｏ−エチル−２−ヒドロキシ−３−［４’−（１”，１”，３”，３”−テトラメチルブチルフェノキシ］プロピルの合成
４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール（１．００ｇ）に、水酸化ナトリウム（０．１９ｇ）、テトラブチルアンモニウムブロマイド（０．１５ｇ）を加え室温にて攪拌し、エチルグリシジルエーテル（０．５５ｇ）を加え、さらに５０℃にて５時間攪拌したあと、酢酸エチル、水を加え酢酸エチルで目的物を抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で濃縮して得られた残渣１．２３ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン／酢酸エチル＝２／１混液にて溶出し、減圧下にて濃縮を行い、生成物（０．３１ｇ）を得た。

得られた生成物について、¹Ｈ−ＮＭＲ、^１３Ｃ−ＮＭＲ測定を行い、この測定結果より、この生成物は、下記構造式で表される１−Ｏ−エチル−２−ヒドロキシ−３−［４’−（１”，１”，３”，３”−テトラメチルブチルフェノキシ］プロピルであることが確認された。

ＮＭＲ（核磁気共鳴分光法）による分析結果を以下に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ ０．７０（９Ｈ，ｓ），１．２２（３Ｈ，ｍ），１．３３（３Ｈ，ｓ），３．５８（４Ｈ，ｍ），４．００（２Ｈ，ｍ），４．１５（１Ｈ，ｍ），６．８３（２Ｈ，ｄ），７．２６（２Ｈ，ｄ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δｐｐｍ １５．１，３１．６，３１．７，３２．３，３７．９，５６．９，６６．９，６８．９，６９．１，７１．３，１１３．７，１２７．１，１４２．６，１５６．２

試験例１ メラニン生成抑制試験
下記の手順によって、Ｂ１６メラノーマ４Ａ５細胞のテオフィリン誘発メラニン生成に対する作用の評価を、本発明のプロピルフェニルエーテル誘導体、及び合成例１〜４で得られた化合物やアルブチン等の比較品について行った。その結果を表１〜３に示す。

（１）Ｂ１６マウスメラノーマ４Ａ５株を、８．０×１０^３ｃｅｌｌｓ／ｗｅｌｌの細胞密度で４８穴プレートに播種した。
（２）１０％ウシ胎児血清（ニチレイバイオサイエンス社製）含有ダルベッコ変法イーグル培地（ＳＩＧＭＡ社製、以下Ｄ−ＭＥＭと略記する）にて２４時間培養後、終濃度が１．０ｍｍｏｌ／Ｌになるように調整したテオフィリンを含有した１０％ウシ胎児血清含有Ｄ−ＭＥＭ及び終濃度が所定の濃度になるように調整した試料を含有した１０％ウシ胎児血清含有Ｄ−ＭＥＭを添加した。
（３）試料共存下で３日間培養後、アスピレーターを用いて培地を除去し、蒸留水を添加後、超音波により細胞を破砕した。

（４）その後、タンパク質量を、ＢＣＡ ｐｒｏｔｅｉｎ ａｓｓａｙ ｋｉｔ（サーモフィッシャーサイエンティフィック社製）を用いて定量し、又、メラニンの生成量を下記に記載したアルカリ可溶化法にて測定した。
［アルカリ可溶化法］
細胞破砕液に終濃度１ｍｏｌ／Ｌとなるように水酸化ナトリウムを添加して加熱溶解（６０℃、３０分）後、マイクロプレートリーダーを用いて４０５ｎｍの吸光度を測定した。メラニン量は、合成メラニン（ＳＩＧＭＡ）を標準品として作成した検量線から算出した。タンパク質量でメラニン量を除することにより単位タンパク質あたりのメラニン量を算出した。

（５）メラニン生成抑制率は次式から算出した。
メラニン産生抑制率（％）＝［１−（Ａ−Ｂ）／（Ｃ−Ｂ）］×１００
［式中、Ａは、試料添加時の単位タンパク質あたりのメラニン量（ｇ／ｇ）、Ｂは、Ｎｏｒｍａｌ群の単位タンパク質あたりのメラニン量（ｇ／ｇ）、ＣはＣｏｎｔｒｏｌ群の単位タンパクあたりのメラニン量（ｇ／ｇ）を示す。］

上記Ｎｏｒｍａｌ群とは、テオフィリン（−；無添加）及び試料（−；無添加）の場合であり、Ｃｏｎｔｒｏｌ群とはテオフィリン（＋；添加）、試料（−；無添加）の場合である。

（６）美白効果の判定
メラニン産生抑制率を４０％以上とするために必要とした試料の量を求め、その量に基づき下記の基準で評価した。なお、測定はＮ＝４（１試料につき４ｗｅｌｌ）で行った。メラニン生成抑制率が４０％以上を示すサンプル濃度に基づき、美白効果を下記のように表記し、その結果を表１〜３に示す。なお、測定はＮ＝４で行った。
≧３００μｍｏｌ／Ｌ ：△
１００〜３００μｍｏｌ／Ｌ ：○
３０〜１００μｍｏｌ／Ｌ ：◎
≦３０μｍｏｌ／Ｌ ：◎◎

表１〜３の結果は、本発明のヒドロキシプロピルアルキルフェニルエーテル誘導体は、公知のメラニン生成抑制剤、即ち、コウジ酸、アルブチン、アスコルビン酸より優れる美白効果を有することを示している。また、本発明のヒドロキシプロピルアルキルフェニルエーテル誘導体の中の多くの化合物は、美白効果の高い物質として知られているが安全性が懸念されるハイドロキノンと同等以上の効果を示した。

試験例２ 抗菌性試験
大腸菌（Ｅｓｃｈｅｒｉｃｈｉａ ｃｏｌｉ）、緑濃菌（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ ａｅｒｕｇｉｎｏｓａ）、黄色ブドウ球菌（Ｓｔａｐｈｙｌｏｃｏｃｃｕｓ ａｕｒｅｕｓ）、及びカンジダ菌（Ｃａｎｄｉｄａ ａｌｂｉｃａｎｓ）の４種の菌（ＡＴＣＣ株を使用）を用いて、下記の手順により本発明のプロピルフェニルエーテル誘導体について抗菌性試験の評価を行った。比較品として、１，２−ペンタンジオールを用いた。

（１）ツイン８０（モノオレイン酸ポリオキシエチレンソルビタン）１．０ｇを加えた試験管に、各種サンプルを０．３ｇ、０．１ｇ又は０．０５ｇを加え、ＳＣＤ（ソイビーン・カゼイン・ダイジェスト）寒天培地を、終濃度が３．０％、１．０％、０．５％となるようにそれぞれおよそ１０ｍＬずつ添加し、ボルテックスでよく撹拌した。その後、サンプルを含有する培地を高圧蒸気滅菌（１２１℃で１５分）で滅菌し、４５℃になるまで冷却し、培地を滅菌済みのシャーレに静かに流し込み、底部外面に４区分の記しを付けたシャーレ全体に広げ、静置し培地を固化させた。
（２）その後、（１）で作製したサンプルを含む培地に、予め菌数が１．０×１０^４〜５．０×１０^４ｃｆｕ／ｍＬとなるように調製しておいた各種菌液を、シャーレの１区分に１菌種ずつ、４箇所に各々１０μＬずつ接種した。（すなわち、１サンプルに４種の菌について３濃度となるので、１サンプルあたり１２検体となる。）
（３）３０℃の恒温槽で７日間培養を行った。
（４）肉眼により菌の有無の判定を行った。

その結果を、下記基準で分類し表４に示す。
菌が確認された検体数が、１０検体以上であった：△
菌が確認された検体数が、６〜９であった： ○
菌が確認された検体数が、５以下であった： ◎

試験例３ 抗アクネ試験
Ｐｒｏｐｉｏｎｉｂａｃｔｅｒｉｕｍ ａｃｎｅｓ（ＪＣＭ６４１５：ＡＴＣＣ株）をＧＡＭブイヨン培地（日水製薬社製）に移植し、３７℃、嫌気条件下で２４時間培養した。その後、ＧＡＭブイヨン培地で希釈し、終菌体濃度がＯＤ_６２０＝０．１になるように調製し、これを試験菌液とした。実施例のプロピルフェニルエーテル誘導体は、終濃度が０．１％になるように秤量し、ＧＡＭブイヨン培地に溶解した後、濾過滅菌を行い、これを試料溶液とした。９６穴マイクロプレート（住友ベークライト社製）に試験菌液を３０μＬ、試料溶液を１２０μＬ添加した後、直ちに嫌気ジャー（三菱ガス化学社製）にマイクロプレートとアネロパック・ケンキ（三菱ガス化学社製）を入れ、３７℃、嫌気条件下で４８時間培養を行った。その後、マイクロプレートリーダーにより、ＯＤ_６２０を測定した。なお、比較品として、メチルパラベン、フェノキシエタノール、アスコルビン酸ナトリウムを用いて同様の試験を行った。

その結果を、下記基準で分類し表５〜表７に示す。
△：ＯＤ_６２０＝０．６以上
○：ＯＤ_６２０＝０．３〜０．６
◎：ＯＤ_６２０＝０．３以下

試験例４ [安定性試験]
実施例１の１，２−ジ−ヒドロキシ−３−（４’−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）プロピルを用いて、５０℃で４週間保管したときの着色について安定性を下記の要領で評価した。比較品には、公知な美白剤である、アスコルビン酸、コウジ酸、ハイドロキノン、アルブチンを用いた。

各試験試料を、１％の濃度となるように５０％エタノール溶液に加え、希水酸化ナトリウム水溶液又は希塩酸水溶液で、それぞれｐＨ６．０〜８．０に調製し、５０ｍＬのスクリュー管に入れて密栓し、５０℃で４週間保管した。試験試料の調製直後、保管２週間後および４週間後の溶液の着色度を下記の基準で１０人のパネラーに評価させた。

３： 調製直後と比較してほとんど変化なし
２： 調製直後と比較して着色する
１： 調製直後と比較して強く着色

着色のそれぞれの評価結果に基づき下記のように分類した。その結果を表８に示す。
○：１０人の総合点が２２以上
△：１０人の総合点が１５〜２１
×：１０人の総合点が１４以下

表８に示すように、本発明の１，２−ジ−ヒドロキシ−３−（４’−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）は、着色の面で安定性に優れていることが確認された。

実施例３４ クリーム
表９に示す組成のＮｏ．１〜６の油相部の原料、及びＮｏ．７〜１０の水相部の原料をそれぞれ７０℃に加温し溶解して、油相および水相をそれぞれ調製した。その後、水相に油相を加え予備乳化を行い、ホモミキサーで均一に乳化した後、よく攪拌しながら室温まで冷却することにより、美白効果に優れると考えられるクリームを調製することができた。なお、表９以後の表中の配合量は質量部を表す。

実施例３５ 乳液
表１０に示す組成のＮｏ．１〜１０の油相部の原料、及びＮｏ．１１〜１３の水相部の原料をそれぞれ７０℃に加温し溶解して、油相および水相をそれぞれ調製した。その後、水相に油相を加え予備乳化を行いホモミキサーで均一に乳化した後、よく攪拌しながら室温まで冷却することにより、美白効果に優れると考えられる乳液を調製することができた。

実施例３６ 乳液
表１１に示す組成のＮｏ．４〜１０の油相部の原料、及びＮｏ．１〜３、１１〜１２の水相部の原料をそれぞれ７０℃に加温し溶解して、油相および水相をそれぞれ調製した。その後、水相に油相を加え予備乳化を行い、ホモミキサーで均一に乳化した後、よく攪拌しながら室温まで冷却することにより、美白効果に優れると考えられる乳液を調製することができた。

実施例３７ クリーム
表１２に示す組成のＮｏ．１〜３の油相部の原料、及びＮｏ．４〜１０の水相部の原料をそれぞれ７０℃に加温し溶解して、油相および水相をそれぞれ調製した後、水相に油相を加え予備乳化を行い、ホモミキサーで均一に乳化した後、よく攪拌しながら室温まで冷却することにより、美白効果に優れると考えられるクリームを調製することができた。

実施例３８ クリーム
表１３に示す組成のＮｏ．１〜６の油相部を、およびＮｏ．７〜１０の水相部をそれぞれ７０℃に加温溶解する。水相部に油相部を加え予備乳化を行い、ついでホモミキサーで乳化した後、よく攪拌しながら室温まで冷却し、美白効果に優れると考えられるクリームを調製することができた。

実施例３９ 化粧水
表１４に示す組成のＮｏ．１〜６の原料を、よく攪拌しながら混合することにより、化粧水を調製することができた。この化粧水は、ヒドロキシプロピルアルキルフェニルエーテル誘導体を含むため、美白効果に優れ美白化粧料に好適に使用できると考えられる。

Claims (13)

1. 下記一般式（Ｉ）、（Ｉａ）又は（Ｉｂ）で表されることを特徴とするプロピルフェニルエーテル誘導体を有効成分として配合することを特徴とする化粧料又は皮膚外用剤。
   

   

   
   

   

   
   

   

   
   ［式（Ｉ）、（Ｉａ）又は（Ｉｂ）中、
   Ｒは、−ＣＨ_２−ＣＨＲ^２−ＣＨ_２Ｒ^１又は−ＣＨ（ＣＨ_２Ｒ^２）−ＣＨ_２Ｒ^１を表し、
   Ｒａは、−ＣＨ_２−ＣＨＲ^２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨＲ^２−ＣＨ_２−又は−ＣＨ_２−ＣＨＯＨ−ＣＨ_２−を表し、
   Ｒｂは、炭素数１〜５の、直鎖若しくは分岐状の脂肪族炭化水素基を表し、
   Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立に、水素、Ｒ^８Ｏ、Ｒ^９Ｓ、Ｒ^１０Ｒ^１１Ｎ、Ｒ^１２Ａ、炭素数１〜２２の、直鎖若しくは分岐状の、飽和若しくは不飽和の脂肪族炭化水素基、又は、炭素数３〜２２の飽和若しくは不飽和の環式炭化水素基を表し
   Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１１及びＲ^１２は、それぞれ独立に、炭素数１〜２２の、直鎖若しくは分岐状の、飽和若しくは不飽和の脂肪族炭化水素基、水酸基で水素が置換されていてもよい炭素数３〜２２の飽和若しくは不飽和の環式炭化水素基、又は水素を表し、
   Ａは、リン酸エステル基、硫酸エステル基、エステル基、チオエステル基もしくはアミド基又はこれらの塩を表すが、ただし
   Ｒ^１又はＲ^２の少なくとも一方は水酸基、又はＲ^１２Ａ−で表されＡがリン酸エステル基、硫酸エステル基若しくはエステル基又はこれらの塩である基であり、かつ
   Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ独立に、
   フェニル基で水素が置換されていてもよい炭素数１〜１２の直鎖若しくは分岐状の、飽和若しくは不飽和の脂肪族炭化水素基、フェニル基、又は水素を表すが、
   Ｒ^１及びＲ^２が、同時に、水酸基及びＲ^１２Ａ−で表されＡがリン酸エステル基、硫酸エステル基若しくはエステル基又はこれらの塩である基からなる群より選ばれる基であるときは、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７の炭素数の合計は２以上である。］
2. 式（Ｉ）、（Ｉａ）又は（Ｉｂ）中の
   Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立に、水素又はＲ^８Ｏを表し
   Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ独立に、フェニル基で水素が置換されていてもよい炭素数１〜１２の直鎖若しくは分岐状の、飽和若しくは不飽和の脂肪族炭化水素基、又は水素を表すが、
   Ｒ^１及びＲ^２のいずれもが水酸基であるときは、
   Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７の中のいずれかは２以上の炭素数を有する基であることを特徴とする請求項１に記載の化粧料又は皮膚外用剤。
3. 一般式（Ｉ）で表され、Ｒ^８が水素又は炭素数１〜２２の、直鎖若しくは分岐状の飽和脂肪族炭化水素基であることを特徴とする請求項２に記載の化粧料又は皮膚外用剤。
4. 一般式（Ｉ）で表され、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７が、それぞれ独立に、水素、又は、炭素数１〜１２の、直鎖若しくは分岐状の飽和脂肪族炭化水素であることを特徴とする請求項２又は請求項３に記載の化粧料又は皮膚外用剤。
5. Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７の少なくとも１つの基が、分岐状の脂肪族炭化水素であり、かつＲ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７の炭素数の合計が４以上であることを特徴とする請求項４に記載の化粧料又は皮膚外用剤。
6. Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７の少なくとも１つの基が、ｔｅｒｔ−ブチル基又はｓｅｃ−ブチル基であることを特徴とする請求項５に記載の化粧料又は皮膚外用剤。
7. 一般式（Ｉａ）で表され、Ｒａが−ＣＨ_２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ_２−であることを特徴とする請求項１に記載の化粧料又は皮膚外用剤。
8. Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７の少なくとも１つの基が、ｔｅｒｔ−ブチル基又はｓｅｃ−ブチル基であることを特徴とする請求項７に記載の化粧料又は皮膚外用剤。
9. 一般式（Ｉｂ）で表され、Ｒｂが−Ｃ（ＣＨ_３）_２−であることを特徴とする請求項１に記載の化粧料又は皮膚外用剤。
10. Ｒ^１及びＲ^２は、Ｒ^８Ｏを表し、Ｒ^８は、それぞれ独立に、炭素数１〜４の、直鎖若しくは分岐状の飽和脂肪族炭化水素又は水素を表すことを特徴とする請求項９に記載の化粧料又は皮膚外用剤。
11. 下記構造式（III）又は（Ｄ）で表されるプロピルフェニルエーテル誘導体化合物を有効成分として配合することを特徴とする化粧料又は皮膚外用剤。
    

    

    
    

    
12. メラニン生成抑制効果を有することを特徴とする請求項１ないし請求項１１のいずれか１項に記載の化粧料又は皮膚外用剤。
13. 美白剤であることを特徴とする請求項１ないし請求項１２のいずれか１項に記載の化粧料又は皮膚外用剤。