JP2014086728A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014086728A5 JP2014086728A5 JP2013217084A JP2013217084A JP2014086728A5 JP 2014086728 A5 JP2014086728 A5 JP 2014086728A5 JP 2013217084 A JP2013217084 A JP 2013217084A JP 2013217084 A JP2013217084 A JP 2013217084A JP 2014086728 A5 JP2014086728 A5 JP 2014086728A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- light emitting
- emitting device
- via electrode
- semiconductor layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 12
- -1 nitride transition metal Chemical class 0.000 claims 8
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 claims 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 6
- 229910019912 CrN Inorganic materials 0.000 claims 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N tin hydride Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 230000000149 penetrating Effects 0.000 claims 1
Claims (23)
- 基板105と、
前記基板105の上の第1導電型半導体層112と、
前記第1導電型半導体層112の上の活性層114と、
前記活性層114の上の第2導電型半導体層116と、
前記基板105を貫通する第1ビアホールh1を通じて前記第1導電型半導体層112と接する第1ビア電極131と、
前記基板105、前記第1導電型半導体層112、前記活性層114を貫通する第2ビアホールh2を通じて前記第2導電型半導体層116と接する第2ビア電極132と、を含むことを特徴とする、発光素子。 - 前記第1ビア電極131の側面を覆いかぶせる第1絶縁層121をさらに含むことを特徴とする、請求項1に記載の発光素子。
- 前記第1ビア電極131は、窒化物遷移金属を含むことを特徴とする、請求項1または2に記載の発光素子。
- 前記第1ビア電極131は、CrN、TiN、CrAlNのうち、いずれか1つ以上を含むことを特徴とする、請求項1乃至3のうち、いずれか1項に記載の発光素子。
- 前記第1ビア電極131は、融点が1500℃以上の窒化物遷移金属を含むことを特徴とする、請求項1乃至4のうち、いずれか1項に記載の発光素子。
- 前記第1ビア電極131は、光透光性が70%以上の窒化物遷移金属を含むことを特徴とする、請求項1乃至5のうち、いずれか1項に記載の発光素子。
- 前記第1ビア電極131は、電気抵抗が70[μΩcm]以下の窒化物遷移金属を含むことを特徴とする、請求項1乃至6のうち、いずれか1項に記載の発光素子。
- 前記第1ビア電極131の上面と接しながら前記第1ビア電極131から延びる第1延長電極133をさらに含むことを特徴とする、請求項1乃至7のうち、いずれか1項に記載の発光素子。
- 前記第2ビア電極132の上面と接しながら前記第2ビア電極132から延びる第2延長電極134をさらに含むことを特徴とする、請求項1乃至8のうち、いずれか1項に記載の発光素子。
- 前記第2ビア電極132の側面を覆いかぶせる第2絶縁層122をさらに含むことを特徴とする、請求項1乃至9のうち、いずれか1項に記載の発光素子。
- 前記第2ビア電極132は窒化物遷移金属を含むことを特徴とする、請求項1乃至10のうち、いずれか1項に記載の発光素子。
- 前記第2ビア電極132は、CrN、TiN、CrAlNのうち、いずれか1つ以上を含むことを特徴とする、請求項1乃至11のうち、いずれか1項に記載の発光素子。
- 前記第2ビア電極132は、融点が1500℃以上の窒化物遷移金属を含むことを特徴とする、請求項1乃至12のうち、いずれか1項に記載の発光素子。
- 前記第1ビア電極132は、光透光性が70%以上の窒化物遷移金属を含むことを特徴とする、請求項1乃至13のうち、いずれか1項に記載の発光素子。
- 前記第2ビア電極132は、電気抵抗が70[μΩcm]以下の窒化物遷移金属を含むことを特徴とする、請求項1乃至14のうち、いずれか1項に記載の発光素子。
- 前記第1ビアホールh1は底面から前記基板105を貫通し、
前記第1ビア電極131が前記第1ビアホールh1を通じて前記第1導電型半導体層112の底面と接することを特徴とする、請求項1乃至15のうち、いずれか1項に記載の発光素子。 - 前記第2ビアホールh2は底面から前記基板105、前記第1導電型半導体層112、及び前記活性層114を貫通し、
前記第2ビア電極132は、前記第2ビアホールh2を通じて前記第2導電型半導体層116の底面と接することを特徴とする、請求項1乃至16のうち、いずれか1項に記載の発光素子。 - 前記第2延長電極134は、前記第2ビア電極132の一側方向に延びることを特徴とする、請求項9に記載の発光素子。
- 前記第2延長電極134は、前記第2ビア電極132の長手方向と水平な方向に延びることを特徴とする、請求項9または18に記載の発光素子。
- 前記第2延長電極134bは、前記第2ビア電極132の両側方向に延びることを特徴とする、請求項9または19に記載の発光素子。
- 前記第1ビア電極131の上面と接しながら前記第1ビア電極131から延びる第1延長電極133と、前記第2ビア電極132の上面と接しながら前記第2ビア電極132から延びる第2延長電極134とをさらに含み、
前記第1延長電極133及び前記第2延長電極134は上下に重なって配置されることを特徴とする、請求項1乃至7のうち、いずれか1項に記載の発光素子。 - 前記第1延長電極は前記第2ビア電極と上下に重なって配置され、前記第2延長電極は前記第1ビア電極と上下に重なって配置されることを特徴とする、請求項21に記載の発光素子。
- 前記第2延長電極は前記第2導電型半導体層内の内部に配置され、前記第2延長電極は前記第2導電型半導体層の上部表面及び前記第2導電型半導体層の下部表面と接触しないことを特徴とする、請求項21または22に記載の発光素子。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2012-0115802 | 2012-10-18 | ||
KR1020120115802A KR101979944B1 (ko) | 2012-10-18 | 2012-10-18 | 발광소자 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014086728A JP2014086728A (ja) | 2014-05-12 |
JP2014086728A5 true JP2014086728A5 (ja) | 2016-11-10 |
Family
ID=49378167
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013217084A Pending JP2014086728A (ja) | 2012-10-18 | 2013-10-18 | 発光素子 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9660160B2 (ja) |
EP (1) | EP2722899B1 (ja) |
JP (1) | JP2014086728A (ja) |
KR (1) | KR101979944B1 (ja) |
CN (1) | CN103779471B (ja) |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104576862B (zh) * | 2014-12-24 | 2017-08-25 | 江苏巨晶新材料科技有限公司 | 一种基于铜衬底的氮化物led垂直芯片及其制备方法 |
KR102419272B1 (ko) * | 2017-12-19 | 2022-07-11 | 엘지디스플레이 주식회사 | 발광 사운드 소자, 사운드 출력 장치 및 디스플레이 장치 |
CN108281540B (zh) * | 2018-01-26 | 2020-05-22 | 扬州乾照光电有限公司 | 一种热电分流垂直结构led芯片及其制作方法 |
WO2019191134A1 (en) * | 2018-03-26 | 2019-10-03 | Lawrence Livermore National Security, Llc | Engineered current-density profile diode laser |
KR102097865B1 (ko) * | 2018-05-04 | 2020-05-27 | 고려대학교 산학협력단 | 발광소자 |
CN210489638U (zh) * | 2018-07-09 | 2020-05-08 | 首尔伟傲世有限公司 | 发光元件 |
US20210320227A1 (en) * | 2018-11-16 | 2021-10-14 | Sakai Display Products Corporation | Micro led device and method for manufacturing same |
JPWO2020100292A1 (ja) * | 2018-11-16 | 2021-09-24 | 堺ディスプレイプロダクト株式会社 | マイクロledデバイスおよびその製造方法 |
US20210408105A1 (en) * | 2018-11-16 | 2021-12-30 | Sakai Display Products Corporation | Micro led device and method for manufacturing same |
WO2020115851A1 (ja) * | 2018-12-06 | 2020-06-11 | 堺ディスプレイプロダクト株式会社 | マイクロledデバイスおよびその製造方法 |
CN110265520A (zh) * | 2019-07-02 | 2019-09-20 | 华南理工大学 | 优化电流分布的嵌入式电极结构led芯片及其制备方法 |
KR102174004B1 (ko) * | 2020-03-31 | 2020-11-04 | 고려대학교 산학협력단 | 발광소자 |
CN113363365B (zh) * | 2021-08-09 | 2021-11-05 | 南昌凯捷半导体科技有限公司 | 一种多电流通道倒装AlGaInPmini-LED芯片及其制备方法 |
CN116314508A (zh) * | 2023-05-22 | 2023-06-23 | 江西兆驰半导体有限公司 | 一种高光效led外延片及其制备方法、led芯片 |
Family Cites Families (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0536346A (ja) * | 1991-07-31 | 1993-02-12 | Sony Corp | 金属製フイールドエミツタの作製方法 |
JPH10270802A (ja) * | 1997-03-25 | 1998-10-09 | Sharp Corp | 窒化物系iii−v族化合物半導体装置及びその製造方法 |
JPH11246289A (ja) * | 1998-03-02 | 1999-09-14 | Tokuyama Corp | メタライズされた窒化アルミニウム基板の製造方法 |
JP2001176967A (ja) * | 1999-12-21 | 2001-06-29 | Nec Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
TW439304B (en) * | 2000-01-05 | 2001-06-07 | Ind Tech Res Inst | GaN series III-V compound semiconductor devices |
US6611002B2 (en) * | 2001-02-23 | 2003-08-26 | Nitronex Corporation | Gallium nitride material devices and methods including backside vias |
US7233028B2 (en) * | 2001-02-23 | 2007-06-19 | Nitronex Corporation | Gallium nitride material devices and methods of forming the same |
US6560006B2 (en) * | 2001-04-30 | 2003-05-06 | Agilent Technologies, Inc. | Two-dimensional photonic crystal slab waveguide |
TWI270222B (en) * | 2005-10-07 | 2007-01-01 | Formosa Epitaxy Inc | Light emitting diode chip |
WO2007069871A1 (en) * | 2005-12-16 | 2007-06-21 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Optical device and method of fabricating the same |
CN100446288C (zh) * | 2006-08-01 | 2008-12-24 | 金芃 | 通孔垂直结构的半导体芯片及其制造方法 |
JP5324076B2 (ja) * | 2007-11-21 | 2013-10-23 | シャープ株式会社 | 窒化物半導体用ショットキー電極および窒化物半導体装置 |
KR101145299B1 (ko) * | 2008-12-22 | 2012-05-14 | 한국과학기술원 | 질화물/텅스텐 나노복합분말의 제조방법 및 그 방법에 의해 제조된 질화물/텅스텐 나노복합분말 |
KR101020910B1 (ko) * | 2008-12-24 | 2011-03-09 | 엘지이노텍 주식회사 | 반도체 발광소자 및 그 제조방법 |
KR20110008550A (ko) * | 2009-07-20 | 2011-01-27 | 삼성전자주식회사 | 발광 소자 및 그 제조 방법 |
JP2011029548A (ja) * | 2009-07-29 | 2011-02-10 | Mitsubishi Electric Corp | 電磁波透過性加飾部品 |
JP4454689B1 (ja) * | 2009-09-10 | 2010-04-21 | 有限会社ナプラ | 発光ダイオード、発光装置、照明装置、ディスプレイ及び信号灯 |
US8198107B2 (en) * | 2009-10-07 | 2012-06-12 | Edison Opto Corporation | Method for manufacturing light emitting diode assembly |
US20110198609A1 (en) * | 2010-02-12 | 2011-08-18 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Light-Emitting Devices with Through-Substrate Via Connections |
US8604498B2 (en) | 2010-03-26 | 2013-12-10 | Tsmc Solid State Lighting Ltd. | Single phosphor layer photonic device for generating white light or color lights |
KR101028327B1 (ko) | 2010-04-15 | 2011-04-12 | 엘지이노텍 주식회사 | 발광소자, 발광소자 제조방법 및 발광소자 패키지 |
US20120241718A1 (en) * | 2011-03-21 | 2012-09-27 | Walsin Lihwa Corporation | High performance light emitting diode |
US8344392B2 (en) * | 2011-05-12 | 2013-01-01 | Epistar Corporation | Light-emitting element and the manufacturing method thereof |
-
2012
- 2012-10-18 KR KR1020120115802A patent/KR101979944B1/ko active IP Right Grant
-
2013
- 2013-10-17 US US14/056,211 patent/US9660160B2/en active Active
- 2013-10-17 EP EP13189140.0A patent/EP2722899B1/en active Active
- 2013-10-18 CN CN201310491634.7A patent/CN103779471B/zh active Active
- 2013-10-18 JP JP2013217084A patent/JP2014086728A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2014086728A5 (ja) | ||
JP2014178698A5 (ja) | 素子基板 | |
WO2016064134A3 (en) | Light emitting device and method of fabricating the same | |
JP2012238610A5 (ja) | ||
JP2012195288A5 (ja) | 発光装置 | |
JP2011142316A5 (ja) | 半導体装置 | |
JP2015015270A5 (ja) | ||
JP2012209251A5 (ja) | 発光素子および発光装置 | |
JP2013042154A5 (ja) | ||
JP2016197708A5 (ja) | 半導体装置 | |
JP2015173289A5 (ja) | ||
JP2019075532A5 (ja) | ||
JP2014053606A5 (ja) | ||
JP2012182120A5 (ja) | ||
JP2011077513A5 (ja) | 半導体装置 | |
JP2011071503A5 (ja) | 半導体装置 | |
JP2013211573A5 (ja) | ||
JP2014039039A5 (ja) | ||
JP2011086927A5 (ja) | 半導体装置 | |
JP2014195041A5 (ja) | ||
JP2015069854A5 (ja) | ||
JP2013153219A5 (ja) | 半導体装置、モジュール及び電子機器 | |
JP2015026831A5 (ja) | 半導体装置 | |
JP2013254947A5 (ja) | 表示装置 | |
EP2343744A3 (en) | Light emitting diode with patterned electrodes |