JP2014084441A - 樹脂基板、金属張積層板、プリント配線基板、および半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】リフロー工程などの加熱工程において発生する反りが抑制された、樹脂基板を提供すること。
【解決手段】本発明の樹脂基板100は、繊維基材101に樹脂材料を含浸してなり、繊維基材101は織布基材である。そして、樹脂基板100は、熱機械分析装置を用いて、樹脂基板100を30℃から260℃まで昇温させる一回目の測定(1stRun)をおこなった際の、50℃以上150℃以下の範囲における樹脂基板100の基板面内方向の線膨張係数をα1とし、50℃以上150℃以下の範囲における繊維基材101の線膨張係数をα2としたとき、α2>α1を満たす。
【選択図】図1
Description
そのため、半導体素子を含めた電子部品を実装するプリント配線基板も薄型化される傾向にあり、プリント配線基板に使用される樹脂基板は、厚みが約0.8mmのものが主流となっている。
さらに最近では、0.4mm以下の樹脂基板を用いた半導体パッケージ同士を積層するパッケージ・オン・パッケージ(以下、POPという。)がモバイル機器(例えば、携帯電話、スマートフォン、タブレット型PCなど)に搭載されている。
一般的に、半導体素子と半導体素子が搭載されるプリント配線基板との熱膨張の差は非常に大きい。そのため、プリント配線基板へ半導体素子を実装するときにおこなうリフロー工程において、樹脂基板が大きく反ってしまう場合があった。
また、マザーボードへ半導体パッケージを実装するときにおこなうリフロー工程においても、同様に樹脂基板が大きく反ってしまう場合があった。
特許文献1(特開2006−203142号公報)では、プリプレグの基材として、熱膨張率が負の値を有する有機繊維からなる織布を用いることで、半導体パッケージ用多層プリント配線基板の熱膨張率をシリコンチップの熱膨張率に近づけることができ、シリコンチップを実装した場合の接続信頼性を向上できると記載されている。
繊維基材に樹脂材料を含浸してなる樹脂基板であって、
上記繊維基材は織布基材であり、
熱機械分析装置を用いて、当該樹脂基板を30℃から260℃まで昇温させる一回目の測定(1stRun)をおこなった際の、50℃以上150℃以下の範囲における上記樹脂基板の基板面内方向の線膨張係数をα1とし、
50℃以上150℃以下の範囲における上記繊維基材の線膨張係数をα2としたとき、
α2>α1を満たす、樹脂基板が提供される。
はじめに、本実施形態における樹脂基板の構成について説明する。図1は、本実施形態における樹脂基板100の構成を示す断面図である。
樹脂基板100は、繊維基材101に樹脂材料を含浸してなり、繊維基材101は織布基材である。そして、樹脂基板100は、熱機械分析装置を用いて、樹脂基板100を30℃から260℃まで昇温させる一回目の測定(1stRun)をおこなった際の、50℃以上150℃以下の範囲における樹脂基板100の基板面内方向の線膨張係数をα1とし、50℃以上150℃以下の範囲における繊維基材101の線膨張係数をα2としたとき、α2>α1の関係を満たす。
ここで、繊維基材101の線膨張係数α2は、繊維基材101を構成する材料の50℃以上150℃以下の範囲における線膨張係数を示す。
なお、本実施形態の線膨張係数は、50℃以上150℃以下の範囲における平均値である。
また、実装工程が複数ある場合、例えば、半導体素子を搭載した半導体パッケージ同士をリフロー工程で接続する場合に(パッケージ・オン・パッケージ)、特に反りを低減することできる。
また、本実施形態における樹脂基板100の上記線膨張係数α1は、好ましくは5ppm/℃以下であり、より好ましくは3.5ppm/℃以下であり、とくに好ましくは2.5ppm/℃以下である。
樹脂基板100の線膨張係数α1が上記範囲内であると、配線パターンを形成したプリント配線基板、半導体素子を搭載した半導体パッケージ200の反り抑制や温度サイクル信頼性の向上がより一層効果的に得られる。さらに半導体パッケージ200を二次実装した半導体装置300のマザーボードとの温度サイクル信頼性の向上がより一層効果的に得られる。
したがって、α2>α3>α1の条件を満たす樹脂基板100は、半導体素子をプリント配線基板に実装後、得られた半導体パッケージをマザーボードへ実装するときにおこなうリフロー工程において、樹脂基板の反りをより一層抑制することができる。そのため、半導体素子を搭載した半導体パッケージ200の反り抑制や温度サイクル信頼性の向上がより一層効果的に得られる。さらに半導体パッケージ200を二次実装した半導体装置300のマザーボードとの温度サイクル信頼性の向上がより一層効果的に得られる。
また、本実施形態における樹脂基板100の上記線膨張係数α3は、好ましくは5ppm/℃以下であり、より好ましくは3.5ppm/℃以下であり、とくに好ましくは2.5ppm/℃以下である。
樹脂基板100は、250℃での貯蔵弾性率E'が上記範囲を満たすと、樹脂基板100の剛性が高まり、実装時の樹脂基板100の反りをより一層低減できる。
樹脂基板100は、動的粘弾性測定によるガラス転移温度が上記範囲を満たすと、樹脂基板100の剛性が高まり、実装時の樹脂基板100の反りをより一層低減できる。
しかしながら、本発明者らは、従来にない製法上の工夫をすることにより、繊維基材よりも線膨張係数が小さい樹脂基板、つまりα2>α1の関係を満たす樹脂基板が得られることを見出した。
具体的には、本発明者らは、α2>α1の関係を満たす樹脂基板を得るために、以下の条件を適切に調整することが重要であることを見出した。
(1)樹脂基板を構成する各材料の組み合わせと、それらの割合
(2)プリプレグ作製時の繊維基材の張力
(3)金属張積層板作製の圧力および加圧条件
(1)樹脂基板を構成する繊維基材としては厚みが薄い繊維基材を選択することが好ましい。また、樹脂基板を構成する熱硬化性樹脂としてはエポキシ樹脂および/またはシアネート樹脂を選択することが好ましい。エポキシ樹脂としては、ナフチレンエーテル型エポキシ樹脂を含むことがより好ましい。
また、樹脂材料には、シリカなどの充填材を含むことが好ましく、その含有量は60質量%以上90質量%以下と高含有量であることが好ましい。
(2)プリプレグ作製時において、繊維基材の張力を均一に高く掛けることが好ましい。
(3)樹脂基板作製時の圧力は高圧力に設定することが好ましい。また、加熱加圧成形時に、冷却終了時まで加圧を継続することが好ましい。
本実施形態において、樹脂材料を繊維基材に含浸させる方法としては、とくに限定されないが、例えば、(1)支持基材付き樹脂層を繊維基材にラミネートする方法、(2)樹脂材料を溶剤に溶かして樹脂ワニスを調製し、樹脂ワニスを繊維基材に塗布する方法、などが挙げられる。
プリプレグが1枚のときは、その上下両面もしくは片面に金属箔を重ねる。また、プリプレグを2枚以上積層するときは、積層したプリプレグの最も外側の上下両面もしくは片面に金属箔あるいはフィルムを重ねる。次いで、プリプレグと金属箔あるいはフィルムとを重ねた積層体を加熱加圧成形することで金属張積層板を得ることができる。
また、上記の加熱加圧成形するときの圧力は、とくに限定されないが、0.5MPa以上5MPa以下が好ましく、2.5MPa以上5MPa以下の高圧がより好ましい。
以下、樹脂基板100を製造する際に使用する各材料について詳細に説明する。
熱硬化性樹脂としては、とくに限定されないが、低線膨張率および高弾性率を有し、熱衝撃性の信頼性に優れたものであることが好ましい。
また、熱硬化性樹脂のガラス転移温度は、好ましくは160℃以上350℃以下であり、さらに好ましくは180℃以上300℃以下である。このようなガラス転移温度を有する熱硬化性樹脂を用いることにより、鉛フリー半田リフロー耐熱性がさらに向上するという効果が得られる。
これらの中の1種類を単独で用いてもよいし、異なる重量平均分子量を有する2種類以上を併用してもよく、1種類または2種類以上と、それらのプレポリマーを併用してもよい。
ノボラック型シアネート樹脂としては、例えば、下記一般式(I)で示されるものを使用することができる。
シアネート樹脂などのMwは、例えば、GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー、標準物質:ポリスチレン換算)で測定することができる。
ナフトール型エポキシ樹脂としては、例えば、下記一般式(VII−1)、ナフタレンジオール型エポキシ樹脂としては下記式(VII−2)、2官能ないし4官能エポキシ型ナフタレン樹脂としては下記式(VII−3)(VII−4)(VII−5)、ナフチレンエーテル型エポキシ樹脂としては、例えば、下記一般式(VII−6)で示すことができる。これらの中でもナフチレンエーテル型エポキシ樹脂が、難燃性、耐熱性、高ガラス転移温度、および低熱膨張性の観点でとくに好ましい。
アリールアルキレン型エポキシ樹脂とは、繰り返し単位中に一つ以上のアリールアルキレン基を有するエポキシ樹脂をいう。例えばキシリレン型エポキシ樹脂、ビフェニルジメチレン型エポキシ樹脂などが挙げられる。これらの中でもビフェニルジメチレン型エポキシ樹脂が好ましい。ビフェニルジメチレン型エポキシ樹脂は、例えば下記一般式(IV)で示すことができる。
本実施形態の樹脂材料は充填材をさらに含んでもよい。これにより、樹脂基板100を薄型化しても、より一層優れた機械的強度を付与することができる。また、樹脂基板100の低熱膨張化をより一層向上させることができる。
このほか、必要に応じて、樹脂材料にはカップリング剤、硬化促進剤、硬化剤、熱可塑性樹脂、有機充填材などの添加剤を適宜配合することができる。本実施形態で用いられる樹脂材料は、上記成分を有機溶剤などにより溶解および/または分散させた液状形態で好適に用いることができる。
オニウム塩化合物は、とくに限定されないが、例えば、下記一般式(IX)で表されるオニウム塩化合物を用いることができる。
また、下記一般式(X)で表されるビスフェノールアセトフェノン構造を有するフェノキシ樹脂を用いるのも好ましい。
繊維基材としては、とくに限定されないが、ガラスクロスなどのガラス繊維基材、ポリベンゾオキサゾール樹脂繊維、ポリアミド樹脂繊維、芳香族ポリアミド樹脂繊維、全芳香族ポリアミド樹脂繊維などのポリアミド系樹脂繊維基材、ポリエステル樹脂繊維、芳香族ポリエステル樹脂繊維、全芳香族ポリエステル樹脂繊維などのポリエステル系樹脂繊維基材、ポリイミド樹脂繊維、フッ素樹脂繊維などを主成分として構成される合成繊維基材、クラフト紙、コットンリンター紙、リンターとクラフトパルプの混抄紙などを主成分とする紙基材などの有機繊維基材などが挙げられる。これらの中でも、強度、吸水率の点からガラス繊維基材が好ましい。また、ガラス繊維基材を用いることにより、樹脂基板100の熱膨張係数をさらに小さくすることができる。
ただし、本実施形態の樹脂基板は、上述した各材料に限定されず、種々の条件を適切に調整することにより、本実施形態の樹脂基板を得ることができる。
つづいて、本実施形態における半導体パッケージ200について説明する。
樹脂基板100は、図2に示すような半導体パッケージ200に用いることができる。半導体パッケージ200の製造方法としては、とくに限定されないが、例えば以下のような方法がある。
金属箔付き樹脂基板213(金属張積層板)に層間接続用のスルーホール215を形成し、サブトラクティブ工法、セミアディティブ工法などにより配線層を作製する。その後、必要に応じてビルドアップ層(図2では図示しない)を積層して、アディティブ工法により層間接続および回路形成する工程を繰り返す。そして、必要に応じてソルダーレジスト層201を積層して、上記に準じた方法で回路形成し、プリント配線基板が得られる。ここで、一部あるいは全てのビルドアップ層およびソルダーレジスト層は繊維基材を含んでも構わないし、含まなくても構わない。
つづいて、本実施形態における半導体装置300について説明する。
半導体パッケージ200は、図3に示すような半導体装置300に用いることができる。半導体装置300の製造方法としては、とくに限定されないが、例えば以下のような方法がある。
はじめに、得られた半導体パッケージ200のソルダーレジスト層201の開口部209に半田ペーストを供給し、リフロー処理を行なうことによって半田バンプ301を形成する。また、半田バンプ301は、あらかじめ作製した半田ボールを開口部209に取り付けることによっても形成できる。
本実施形態における樹脂基板100にビルドアップ層をさらに積層した構成を取ることもできる。
エポキシ樹脂A:ビフェニルアラルキル型ノボラックエポキシ樹脂(日本化薬社製、NC−3000)
エポキシ樹脂B:ナフタレンジオールジグリシジルエーテル(DIC社製、エピクロンHP−4032D)
エポキシ樹脂C:ナフチレンエーテル型エポキシ樹脂(DIC社製、エピクロンHP−6000)
エポキシ樹脂D:リン変性エポキシ樹脂(東都化成社製、FX−305EK70、固形分70質量%)
シアネート樹脂B:一般式(II)で表わされるp−キシレン変性ナフトールアラルキル型シアネート樹脂(ナフトールアラルキル型フェノール樹脂(東都化成社製、「SN−485誘導体」)と塩化シアンの反応物)
アミン化合物:4,4`−ジアミノジフェニルメタン
ビスマレイミド化合物(ケイアイ化成工業社製、BMI−70)
充填材B:球状シリカ(アドマテックス社製、SO−31R、平均粒径1.0μm)
充填材C:ナノシリカ(アドマテックス社製、アドマナノ、KBM403E表面処理品、平均粒径55nm)
充填材D:ベーマイト(ナバルテック社製、AOH−30)
充填材E:シリコーン粒子(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン社製、トスパール120、平均粒径2μm)
カップリング剤B:N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業社製、KBM−573)
硬化促進剤A:上記一般式(IX)に該当するオニウム塩化合物のリン系触媒(住友ベークライト社製、C05−MB)
硬化促進剤B:オクチル酸亜鉛
1.樹脂材料のワニス1の調製
エポキシ樹脂Cとしてナフチレンエーテル型エポキシ樹脂(DIC社製、エピクロンHP−6000)9.0質量部、アミン化合物として4,4`−ジアミノジフェニルメタン3.0質量部、ビスマレイミド化合物としてビス−(3−エチル−5−メチル−4−マレイミドフェニル)メタン(ケイアイ化成工業社製、BMI−70)17.5質量部、をメチルエチルケトンに溶解、分散させた。さらに、充填材Bとして球状シリカ(アドマテックス社製、SO−31R、平均粒径1.0μm)63.0質量部、充填材Cとしてナノシリカ(アドマテックス社製、アドマナノ、KBM403E表面処理品、平均粒径55nm)2.0質量部、充填材Dとしてベーマイト(ナバルテック社製、AOH−30)5.0質量部とカップリング剤Aとしてγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(モメンティブ・パフォーマンス社製、A−187)0.5質量部を添加して、高速撹拌装置を用いて30分間撹拌して、不揮発分65質量%となるように調整し、樹脂材料のワニス1(樹脂ワニス1)を調製した。
はじめに、塗布装置を用いて、ガラス繊維基材(厚さ:46μm、日東紡社製Tガラス織布、WTX−1280、IPC規格1280、線膨張係数:2.8ppm/℃)に上記樹脂ワニス1を含浸させた。ここで、ガラス繊維基材に樹脂ワニス1を塗布含浸するときのガラス繊維基材にかかる張力を350N/mに設定した。
次いで、180℃の加熱炉で2分間乾燥して、厚さ50μmのプリプレグ1を得た。
得られたプリプレグ1を2枚重ね、その両面に2μmの銅箔(日本電解社製、NSAP−2B)をそれぞれ重ね合わせた。次いで、その積層体を平滑な金属板に挟み、温度220℃、圧力4MPaの条件で2時間加熱加圧成形した。次いで、圧力4MPaを維持したまま、5℃/分の降温速度で30℃まで冷却し、金属張積層板を得た。得られた金属張積層板のコア層(樹脂基板に相当)の厚みは、0.10mmであった。
上記で得られた金属張積層板の両面をセミアディティブ法により回路パターン形成(残銅率70%、L/S=25/25μm)した。次いで、回路表面にソルダーレジスト(太陽インキ社製、PSR800/AUS410)を形成し、半導体素子との接続端子部を露光・現像で開口露出させた。その後、開口部の接続端子上へ、無電解ニッケルめっき、さらに、無電解金めっきおよび半田めっきを形成した。得られた基板を14mm×14mmサイズに切断し、半導体パッケージ用のプリント配線基板を得た。
得られた上記プリント配線基板上に、半田バンプを有する半導体素子(TEGチップ、サイズ8mm×8mm、厚み100μm)を、フリップチップボンダー装置により、加熱圧着により搭載した。
つぎに、IRリフロー炉で半田バンプを溶融接合した後、液状封止樹脂(住友ベークライト社製、CRP−X4120B3)を充填し、当該液状封止樹脂を硬化させることで半導体パッケージ(以下、半導体PKG)を得た。なお、液状封止樹脂は、温度150℃、120分の条件で硬化させた。また、半導体素子の半田バンプは、Sn/Ag/Cu組成の鉛フリー半田で形成されたものを用いた。
樹脂ワニスの種類を表2のものに変えた以外は実施例1と同様に、プリプレグ、金属張積層板、プリント配線基板および半導体パッケージを製造した。
ガラス繊維基材をガラス繊維基材(厚さ:47μm、日東紡社製Eガラス織布、WEA−1280、IPC規格1280、線膨張係数:5.8ppm/℃)に変えた以外は実施例4と同様に、プリプレグ、金属張積層板、プリント配線基板および半導体パッケージを製造した。
ガラス繊維基材に樹脂ワニスを塗布含浸するときのガラス繊維基材にかかる張力を70N/mに設定した以外は、実施例4と同様に、プリプレグ、金属張積層板、プリント配線基板および半導体パッケージを製造した。
金属張積層板の製造時に、温度220℃で2時間加熱後すぐに、荷重を0.5MPaに下げた以外は実施例4と同様に、プリプレグ、金属張積層板、プリント配線基板および半導体パッケージを製造した。
ガラス転移温度の測定は、動的粘弾性測定(DMA)を用いておこなった。
実施例および比較例で得られた樹脂基板から8mm×40mmのテストピースを切り出し、TAインスツルメント製DMA2980を用いて昇温速度5℃/min、周波数1Hzの条件で測定をおこなった。なお、ガラス転移温度は、周波数1Hzにおいてtanδが最大値を示す温度とした。
実施例および比較例で得られた金属張積層板から4mm×15mmのテストピースを切り出し、エッチング液(第二塩化鉄溶液、35℃)で銅箔を除去した。次いで、熱機械分析装置TMA(TAインスツルメント社製、Q400)を用いて、10℃/分の引っ張り条件で30℃から260℃まで昇温させ、50℃以上150℃以下の範囲における線膨張係数α1を算出した。
半導体パッケージの室温での反り量は、チップ面を加熱冷却可能なチャンバー上に置いて、25℃と260℃の雰囲気下で、BGA面から基板(サイズ:14mm×14mm)上の13mm×13mm部分での室温(25℃)における反り量、および25℃から260℃までの反り量を測定した。なお、サンプルは上記実施例および比較例で作製した半導体パッケージを用いた。各符号は、以下の通りである。
実施例および比較例で使用したガラス繊維基材について、熱機械分析装置TMA(TAインスツルメント社製、Q400)を用いて、10℃/分の引っ張り条件で30℃から260℃まで昇温させ、50℃以上150℃以下の範囲における線膨張係数α2を算出した。
◎:反り量が150μm未満(良好)
○:反り量が150μm以上200μm未満(実質上問題なし)
×反り量が200μm以上(問題あり)
◎:反り量の変化が250μm未満(良好)
○:反り量の変化が250μm以上300μm未満(実質上問題なし)
×反り量の変化が300μm以上(問題あり)
実施例および比較例で作製した樹脂基板の中心付近を270mm×350mmサイズで切断し、エッチング液で金属箔を剥離した。次いで、そのサンプルを30mm間隔で50mm×50mmサイズに切断し、合計12ピースの基板反り用サンプルを得た。得られたサンプルの基板反りの測定は、温度可変レーザー三次元測定機(LS200−MT100MT50:ティーテック社製)を用いて、常温(25℃)でおこなった。
実施例および比較例で得られた半導体パッケージをフライングチェッカー(1116X−YC ハイテスタ:日置電機社製)を用いて、半田バンプを介して半導体素子とプリント配線基板間を通る回路端子の導通の測定をおこない、その抵抗値を初期値とした。
つぎに、60℃、60%の吸湿条件下で40時間処理後、IRリフロー炉(ピーク温度:260℃)で3回処理し、同様に導通を測定して初期値より抵抗値が5%以上上昇したものを実装時の断線と判定した。
ここで、初期値で断線が生じていた場合は、回路作製上の不具合と判断しカウントしていない。なお、測定は各半導体パッケージについて合計3個ずつおこない、半導体パッケージ1個につき測定箇所は61箇所、計183箇所測定した。
各符号は、以下の通りである。
◎:断線箇所が無い
○:断線箇所が1%以上11%未満
△:断線箇所が11%以上51%未満
×:断線箇所が51%以上
実施例および比較例で得られた半導体パッケージを60℃、60%の条件下で40時間処理した。その後、IRリフロー炉(ピーク温度:260℃)で3回処理し、大気中で、−55℃(15分)、150℃(15分)で500サイクル処理した。つぎに、超音波映像装置(日立建機ファインテック社製、FS300)を用いて、半導体素子、半田バンプに異常がないか観察した。なお、測定は、各半導体パッケージについて合計5個ずつおこなった。
◎:半導体素子、半田バンプともに異常なし。
○:半導体素子および/または半田バンプの一部にクラックが見られるが実用上問題なし。
△:半導体素子および/または半田バンプの一部にクラックが見られ実用上問題あり。
×:半導体素子、半田バンプともにクラックが見られ使用できない。
具体的には、実施例1〜4、6では、(1)繊維基材の張力を高テンションに保持した状態で、繊維基材へ樹脂ワニスを塗布含浸している点、(2)樹脂基板を高圧で加熱加圧成形している点、(3)樹脂基板を高圧で加熱加圧成形後、冷却終了時まで加圧を継続している点、(4)厚みの薄い繊維基材を使用している点、(5)ナフチレンエーテル型エポキシ樹脂を使用している点、等の技術的な工夫をおこなっている。
また、実施例5では、(1)繊維基材の張力を高テンションに保持した状態で、繊維基材へ樹脂ワニスを塗布含浸している点、(2)樹脂基板を高圧で加熱加圧成形している点、(3)樹脂基板を高圧で加熱加圧成形後、冷却終了時まで加圧を継続している点、(4)厚みの薄い繊維基材を使用している点、等の技術的な工夫をおこなっている。
101 繊維基材
103 絶縁樹脂層
200 半導体パッケージ
201 ソルダーレジスト層
203 半導体素子
205 接続端子
207 半田バンプ
209 開口部
211 封止材
213 樹脂基板
215 スルーホール
300 半導体装置
301 半田バンプ
303 実装基板
305 接続端子
Claims (16)
- 繊維基材に樹脂材料を含浸してなる樹脂基板であって、
前記繊維基材は織布基材であり、
熱機械分析装置を用いて、当該樹脂基板を30℃から260℃まで昇温させる一回目の測定(1stRun)をおこなった際の、50℃以上150℃以下の範囲における前記樹脂基板の基板面内方向の線膨張係数をα1とし、
50℃以上150℃以下の範囲における前記繊維基材の線膨張係数をα2としたとき、
α2>α1を満たす、樹脂基板。 - 請求項1に記載の樹脂基板において、
前記線膨張係数α1を測定後、当該樹脂基板を30℃から260℃まで昇温させる二回目の測定(2ndRun)をおこなった際の、50℃以上150℃以下の範囲における前記樹脂基板の基板面内方向の線膨張係数をα3としたとき、
α2>α3>α1を満たす、樹脂基板。 - 請求項1または2に記載の樹脂基板において、
前記繊維基材がガラス繊維基材である、樹脂基板。 - 請求項3に記載の樹脂基板において、
前記ガラス繊維基材が、Tガラス、Sガラス、Eガラス、NEガラス、および石英ガラスからなる群から選ばれる少なくとも一種を含む、樹脂基板。 - 請求項1乃至4いずれか一項に記載の樹脂基板において、
前記樹脂材料は充填材を含み、
前記充填材の含有量が、前記樹脂材料100質量%に対して、60質量%以上90質量%以下である、樹脂基板。 - 請求項1乃至5いずれか一項に記載の樹脂基板において、
前記繊維基材の前記線膨張係数α2が、10ppm/℃以下である、樹脂基板。 - 請求項1乃至6いずれか一項に記載の樹脂基板において、
前記樹脂材料は、ナフチレンエーテル型エポキシ樹脂を含む、樹脂基板。 - 請求項1乃至7いずれか一項に記載の樹脂基板において、
前記樹脂材料は、シアネート樹脂を含む、樹脂基板。 - 請求項1乃至8いずれか一項に記載の樹脂基板において、
前記樹脂材料は、ナノシリカを含み、
前記ナノシリカのレーザー回折散乱式粒度分布測定法による体積基準粒度分布におけるメディアン径d50が100nm以下である、樹脂基板。 - 請求項9に記載の樹脂基板において、
前記繊維基材のストランド中に前記ナノシリカが存在する、樹脂基板。 - 請求項1乃至10いずれか一項に記載の樹脂基板において、
当該樹脂基板の前記線膨張係数α1が、5ppm/℃以下である、樹脂基板。 - 請求項1乃至11いずれか一項に記載の樹脂基板において、
当該樹脂基板の動的粘弾性測定によるガラス転移温度が、200℃以上350℃以下である、樹脂基板。 - 請求項1乃至12いずれか一項に記載の樹脂基板において、
当該樹脂基板の厚みが、0.6mm以下である、樹脂基板。 - 請求項1乃至13いずれか一項に記載の樹脂基板の少なくとも一方の面に金属箔が積層された、金属張積層板。
- 請求項1乃至13いずれか一項に記載の樹脂基板を回路加工してなる、プリント配線基板。
- 請求項15に記載のプリント配線基板に半導体素子を搭載してなる、半導体装置。
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