JP2014017499A - 基板洗浄装置、基板洗浄方法及び記憶媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板洗浄装置1は、裏面を下方に向けた状態の基板を裏面から支えて保持する2つの基板保持手段(吸着パッド2、スピンチャック3)を備え、支える領域が重ならないようにしながらこれらの基板保持手段の間で基板を持ち替える。洗浄部材(ブラシ5)は基板保持手段により支えられている領域以外の基板の裏面を洗浄し、2つの基板保持手段の間で基板が持ち替えられることを利用して基板の裏面全体を洗浄する。
【選択図】図1
Description
下方を向いている基板裏面の第1の領域を水平に吸着保持する第1の基板保持手段と、
この第1の基板保持手段より基板を受け取って、前記第1の領域とは重ならない基板裏面の第2の領域を水平に吸着保持する第2の基板保持手段と、
前記第1の基板保持手段または第2の基板保持手段に吸着保持された基板の裏面に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、
前記第1の基板保持手段から前記第2の基板保持手段へ基板を受け渡す前に、前記第2の領域を乾燥するための乾燥手段手段と、
基板が第1の基板保持手段により保持されている間は、前記第2の領域を含む基板の裏面に接触して洗浄し、その基板が前記第2の基板保持手段により保持されている間は、前記第2の領域以外の基板の裏面に接触して洗浄する洗浄部材と、を備えたことを特徴とする。
ここで前記第2の基板保持手段は、基板の略中央を保持して鉛直回りに回転自在に構成され、前記洗浄部材による洗浄を終えた基板を回転させて基板の裏面に残存している洗浄液を振り切り乾燥するようにするとよい。また、前記乾燥手段は、基板の裏面に気体を噴射するように構成する場合が好適である。
第1の基板保持手段により保持されている基板の第2の領域の下方に第2の基板保持手段を退避させると共に当該第2の基板保持手段の上方に前記カバー部材を位置させた状態で当該第2の領域を洗浄部材により洗浄するように構成してもよい。
下方を向いている基板裏面の第1の領域を水平に吸着保持する第1の基板保持工程と、
この基板を持ち替えて前記第1の領域とは重ならない基板裏面の第2の領域を水平に吸着保持する第2の基板保持工程と、
前記第1の基板保持工程または第2の基板保持工程にて保持されている基板の裏面に洗浄液を供給する工程と、
前記第1の基板保持工程から前記第2の基板保持工程へと基板を持ち替える前に、前記第2の領域を乾燥する工程と、
前記第1の基板保持工程の期間中は、前記第2の領域を含む基板の裏面の洗浄を行い、前記第2の基板保持工程の期間中は、前記第2の領域以外の基板の裏面の洗浄を行う工程と、を含むことを特徴とする。
前記プログラムは上述の各基板洗浄方法を実行するためにステップが組まれていることを特徴とする。
W ウエハ
1 洗浄装置
2 吸着パッド
2a 吸着孔
3 スピンチャック
3a 吸着孔
3b 軸部
5 ブラシ
5a 洗浄液ノズル
5b ブローノズル
6 制御部
11 ランプボックス
12 UVランプ
13 ブローノズル
14 洗浄液ノズル
15 排気管
16 ドレイン管
20 井桁
21 パッド支持部
22 橋桁部
23 ベルト
24 巻掛軸
25 駆動機構
26 側板
27 昇降機構
27a スライダ
27b ガイドレール
31 エアナイフ
31a 噴射口
32 支持ピン
32a 昇降機構
33 スピンチャックモータ
41 アッパーカップ
41a 開口部
42 インナーカップ
43 アンダーカップ
51 支持部
52 ベルト
53 巻掛軸
54 駆動機構
71 カバー部材
72 支持部
73 乾燥ノズル
100 基板洗浄装置
Claims (1)
- 基板を洗浄処理する基板洗浄装置において、
基板に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、
基板に洗浄部材を当接させて洗浄する洗浄手段と、
前記基板の洗浄中、基板を保持する第1の基板保持手段と、
前記第1の基板保持手段により基板を保持する位置よりも下方側の退避位置と、当該第1の基板保持手段との間で基板の受け渡しを行う前記退避位置よりも上方側の受け渡し位置との間で昇降を行う昇降機構を備えた第2の基板保持手段と、
前記第2の基板保持手段への洗浄液の滴下を防止するため、前記退避位置に退避した第2の基板保持手段の上面を覆うカバー部材と、を備えたことを特徴とする基板洗浄装置。
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