JP2014005269A - シュウ酸を配位子とする金属錯体精製物及び該金属錯体の非水溶媒精製溶液の製造方法 - Google Patents
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- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 339
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 title claims abstract description 113
- 239000002904 solvent Substances 0.000 title claims abstract description 60
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 title claims abstract description 45
- 239000003446 ligand Substances 0.000 title claims abstract description 42
- 238000000746 purification Methods 0.000 title claims abstract description 31
- 239000012264 purified product Substances 0.000 title claims abstract description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 28
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 64
- -1 thionyl halide Chemical class 0.000 claims abstract description 56
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 claims abstract description 24
- 239000000047 product Substances 0.000 claims abstract description 15
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 111
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims description 27
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 claims description 21
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 20
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 claims description 20
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 17
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 claims description 16
- 239000011255 nonaqueous electrolyte Substances 0.000 claims description 16
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 claims description 15
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 claims description 12
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims description 10
- PQIOSYKVBBWRRI-UHFFFAOYSA-N methylphosphonyl difluoride Chemical group CP(F)(F)=O PQIOSYKVBBWRRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims description 5
- HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N Lithium ion Chemical compound [Li+] HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 claims description 4
- 229910001416 lithium ion Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 4
- 238000007872 degassing Methods 0.000 claims description 3
- HFRXJVQOXRXOPP-UHFFFAOYSA-N thionyl bromide Chemical compound BrS(Br)=O HFRXJVQOXRXOPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000007773 negative electrode material Substances 0.000 claims description 2
- 229910001414 potassium ion Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 claims description 2
- NPYPAHLBTDXSSS-UHFFFAOYSA-N Potassium ion Chemical compound [K+] NPYPAHLBTDXSSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N Sodium cation Chemical compound [Na+] FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 11
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 54
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 22
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 22
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 18
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 17
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 11
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 11
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 11
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 11
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 10
- 208000012839 conversion disease Diseases 0.000 description 10
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 10
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 10
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N silicon tetrafluoride Chemical compound F[Si](F)(F)F ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 10
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 9
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 9
- IEJIGPNLZYLLBP-UHFFFAOYSA-N dimethyl carbonate Chemical compound COC(=O)OC IEJIGPNLZYLLBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 7
- JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N ethyl methyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OC JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910001496 lithium tetrafluoroborate Inorganic materials 0.000 description 5
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N Sulphur dioxide Chemical compound O=S=O RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 4
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 4
- RIUWBIIVUYSTCN-UHFFFAOYSA-N trilithium borate Chemical compound [Li+].[Li+].[Li+].[O-]B([O-])[O-] RIUWBIIVUYSTCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OIFBSDVPJOWBCH-UHFFFAOYSA-N Diethyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OCC OIFBSDVPJOWBCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 3
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 3
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 3
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 3
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 3
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical group [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 2
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 description 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LSJNBGSOIVSBBR-UHFFFAOYSA-N thionyl fluoride Chemical compound FS(F)=O LSJNBGSOIVSBBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZNVUJQVZSTENZ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dichloro-5,6-dicyano-1,4-benzoquinone Chemical compound ClC1=C(Cl)C(=O)C(C#N)=C(C#N)C1=O HZNVUJQVZSTENZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGHDLJAZIIFENW-UHFFFAOYSA-N 4-[1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-(4-hydroxy-3-prop-2-enylphenyl)propan-2-yl]-2-prop-2-enylphenol Chemical group C1=C(CC=C)C(O)=CC=C1C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)C1=CC=C(O)C(CC=C)=C1 QGHDLJAZIIFENW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N Ethylene carbonate Chemical compound O=C1OCCO1 KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- ICRGCTYTLVGZOU-UHFFFAOYSA-N ctk4c2791 Chemical compound FS(Cl)=O ICRGCTYTLVGZOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- DWYMPOCYEZONEA-UHFFFAOYSA-L fluoridophosphate Chemical compound [O-]P([O-])(F)=O DWYMPOCYEZONEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 230000026030 halogenation Effects 0.000 description 1
- 238000005658 halogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000004693 imidazolium salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- UHZYTMXLRWXGPK-UHFFFAOYSA-N phosphorus pentachloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)(Cl)Cl UHZYTMXLRWXGPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N propionitrile Chemical compound CCC#N FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 239000012629 purifying agent Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 description 1
- IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N rubidium atom Chemical compound [Rb] IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 125000005207 tetraalkylammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005497 tetraalkylphosphonium group Chemical group 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
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- H01M10/0566—Liquid materials
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- C07F5/00—Compounds containing elements of Groups 3 or 13 of the Periodic Table
- C07F5/02—Boron compounds
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
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Abstract
【課題】本発明の目的は、シュウ酸を配位子とする金属錯体精製物や該金属錯体の非水溶媒精製溶液を安価で工業的に製造する方法を提供することである。
【解決手段】シュウ酸を配位子とする金属錯体の非水溶媒溶液中に存在するシュウ酸を、非水溶媒下、ハロゲン化チオニルと反応分解させ、反応分解生成物および未反応のハロゲン化チオニルを脱気除去すること。
【選択図】なし
【解決手段】シュウ酸を配位子とする金属錯体の非水溶媒溶液中に存在するシュウ酸を、非水溶媒下、ハロゲン化チオニルと反応分解させ、反応分解生成物および未反応のハロゲン化チオニルを脱気除去すること。
【選択図】なし
Description
本発明は、非水電解液電池用電解質、ポリオレフィン等の重合触媒、また、有機合成用触媒として利用されるシュウ酸を配位子とする金属錯体精製物及び該金属錯体の非水溶媒精製溶液の製造方法に関するものである。
ジフルオロ（オキサラト）ホウ酸リチウム、ビス（オキサラト）ホウ酸リチウム、ジフルオロビス（オキサラト）リン酸リチウム等のシュウ酸を配位子とする錯体塩は、リチウムイオン電池、リチウムイオンキャパシタ等の非水電解液電池用電解質、ポリオレフィン等の重合触媒、有機合成用触媒として有用な物質である。
ジフルオロ（オキサラト）ホウ酸塩、ビス（オキサラト）ホウ酸塩、テトラフルオロ（オキサラト）リン酸塩、ジフルオロビス（オキサラト）リン酸塩の製造方法として、特許文献１にテトラフルオロホウ酸塩または、ヘキサフルオロリン酸塩とシュウ酸を有機溶媒中、四塩化ケイ素等の反応助剤の存在下で反応させる方法が知られている。
トリス（オキサラト）リン酸の製造方法として、特許文献２に五塩化リンとシュウ酸を有機溶媒中で反応させる方法が記載されている。さらに、水素化物および有機金属化合物と反応させることでトリス（オキサラト）リン酸金属塩を得る方法も記載されている。
一般に、これらの錯体塩の精製には晶析法が用いられるが、非水溶媒での晶析法の場合、原料として残存しているシュウ酸も共に析出してしまう場合も多い。非水電解液電池用電解質または非水電解液電池用添加剤用途等の場合には、電極等の腐食防止の観点から、非水溶媒溶液としたときに存在する遊離酸濃度がフッ酸換算で２００質量ｐｐｍ程度以下の品質のものが求められており、このような高純度な化合物が要求される場合には、再精製が必要となる。また、晶析法での精製は目的物の濾液へのロスがあるため、溶液状態で精製できる製造方法があれば、ロスなく目的物の溶液が得られ、生産性の向上につながる。
本発明の目的は、シュウ酸を配位子とする金属錯体精製物や該金属錯体の非水溶媒精製溶液を安価で工業的に製造する方法を提供することである。
本発明者らは、かかる従来技術の問題点に鑑み鋭意検討の結果、溶液中に存在するシュウ酸をハロゲン化チオニルとの反応により分解し、分解生成物および未反応のハロゲン化チオニルを脱気除去することで、シュウ酸を配位子とする錯体を安価で工業的に精製できる製造方法を見出し、本発明に至った。
すなわち本発明は、シュウ酸を不純物として含有する、シュウ酸を配位子とする金属錯体の非水溶媒溶液から、該不純物を分解除去して、シュウ酸を配位子とする金属錯体の非水溶媒精製溶液を製造する方法であって、
不純物として前記溶液中に存在するシュウ酸を、非水溶媒下、ハロゲン化チオニルと反応分解させ、反応分解生成物および未反応のハロゲン化チオニルを脱気除去することを特徴とする、シュウ酸を配位子とする金属錯体の非水溶媒精製溶液の製造方法である。
不純物として前記溶液中に存在するシュウ酸を、非水溶媒下、ハロゲン化チオニルと反応分解させ、反応分解生成物および未反応のハロゲン化チオニルを脱気除去することを特徴とする、シュウ酸を配位子とする金属錯体の非水溶媒精製溶液の製造方法である。
前記ハロゲン化チオニルは、フッ化チオニル（ＳＯＦ２）、フッ化塩化チオニル（ＳＯＦＣｌ）、塩化チオニル（ＳＯＣｌ２）、臭化チオニル（ＳＯＢｒ２）であることが好ましく、塩化チオニル（ＳＯＣｌ２）、臭化チオニル（ＳＯＢｒ２）であることがより好ましい。
前記シュウ酸を配位子とする金属錯体は、ジフルオロ（オキサラト）ホウ酸塩、ビス（オキサラト）ホウ酸塩、ジフルオロビス（オキサラト）リン酸塩、テトラフルオロ（オキサラト）リン酸塩、トリス（オキサラト）リン酸塩および、その混合物からなる群から選ばれる少なくとも１つであることが好ましい。
前記シュウ酸を配位子とする金属錯体の対カチオンについては、特に制限はなく、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、マグネシウム、カルシウム、バリウム、銀、銅、鉄、等の金属カチオン、テトラアルキルアンモニウム、テトラアルキルホスホニウム、イミダゾリウム誘導体、等のオニウムカチオンが挙げられる。用途が、非水電解液電池用電解質または非水電解液電池用添加剤等の場合には、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、テトラアルキルアンモニウムイオンが好ましい。
また、前記のハロゲン化チオニルとの反応分解の際の温度は１０℃〜１００℃の範囲であることが好ましい。
また、前記の反応分解生成物および未反応のハロゲン化チオニルを脱気除去する際の温度は０℃〜１５０℃の範囲であることが好ましい。
また、ハロゲン化チオニルの添加量は、シュウ酸１モルに対し、ハロゲン化チオニル１０モル以下の範囲で反応させることが好ましい。さらには、シュウ酸とハロゲン化チオニルを１：０．１〜１：１０のモル比の範囲で反応させることが好ましく、特には、シュウ酸とハロゲン化チオニルを１：１〜１：１０のモル比の範囲で反応させることが好ましい。
また、上記の製造方法の脱気除去の後に、さらに晶析精製を行ってもよい。
また、本発明は、上記の製造方法を用いて得られた、シュウ酸を配位子とする金属錯体の非水溶媒精製溶液である。
また、本発明は、上記の製造方法を用いて得られた、シュウ酸を配位子とする金属錯体精製物である。
また、本発明は、少なくとも正極と、リチウムまたはリチウムの吸蔵放出の可能な負極材料からなる負極と、非水溶媒と溶質とからなる非水電解液電池用電解液とを備えた非水電解液電池において、上記の製造方法を用いて得られた、シュウ酸を配位子とする金属錯体精製物、及び／または、シュウ酸を配位子とする金属錯体の非水溶媒精製溶液を含むことを特徴とする、非水電解液電池である。
本発明により、非水電解液電池用電解質、ポリオレフィン等の重合触媒、また、有機合成用触媒として有用なシュウ酸を配位子とする金属錯体精製物や該金属錯体の非水溶媒精製溶液を安価で工業的に製造することができる。
以下に、本発明をより詳細に説明する。
本発明の製造方法は、シュウ酸を配位子とする金属錯体の非水溶媒溶液（例えば、該錯体の合成反応溶液）中に存在するシュウ酸を、非水溶媒下、ハロゲン化チオニルと反応分解させ、反応分解生成物および未反応のハロゲン化チオニルを脱気除去することを特徴とするものである。ハロゲン化チオニルとシュウ酸の反応は、以下の式で示される。
ＳＯＸ２＋（ＣＯＯＨ）２ → ２ＨＸ＋ＳＯ２＋ＣＯ＋ＣＯ２
（式中で、Ｘはハロゲン原子を意味する）
ＳＯＸ２＋（ＣＯＯＨ）２ → ２ＨＸ＋ＳＯ２＋ＣＯ＋ＣＯ２
（式中で、Ｘはハロゲン原子を意味する）
存在するシュウ酸が除去されるべき量は、用途によって異なるが、例えば、用途が非水電解液電池用電解質または非水電解液電池用添加剤の場合、電極等の腐食防止の観点から、電解液の遊離酸濃度としてフッ酸換算で２００質量ｐｐｍ程度以下に低減する必要がある。
前記のハロゲン化チオニルは、特に限定されず市販されているものを用いればよいが、精製剤として使用するため、純度９５質量％以上のものが好ましい。
前記の非水溶媒は、ハロゲン化チオニルと反応しない溶媒であればよく、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、エチルメチルカーボネート、プロピレンカーボネート、エチレンカーボネート等のカーボネート類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン等のエーテル類、ｎ−へキサン、シクロヘキサン、ｎ−ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、またはこれらの物質の混合物を使用することができる。
前記のハロゲン化チオニルとの反応分解の際の温度条件としては、特に制限はないが、１０℃〜１５０℃の範囲で行えば良く、通常は２０℃〜１２０℃が好ましく、特に、３０℃〜１００℃がより好ましい。１０℃よりも低い温度であれば反応分解速度が遅くなる傾向があり、１５０℃を超える温度であれば、ハロゲン化チオニルが導入されずそのまま系外に揮発し易くなり、その結果シュウ酸を目標量分解除去できなくなる恐れがある。また、１５０℃を超える温度であれば、目的とする錯体や溶媒の分解が生じる恐れがある。
ハロゲン化チオニルの添加方法は特に限定するものではなく、状況に合わせた任意の条件で実施すればよいが、例えば、フッ化チオニルなどの常温で気体の場合はボンベから直接導入する方法、塩化チオニルなどの常温で液体の場合は、不活性ガスを用いて圧送する方法、定量ポンプを用いて導入する方法等が挙げられる。
ハロゲン化チオニルの添加量は特に限定するものではなく、シュウ酸の目標分解量に応じて添加すればよい。シュウ酸とハロゲン化チオニルは１：１（モル比）で定量的に反応するため、シュウ酸を系内から実質的に除去したい場合には、シュウ酸に対してハロゲン化チオニルを等モル量以上添加すればよい。ただし、ハロゲン化チオニルを大過剰に添加すると、副反応により不揮発性のハロゲン化合物が生成してしまう場合や、コストの面から不利になる場合があるため好ましくない。このため、ハロゲン化チオニルの添加量は、シュウ酸１モルに対し、ハロゲン化チオニル１０モル以下の範囲で添加することが好ましい。また、例えば、用途が非水電解液電池用電解質または非水電解液電池用添加剤の場合、電極等の腐食防止の観点から、電解液に存在する遊離酸濃度はフッ酸換算で２００質量ｐｐｍ程度以下、より好ましくはフッ酸換算で１００質量ｐｐｍ程度以下、電解液に存在するハロゲン濃度は数十質量ｐｐｍ以下の品質のものが求められており、ハロゲン化チオニルを過剰に加えすぎると前記ハロゲン濃度が許容値を超える可能性があるため、両許容値の範囲内におさまる様にハロゲン化チオニルの添加量を制御することが好ましい。一方、ハロゲン化チオニルの添加量が少ないと、十分にシュウ酸を反応分解させることが難しいので、シュウ酸１モルに対し、ハロゲン化チオニルを０．１モル以上添加することが好ましい。
ハロゲン化チオニルの添加時間は特に限定するものではなく、任意の時間とすることができるが、反応分解生成物が一酸化炭素、二酸化炭素、ハロゲン化水素、二酸化硫黄等で、常温常圧で気体である場合が多いため、シュウ酸が大量に存在している場合は、少量ずつ添加することが望ましい。前記反応分解の時間としては、特に制限はないが、０．１〜４８時間の範囲で行えばよく、反応分解の温度が３０℃〜１００℃であれば、通常数時間で終結される傾向がある。
ハロゲン化チオニルは水分により加水分解されるため、水分を含まない雰囲気下で反応分解を実施することが好ましい。例えば、窒素等の不活性ガス雰囲気中で反応分解を実施することが好ましい。
反応分解により生成する物質（一酸化炭素、二酸化炭素、ハロゲン化水素、二酸化硫黄等）または残存するハロゲン化チオニルは、反応器を減圧することにより、もしくは、反応器へ不活性ガスを流通することにより、脱気除去することができる。この脱気除去する際の溶液の温度は特に制限はなく、任意の温度とすることができるが、反応分解生成物や残存するハロゲン化チオニルを効率良く脱気除去するには、０℃〜１５０℃の範囲で行えばよい。０℃よりも低い温度であれば、溶液の粘度が上昇し、反応分解生成物や残存するハロゲン化チオニルの除去速度が遅くなってしまう。１５０℃を超える温度であれば、目的とする錯体や溶媒の分解が生じる恐れがある。
本発明のように、ハロゲン化チオニルによる反応分解、及び、脱気除去を行うことにより、不純物となるシュウ酸を系内から除去することができるが、この製造方法の前後において、一般的な精製法（例えば晶析精製）を行なえば、さらに目的物の純度を向上させることができる。
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はかかる実施例により限定されるものではない。
［実施例１］
１Lガラス三口フラスコに、溶媒としてエチルメチルカーボネートを４５０ｇ、テトラフルオロホウ酸リチウムを７０．０ｇ（０．７４６ｍｏｌ）、シュウ酸を７０．２ｇ（０．７８０ｍｏｌ）仕込み、攪拌した。次に四塩化ケイ素６２．１ｇ（０．３６５ｍｏｌ）を１時間かけて導入した。導入終了後、１時間攪拌を継続したのち、反応器を減圧にし、溶媒を５５ｇ留去し、溶存する塩化水素、四フッ化ケイ素を除去した。この反応溶液のＮＭＲ測定により、反応変換率９８％でジフルオロ（オキサラト）ホウ酸リチウムが生成していることを確認した。滴定により反応溶液に存在するシュウ酸量を測定したところ、３．３ｇ（３７ｍｍｏｌ）（該量は、フッ酸換算で２９００質量ｐｐｍに相当する）であった。上記のようにして、予め溶液中に不純物（シュウ酸）が存在する、シュウ酸を配位子とする金属錯体の非水溶媒溶液を準備した。
１Lガラス三口フラスコに、溶媒としてエチルメチルカーボネートを４５０ｇ、テトラフルオロホウ酸リチウムを７０．０ｇ（０．７４６ｍｏｌ）、シュウ酸を７０．２ｇ（０．７８０ｍｏｌ）仕込み、攪拌した。次に四塩化ケイ素６２．１ｇ（０．３６５ｍｏｌ）を１時間かけて導入した。導入終了後、１時間攪拌を継続したのち、反応器を減圧にし、溶媒を５５ｇ留去し、溶存する塩化水素、四フッ化ケイ素を除去した。この反応溶液のＮＭＲ測定により、反応変換率９８％でジフルオロ（オキサラト）ホウ酸リチウムが生成していることを確認した。滴定により反応溶液に存在するシュウ酸量を測定したところ、３．３ｇ（３７ｍｍｏｌ）（該量は、フッ酸換算で２９００質量ｐｐｍに相当する）であった。上記のようにして、予め溶液中に不純物（シュウ酸）が存在する、シュウ酸を配位子とする金属錯体の非水溶媒溶液を準備した。
前記の反応溶液に塩化チオニルを４．４ｇ（３７ｍｍｏｌ）加え、反応溶液を４５℃に加温し、２時間攪拌した。次に、５０℃で反応器を減圧にし、溶媒を５０ｇ留去し、溶存するガス成分を除去した。滴定により反応溶液に存在するシュウ酸（＝遊離酸）量を測定したところ、０．０４５ｇ（０．５ｍｍｏｌ）（該量は、フッ酸換算で３０質量ｐｐｍに相当する）であった。また、この溶液中の塩素濃度（＝ハロゲン濃度）を測定したところ、５質量ｐｐｍ以下であった。結果を表１に示す。得られたジフルオロ（オキサラト）ホウ酸リチウムのエチルメチルカーボネート精製溶液は、遊離酸濃度が低く、そのまま任意の濃度の電解液に調製し、使用することができ、晶析精製のようなロスが全くない。
［実施例２］
３Lガラス三口フラスコに、溶媒としてジメチルカーボネート（DMC）を１７００ｇ、テトラフルオロホウ酸リチウムを２６０ｇ（２．７７ｍｏｌ）、シュウ酸を２５４ｇ（２．８２ｍｏｌ）仕込み、攪拌した。次に四塩化ケイ素２３５ｇ（１．３８ｍｏｌ）を２時間かけて導入した。導入終了後、１時間攪拌を継続したのち、反応器を減圧にし、溶媒を２００ｇ留去し、溶存する塩化水素、四フッ化ケイ素を除去した。この反応溶液のＮＭＲ測定により、反応変換率９８％でジフルオロ（オキサラト）ホウ酸リチウムが生成していることを確認した。滴定により反応溶液に存在するシュウ酸量を測定したところ、１３．６ｇ（１５１ｍｍｏｌ）（該量は、フッ酸換算で３１８０質量ｐｐｍに相当する）であった。上記のようにして、予め溶液中に不純物（シュウ酸）が存在する、シュウ酸を配位子とする金属錯体の非水溶媒溶液を準備した。
３Lガラス三口フラスコに、溶媒としてジメチルカーボネート（DMC）を１７００ｇ、テトラフルオロホウ酸リチウムを２６０ｇ（２．７７ｍｏｌ）、シュウ酸を２５４ｇ（２．８２ｍｏｌ）仕込み、攪拌した。次に四塩化ケイ素２３５ｇ（１．３８ｍｏｌ）を２時間かけて導入した。導入終了後、１時間攪拌を継続したのち、反応器を減圧にし、溶媒を２００ｇ留去し、溶存する塩化水素、四フッ化ケイ素を除去した。この反応溶液のＮＭＲ測定により、反応変換率９８％でジフルオロ（オキサラト）ホウ酸リチウムが生成していることを確認した。滴定により反応溶液に存在するシュウ酸量を測定したところ、１３．６ｇ（１５１ｍｍｏｌ）（該量は、フッ酸換算で３１８０質量ｐｐｍに相当する）であった。上記のようにして、予め溶液中に不純物（シュウ酸）が存在する、シュウ酸を配位子とする金属錯体の非水溶媒溶液を準備した。
前記の反応溶液に塩化チオニルを１８．４ｇ（１５５ｍｍｏｌ）加え、反応溶液を４５℃に加温し、２時間攪拌した。次に、５０℃で反応器を減圧にして溶媒を２５０ｇ留去し、溶存するガス成分を除去した。滴定により反応溶液に存在するシュウ酸（＝遊離酸）量を測定したところ、０．１０ｇ（１．２ｍｍｏｌ）（該量は、フッ酸換算で２５質量ｐｐｍに相当する）であった。さらに、反応器を減圧にし、溶媒を１５０ｇ留去し、ジフルオロ（オキサラト）ホウ酸リチウムを析出させた。その後、濾過することでジフルオロ（オキサラト）ホウ酸リチウム・ＤＭＣ付加体を６１０ｇ得た。このジフルオロ（オキサラト）ホウ酸リチウム・ＤＭＣ付加体を減圧乾燥して、純度９９％以上の固体のジフルオロ（オキサラト）ホウ酸リチウムを３１２ｇ（２．１７ｍｏｌ）得た。滴定により該固体中に存在するシュウ酸量を測定したところ、０．００７ｇ（０．０８ｍｍｏｌ）（該量は、フッ酸換算で１０質量ｐｐｍに相当する）であった。また、この固体中の塩素濃度（＝ハロゲン濃度）を測定したところ、５質量ｐｐｍ以下であった。結果を表１に示す。このように、本発明の製造方法の脱気除去の後に、さらに晶析精製を行うことにより、さらに目的物の純度を向上させることができる。
［実施例３］
３００ｍLガラス三口フラスコに、溶媒としてエチルメチルカーボネートを８０ｇ、ヘキサフルオロリン酸リチウムを２０．０ｇ（０．１３２ｍｏｌ）、シュウ酸を１２．１ｇ（０．１３４ｍｏｌ）仕込み、攪拌した。次に四塩化ケイ素１０．９ｇ（０．０６４ｍｏｌ）を１時間かけて導入した。導入終了後、１時間攪拌を継続したのち、反応器を減圧にし、溶媒を１５ｇ留去し、溶存する塩化水素、四フッ化ケイ素を除去した。この反応溶液のＮＭＲ測定により、反応変換率９８％でテトラフルオロ（オキサラト）リン酸リチウムが生成していることを確認した。滴定により反応溶液に存在するシュウ酸量を測定したところ、０．４１ｇ（４．６ｍｍｏｌ）（該量は、フッ酸換算で２１９０質量ｐｐｍに相当する）であった。上記のようにして、予め溶液中に不純物（シュウ酸）が存在する、シュウ酸を配位子とする金属錯体の非水溶媒溶液を準備した。
３００ｍLガラス三口フラスコに、溶媒としてエチルメチルカーボネートを８０ｇ、ヘキサフルオロリン酸リチウムを２０．０ｇ（０．１３２ｍｏｌ）、シュウ酸を１２．１ｇ（０．１３４ｍｏｌ）仕込み、攪拌した。次に四塩化ケイ素１０．９ｇ（０．０６４ｍｏｌ）を１時間かけて導入した。導入終了後、１時間攪拌を継続したのち、反応器を減圧にし、溶媒を１５ｇ留去し、溶存する塩化水素、四フッ化ケイ素を除去した。この反応溶液のＮＭＲ測定により、反応変換率９８％でテトラフルオロ（オキサラト）リン酸リチウムが生成していることを確認した。滴定により反応溶液に存在するシュウ酸量を測定したところ、０．４１ｇ（４．６ｍｍｏｌ）（該量は、フッ酸換算で２１９０質量ｐｐｍに相当する）であった。上記のようにして、予め溶液中に不純物（シュウ酸）が存在する、シュウ酸を配位子とする金属錯体の非水溶媒溶液を準備した。
前記の反応溶液に塩化チオニルを０．５５ｇ（４．６ｍｍｏｌ）加え、反応溶液を４５℃に加温し、２時間攪拌した。次に、５０℃で反応器を減圧にし、溶媒を１５ｇ留去し、溶存するガス成分を除去した。滴定により反応溶液に存在するシュウ酸（＝遊離酸）量を測定したところ、０．００６ｇ（０．０７ｍｍｏｌ）（該量は、フッ酸換算で４０質量ｐｐｍに相当する）であった。また、この溶液中の塩素濃度（＝ハロゲン濃度）を測定したところ、５質量ｐｐｍ以下であった。結果を表１に示す。得られたテトラフルオロ（オキサラト）リン酸リチウムのエチルメチルカーボネート精製溶液は、遊離酸濃度が低く、そのまま任意の濃度の電解液に調製し、使用することができ、晶析精製のようなロスが全くない。
［実施例４］
３Ｌガラス三口フラスコに、溶媒としてアセトニトリルを１２００ｇ、ヘキサフルオロリン酸ナトリウムを９３．０ｇ（０．５５１ｍｏｌ）、シュウ酸を５０．５ｇ（０．５６１ｍｏｌ）仕込み、攪拌した。次に四塩化ケイ素４６．６ｇ（０．２７６ｍｏｌ）を１時間かけて導入した。導入終了後、１時間攪拌を継続したのち、反応器を減圧にし、溶媒を２３０ｇ留去し、溶存する塩化水素、四フッ化ケイ素を除去した。この反応溶液のＮＭＲ測定により、反応変換率９８％でテトラフルオロ（オキサラト）リン酸ナトリウムが生成していることを確認した。滴定により反応溶液に存在するシュウ酸量を測定したところ、１．９ｇ（２１ｍｍｏｌ）（該量は、フッ酸換算で７７０質量ｐｐｍに相当する）であった。上記のようにして、予め溶液中に不純物（シュウ酸）が存在する、シュウ酸を配位子とする金属錯体の非水溶媒溶液を準備した。
３Ｌガラス三口フラスコに、溶媒としてアセトニトリルを１２００ｇ、ヘキサフルオロリン酸ナトリウムを９３．０ｇ（０．５５１ｍｏｌ）、シュウ酸を５０．５ｇ（０．５６１ｍｏｌ）仕込み、攪拌した。次に四塩化ケイ素４６．６ｇ（０．２７６ｍｏｌ）を１時間かけて導入した。導入終了後、１時間攪拌を継続したのち、反応器を減圧にし、溶媒を２３０ｇ留去し、溶存する塩化水素、四フッ化ケイ素を除去した。この反応溶液のＮＭＲ測定により、反応変換率９８％でテトラフルオロ（オキサラト）リン酸ナトリウムが生成していることを確認した。滴定により反応溶液に存在するシュウ酸量を測定したところ、１．９ｇ（２１ｍｍｏｌ）（該量は、フッ酸換算で７７０質量ｐｐｍに相当する）であった。上記のようにして、予め溶液中に不純物（シュウ酸）が存在する、シュウ酸を配位子とする金属錯体の非水溶媒溶液を準備した。
前記の反応溶液に臭化チオニルを４．４ｇ（２１ｍｍｏｌ）加え、反応溶液を４５℃に加温し、２時間攪拌した。次に、５０℃で反応器を減圧にし、溶媒を２５０ｇ留去し、溶存するガス成分を除去した。滴定により反応溶液に存在するシュウ酸（＝遊離酸）量を測定したところ、０．０７５ｇ（０．８４ｍｍｏｌ）（該量は、フッ酸換算で４０質量ｐｐｍに相当する）であった。また、この溶液中の臭素濃度（＝ハロゲン濃度）を測定したところ、５質量ｐｐｍ以下であった。結果を表１に示す。得られたテトラフルオロ（オキサラト）リン酸ナトリウムのアセトニトリル精製溶液は、遊離酸濃度が低く、そのまま任意の濃度の電解液に調製し、使用することができ、晶析精製のようなロスが全くない。
［実施例５］
３００ｍＬガラス三口フラスコに、溶媒としてアセトニトリルを１３０ｇ、ヘキサフルオロリン酸カリウムを９．２０ｇ（５０．０ｍｍｏｌ）、シュウ酸を４．６０ｇ（５１．１ｍｏｌ）仕込み、攪拌した。次に四塩化ケイ素４．２５ｇ（２５．０ｍｍｏｌ）を１時間かけて導入した。導入終了後、１時間攪拌を継続したのち、反応器を減圧にし、溶媒を２０ｇ留去し、溶存する塩化水素、四フッ化ケイ素を除去した。この反応溶液のＮＭＲ測定により、反応変換率９８％でテトラフルオロ（オキサラト）リン酸カリウムが生成していることを確認した。滴定により反応溶液に存在するシュウ酸量を測定したところ、０．１４ｇ（１．５ｍｍｏｌ）（該量は、フッ酸換算で５００質量ｐｐｍに相当する）であった。上記のようにして、予め溶液中に不純物（シュウ酸）が存在する、シュウ酸を配位子とする金属錯体の非水溶媒溶液を準備した。
３００ｍＬガラス三口フラスコに、溶媒としてアセトニトリルを１３０ｇ、ヘキサフルオロリン酸カリウムを９．２０ｇ（５０．０ｍｍｏｌ）、シュウ酸を４．６０ｇ（５１．１ｍｏｌ）仕込み、攪拌した。次に四塩化ケイ素４．２５ｇ（２５．０ｍｍｏｌ）を１時間かけて導入した。導入終了後、１時間攪拌を継続したのち、反応器を減圧にし、溶媒を２０ｇ留去し、溶存する塩化水素、四フッ化ケイ素を除去した。この反応溶液のＮＭＲ測定により、反応変換率９８％でテトラフルオロ（オキサラト）リン酸カリウムが生成していることを確認した。滴定により反応溶液に存在するシュウ酸量を測定したところ、０．１４ｇ（１．５ｍｍｏｌ）（該量は、フッ酸換算で５００質量ｐｐｍに相当する）であった。上記のようにして、予め溶液中に不純物（シュウ酸）が存在する、シュウ酸を配位子とする金属錯体の非水溶媒溶液を準備した。
前記の反応溶液に塩化チオニルを０．１９ｇ（１．６ｍｍｏｌ）加え、反応溶液を４５℃に加温し、２時間攪拌した。次に、５０℃で反応器を減圧にし、溶媒を２０ｇ留去し、溶存するガス成分を除去した。滴定により反応溶液に存在するシュウ酸（＝遊離酸）量を測定したところ、０．００６ｇ（０．０７ｍｍｏｌ）（該量は、フッ酸換算で３０質量ｐｐｍに相当する）であった。また、この溶液中の塩素濃度（＝ハロゲン濃度）を測定したところ、５質量ｐｐｍ以下であった。結果を表１に示す。得られたテトラフルオロ（オキサラト）リン酸カリウムのアセトニトリル精製溶液は、遊離酸濃度が低く、そのまま任意の濃度の電解液に調製し、使用することができ、晶析精製のようなロスが全くない。
［実施例６］
３Ｌガラス三口フラスコに、溶媒としてγ―ブチロラクトンを１５００ｇ、テトラフルオロホウ酸リチウムを４５．０ｇ（０．４８０ｍｏｌ）、シュウ酸を９５．０ｇ（１．０６ｍｏｌ）仕込み、攪拌した。次に四塩化ケイ素９０．３ｇ（０．５３ｍｏｌ）を２時間かけて導入した。導入終了後、３時間攪拌を継続したのち、反応器を減圧にし、溶媒を２００ｇ留去し、溶存する塩化水素、四フッ化ケイ素を除去した。この反応溶液のＮＭＲ測定により、反応変換率９８％でビス（オキサラト）ホウ酸リチウムが生成していることを確認した。得られた反応溶液から溶媒を全て減圧留去し、白色固体を得た。これをジメチルカーボネート５００ｇで洗浄して固体を濾別し、その固体を減圧乾燥して、純度９９％の固体のビス（オキサラト）ホウ酸リチウムを８８．４ｇ（０．４５６ｍｏｌ）得た。滴定により該固体中に存在するシュウ酸量を測定したところ、０．２６ｇ（２．９ｍｍｏｌ）（該量は、フッ酸換算で１３２０質量ｐｐｍに相当する）であった。次いで、３００ｍＬ三口フラスコに、γ―ブチロラクトンを１５０ｇ、上記で得られた固体のビス（オキサラト）ホウ酸リチウムを １０．１ｇ（５２．１ｍｍｏｌ）を加え攪拌して溶液とした。なお、該溶液中に存在するシュウ酸量は３０ｍｇ（０．３３ｍｍｏｌ）（該量は、フッ酸換算で１３２０質量ｐｐｍに相当する）であった。上記のようにして、予め溶液中に不純物（シュウ酸）が存在する、シュウ酸を配位子とする金属錯体の非水溶媒溶液を準備した。
３Ｌガラス三口フラスコに、溶媒としてγ―ブチロラクトンを１５００ｇ、テトラフルオロホウ酸リチウムを４５．０ｇ（０．４８０ｍｏｌ）、シュウ酸を９５．０ｇ（１．０６ｍｏｌ）仕込み、攪拌した。次に四塩化ケイ素９０．３ｇ（０．５３ｍｏｌ）を２時間かけて導入した。導入終了後、３時間攪拌を継続したのち、反応器を減圧にし、溶媒を２００ｇ留去し、溶存する塩化水素、四フッ化ケイ素を除去した。この反応溶液のＮＭＲ測定により、反応変換率９８％でビス（オキサラト）ホウ酸リチウムが生成していることを確認した。得られた反応溶液から溶媒を全て減圧留去し、白色固体を得た。これをジメチルカーボネート５００ｇで洗浄して固体を濾別し、その固体を減圧乾燥して、純度９９％の固体のビス（オキサラト）ホウ酸リチウムを８８．４ｇ（０．４５６ｍｏｌ）得た。滴定により該固体中に存在するシュウ酸量を測定したところ、０．２６ｇ（２．９ｍｍｏｌ）（該量は、フッ酸換算で１３２０質量ｐｐｍに相当する）であった。次いで、３００ｍＬ三口フラスコに、γ―ブチロラクトンを１５０ｇ、上記で得られた固体のビス（オキサラト）ホウ酸リチウムを １０．１ｇ（５２．１ｍｍｏｌ）を加え攪拌して溶液とした。なお、該溶液中に存在するシュウ酸量は３０ｍｇ（０．３３ｍｍｏｌ）（該量は、フッ酸換算で１３２０質量ｐｐｍに相当する）であった。上記のようにして、予め溶液中に不純物（シュウ酸）が存在する、シュウ酸を配位子とする金属錯体の非水溶媒溶液を準備した。
前記の溶液に塩化チオニルを８４ｍｇ（０．７０ｍｍｏｌ）加え、反応溶液を４５℃に加温し、２時間攪拌した。次に、７０℃で反応器を減圧にして溶媒を全て留去し、溶存するガス成分を除去するとともに乾固して、純度９９％のビス（オキサラト）ホウ酸リチウム精製物を１０．０ｇ（５１．６ｍｍｏｌ）得た。滴定によりビス（オキサラト）ホウ酸リチウムに存在するシュウ酸（＝遊離酸）量を測定したところ、０．４ｍｇ（０．００４ｍｍｏｌ）（該量は、フッ酸換算で２０質量ｐｐｍに相当する）であった。また、塩素濃度（＝ハロゲン濃度）を測定したところ、５質量ｐｐｍ以下であった。結果を表１に示す。
［実施例７］
３００ｍＬガラス三口フラスコに、溶媒としてエチルメチルカーボネートを８０ｇ、ヘキサフルオロリン酸リチウムを２０．０ｇ（０．１３２ｍｏｌ）、シュウ酸を２４．３ｇ（０．２７０ｍｏｌ）仕込み、攪拌した。次に四塩化ケイ素２２．４ｇ（０．１３２ｍｏｌ）を２時間かけて導入した。導入終了後、１時間攪拌を継続したのち、反応器を減圧にし、溶媒を１５ｇ留去し、溶存する塩化水素、四フッ化ケイ素を除去した。この反応溶液のＮＭＲ測定により、反応変換率９６％でジフルオロビス（オキサラト）リン酸リチウムが生成していることを確認した。滴定により反応溶液に存在するシュウ酸量を測定したところ、０．９０ｇ（１０ｍｍｏｌ）（該量は、フッ酸換算で４０００質量ｐｐｍに相当する）であった。上記のようにして、予め溶液中に不純物（シュウ酸）が存在する、シュウ酸を配位子とする金属錯体の非水溶媒溶液を準備した。
３００ｍＬガラス三口フラスコに、溶媒としてエチルメチルカーボネートを８０ｇ、ヘキサフルオロリン酸リチウムを２０．０ｇ（０．１３２ｍｏｌ）、シュウ酸を２４．３ｇ（０．２７０ｍｏｌ）仕込み、攪拌した。次に四塩化ケイ素２２．４ｇ（０．１３２ｍｏｌ）を２時間かけて導入した。導入終了後、１時間攪拌を継続したのち、反応器を減圧にし、溶媒を１５ｇ留去し、溶存する塩化水素、四フッ化ケイ素を除去した。この反応溶液のＮＭＲ測定により、反応変換率９６％でジフルオロビス（オキサラト）リン酸リチウムが生成していることを確認した。滴定により反応溶液に存在するシュウ酸量を測定したところ、０．９０ｇ（１０ｍｍｏｌ）（該量は、フッ酸換算で４０００質量ｐｐｍに相当する）であった。上記のようにして、予め溶液中に不純物（シュウ酸）が存在する、シュウ酸を配位子とする金属錯体の非水溶媒溶液を準備した。
前記の反応溶液に塩化チオニルを１．１８ｇ（１０ｍｍｏｌ）加え、反応溶液を４５℃に加温し、２時間攪拌した。次に、５０℃で反応器を減圧にし、溶媒を１５ｇ留去し、溶存するガス成分を除去した。滴定により反応溶液に存在するシュウ酸（＝遊離酸）量を測定したところ、０．００９ｇ（０．１０ｍｍｏｌ）（該量は、フッ酸換算で５０質量ｐｐｍに相当する）であった。また、この溶液中の塩素濃度（＝ハロゲン濃度）を測定したところ、５質量ｐｐｍ以下であった。結果を表１に示す。得られたジフルオロビス（オキサラト）リン酸リチウムのエチルメチルカーボネート精製溶液は、遊離酸濃度が低く、そのまま任意の濃度の電解液に調製し、使用することができ、晶析精製のようなロスが全くない。
［実施例８］
３００ｍＬガラス三口フラスコに、溶媒としてジエチルカーボネートを１１０ｇ、ヘキサフルオロリン酸リチウムを２０．０ｇ（０．１３２ｍｏｌ）、シュウ酸を２４．３ｇ（０．２７０ｍｏｌ）仕込み、攪拌した。次に四塩化ケイ素２２．４ｇ（０．１３２ｍｏｌ）を２時間かけて導入した。導入終了後、１時間攪拌を継続したのち、反応器を減圧にし、溶媒を１５ｇ留去し、溶存する塩化水素、四フッ化ケイ素を除去した。この反応溶液のＮＭＲ測定により、反応変換率９４％でジフルオロビス（オキサラト）リン酸リチウムが生成していることを確認した。滴定により反応溶液に存在するシュウ酸量を測定したところ、１．２４ｇ（１３．８ｍｍｏｌ）（該量はフッ酸換算で４３００質量ｐｐｍに相当する）であった。上記のようにして、予め溶液中に不純物（シュウ酸）が存在する、シュウ酸を配位子とする金属錯体の非水溶媒溶液を準備した。
３００ｍＬガラス三口フラスコに、溶媒としてジエチルカーボネートを１１０ｇ、ヘキサフルオロリン酸リチウムを２０．０ｇ（０．１３２ｍｏｌ）、シュウ酸を２４．３ｇ（０．２７０ｍｏｌ）仕込み、攪拌した。次に四塩化ケイ素２２．４ｇ（０．１３２ｍｏｌ）を２時間かけて導入した。導入終了後、１時間攪拌を継続したのち、反応器を減圧にし、溶媒を１５ｇ留去し、溶存する塩化水素、四フッ化ケイ素を除去した。この反応溶液のＮＭＲ測定により、反応変換率９４％でジフルオロビス（オキサラト）リン酸リチウムが生成していることを確認した。滴定により反応溶液に存在するシュウ酸量を測定したところ、１．２４ｇ（１３．８ｍｍｏｌ）（該量はフッ酸換算で４３００質量ｐｐｍに相当する）であった。上記のようにして、予め溶液中に不純物（シュウ酸）が存在する、シュウ酸を配位子とする金属錯体の非水溶媒溶液を準備した。
前記の反応溶液に塩化チオニルを１３．０ｇ（１１０ｍｍｏｌ）加え、反応溶液を４５℃に加温し、２時間攪拌した。次に、５０℃で反応器を減圧にし、溶媒を１５ｇ留去し、溶存するガス成分を除去した。滴定により反応溶液に存在するシュウ酸（＝遊離酸）量を測定したところ、０．００７ｇ（０．０８ｍｍｏｌ）（該量は、フッ酸換算で３０質量ｐｐｍに相当する）であった。また、この溶液中の塩素濃度（＝ハロゲン濃度）を測定したところ、１２質量ｐｐｍであった。結果を表１に示す。得られたジフルオロビス（オキサラト）リン酸リチウムのジエチルカーボネート精製溶液は、遊離酸濃度が低く、そのまま任意の濃度の電解液に調製し、使用することができ、晶析精製のようなロスが全くない。
［実施例９］
１Lガラス三口フラスコに、溶媒としてジエチルエーテルを５５０ｇ、テトラフルオロホウ酸リチウムを７０．０ｇ（０．７４６ｍｏｌ）、シュウ酸を６７．１ｇ（０．７４６ｍｏｌ）仕込み、攪拌した。次に四塩化ケイ素６３．４ｇ（０．３７３ｍｏｌ）を１時間かけて導入した。導入終了後、１時間攪拌を継続したのち、反応器を減圧にし、溶媒を５０ｇ留去し、溶存する塩化水素、四フッ化ケイ素を除去した。この反応溶液のＮＭＲ測定により、反応変換率９９％でジフルオロ（オキサラト）ホウ酸リチウムが生成していることを確認した。滴定により反応溶液に存在するシュウ酸量を測定したところ、０．３７ｇ（４．１ｍｍｏｌ）（該量は、フッ酸換算で２７０質量ｐｐｍに相当する）であった。上記のようにして、予め溶液中に不純物（シュウ酸）が存在する、シュウ酸を配位子とする金属錯体の非水溶媒溶液を準備した。
１Lガラス三口フラスコに、溶媒としてジエチルエーテルを５５０ｇ、テトラフルオロホウ酸リチウムを７０．０ｇ（０．７４６ｍｏｌ）、シュウ酸を６７．１ｇ（０．７４６ｍｏｌ）仕込み、攪拌した。次に四塩化ケイ素６３．４ｇ（０．３７３ｍｏｌ）を１時間かけて導入した。導入終了後、１時間攪拌を継続したのち、反応器を減圧にし、溶媒を５０ｇ留去し、溶存する塩化水素、四フッ化ケイ素を除去した。この反応溶液のＮＭＲ測定により、反応変換率９９％でジフルオロ（オキサラト）ホウ酸リチウムが生成していることを確認した。滴定により反応溶液に存在するシュウ酸量を測定したところ、０．３７ｇ（４．１ｍｍｏｌ）（該量は、フッ酸換算で２７０質量ｐｐｍに相当する）であった。上記のようにして、予め溶液中に不純物（シュウ酸）が存在する、シュウ酸を配位子とする金属錯体の非水溶媒溶液を準備した。
前記の反応溶液に塩化チオニルを０．４６ｇ（２．１ｍｍｏｌ）加え、反応溶液を４０℃に加温し、２時間攪拌した。次に、４０℃で反応器を減圧にし、溶媒を５０ｇ留去し、溶存するガス成分を除去した。滴定により、得られた精製溶液に存在するシュウ酸（＝遊離酸）量を測定したところ、０．１８ｇ（２．０ｍｍｏｌ）（該量は、フッ酸換算で１４０質量ｐｐｍに相当する）であった。また、この精製溶液中の塩素濃度（＝ハロゲン濃度）を測定したところ、５質量ｐｐｍ以下であった。結果を表１に示す。
［比較例１］
３Lガラス三口フラスコに、溶媒としてジメチルカーボネート（DMC）を１７００ｇ、テトラフルオロホウ酸リチウムを２６０ｇ（２．７７ｍｏｌ）、シュウ酸を２５４ｇ（２．８２ｍｏｌ）仕込み、攪拌した。次に四塩化ケイ素２３５ｇ（１．３８ｍｏｌ）を２時間かけて導入した。導入終了後、１時間攪拌を継続したのち、反応器を減圧にし、溶媒を２１０ｇ留去し、溶存する塩化水素、四フッ化ケイ素を除去した。この反応溶液のＮＭＲ測定により、反応変換率９８％でジフルオロ（オキサラト）ホウ酸リチウムが生成していることを確認した。滴定により反応溶液に存在するシュウ酸量を測定したところ、９．３ｇ（１０３ｍｍｏｌ）（該量は、フッ酸換算で２１７０質量ｐｐｍに相当する）であった。上記のようにして、予め溶液中に不純物（シュウ酸）が存在する、シュウ酸を配位子とする金属錯体の非水溶媒溶液を準備した。
３Lガラス三口フラスコに、溶媒としてジメチルカーボネート（DMC）を１７００ｇ、テトラフルオロホウ酸リチウムを２６０ｇ（２．７７ｍｏｌ）、シュウ酸を２５４ｇ（２．８２ｍｏｌ）仕込み、攪拌した。次に四塩化ケイ素２３５ｇ（１．３８ｍｏｌ）を２時間かけて導入した。導入終了後、１時間攪拌を継続したのち、反応器を減圧にし、溶媒を２１０ｇ留去し、溶存する塩化水素、四フッ化ケイ素を除去した。この反応溶液のＮＭＲ測定により、反応変換率９８％でジフルオロ（オキサラト）ホウ酸リチウムが生成していることを確認した。滴定により反応溶液に存在するシュウ酸量を測定したところ、９．３ｇ（１０３ｍｍｏｌ）（該量は、フッ酸換算で２１７０質量ｐｐｍに相当する）であった。上記のようにして、予め溶液中に不純物（シュウ酸）が存在する、シュウ酸を配位子とする金属錯体の非水溶媒溶液を準備した。
次いで、反応器を減圧にし、溶媒を４００ｇ留去し、ジフルオロ（オキサラト）ホウ酸リチウムを析出させた。その後、濾過することでジフルオロ（オキサラト）ホウ酸リチウム・ＤＭＣ付加体を６０６ｇ得た。このジフルオロ（オキサラト）ホウ酸リチウム・ＤＭＣ付加体を減圧乾燥して、純度９９％の固体のジフルオロ（オキサラト）ホウ酸リチウムを３０１ｇ（２．０９ｍｏｌ）得た。滴定により、該固体中に存在するシュウ酸（＝遊離酸）量を測定したところ、０．０４ｇ（２．０ｍｍｏｌ）（該量は、フッ酸換算で２６０質量ｐｐｍに相当する）であった。また、この固体中の塩素濃度（＝ハロゲン濃度）を測定したところ、５質量ｐｐｍ以下であった。結果を表１に示す。このように晶析精製だけでは、遊離酸濃度を充分に低下させることが困難である。また濾液へのロスがあるため、収率が低下する。
［比較例２］
実施例６で得られた、塩化チオニル処理前の固体のビス（オキサラト）ホウ酸リチウム（表１中で「予め準備した不純物（シュウ酸）を含む固体」と表記する）１０．１ｇ（５２．１ｍｍｏｌ）を、テトラヒドロフランとジエチルエーテルの１：１混合液で晶析精製し、得られた固体を減圧乾燥して、純度９９％の固体のビス（オキサラト）ホウ酸リチウムを６．９ｇ（３５．６ｍｍｏｌ）得た。滴定により該固体中に存在するシュウ酸（＝遊離酸）量を測定したところ、３．７ｍｇ（０．０４１ｍｍｏｌ）（該量は、フッ酸換算で２４０質量ｐｐｍに相当する）であった。このように晶析精製だけでは、遊離酸濃度を充分に低下させることが困難である。また濾液へのロスがあるため、収率が低下する。
実施例６で得られた、塩化チオニル処理前の固体のビス（オキサラト）ホウ酸リチウム（表１中で「予め準備した不純物（シュウ酸）を含む固体」と表記する）１０．１ｇ（５２．１ｍｍｏｌ）を、テトラヒドロフランとジエチルエーテルの１：１混合液で晶析精製し、得られた固体を減圧乾燥して、純度９９％の固体のビス（オキサラト）ホウ酸リチウムを６．９ｇ（３５．６ｍｍｏｌ）得た。滴定により該固体中に存在するシュウ酸（＝遊離酸）量を測定したところ、３．７ｍｇ（０．０４１ｍｍｏｌ）（該量は、フッ酸換算で２４０質量ｐｐｍに相当する）であった。このように晶析精製だけでは、遊離酸濃度を充分に低下させることが困難である。また濾液へのロスがあるため、収率が低下する。
Claims (12)
- シュウ酸を不純物として含有する、シュウ酸を配位子とする金属錯体の非水溶媒溶液から、該不純物を分解除去して、シュウ酸を配位子とする金属錯体の非水溶媒精製溶液を製造する方法であって、
不純物として前記溶液中に存在するシュウ酸を、非水溶媒下、ハロゲン化チオニルと反応分解させ、反応分解生成物および未反応のハロゲン化チオニルを脱気除去することを特徴とする、シュウ酸を配位子とする金属錯体の非水溶媒精製溶液の製造方法。 - 前記ハロゲン化チオニルが、塩化チオニル、臭化チオニルからなる群から選ばれる少なくとも１つであることを特徴とする、請求項１に記載のシュウ酸を配位子とする金属錯体の非水溶媒精製溶液の製造方法。
- 前記シュウ酸を配位子とする金属錯体が、ジフルオロ（オキサラト）ホウ酸塩、ビス（オキサラト）ホウ酸塩、ジフルオロビス（オキサラト）リン酸塩、テトラフルオロ（オキサラト）リン酸塩、トリス（オキサラト）リン酸塩および、その混合物からなる群から選ばれる少なくとも１つであることを特徴とする、請求項１または請求項２に記載のシュウ酸を配位子とする金属錯体の非水溶媒精製溶液の製造方法。
- 前記シュウ酸を配位子とする金属錯体の対カチオンが、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、テトラアルキルアンモニウムイオンからなる群から選ばれた少なくとも一つの対カチオンであることを特徴とする、請求項１乃至請求項３のいずれかに記載のシュウ酸を配位子とする金属錯体の非水溶媒精製溶液の製造方法。
- 前記のハロゲン化チオニルとの反応分解の際の温度が１０℃〜１００℃の範囲であることを特徴とする、請求項１乃至請求項４のいずれかに記載のシュウ酸を配位子とする金属錯体の非水溶媒精製溶液の製造方法。
- 前記の反応分解生成物および未反応のハロゲン化チオニルを脱気除去する際の温度が０℃〜１５０℃の範囲であることを特徴とする、請求項１乃至請求項５のいずれかに記載のシュウ酸を配位子とする金属錯体の非水溶媒精製溶液の製造方法。
- シュウ酸とハロゲン化チオニルを１：０．１〜１：１０のモル比の範囲で反応させることを特徴とする、請求項１乃至請求項６のいずれかに記載のシュウ酸を配位子とする金属錯体の非水溶媒精製溶液の製造方法。
- シュウ酸とハロゲン化チオニルを１：１〜１：１０のモル比の範囲で反応させることを特徴とする、請求項１乃至請求項７のいずれかに記載のシュウ酸を配位子とする金属錯体の非水溶媒精製溶液の製造方法。
- 請求項１乃至請求項８のいずれかに記載の製造方法の脱気除去の後に、さらに晶析精製を行うことを特徴とする、シュウ酸を配位子とする金属錯体精製物の製造方法。
- 請求項１乃至請求項８のいずれかに記載の製造方法を用いて得られた、シュウ酸を配位子とする金属錯体の非水溶媒精製溶液。
- 請求項９に記載の製造方法を用いて得られた、シュウ酸を配位子とする金属錯体精製物。
- 少なくとも正極と、リチウムまたはリチウムの吸蔵放出の可能な負極材料からなる負極と、非水溶媒と溶質とからなる非水電解液電池用電解液とを備えた非水電解液電池において、請求項１乃至請求項９のいずれかに記載の製造方法を用いて得られた、シュウ酸を配位子とする金属錯体精製物、及び／または、シュウ酸を配位子とする金属錯体の非水溶媒精製溶液を含むことを特徴とする、非水電解液電池。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013061248A JP6064724B2 (ja) | 2012-05-30 | 2013-03-25 | シュウ酸を配位子とする金属錯体精製物及び該金属錯体の非水溶媒精製溶液の製造方法 |
| EP13796402.9A EP2857406B1 (en) | 2012-05-30 | 2013-05-29 | Method for producing purified solution of complexes having oxalic acid as ligand in non-aqueous solvent |
| PCT/JP2013/064903 WO2013180174A1 (ja) | 2012-05-30 | 2013-05-29 | シュウ酸を配位子とする金属錯体精製物及び該金属錯体の非水溶媒精製溶液の製造方法 |
| KR1020147036927A KR20150020627A (ko) | 2012-05-30 | 2013-05-29 | 옥살산을 배위자로 하는 금속 착체 정제물 및 당해 금속 착체의 비수 용매 정제 용액의 제조 방법 |
| CN201380028272.6A CN104334564B (zh) | 2012-05-30 | 2013-05-29 | 以草酸作为配体的金属络合物纯化物以及该金属络合物的非水溶剂纯化溶液的制造方法 |
| TW102119011A TWI472531B (zh) | 2012-05-30 | 2013-05-29 | A method for producing a purified solution of a metal complex of oxalic acid as a seat and a nonaqueous solvent of the metal complex |
| US14/404,271 US20150147643A1 (en) | 2012-05-30 | 2013-05-29 | Purified Metal Complex Having Oxalic Acid as Ligand, and Method For Producing Purified Solution of Said Metal Complex in Non-Aqueous Solvent |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012122857 | 2012-05-30 | ||
| JP2012122857 | 2012-05-30 | ||
| JP2013061248A JP6064724B2 (ja) | 2012-05-30 | 2013-03-25 | シュウ酸を配位子とする金属錯体精製物及び該金属錯体の非水溶媒精製溶液の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2014005269A true JP2014005269A (ja) | 2014-01-16 |
| JP6064724B2 JP6064724B2 (ja) | 2017-01-25 |
Family
ID=49673362
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013061248A Active JP6064724B2 (ja) | 2012-05-30 | 2013-03-25 | シュウ酸を配位子とする金属錯体精製物及び該金属錯体の非水溶媒精製溶液の製造方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20150147643A1 (ja) |
| EP (1) | EP2857406B1 (ja) |
| JP (1) | JP6064724B2 (ja) |
| KR (1) | KR20150020627A (ja) |
| CN (1) | CN104334564B (ja) |
| TW (1) | TWI472531B (ja) |
| WO (1) | WO2013180174A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| WO2016072158A1 (ja) * | 2014-11-05 | 2016-05-12 | セントラル硝子株式会社 | 電解質溶液の精製方法及び電解質溶液の製造方法 |
Families Citing this family (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10454139B2 (en) | 2015-01-23 | 2019-10-22 | Central Glass Co., Ltd. | Electrolytic solution for nonaqueous electrolytic solution secondary batteries and nonaqueous electrolytic solution secondary battery |
| JP6007994B2 (ja) | 2015-01-23 | 2016-10-19 | セントラル硝子株式会社 | 非水電解液二次電池用電解液及びそれを用いた非水電解液二次電池 |
| JP6098684B2 (ja) | 2015-08-12 | 2017-03-22 | セントラル硝子株式会社 | 非水電解液二次電池用電解液及びそれを用いた非水電解液二次電池 |
| JP6245312B2 (ja) * | 2016-05-30 | 2017-12-13 | セントラル硝子株式会社 | 非水系電解液二次電池用電解液及びそれを用いた非水系電解液二次電池 |
| CN106946921A (zh) * | 2017-04-07 | 2017-07-14 | 上海如鲲新材料有限公司 | 乙二酸氟硼酯制备二氟草酸硼酸锂与双草酸硼酸锂的方法 |
| CN109956976B (zh) * | 2018-06-08 | 2022-05-24 | 东莞东阳光科研发有限公司 | 一种二氟双草酸磷酸锂的制备方法 |
| CN109678694A (zh) * | 2018-12-21 | 2019-04-26 | 东莞东阳光科研发有限公司 | 一种四氟草酸磷酸锂的制备方法 |
| CN109535191B (zh) * | 2019-01-17 | 2021-03-26 | 兰州理工大学 | 一种双草酸硼酸锂的制备方法 |
| CN111825704A (zh) * | 2019-04-17 | 2020-10-27 | 江苏长园华盛新能源材料有限公司 | 提纯二氟草酸硼酸锂的方法 |
| CN110003277A (zh) * | 2019-05-05 | 2019-07-12 | 上海如鲲新材料有限公司 | 一种四氟草酸磷酸锂及其制备方法 |
| CN111943983B (zh) * | 2019-05-17 | 2023-01-31 | 微宏动力系统（湖州）有限公司 | 一种草酸根合磷酸锂溶液的制备方法 |
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| CN110240617A (zh) * | 2019-06-19 | 2019-09-17 | 上海如鲲新材料有限公司 | 一种二氟二草酸磷酸锂的制备方法 |
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| CN110845539B (zh) * | 2019-11-26 | 2022-06-17 | 九江天赐高新材料有限公司 | 一种电池级二氟双草酸磷酸锂固体的制备方法及其应用 |
| JPWO2021117721A1 (ja) * | 2019-12-09 | 2021-06-17 | ||
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Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| DE19933898A1 (de) * | 1999-07-22 | 2001-02-01 | Chemetall Gmbh | Tris(oxalato)phosphate, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung |
| JP3907446B2 (ja) * | 2001-11-05 | 2007-04-18 | セントラル硝子株式会社 | イオン性金属錯体の合成法 |
| US6849752B2 (en) * | 2001-11-05 | 2005-02-01 | Central Glass Company, Ltd. | Process for synthesizing ionic metal complex |
| JP2010518581A (ja) * | 2007-02-06 | 2010-05-27 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 新規結合剤を含む電極、並びにその製造方法及び使用方法 |
| WO2010094467A1 (de) * | 2009-02-18 | 2010-08-26 | Chemetall Gmbh | Galvanische zelle mit einer lithiummetall oder eine lithiummetallhaltigen legierung als anodenmaterial und einem elektrolyten mit lithium bis(oxalato)borat sowie mindestens einem weiteren lithiumkomplexsalz |
-
2013
- 2013-03-25 JP JP2013061248A patent/JP6064724B2/ja active Active
- 2013-05-29 TW TW102119011A patent/TWI472531B/zh not_active IP Right Cessation
- 2013-05-29 WO PCT/JP2013/064903 patent/WO2013180174A1/ja active Application Filing
- 2013-05-29 KR KR1020147036927A patent/KR20150020627A/ko active Search and Examination
- 2013-05-29 CN CN201380028272.6A patent/CN104334564B/zh active Active
- 2013-05-29 EP EP13796402.9A patent/EP2857406B1/en active Active
- 2013-05-29 US US14/404,271 patent/US20150147643A1/en not_active Abandoned
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| Title |
|---|
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| JP2016091808A (ja) * | 2014-11-05 | 2016-05-23 | セントラル硝子株式会社 | 電解質溶液の精製方法及び電解質溶液の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW201406769A (zh) | 2014-02-16 |
| TWI472531B (zh) | 2015-02-11 |
| EP2857406A4 (en) | 2015-12-16 |
| EP2857406B1 (en) | 2017-08-23 |
| CN104334564A (zh) | 2015-02-04 |
| CN104334564B (zh) | 2016-06-08 |
| EP2857406A1 (en) | 2015-04-08 |
| JP6064724B2 (ja) | 2017-01-25 |
| KR20150020627A (ko) | 2015-02-26 |
| WO2013180174A1 (ja) | 2013-12-05 |
| US20150147643A1 (en) | 2015-05-28 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20151215 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20161004 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
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|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20161122 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20161205 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |