JP2013528910A - 誘導結合誘電体バリア放電ランプ - Google Patents
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Abstract
【解決方法】ランプ・アセンブリは、二次誘導回路、この二次誘導回路に結合する第1の電極および第2の電極と、この第1の電極およびこの第2の電極の間に挿入される誘電バリアを含むランプと、を含むことができる。誘電バリアは、放電ガスを含む放電チャンバーを規定することができ、第1の電極および第2の電極のうちの1つは、放電チャンバーの中で広がることができる。二次誘導回路は、近傍の主誘導回路から放電チャンバーで誘電体バリア放電を進めるために、パワーを受けるのに適していることがありえる。結果として生じる誘電体バリア放電は、空気または水の処理のために、または他のアプリケーションのために紫外線光を生成することができる。
【選択図】図2
Description
Claims (37)
- 主誘導回路からパワーを受け取るのに適している二次誘導回路であって、該二次誘導回路は該主誘導回路から分離している、二次誘導回路と、
前記二次誘導回路に電気的に結合した第1の電極および第2の電極であって、該第1の電極および該第2の電極は互いに間隔をあけている、第1の電極および第2の電極と、
前記第1の電極および前記第2の電極の間に挿入される誘電バリアを含むランプと、を備えるランプ・アセンブリであって、
前記二次誘導回路は、前記主誘導回路からパワーを受け取るのに適しており、ランプで誘電体バリア放電を進めるために、前記第1の電極および第前記2の電極にパワーを供給するのに適している、ランプ・アセンブリ。 - 前記誘電バリアは、誘電ガスを含む放電チャンバーを規定する、請求項1に記載のランプ・アセンブリ。
- 前記第1の電極および前記第2の電極のうちの1つは、前記ランプの中で少なくとも部分的に広がっている、請求項1に記載のランプ・アセンブリ。
- 少なくとも部分的に前記二次誘導回路の周辺を取り巻く第2のハウジングであって、該第2のハウジングは、対応する主ハウジングと少なくとも部分的に組み合われる、第2のハウジングを更に備える請求項1に記載のランプ・アセンブリ。
- 間に流体を許容するために前記ランプから間隔をあけられた電気的許容可能スリーブを更に備える請求項1に記載のランプ・アセンブリ。
- 前記ランプ・アセンブリの中で一般に放射状の電界を誘導するために、前記第2の電極に電気的に接続し、実質的に前記スリーブを取り囲む導電素子を更に備える請求項5に記載のランプ・アセンブリ。
- 前記二次誘導回路は、前記主誘導回路によって規定される内部の半径より小さい外部の半径を規定し、
前記二次誘導回路と前記主誘導回路とは実質的に同軸である、請求項1に記載のランプ・アセンブリ。 - 前記二次誘導回路は、前記主誘導回路によって規定される外部の半径より大きい内部の半径を規定し、
前記二次誘導回路と前記主誘導回路とは実質的に同軸である、請求項1に記載のランプ・アセンブリ。 - 前記二次誘導回路によって受け取られた第1の電圧を、前記第1の電極および前記第2の電極にわたり印加された第2の電圧に変換するために、二次誘導回路と第1の電極および第2の電極の間で、電気的に接続されるパルス駆動回路を更に備える請求項1に記載のランプ・アセンブリ。
- 時変電流を生成するのに適している主誘導回路を含むベース・ステーションであって、該ベース・ステーションは流体フロー経路を規定する、ベース・ステーションと、
ベース・ステーションにより取り外し可能に支えられるのに適しているランプ・アセンブリと、
二次誘導回路を含むランプ・アセンブリと、
第1および第2の間隔をあけた別々の電極と、
主誘導回路の時変電流に応じて、誘電体バリア放電を進めるために前記第1の電極および前記第2の電極の間に挿入される誘電バリアと、を備える流体処置システムであって、
前記誘電体バリア放電は、前記ベース・ステーション流体フロー経路で流体を処理するために殺菌光を生成する、流体処置システム。 - 前記誘電バリアは、放電ガスを含む誘電チェンバーを規定する、請求項10に記載の流体処置システム。
- 前記第1の電極および前記第2の電極の1つは、誘電チェンバーの中で広がる、請求項11に記載の流体処置システム。
- 前記ランプ・アセンブリは、紫外線光を放射するように動作可能である、請求項10に記載の流体処置システム。
- 前記二次誘導回路は、前記主誘導回路によって規定される内部の半径より小さい外部の半径を規定し、
前記二次誘導回路と前記主誘導回路とは実質的に同軸である、請求項10に記載の流体処置システム。 - 前記二次誘導回路は、前記主誘導回路によって規定される外部の半径より大きい内部の半径を規定し、
前記二次誘導回路と前記主誘導回路とは実質的に同軸である、請求項10に記載の流体処置システム。 - ベース・ステーションは、流体の特性を感知するために動作可能である、請求項10に記載の流体処置システム。
- 前記ランプは、出力を規定し、
前記ベース・ステーションは、前記流体の前記感知した特性に基づいて、前記ランプ出力を変えるマイクロコントローラを含む、請求項16に記載の流体処置システム。 - 前記ランプ出力は、1つ以上の殺菌波長における発光強度を含む、請求項17に記載の流体処置システム。
- 前記主誘導回路は、パワー伝送モードで動作可能で、通信モードで動作可能である、請求項10に記載の流体処置システム。
- 前記ランプ・アセンブリは、主誘導回路との通信のためのRFアンテナと関連メモリ・タグを含む、請求項16に記載の流体処置システム。
- 前記二次誘導回路によって受け取られた第1の電圧を、前記第1の電極および前記第2の電極にわたり印加された第2の電圧に変換するために、二次誘導回路と第1の電極および第2の電極の間で、電気的に接続されるパルス駆動回路を更に備える請求項10に記載の流体処理システム。
- 放電ガスを含むのに適している誘電チャンバーを規定する誘電バリアを提供するステップと、
電磁場を変動している時間に応じて、交流を生成するのに適している二次誘導回路を提供するステップであって、該二次誘導回路が前記第1の電極および前記第2の電極を含む、ステップと、
前記二次コイルと分離可能な主コイルからパワーを受け取るために適している自己充足的なランプ・アセンブリを形成するために、前記誘電バリアを前記第1の電極および前記第2の電極の間に挿入するステップと、を含む、ランプ・アセンブリを形成する方法。 - 紫外線光を放射するために発光層を前記誘電バリアに印加するステップを更に含む請求項22に記載の方法。
- 二次ハウジングの中に前記自己充足的なランプ・アセンブリを収容するステップであって、前記二次ハウジングは、対応する主ハウジングで取り外し可能に組み合わされるのに適している、ステップを更に含む請求項22に記載の方法。
- 主誘導回路を含むベース・ステーションを提供するステップと、
二次誘導回路、第1および第2の間隔をあけた別々の電極と、前記第1の電極および前記第2の電極の間に挿入される誘電バリアを含むランプと、を含むランプ・アセンブリを提供するステップと、
前記ランプにおいて誘電体バリア放電を誘導するために100kHzより大きい周波数を有する主誘導回路において時変電流を生成するステップと、を含む、ランプ・アセンブリを作動する方法。 - 前記生成するステップが、およそ300kHzと600kHzの間の周波数を有している主誘導回路において、時変電流を生成するステップを含む、請求項25に記載の方法。
- 時変電流は、前記第1の電極および前記第2の電極にわたりパルス駆動電圧を誘導する、請求項25に記載の方法。
- ランプ出力の機能として前記周波数を変化させることを更に含む請求項25に記載の方法。
- 前記ランプ出力は、1つ以上の殺菌波長における発光強度おを含む、請求項28に記載の方法。
- 前記時変電流により、使用率とパルス幅のうちの1つを規定し、
ランプ出力の機能として前記使用率と前記パルス幅とのうちの1つを変化させるステップとを更に含む請求項25に記載の方法。 - 前記二次誘導回路において誘導される第1の時変電圧を第2の時変電圧に変換し、前記ランプにおいて誘電体バリア放電を誘導するために、前記第1の電極および前記第2の電極にわたり前記第2の電圧を印加するステップを更に含む請求項25に記載の方法。
- 流体フロー経路を有している流体処理システムのためのベース・ステーションにおいて、無線パワーのソースを、二次誘導回路を有するランプ・アセンブリに提供するのに適している主誘導回路と、
前記主誘導回路に電気的に結合され、時変電圧で前記主誘導回路を駆動するのに適した駆動回路と、
前記流体フロー経路において流体特性を感知するのに適している流体センサと、を備えるベース・ステーションであって、前記駆動回路は、前記検知された流体特性に基づいて前記主誘導回路おける前記時変電圧を制御するのに適している、ベース・ステーション。 - 前記ランプ・アセンブリは、誘電体バリア放電ランプ、ガス放電ランプ、白熱ランプ、発光ダイオードのうちの1つを含む、請求項32に記載のベース・ステーション。
- 前記流体特性は、流率、温度、pH、混濁度、全有機含有量、全溶解固体含有量、硬度、および、それらの組合せのうちの1つを含む、請求項32に記載のベース・ステーション。
- ランプ出力を感知するのに適しているランプ・センサと、
前記検知されたランプ出力に基づいて動作可能な駆動回路と、を更に備える請求項32に記載のベース・ステーション。 - 前記ランプ出力は、1つ以上の殺菌波長における発光強度を含む、請求項35に記載のベース・ステーション。
- 前記検知された流体特性に基づいて、前記駆動回路の作動をコントロールするのに適しているマイクロコントローラと、
前記検知されたランプ出力と、を更に備える請求項36に記載のベース・ステーション。
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