JP2013528187A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2013528187A5
JP2013528187A5 JP2013512620A JP2013512620A JP2013528187A5 JP 2013528187 A5 JP2013528187 A5 JP 2013528187A5 JP 2013512620 A JP2013512620 A JP 2013512620A JP 2013512620 A JP2013512620 A JP 2013512620A JP 2013528187 A5 JP2013528187 A5 JP 2013528187A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
silicon
copper catalyst
organic halide
containing copper
contacting
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2013512620A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5726294B2 (ja
JP2013528187A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from PCT/US2011/030683 external-priority patent/WO2011149588A1/en
Publication of JP2013528187A publication Critical patent/JP2013528187A/ja
Publication of JP2013528187A5 publication Critical patent/JP2013528187A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5726294B2 publication Critical patent/JP5726294B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Claims (16)

  1. ジオルガノジハロシランの調製方法であって、以下の独立した連続の工程を具える方法:
    (i)銅触媒を、水素ガス及び四ハロゲン化ケイ素を含む混合物と500〜1400℃の温度で接触させ、少なくとも0.1%(w/w)のケイ素を含有するケイ素含有銅触媒を形成し、該銅触媒が、銅、並びに、銅と、金、マグネシウム、カルシウム、セシウム、スズ、及び硫黄から選択される少なくとも1つの元素とを含む混合物から選択される工程と、
    (ii)該ケイ素含有銅触媒を有機ハロゲン化物と100〜600℃の温度で接触させ、少なくとも1つのジオルガノジハロシランを形成する工程。
  2. 工程(ii)において前記有機ハロゲン化物と接触させた前記ケイ素含有銅触媒を、水素ガス及び四ハロゲン化ケイ素を含む前記混合物と500〜1400℃の温度で接触させ、少なくとも0.1%(w/w)のケイ素を含む前記ケイ素含有銅触媒を再形成する工程(iii);並びに、該再形成したケイ素含有銅触媒を前記有機ハロゲン化物と100〜600℃の温度で接触させ、少なくとも1つのジオルガノジハロシランを形成する工程(iv)をさらに含む、請求項1に記載の方法。
  3. 工程(iii)及び(iv)を少なくとも1回繰り返す工程をさらに含む、請求項2に記載の方法。
  4. 工程(iv)における前記再形成されたケイ素含有銅触媒の有機ハロゲン化物との接触前に、パージする工程をさらに含む、請求項に記載の方法。
  5. 工程(ii)における前記ケイ素含有銅触媒の前記有機ハロゲン化物との接触前に、パージする工程をさらに含む、請求項に記載の方法。
  6. 前記銅触媒が担持されている、請求項1〜のいずれか1項に記載の方法。
  7. 前記銅触媒が0.1〜35%(w/w)の混合物を含み、該混合物が銅、金及びマグネシウムを含む、請求項に記載の方法。
  8. 担持材が活性炭である、請求項に記載の方法。
  9. 前記ケイ素含有銅触媒が1〜5%(w/w)のケイ素を含む、請求項1〜のいずれか1項に記載の方法。
  10. 水素の四ハロゲン化ケイ素に対するモル比が20:1〜5:1である、請求項1〜のいずれか1項に記載の方法。
  11. 前記四ハロゲン化ケイ素が四塩化ケイ素である、請求項1〜のいずれか1項に記載の方法。
  12. 前記有機ハロゲン化物が式RXを有し、式中、RはC1〜C10アルキル又はC4〜C10シクロアルキルであり、Xはフルオロ、クロロ、ブロモ、又はヨードである、請求項1〜のいずれか1項に記載の方法。
  13. 工程(ii)における前記接触が水素の非存在下である、請求項1〜のいずれか1項に記載の方法。
  14. 前記ジオルガノジハロシランが式R2SiX2を有し、式中、RはC1〜C10アルキル又はC4〜C10シクロアルキルであり、Xはフルオロ、クロロ、ブロモ、又はヨードである、請求項1〜のいずれか1項に記載の方法。
  15. 前記ジオルガノジハロシランを回収する工程をさらに含む、請求項1〜のいずれか1項に記載の方法。
  16. 水素及び四ハロゲン化ケイ素の滞留時間が0.5〜10秒であり、有機ハロゲン化物の滞留時間が1〜10秒である、請求項1〜のいずれか1項に記載の方法。
JP2013512620A 2010-05-28 2011-03-31 ジオルガノジハロシランの調製方法 Active JP5726294B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US34924210P 2010-05-28 2010-05-28
US61/349,242 2010-05-28
PCT/US2011/030683 WO2011149588A1 (en) 2010-05-28 2011-03-31 A method for preparing a diorganodihalosilane

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2013528187A JP2013528187A (ja) 2013-07-08
JP2013528187A5 true JP2013528187A5 (ja) 2013-12-19
JP5726294B2 JP5726294B2 (ja) 2015-05-27

Family

ID=44065690

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013512620A Active JP5726294B2 (ja) 2010-05-28 2011-03-31 ジオルガノジハロシランの調製方法

Country Status (6)

Country Link
US (2) US8772525B2 (ja)
EP (1) EP2576573B1 (ja)
JP (1) JP5726294B2 (ja)
KR (1) KR101839585B1 (ja)
CN (1) CN102844322B (ja)
WO (1) WO2011149588A1 (ja)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20120124061A (ko) 2010-01-26 2012-11-12 다우 코닝 코포레이션 오가노할로실란의 제조 방법
US8772525B2 (en) * 2010-05-28 2014-07-08 Dow Corning Corporation Method for preparing a diorganodihalosilane
US20130039831A1 (en) * 2011-01-25 2013-02-14 Aswini Dash Method of preparing a hydridohalosilane compound
JP6040254B2 (ja) * 2011-11-17 2016-12-07 ダウ コーニング コーポレーションDow Corning Corporation ジオルガノジハロシランの調製方法
WO2013151623A2 (en) 2012-04-05 2013-10-10 Dow Corning Corporation A method for preparing an organofunctional compound
CN104203820A (zh) 2012-04-16 2014-12-10 道康宁公司 用于制备含硅的金属间化合物的方法及由其制备的金属间化合物
US8865850B2 (en) 2012-06-14 2014-10-21 Dow Corning Corporation Method of selectively forming a reaction product in the presence of a metal silicide
IN2015DN01936A (ja) 2012-08-13 2015-08-07 Dow Corning
EP2909217B1 (en) 2012-10-16 2016-10-26 Dow Corning Corporation Method of preparing halogenated silahydrocarbylenes
WO2014099125A1 (en) * 2012-12-19 2014-06-26 Dow Corning Corporation Method for preparing a diorganodihalosilane
WO2014149224A1 (en) * 2013-03-15 2014-09-25 Dow Corning Corporation Method for preparing a halosilane using copper silicides as catalysts
EP3068789B1 (en) * 2013-11-12 2021-04-07 Dow Silicones Corporation Method for preparing a halosilane
WO2015100075A1 (en) * 2013-12-23 2015-07-02 Dow Corning Corporation Solid binary copper-silicon material catalysts for emissions control
WO2016099690A1 (en) 2014-12-18 2016-06-23 Dow Corning Corporation Method for producing aryl-functional silanes

Family Cites Families (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2380996A (en) * 1941-09-26 1945-08-07 Gen Electric Preparation of organosilicon halides
BE473151A (ja) 1945-03-15
US2888476A (en) 1956-08-01 1959-05-26 Du Pont Preparation of long-chain alkylhalosilanes
US3057686A (en) 1957-08-01 1962-10-09 Du Pont Process for preparing silanes
JPS5747917B2 (ja) 1974-08-20 1982-10-13
US4314908A (en) * 1979-10-24 1982-02-09 Union Carbide Corporation Preparation of reaction mass for the production of methylchlorosilane
DE3024319C2 (de) 1980-06-27 1983-07-21 Wacker-Chemitronic Gesellschaft für Elektronik-Grundstoffe mbH, 8263 Burghausen Kontinuierliches Verfahren zur Herstellung von Trichlorsilan
FR2530638A1 (fr) 1982-07-26 1984-01-27 Rhone Poulenc Spec Chim Procede de preparation d'un melange a base de trichlorosilane utilisable pour la preparation de silicium de haute purete
US4526769A (en) 1983-07-18 1985-07-02 Motorola, Inc. Trichlorosilane production process
JPS63118069A (ja) * 1986-11-07 1988-05-23 Sumitomo Electric Ind Ltd 耐食性・耐摩耗性部材
US4973725A (en) * 1988-06-28 1990-11-27 Union Carbide Chemicals And Plastics Company Inc. Direct synthesis process for organohalohydrosilanes
US4946980A (en) 1988-10-17 1990-08-07 Dow Corning Corporation Preparation of organosilanes
US4888435A (en) 1989-06-22 1989-12-19 Dow Corning Corporation Integrated process for alkylation and redistribution of halosilanes
DE4041644A1 (de) 1990-12-22 1992-06-25 Nuenchritz Chemie Gmbh Verfahren zur reduktiven umwandlung von siliciumtetrachlorid in trichlorsilan
TW232751B (en) 1992-10-09 1994-10-21 Semiconductor Energy Res Co Ltd Semiconductor device and method for forming the same
DE19654154A1 (de) 1995-12-25 1997-06-26 Tokuyama Corp Verfahren zur Herstellung von Trichlorsilan
US7223879B2 (en) 1998-07-10 2007-05-29 Massachusetts Institute Of Technology Ligands for metals and improved metal-catalyzed processes based thereon
US6156380A (en) 1998-10-05 2000-12-05 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Method for preparing contact mass for organohalosilane synthesis
US6528674B1 (en) * 2000-04-20 2003-03-04 General Electric Company Method for preparing a contact mass
DE10044796A1 (de) 2000-09-11 2002-04-04 Bayer Ag Verfahren zur Herstellung von Chlorsilanen
DE10061682A1 (de) 2000-12-11 2002-07-04 Solarworld Ag Verfahren zur Herstellung von Reinstsilicium
ES2300652T3 (es) 2002-08-06 2008-06-16 Loma Linda University Sustancias para prevenir y tratar enfermedades autoinmunes.
US7716590B1 (en) 2002-10-28 2010-05-11 Oracle International Corporation Method and apparatus for dynamically updating a secondary form element based on a selection in a primary form element
ATE473305T1 (de) 2003-09-19 2010-07-15 Stanford Res Inst Int Verfahren und vorrichtungen zur herstellung von metallischen zusammensetzungen durch reduktion von metallhalogeniden
WO2005051963A1 (ja) 2003-11-28 2005-06-09 Hokko Chemical Industry Co., Ltd. ホスホニウムボレート化合物の製造方法、新規なホスホニウムボレート化合物およびその使用方法
JP2005292324A (ja) 2004-03-31 2005-10-20 Canon Inc 画像形成装置のクリーニング装置
WO2006081384A2 (en) * 2005-01-26 2006-08-03 The Regents Of The University Of California Heterogeneous copper catalysts
DE102005046703A1 (de) 2005-09-29 2007-04-05 Wacker Chemie Ag Verfahren und Vorrichtung zur Hydrierung von Chlorsilanen
EP2039669A1 (en) 2007-09-19 2009-03-25 Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V. Use of a mixture of an ordered intermetallic compound and an inert material as a catalyst and corresponding hydrogenation processes
JP2009111202A (ja) 2007-10-31 2009-05-21 Panasonic Corp 半導体装置及びその製造方法
US8772525B2 (en) * 2010-05-28 2014-07-08 Dow Corning Corporation Method for preparing a diorganodihalosilane
DE102011005647A1 (de) 2011-03-16 2012-10-04 Evonik Degussa Gmbh Verbundverfahren zur Umstetzung von STC-haltigen und OCS-haltigen Nebenströmen zu wasserstoffhaltigen Chlorsilanen

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2013528187A5 (ja)
JP4855550B2 (ja) 塩素化炭化水素の製造方法
JP2008150356A5 (ja)
JP5726294B2 (ja) ジオルガノジハロシランの調製方法
JP2016507518A5 (ja)
JP2014520070A5 (ja)
JP2010506848A5 (ja)
JP2011516376A5 (ja)
JP2017525669A5 (ja)
JP2009137945A5 (ja)
JP2007500127A5 (ja)
CN104736547A (zh) 通过使氢、卤硅烷和有机卤化物在铜催化剂上以两步法反应制备有机卤硅烷的方法
JP2007501300A5 (ja)
MX343642B (es) Sintesis de 1,1,3-tricloro-1-propeno.
CN104583221B (zh) 制备卤化硅杂亚烃的方法
JP2010524814A5 (ja)
MX2013013386A (es) Metodo para mitigar la formacion de subproductos durante la produccion de compuestos haloalcano.
JP2014507416A (ja) ジオルガノジハロシランの調製方法
WO2012166754A3 (en) Method for avoiding the generation of by-products during the production of haloalkane compounds
JP2018504394A5 (ja)
JP2016510814A5 (ja)
JP2019535642A5 (ja)
JP2010248104A (ja) 1,1,1,2,3−ペンタクロロプロパンの製造方法
JP2014503456A5 (ja)
JP2019099393A5 (ja)