JP2013524497A5 - - Google Patents
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|---|---|---|---|---|
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| DE19901295A1 (de) | 1999-01-15 | 2000-07-20 | Zeiss Carl Fa | Optische Abbildungsvorrichtung, insbesondere Objektiv, mit wenigstens einem optischen Element |
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| US7403264B2 (en) * | 2004-07-08 | 2008-07-22 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic projection apparatus and a device manufacturing method using such lithographic projection apparatus |
| WO2006016584A1 (ja) * | 2004-08-09 | 2006-02-16 | Nikon Corporation | 光学特性計測装置及び光学特性計測方法、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
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