JP2013511142A - 保護ダイオード構造を備える薄膜半導体デバイス、および薄膜半導体デバイスを製造する方法 - Google Patents
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Abstract
Description
−活性領域を備える半導体層列を含む、たとえば支持体のような支持部材のほうを向く半導体本体の第1の主面に、特にエピタキシー層列に、半導体層列で生成される放射の少なくとも1つの部分を半導体層列に反射するミラー層が塗布されており、または、たとえばブラッグミラーとして半導体層列に組み込まれて構成されており、
−半導体層列は20μmまたはこれ以下の範囲内の厚みを有しており、特に10μmの範囲内の厚みを有しており、および/または、
−半導体層列は、理想的なケースでは半導体層列における光のエルゴード分布を近似的に生じさせる、混合構造を有する少なくとも1つの面を備える少なくとも1つの半導体層を含んでおり、すなわち、この面は可能な限りエルゴード的に不規則な散乱挙動を有している。
Claims (15)
- 支持体(5)と、放射を生成するために設けられた活性領域(20)を含む半導体層列を備える半導体本体(2)とを有する薄膜半導体デバイス(1)において、
前記半導体本体(2)は第1の接触部(31)および第2の接触部(32)によって外部と電気的に接触可能であり、
前記支持体(5)は前記半導体本体(2)と電気的に並列に配線された保護ダイオード構造(7)を有しており、
前記保護ダイオード構造(7)は第1のダイオード(71)と第2のダイオード(72)を有しており、
前記第1のダイオード(71)と前記第2のダイオード(72)はそれぞれの順方向に関して互いに反対向きに電気的に直列に配線されている半導体デバイス。 - 前記保護ダイオード構造は前記支持体に組み込まれている、請求項1に記載の半導体デバイス。
- 前記保護ダイオード構造は前記半導体本体の阻止方向で電圧が印加されたときにツェナーダイオードに準ずる電流・電圧特性を阻止方向に有している、請求項1または2に記載の半導体デバイス。
- 前記半導体本体の前記半導体層列のための成長基板が除去されている、請求項1から3のいずれか1項に記載の半導体デバイス。
- 前記第1の接触部は第1の接触層(310)によって形成されるとともに前記第2の接触部は第2の接触層(320)によって形成されており、前記第1の接触層は前記支持体の第1の部分領域(51)に接するとともに前記第2の接触層は第2の部分領域(52)に接しており、
前記支持体は半導体材料をベースとしており、
前記支持体の前記第1の部分領域と前記第2の部分領域は第1の伝導型を有しており、前記第1の部分領域と前記第2の部分領域の間には、前記第1の伝導型とは異なる第2の伝導型を有する、前記支持体の別の領域(53)が構成されている、請求項1から4のいずれか1項に記載の半導体デバイス。 - 前記第1の接触層と前記第2の接触層は絶縁層(6)によって前記支持体の前記別の領域から電気的に分離されている、請求項5に記載の半導体デバイス。
- 前記第1の部分領域は前記第2の部分領域を少なくとも部分的に取り囲む、請求項5または6に記載の半導体デバイス。
- 前記半導体本体は横方向で複数のセグメント(2A,2B)に区分されている、請求項1から7のいずれか1項に記載の半導体デバイス。
- 前記半導体本体の前記セグメントは少なくとも部分的に互いに独立して外部と電気的に接触可能であり、互いに独立して外部と電気的に接触可能な前記セグメントにそれぞれ少なくとも1つの保護ダイオード構造が付属している、請求項8に記載の半導体デバイス。
- 前記半導体本体の前記セグメントは少なくとも部分的に互いに電気的に直列に配線されている、請求項8または9に記載の半導体デバイス。
- 前記接触部のうち少なくとも1つは前記半導体本体と反対を向いているほうの前記支持体の側に配置されており、前記半導体本体は前記支持体にある少なくとも1つの貫通部(55)を通して前記接触部と導電接続されている、請求項1から10のいずれか1項に記載の半導体デバイス。
- 前記接触部のうち少なくとも1つは前記半導体本体のほうを向いている前記支持体の側に配置されている、請求項1から11のいずれか1項に記載の半導体デバイス。
- 複数の薄膜半導体デバイス(1)を製造する方法において、
a)放射を生成するために設けられる活性領域(20)を備える半導体層列(200)を成長基板(23)の上に析出するステップと、
b)前記半導体層列から複数の半導体本体(2)を構成するステップと、
c)前記成長基板(23)を少なくとも部分領域で除去するステップと、
d)複数の保護ダイオード構造(7)を備える複合支持体(50)を準備するステップと、
e)複数の前記半導体本体(2)を前記複合支持体(50)に対して相対的に位置決めして、各々の前記保護ダイオード構造(7)に少なくとも1つの前記半導体本体(2)が付属するようにするステップと、
f)前記保護ダイオード構造(7)と前記半導体本体(2)との導電接続を成立させるステップと、
g)複数の前記半導体デバイスを完成させ、このとき各々の前記半導体デバイスについて1つの支持体(5)が前記複合支持体(50)から作られるステップと、を有している方法。 - 前記ステップc)は前記ステップf)の後に実施される、請求項13に記載の方法。
- 請求項1から12のいずれか1項に記載の半導体デバイスが製造される、請求項13または14に記載の方法。
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