JP2013202107A - 遊技機 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】遊技機は、遊技盤と後方ユニットと位置決め構造とを有し、位置決め構造は、複数の第1位置決めボスと、複数の第1位置決め穴とを有し、複数の第1位置決めボスは、複数の第1大径ボスと、第1大径ボスよりも小径かつ短い複数の第1小径ボスとを有し、複数の第1位置決め穴は、第1大径ボスが挿入される複数の第1大径穴と、第1穴深さ以下で第1小径ボスが挿入される複数の第1小径穴とを有している。後方ユニットと遊技盤との位置決めの際に、第1大径ボスが第1大径穴に挿入され、かつ、第1小径ボスが第1小径穴に挿入されるようになっており、第1大径ボスの第1突出長は、後方ユニット及び遊技盤のいずれか他方の厚さ寸法よりも短い。
【選択図】図4
Description
以下、実施形態1について図面を用いて説明する。図1は、実施形態1に係る遊技機としてのパチンコ機2の正面図であり、図2は、図1に示すパチンコ機2の外観斜視図である。
XLB≦XLH
XSB<XSH
XLB<XSB
である。
図9は、実施形態2に係る遊技盤ユニット60において、スペーサ61を後方ユニット63に対して前方開放した状態を示す外観斜視図である。図9においては、スペーサ61及び後方ユニット63の左側辺61a,63a側を中心として右側辺61b,63b側を前後に大きく開放した状態を示している。
XSB3<XSH3
XLB3<XSB3
である。
上記実施形態1においては、遊技盤6と、その後方に取り付けられるスペーサ11との間での位置決めを実現する位置決め構造について説明した。上記実施形態2においては、遊技盤6の後方に配置されたスペーサ61と後方ユニット63との間での位置決めを実現する位置決め構造について説明した。本実施形態3においては、スペーサ11,61が省略され、遊技盤6の後方に後方ユニット63が取り付けられる場合の、遊技盤6と後方ユニット63との間での位置決めを実現する位置決め構造について説明する。
DLH,DLH3:大径穴の穴径
DSB,DSB3:小径ボスのボス径
DSH,DSH3:小径穴の穴径
LLB,LLB3:大径ボスのボス長
LLH,LLH3:大径穴の穴深さ
LSB,LSB3:小径ボスのボス長
LSH,LSH3:小径穴の穴深さ
XLB,XLB3:大径ボスの個数
XLH,XLH3:大径穴の個数
XSB,XSB3:小径ボスの個数
XSH,XSH3:小径穴の個数
2:パチンコ機(遊技機)
3:遊技機枠
4:外枠
5,60:遊技盤ユニット
6:遊技盤
6a:表面(遊技盤面)
6b:センター開口
6c:開口
6d:切欠き
6e:左側辺
6f:右側辺
6g:後面
6h:上側辺
6j:下側辺
7:センター役物(前方ユニットの一部)
8:前方ユニット
9:前枠
9a:中央開口
10:ガラス
11,61:スペーサ(基盤部材)
11a:左側辺
11b:右側辺
11c:前面
11d:ネジ用孔
12:ガラス枠
13,63:後方ユニット(役物ユニット)
13a:中央開口
14:球皿
14a:上球皿
14b:下球皿
15:発射装置ハンドル
16:遊技領域
17:位置決め穴(第2位置決め穴)
17a:大径穴(第2大径穴)
17b:小径穴(第2小径穴)
18:位置決めボス(第2位置決めボス)
18a:大径ボス(第2大径ボス)
18b:小径ボス(第2小径ボス)
18c,18d:テーパ面
22:ヒンジ
23:遊技球
26:レール飾り(前方ユニットの一部)
26a:外レール
29:始動入賞口(前方ユニットの一部)
29a:開口
32:装飾部材
61a,63a:左側辺
61b,63b:右側辺
61c:後面
61d:リブ
61e:平面領域
63c:前面
63d:ネジ用孔
65:第3位置決め穴
65a:大径穴(第3大径穴)
65b:小径穴(第3小径穴)
66:第3位置決めボス
66a:大径ボス(第3大径ボス)
66b:小径ボス(第3小径ボス)
68c,68d:テーパ面
Claims (5)
- 遊技媒体が流下可能な遊技領域が表面に形成された遊技盤と、
前記遊技盤の後方に取り付けられ、遊技者に対して動作演出及び/又は光演出を提供する役物ユニットと、
前記役物ユニットと前記遊技盤との位置決めのための位置決め構造と、を有する遊技機であって、
前記位置決め構造は、
前記役物ユニット及び前記遊技盤のいずれか一方において、他方に向けて突出するように配置された複数の第1位置決めボスと、
前記役物ユニット及び前記遊技盤のいずれか他方において、前記位置決めボスの配置に対応して形成された複数の第1位置決め穴と、を有し、
前記複数の第1位置決めボスは、第1突出長を有する複数の第1大径ボスと、該第1大径ボスよりも小径とされかつ前記第1突出長よりも短い突出長の複数の第1小径ボスと、を有し、
前記複数の第1位置決め穴は、第1穴深さとされて前記第1大径ボスが挿入される複数の第1大径穴と、前記第1穴深さ以下の穴深さとされて前記第1小径ボスが挿入される複数の第1小径穴と、を有し、
前記役物ユニットと前記遊技盤との位置決めの際に、前記第1大径ボスが前記第1大径穴に挿入され、かつ、前記第1小径ボスが前記第1小径穴に挿入されるようになっており、
前記第1大径ボスの第1突出長は、前記役物ユニット及び前記遊技盤のいずれか他方の厚さ寸法よりも短くされている、遊技機。 - 前記複数の第1大径ボスの個数が前記複数の第1大径穴の個数以下であり、
前記複数の第1小径ボスの個数が前記複数の第1小径穴の個数未満である、請求項1に記載の遊技機。 - 前記第1大径ボスの個数が前記第1小径ボスの個数未満である、請求項1又は請求項2に記載の遊技機。
- 遊技媒体が流下可能な遊技領域が表面に形成された遊技盤と、
前記遊技盤の後方に取り付けられる基盤部材と、
前記基盤部材と前記遊技盤との位置決めのための位置決め構造と、を有する遊技機であって、
前記位置決め構造は、
前記基盤部材及び前記遊技盤のいずれか一方において、他方に向けて突出するように配置された複数の第2位置決めボスと、
前記基盤部材及び前記遊技盤のいずれか他方において、前記位置決めボスの配置に対応して形成された複数の第2位置決め穴と、を有し、
前記複数の第2位置決めボスは、第2突出長を有する複数の第2大径ボスと、該第2大径ボスよりも小径とされかつ前記第2突出長よりも短い突出長の複数の第2小径ボスと、を有し、
前記複数の第2位置決め穴は、第2穴深さとされて前記第2大径ボスが挿入される複数の第2大径穴と、前記第2穴深さ以下の穴深さとされて前記第2小径ボスが挿入される複数の第2小径穴と、を有し、
前記基盤部材と前記遊技盤との位置決めの際に、前記第2大径ボスが前記第2大径穴に挿入され、かつ、前記第2小径ボスが前記第2小径穴に挿入されるようになっており、
前記第2大径ボスの第2突出長は、前記基盤部材及び前記遊技盤のいずれか他方の厚さ寸法よりも短くされている、遊技機。 - 遊技媒体が流下可能な遊技領域が表面に形成された遊技盤と、
前記遊技盤の後方に取り付けられる基盤部材と、
前記基盤部材の後方に取り付けられ、遊技者に対して動作演出及び/又は光演出を提供する役物ユニットと、
前記役物ユニットと前記基盤部材との位置決めのための位置決め構造と、を有する遊技機であって、
前記位置決め構造は、
前記役物ユニット及び前記遊技盤のいずれか一方において、他方に向けて突出するように配置された複数の第3位置決めボスと、
前記役物ユニット及び前記基盤部材のいずれか他方において、前記位置決めボスの配置に対応して形成された複数の第3位置決め穴と、を有し、
前記複数の第3位置決めボスは、第3突出長を有する複数の第3大径ボスと、該第3大径ボスよりも小径とされかつ前記第3突出長よりも短い突出長の複数の第3小径ボスと、を有し、
前記複数の第3位置決め穴は、第3穴深さとされて前記第3大径ボスが挿入される複数の第3大径穴と、前記第3穴深さ以下の穴深さとされて前記第3小径ボスが挿入される複数の第3小径穴と、を有し、
前記役物ユニットと前記基盤部材との位置決めの際に、前記第3大径ボスが前記第3大径穴に挿入され、かつ、前記第3小径ボスが前記第3小径穴に挿入されるようになっており、
前記第3大径ボスの第3突出長は、前記役物ユニット及び前記基盤部材のいずれか他方の厚さ寸法よりも短くされている、遊技機。
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