JP2013168429A - 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】液処理装置の基板保持部230は、円形の基板Wを水平に保持して鉛直軸周りに回転させ、薬液ノズル240は回転する基板Wの周縁部の膜を除去するために、当該周縁部に薬液を供給する。撮像部4A〜4Cは前記周縁部を撮像し、判断部5はこの撮像結果に基づいて、前記膜の除去幅を求め、この除去幅が適切であるか否かの判断を行う。
【選択図】図5
Description
この基板保持部により回転する基板の周縁部の膜を除去するために、当該周縁部に薬液を供給するための薬液ノズルと、
前記周縁部を撮像するための撮像部と、
前記撮像部が撮像した撮像結果に基づいて、前記膜の除去幅を求め、この除去幅が適切であるか否かの判断を行う判断部と、を備えたことを特徴とする。
(a)前記薬液ノズルを移動させるための移動機構と、前記薬液の供給位置を変更するために、前記薬液ノズルを移動させるように前記移動機構に制御信号を出力するノズル制御部と、を備え、前記判断部が、前記除去幅の設定値と実測値との差が予め設定された許容差を超えると判断した場合には、前記ノズル制御部は、前記差が許容差よりも小さくなるように前記供給位置を変更すること。
(b)前記基板保持部の回転中心と、この基板の中心との間のずれを相殺するために、前記撮像部は、基板の周縁を周方向にn箇所(nは2以上の自然数)の基板の端部にある撮像領域を撮像し、前記判断部は、これら複数の撮像領域における除去幅の平均値を前記除去幅の実測値とすること。
(c)前記基板保持部に保持された基板を移動させて、当該基板が保持される位置を決める位置決め機構と、前記基板の中心を前記回転中心に一致させるために前記位置決め機構に制御信号を出力する位置決め制御部と、を備え、前記判断部が、前記除去幅の設定値と実測値との差が予め設定された許容差を越えると判断した場合には、前記位置決め制御部は、前記差が許容差よりも小さくなるように前記位置決め機構により基板を移動させること。
(d)前記判断部は、前記除去幅の設定値と実測値との差から、前記薬液の供給位置に起因する第1の差を除いた残りの差を第2の差とし、この第2の差が予め設定された許容差を越える場合には、前記位置決め制御部は、前記第2の差が許容差よりも小さくなるように前記位置決め機構により基板を移動させること。
(e)前記撮像部は、処理対象の基板を収容したキャリアと前記基板保持部との間の搬送経路に設けられていること。
第1、第2のノズル240、250の移動機構241、251や第1、第2の位置決め部材311、321の駆動部313、323は、例えばステッピングモータを利用して位置調節を行っている。しかしながら例えば環境温度の変化による機器の膨張、伸縮や、ステッピングモータのパルスずれなどの影響で、第1、第2のノズル240、250の位置ずれやセンタリングのずれが徐々に生じる場合がある。
またCCDカメラ4A〜4Cの近傍位置には、不図示の照明が配置されており、この照明を用いて被写体となるウエハWのベベル部を照らすことができる。
x’(θ)=(x’−e)+e(1−cosθ) …(1)
ここでθは、z点を始点、O点を中心とした時計回りの方向の回転角である。
xa=x’(215°)=(x’−e)+e(1−cos(215°))
…(2)
xb=x’(335°)=(x’−e)+e(1−cos(335°))
…(3)
xc=x’(95°)=(x’−e)+e(1−cos(95°))
…(4)
x’=(xa+xb+xc)/3 …(5)
この結果、Δx=x’−xから、第1のノズル部240の位置ずれ量が把握される。
e=(xa−x’)/(−cos(215°))
={xa−(x+Δx)}/0.18 …(6)
eが正の値であれば、回転中心(O’点)は、ウエハWの中心(O点)の右方向にずれており、負の値であれば左方向にずれていることになる。この方法により特定されたずれ量eは、本発明の第2の差に相当する。
こうして第1、第2のノズル部240、250が所定の位置に到達したら、予め設定した時間、ウエハWの上下面側からベベル部にエッチング処理液を供給して、当該部からの不要な膜の除去を行う(ステップS5)。
そして、当該設定を終えたら、このウエハ処理装置に次のウエハWが搬入されるまで待機する。
また、これらカット幅の検出に加え、ベベル部の撮像結果を他の判断、例えば、エッチング不足の判定や、ウエハWの周縁部の膜を階段状にカットする場合などにおいて、カットされた膜の膜厚の検出を同時に行ってもよい。
110 ウエハ処理部
150 第1のウエハ搬送機構
160 第2のウエハ搬送機構
210 ドレインカップ
220 トッププレート
230 ウエハ保持部
240 第1のノズル部
241 移動機構
250 第2のノズル部
251 移動機構
3 位置決め機構
31 第1の位置決め機構部
311 第1の位置決め部材
313 第1の駆動部
32 第2の位置決め機構部
321 第2の位置決め部材
323 第2の駆動部
4 CCDカメラ
5 制御部
Claims (14)
- 円形の基板を水平に保持して鉛直軸周りに回転させるための基板保持部と、
この基板保持部により回転する基板の周縁部の膜を除去するために、当該周縁部に薬液を供給するための薬液ノズルと、
前記周縁部を撮像するための撮像部と、
前記撮像部が撮像した撮像結果に基づいて、前記膜の除去幅を求め、この除去幅が適切であるか否かの判断を行う判断部と、を備えたことを特徴とする液処理装置。 - 前記薬液ノズルを移動させるための移動機構と、
前記薬液の供給位置を変更するために、前記薬液ノズルを移動させるように前記移動機構に制御信号を出力するノズル制御部と、を備え、
前記判断部が、前記除去幅の設定値と実測値との差が予め設定された許容差を超えると判断した場合には、前記ノズル制御部は、前記差が許容差よりも小さくなるように前記供給位置を変更することを特徴とする請求項1に記載の液処理装置。 - 前記基板保持部の回転中心と、この基板の中心との間のずれを相殺するために、前記撮像部は、基板の周縁を周方向にn箇所(nは2以上の自然数)の基板の端部にある撮像領域を撮像し、前記判断部は、これら複数の撮像領域における除去幅の平均値を前記除去幅の実測値とすることを特徴とする請求項2に記載の液処理装置。
- 前記基板保持部に保持された基板を移動させて、当該基板が保持される位置を決める位置決め機構と、
前記基板の中心を前記回転中心に一致させるために前記位置決め機構に制御信号を出力する位置決め制御部と、を備え、
前記判断部が、前記除去幅の設定値と実測値との差が予め設定された許容差を越えると判断した場合には、前記位置決め制御部は、前記差が許容差よりも小さくなるように前記位置決め機構により基板を移動させることを特徴とする請求項2または3に記載の液処理装置。 - 前記判断部は、前記除去幅の設定値と実測値との差から、前記薬液の供給位置に起因する第1の差を除いた残りの差を第2の差とし、この第2の差が予め設定された許容差を越える場合には、前記位置決め制御部は、前記第2の差が許容差よりも小さくなるように前記位置決め機構により基板を移動させることを特徴とする請求項4に記載の液処理装置。
- 前記基板保持部に保持された基板を移動させて、当該基板が保持される位置を決める位置決め機構と、
前記基板の中心を前記回転中心に一致させるために前記位置決め機構に制御信号を出力する位置決め制御部と、を備え、
前記判断部が、前記除去幅の設定値と実測値との差が予め設定された許容差を越えると判断した場合には、前記位置決め制御部は、前記差が許容差よりも小さくなるように前記位置決め機構により基板を移動させることを特徴とする請求項1に記載の液処理装置。 - 前記撮像部は、処理対象の基板を収容したキャリアと前記基板保持部との間の搬送経路に設けられていることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか一つに記載の液処理装置。
- 円形の基板を水平に保持して鉛直軸周りに回転させる工程と、
この基板保持部により回転する基板の周縁部の膜を除去するために、当該周縁部に薬液を供給する工程と、
前記周縁部を撮像する工程と、
前記周縁部を撮像した結果に基づいて、前記膜の除去幅を求め、この除去幅に基づいて前記薬液の供給位置が適切であるか否かの判断を行う工程と、を含むことを特徴とする液処理方法。 - 前記除去幅の設定値と実測値との差が予め設定された許容差を超える場合には、前記差が許容差よりも小さくなるように前記薬液の供給位置を移動させる工程を含むことを特徴とする請求項8に記載の液処理方法。
- 前記基板保持部の回転中心と、この基板の中心との間のずれを相殺するために、基板の周縁を周方向にn箇所(nは2以上の自然数)基板の端部にある撮像領域を撮像し、これら複数の撮像領域における除去幅の平均値を前記除去幅の実測値とすることを特徴とする請求項9に記載の液処理方法。
- 前記除去幅の設定値と実測値との差が予め設定された許容差を越える場合には、前記差が許容差よりも小さくなるように前記基板保持部に保持された基板の中心を前記回転中心に一致させる方向に当該基板を移動させる工程を含むことを特徴とする請求項9または10に記載の液処理方法。
- 前記基板保持部に保持された基板の中心を前記回転中心に一致させる方向に当該基板を移動させる工程では、前記除去幅の設定値と実測値との差から、前記薬液の供給位置に起因する第1の差を除いた残りの差を第2の差とし、この第2の差が予め設定された許容差越える場合には、前記第2の差が許容差よりも小さくなるように前記基板を移動させることを特徴とする請求項11に記載の液処理方法。
- 前記除去幅の設定値と実測値との差が予め設定された許容差を越える場合には、前記差が許容差よりも小さくなるように前記基板保持部に保持された基板の中心を前記回転中心に一致させる方向に当該基板を移動させる工程を含むことを特徴とする請求項8に記載の液処理方法。
- 円形の基板を水平に保持して鉛直軸周りに回転させ、回転する基板の周縁部に薬液を供給して膜を除去する液処理装置に用いられるコンピュータプログラムを格納した記憶媒体であって、
前記プログラムは請求項8ないし13のいずれか一つに記載された液処理方法を実行するためにステップが組まれていることを特徴とする記憶媒体。
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