JP2013167907A - ハーフトーンマスク及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本発明のハーフトーンマスク及びその製造方法によれば、一つのマスクを複数サイクルのフォトリソグラフィ工程に適用できるので、製造工程が減り、低コストが図られる。また、該ハーフトーンマスクの半透過層は、酸素(O)含有のクロム(Cr)膜の均一度、すなわち、スパッタリングの均一度によって形成しようとするパターンを均一に形成できるので、ハーフトーンマスクの大きさに制限を受けない。
【選択図】 図2
Description
120 光遮断層
121 光透過部
125 光遮断部
130 半透過部
Claims (6)
- 透明基板上に光遮断層と第1フォトレジストを順に形成し、露光・現像・エッチング工程を順に行って光の透過する光透過部と光を遮断する光遮断部とを前記光遮断層に形成する段階と、
前記第1フォトレジストを除去する段階と、
前記光遮断部と光透過部上に第2フォトレジストを形成し、前記光透過部のうち必要部位が外部に露出されるように前記第2フォトレジストを露光及び現像する段階と、
前記第2フォトレジスト及び外部に露出された前記透明基板上に、照射される所定波長帯の光の一部のみを透過させる半透過層を形成する段階と、
前記第2フォトレジスト及び前記第2フォトレジスト上に形成された前記半透過層を除去する段階と、を備え、
前記半透過層は、CrxOy、CrxCoy、CrxCoyNz、SixNy、MoxSiyのうちいずれか一つの半透過物質からなり、
前記光遮断層と前記半透過層は、前記透明基板上面の同一平面に配置されることを特徴とするハーフトーンマスクの製造方法。
(ここで、下付き文字x、y、zは自然数で各化学元素の個数を意味する。) - 透明基板上に光遮断層と第1フォトレジストを順に形成し、露光・現像・エッチング工程を順に行って光の透過する光透過部と光を遮断する光遮断部とを前記光遮断層に形成する段階と、
前記第1フォトレジストを除去する段階と、
前記光遮断部と光透過部上に照射される所定波長帯の光の一部のみを透過させる半透過層を形成する段階と、
前記半透過層上に第2フォトレジストを形成し、前記半透過層のうち必要部位が外部に露出されるように前記第2フォトレジストを露光及び現像する段階と、
前記露出された半透過層をエッチングした後、前記第2フォトレジストを除去する段階と、を備え、
前記半透過層は、CrxOy、CrxCoy、CrxCoyNz、SixNy、MoxSiyのうちいずれか一つの半透過物質からなり、
前記光遮断層と前記半透過層は、前記透明基板上面の同一平面に配置されることを特徴とするハーフトーンマスクの製造方法。
(ここで、下付き文字x、y、zは自然数で各化学元素の個数を意味する。) - 透明基板上に光遮断層と第1フォトレジストを順に形成し、露光・現像・エッチング工程を順に行って光の透過する光透過部と光を遮断する光遮断部とを前記光遮断層に形成する段階と、
前記第1フォトレジストと光透過部上に、照射される所定波長帯の光の一部のみを透過させる半透過層を形成する段階と、
前記第1フォトレジストと前記第1フォトレジスト上に形成された半透過層を除去して前記光遮断部を露出させる段階と、
前記光遮断部と前記残っている半透過層上に第2フォトレジストを形成し、前記半透過層のうち必要部位が外部に露出されるように前記第2フォトレジストを露光及び現像する段階と、
前記露出された光透過層をエッチングした後、前記第2フォトレジストを除去する段階と、を備え、
前記半透過層は、CrxOy、CrxCoy、CrxCoyNz、SixNy、MoxSiyのうちいずれか一つの半透過物質からなり、
前記光遮断層と前記半透過層は、前記透明基板上面の同一平面に配置されることを特徴とするハーフトーンマスクの製造方法。
(ここで、下付き文字x、y、zは自然数で各化学元素の個数を意味する。) - 前記第2フォトレジストを露光及び現像する前に、前記光遮断層の隅部分に形成された整列マークの位置を把握してレーザービームの照射位置を補正する段階をさらに備えることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載のハーフトーンマスクの製造方法。
- 透明基板上に形成される光を遮断する機能を備えた光遮断部を有する光遮断層と、
前記光遮断層をパターニングして形成される光透過部と、
前記光遮断部の上面と側面とを半透過物質が覆う構造で形成し、
前記光透過部の一部が半透過物質で積層されて形成される半透過部と、を備える構造からなり、
前記光遮断層と前記半透過部は、前記透明基板上面の同一平面に配置されることを特徴とするハーフトーンマスク。 - 前記半透過物質は、CrxOy、CrxCoy、CrxCoyNz、SixNy、MoxSiyのうちいずれか一つであることを特徴とする請求項5に記載のハーフトーンマスク。
(ここで、下付き文字x、y、zは自然数で各化学元素の個数を意味する。)
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