JP2013140791A - 有機発光表示装置及び有機発光表示装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】有機発光表示装置及び有機発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る有機発光表示装置は、基板と、基板上に配置された画素電極と、画素電極上に配置され、光透過が可能に備えられた対向電極と、画素電極と対向電極との間に介在され、少なくとも対向電極に向かって光を放出する有機発光層と、対向電極上にあって、有機発光層から放出された光の経路上に配置され、少なくとも一層の無機膜、及び無機膜により分離されている複数層の有機膜を備え、有機膜の少なくとも二層は、第１屈折率を有する第１物質と第２屈折率を有する第２物質とを含み、第１屈折率は、第２屈折率より大きく、第１物質は、第２物質内に複数個が配置された透光層と、を備える。
【選択図】図１
【解決手段】本発明に係る有機発光表示装置は、基板と、基板上に配置された画素電極と、画素電極上に配置され、光透過が可能に備えられた対向電極と、画素電極と対向電極との間に介在され、少なくとも対向電極に向かって光を放出する有機発光層と、対向電極上にあって、有機発光層から放出された光の経路上に配置され、少なくとも一層の無機膜、及び無機膜により分離されている複数層の有機膜を備え、有機膜の少なくとも二層は、第１屈折率を有する第１物質と第２屈折率を有する第２物質とを含み、第１屈折率は、第２屈折率より大きく、第１物質は、第２物質内に複数個が配置された透光層と、を備える。
【選択図】図１
Description
本発明は、有機発光表示装置及びその製造方法に関する。
有機発光表示装置は、正孔注入電極と、電子注入電極と、それらの間に形成されている有機発光層とを備える有機発光素子を備え、正孔注入電極で注入される正孔と、電子注入電極で注入される電子とが有機発光層で結合して生成されたエキシトンが、励起状態から基底状態になりつつ光を発生させる自発光型の表示装置である。
自発光型の表示装置である有機発光表示装置は、別途の光源が不要であるので、低電圧で駆動でき、軽量かつ薄型であり、広い視野角、高いコントラスト及び速い応答速度などの高品位特性によって、次世代の表示装置として注目されている。
しかし、有機発光層から放出される光は、一定の方向を有さず、放出される光の一部は、全反射により外部に放出されないので、光効率を低下させる。
また、有機発光表示装置は、外部の水分や酸素などにより劣化する特性を有するので、外部の水分や酸素などから有機発光素子を保護するために、有機発光素子を密封する必要がある。
最近、有機発光表示装置の薄型化及び／またはフレキシブル化のために、有機発光素子を密封する手段として、有機膜と無機膜とを含む複数層で構成された薄膜封止(Thin Film Encapsulation: TFE)が利用されている。
しかし、薄膜封止を通じて外部に放出される光の経路の差によって、有機発光表示装置の側面視野角で色ずれ(color shift)が発生するという問題がある。
本発明の目的は、側面視野角で発生する色ずれを減少させ、光効率を向上させた有機発光表示装置及びその製造方法を提供することである。
本発明の一側面によれば、基板と、前記基板上に配置された画素電極と、前記画素電極上に配置され、光透過が可能に備えられた対向電極と、前記画素電極と前記対向電極との間に介在され、少なくとも前記対向電極に向かって光を放出する有機発光層と、前記対向電極上であって、前記有機発光層から放出された光の経路上に配置され、少なくとも一層の無機膜、及び前記無機膜により分離されている複数層の有機膜を備え、前記有機膜の少なくとも二層は、第１屈折率を有する第１物質と第２屈折率を有する第２物質とを含み、前記第１屈折率は、前記第２屈折率より大きく、前記第１物質は、前記第２物質内に複数個が配置された透光層と、を備える有機発光表示装置を提供する。
前記透光層は、前記対向電極と接するように配置され、前記第１物質及び前記第２物質を含む第１有機膜と、前記複数層の有機膜のうち最外郭に配置され、前記第１物質及び前記第２物質を含む第２有機膜と、前記第１有機膜と前記第２有機膜との間に位置する前記無機膜と、を備えてもよい。
前記透光層は、交互に配置された複数層の無機膜と、前記第１物質及び前記第２物質を含む複数層の有機膜とを備えてもよい。
前記第１物質の屈折率は、１．５以上であってもよい。前記第１物質のサイズは、０．１μｍないし５μｍであってもよい。前記第１物質は、ジルコニウム（Ｚｒ）、タングステン（Ｗ）及びケイ素（Ｓｉ）のうちいずれか一つを含んでもよい。
前記透光層の厚さは、５０μｍ以下であってもよい。前記対向電極と前記透光層との間に配置された保護層をさらに備えてもよい。前記透光層上に配置された光学部材をさらに備えてもよい。前記基板は、可撓性基板であってもよい。
本発明の他の側面によれば、基板上に画素電極を形成するステップと、前記画素電極上に有機発光層を形成するステップと、前記有機発光層上に、光透過が可能に備えられた対向電極を形成するステップと、前記対向電極上であって、前記有機発光層から放出された光の経路上に、少なくとも一層の無機膜と、前記無機膜により分離されている複数層の有機膜とを備え、前記有機膜の少なくとも二層は、第１屈折率を有する第１物質と第２屈折率を有する第２物質とを含み、前記第１屈折率は、前記第２屈折率より大きく、前記第１物質は、前記第２物質内に複数個が配置された透光層を形成するステップと、を含む有機発光表示装置の製造方法を提供する。
前記透光層を形成するステップは、前記対向電極上に、前記第１物質及び前記第２物質を含む第１有機膜を形成するステップと、前記第１有機膜上に無機膜を形成するステップと、前記無機膜上に、前記第１物質及び前記第２物質を含む第２有機膜を形成するステップと、を含んでもよい。
前記透光層を形成するステップは、複数層の前記無機膜と、前記第１物質及び前記第２物質を含む複数層の前記有機膜とを交互に形成するステップを含んでもよい。
前記透光層を形成するステップで、前記第１物質の屈折率は、１．５以上であってもよい。
前記透光層を形成するステップで、前記第１物質のサイズは、０．１μｍないし５μｍであってもよい。
前記透光層を形成するステップで、前記第１物質は、ジルコニウム（Ｚｒ）、タングステン（Ｗ）及びケイ素（Ｓｉ）のうちいずれか一つを含んでもよい。
前記透光層を形成するステップで、前記透光層の厚さは、５０μｍ以下であってもよい。
前記対向電極を形成するステップ後に、前記対向電極上に保護層を形成するステップをさらに含んでもよい。
前記透光層を形成するステップ後に、前記透光層上に光学部材を形成するステップをさらに含んでもよい。
前記基板は、可撓性基板であり、前記基板上に画素電極を形成するステップ前に、支持基板上に前記基板を形成するステップをさらに含み、前記透光層を形成するステップ後に、前記支持基板を前記基板から除去するステップをさらに含んでもよい。
本発明によれば、側面視野角で発生する色ずれを減少させることができる。また、取り出される光の効率を向上させることができる。
以下、添付された図面を参照して、本発明の望ましい実施形態についてより詳細に説明する。
図１は、本発明の一実施形態による有機発光表示装置１を概略的に示す断面図であり、図２は、図１の有機発光表示装置１の一画素領域を概略的に示す断面図である。
図１及び図２を参照すれば、一実施形態による有機発光表示装置１は、基板２００と；基板２００上に配置された画素電極４１０と、画素電極４１０上に配置され、光透過が可能に備えられた対向電極４３０と、画素電極４１０と対向電極４３０との間に介在され、少なくとも対向電極４３０に向かって光を放出する有機発光層４２０を備える有機発光素子(Organic Light-Emitting Device: OLED)４００と；対向電極４３０上であって、有機発光層４２０から放出された光の経路上に配置され、無機膜５１０、及び無機膜５１０により分離されている複数層の有機膜５２０を備える透光層５００と；を備える。
本実施形態の透光層５００は、二層の無機膜５１１，５１２と、無機膜５１１，５１２により分離されている三層の有機膜５２１，５２２，５２３とを備える。対向電極４３０と接するように配置された第１有機膜５２１と、透光層５００の最外郭に配置された第２有機膜５２２とは、第１屈折率を有する第１物質５２０−１と、第２屈折率を有する第２物質５２０−２とを含む。前記第１屈折率は、前記第２屈折率より大きい。第１物質５２０−１は、第２物質５２０−２内に複数個が配置される。
基板２００は、可撓性基板であり、ポリエチレンエーテルフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルホン及びポリイミドのように、耐熱性及び耐久性に優れたプラスチックで構成される。しかし、本発明は、これらに限定されず、基板２００は、金属やガラスなど多様な素材で構成されてもよい。
基板２００上には、素子／配線層３００が配置され、素子／配線層３００には、有機発光素子４００を駆動させる駆動薄膜トランジスタＴＦＴ、スイッチング薄膜トランジスタ（図示せず）、キャパシタ、及び前記薄膜トランジスタやキャパシタに連結される配線（図示せず）が含まれる。
駆動薄膜トランジスタＴＦＴは、活性層３１０、ゲート電極３３０、ソース電極及びドレイン電極３５０ａ，３５０ｂを備える。
基板２００と素子／配線層３００との間には、水分や酸素のような外部の異物が基板２００を透過して、有機発光素子４００に浸透することを防止するためのバリヤ膜２１０がさらに備えられる。バリヤ膜２１０は、無機物及び／または有機物を含み、外部の異物が基板２００を透過して、素子／配線層３００及び有機発光素子４００に浸透することを防止する役割を行う。
素子／配線層３００上には、有機発光素子４００が配置される。有機発光素子４００は、画素電極４１０と、画素電極４１０上に配置された有機発光層４２０と、有機発光層４２０上に形成された対向電極４３０とを備える。
本実施形態において、画素電極４１０は、アノードであり、対向電極４３０は、カソードである。しかし、本発明は、これに限定されず、有機発光表示装置１の駆動方法によって、画素電極４１０がカソードであり、対向電極４３０がアノードであってもよい。画素電極４１０及び対向電極４３０から、それぞれ正孔と電子とが有機発光層４２０の内部に注入される。注入された正孔と電子とが結合したエキシトンが、励起状態から基底状態になりつつ光を放出する。
画素電極４１０は、素子／配線層３００に形成された駆動薄膜トランジスタＴＦＴと電気的に連結される。
本実施形態では、有機発光素子４００が、駆動薄膜トランジスタＴＦＴが配置された素子／配線層３００上に配置された構造について記載しているが、本発明は、これに限定されず、有機発光素子４００の画素電極４１０が薄膜トランジスタＴＦＴの活性層３１０と同じ層に形成された構造、または画素電極４１０が薄膜トランジスタＴＦＴのゲート電極３３０と同じ層に形成された構造、または画素電極４１０がソース電極及びドレイン電極３５０ａ，３５０ｂと同じ層に形成された構造など多様な形態に変形可能である。
また、本実施形態において、駆動薄膜トランジスタＴＦＴは、ゲート電極３３０が活性層３１０上に配置されるが、本発明は、これに限定されず、ゲート電極３３０が活性層３１０下に配置されてもよい。
本実施形態の有機発光素子４００に備えられた画素電極４１０は、反射電極であり、Ａｇ，Ｍｇ，Ａｌ，Ｐｔ，Ｐｄ，Ａｕ，Ｎｉ，Ｎｄ，Ｉｒ，Ｃｒ及びそれらの化合物などで形成された反射膜と、反射膜上に形成された透明または半透明の電極層とを備える。
前記透明または半透明の電極層は、ＩＴＯ(Indium Tin Oxide)、ＩＺＯ(Indium Zinc Oxide)、ＺｎＯ(Zinc Oxide)、Ｉｎ２Ｏ３(Indium Oxide)、ＩＧＯ(Indium Gallium Oxide)及びＡＺＯ(Aluminum Zinc Oxide)を含むグループから選択された少なくとも一つ以上を含む。
画素電極４１０と対向して配置された対向電極４３０は、透明または半透明の電極であり、Ｌｉ，Ｃａ，ＬｉＦ／Ｃａ，ＬｉＦ／Ａｌ，Ａｌ，Ａｇ，Ｍｇ及びそれらの化合物を含む仕事関数の小さい金属薄膜で形成される。また、金属薄膜上に、ＩＴＯ，ＩＺＯ，ＺｎＯまたはＩｎ２Ｏ３などの透明電極形成用の物質で補助電極層やバス電極をさらに形成する。
したがって、対向電極４３０は、有機発光層４２０から放出された光を透過させる。
図２に示すように、画素電極４１０と対向電極４３０との間には、有機発光層４２０が配置されている。この有機発光層４２０は、低分子有機物または高分子有機物である。
画素電極４１０と対向電極４３０との間には、有機発光層４２０以外に、ホール輸送層(Hole Transport Layer: HTL)、ホール注入層(Hole Injection Layer: HIL)、電子輸送層(Electron Transport Layer: ETL)及び電子注入層(Electron Injection Layer: EIL)のような中間層が選択的に配置される。
有機発光層４２０から放出される光は、直接的にまたは反射電極として構成された画素電極４１０により反射されて間接的に、対向電極４３０側に放出される前面発光型である。
対向電極４３０上には、少なくとも一層の無機膜５１０と、複数層の有機膜５２０とを備える透光層５００が配置される。
透光層５００は、第１屈折率を有する第１物質５２０−１、及び第１屈折率より低い第２屈折率を有する第２物質５２０−２を含む第１有機膜５２１と、第２有機膜５２２とを備え、第１有機膜５２１は、対向電極４３０に接するように配置され、第２有機膜５２２は、複数層の有機膜５２０のうち最外郭に配置される。
本実施形態による透光層５００は、第１有機膜５２１と第２有機膜５２２との間に、二層の無機膜５１１，５１２と、第３有機膜５２３とが配置された構成について記載しているが、本発明の無機膜５１０と有機膜５２０との層数は、これに限定されない。
無機膜５１０は、金属酸化物、金属窒化物、金属炭化物及びそれらの化合物で構成され、例えば、アルミニウム酸化物であり、その他にシリコン酸化物またはシリコン窒化物などである。無機膜５１０は、外部の水分及び／または酸素などが有機発光素子４００に浸透することを抑制する機能を行う。
有機膜５２０に含まれた第２物質５２０−２は、アクリル、ポリイミド、ポリカーボネートなどを含み、有機発光表示装置１の薄型化のために、単量体で構成される。有機膜５２０は、無機膜５１０の内部ストレスを緩和し、無機膜５１０の欠陥を補完して平坦化する機能を行う。
第２物質５２０−２の屈折率は、一般的に１．５以下の屈折率を有する。この時、第１物質５２０−１の屈折率は、１．５以上である。しかし、第２物質５２０−２が高屈折率を有する樹脂で構成される場合、第１物質５２０−１の屈折率は、２．０以上であることが望ましい。
第１物質５２０−１の屈折率を、第２物質５２０−２の屈折率より高く構成することで、透光層５００に一定の角度で入射される光を効果的に散乱させることができる。
前記第１物質５２０−１は、第２物質５２０−２内に複数個が配置され、球形である。また、第１物質５２０−１は、ジルコニウム（Ｚｒ）、タングステン（Ｗ）及びケイ素（Ｓｉ）のうちいずれか一つを含み、ＳｉＮｘ，ＺｒＯｘ，ＷＯｘなどである。また、第１物質５２０−１の直径は、０．１μｍないし５μｍである。
透光層５００の厚さは、５０μｍ以下である。透光層５００の最外郭には、第１物質５２０−１と第２物質５２０−２とを含む第２有機膜５２２を備える。有機発光層４２０と第２有機膜５２２との距離が遠くなる場合、有機発光表示装置１の画面がぼやける現象が発生して、有機発光表示装置１により具現される画像の画質を阻害してしまう。このため、透光層５００の厚さを５０μｍ以下に構成することが望ましい。
有機発光層４２０から放出される光は、直接的にまたは画素電極４１０により反射されて間接的に、透光層５００に入射される。
有機発光層４２０から放出される光は、一定の方向性を有さず、有機発光層４２０から放出された光が屈折率の低い外部に放出される時、入射角がある程度以上の値を有する光は全反射されて、外部に放出されない。
この時、有機発光素子４００上に、複数個の第１物質５２０−１が内部に配置されている第２物質５２０−２を含む第１有機膜５２１を備える透光層５００を配置することで、有機発光素子４００から放出される光の進行方向を変化させる。
したがって、透光層５００が配置されていない場合には、入射角が大きく、外部に放出されなかった光の一部は、本実施形態にて備える透光層５００により進行方向が変更され、入射角が小くなるので、外部に放出される。
したがって、有機発光表示装置１の光効率を向上させることができる。これについては図９で後述する。
第１有機膜５２１を透過した光は、第２有機膜５２２に入射される。この時、第２物質５２０−２に比べて屈折率が高く、５μｍ以下のサイズを有する第１物質５２０−１により、第２有機膜５２２に入射される光は、進行方向が変わり、多様な角度で外部に放出される。
有機発光層４２０から放出される光は、方向性がなく、相異なる光路に沿って進む。したがって、有機発光表示装置１の正面では、所望の色純度を有する光が放出されるが、側面視野角では色ずれが発生する。
しかし、本実施形態では、相異なる光路に沿って進んだ光が第１有機膜５２１を透過して、第２有機膜５２２に入射し、第２有機膜５２２に入射された光は、相異なる角度で外部に放出されるので、相異なる光路に沿って進んだ光が正面及び側面で互いに混じる。
したがって、正面と側面とでの色座標の差、すなわち、側面視野角での色ずれを減少させることができる。
以下、本発明の一実施形態による有機発光表示装置１の製造方法について説明する。図３及び図６は、図１の有機発光表示装置１の製造方法を順次に示す断面図である。
図３を参照すれば、支持基板１００上に基板２００を形成する。この時、基板２００は、可撓性基板であり、耐熱性及び耐久性に優れたプラスチックで構成される。
可撓性基板は、熱により変形されるので、可撓性基板上に薄膜トランジスタや有機発光素子を精密に形成しがたい。したがって、ガラスなどで構成された支持基板１００上に、可撓性基板を付着させた後、後続工程を進めることが望ましい。
図４を参照すれば、基板２００上に、素子／配線層３００と、画素電極４１０、有機発光層４２０及び対向電極４３０を備える有機発光素子４００とを形成する。
基板２００上に素子／配線層３００を形成する前に、バリヤ膜２１０（図２）を形成する。バリヤ膜２１０は、無機物及び／または有機物を含み、外部の異物が基板２００を透過して、素子／配線層３００及び有機発光素子４００に浸透することを防止する役割を行う。
素子／配線層３００は、有機発光素子４００を駆動させる駆動薄膜トランジスタＴＦＴ（図２）、キャパシタ（図示せず）及び配線（図示せず）を備える。
素子／配線層３００上に、画素電極４１０、有機発光層４２０及び対向電極４３０を順次に形成する。
画素電極４１０は、反射電極であり、対向電極４３０は、透明または半透明の電極である。したがって、有機発光層４２０で発生した光は、対向電極４３０の方向に直接的に、または画素電極４１０により反射されて間接的に放出される。
この時、対向電極４３０を半透明電極として形成して、画素電極４１０と対向電極４３０とによる共振構造を形成することも可能である。
有機発光層４２０は、低分子有機物または高分子有機物であり、画素電極４１０と対向電極４３０との間には、有機発光層４２０以外に、前述したような中間層が選択的に形成される。
本実施形態では、有機発光素子４００が素子／配線層３００上に形成された場合を例示しているが、本発明は、これに限定されず、素子／配線層３００と有機発光素子４００とは、同じ層に形成されてもよい。
図５を参照すれば、対向電極４３０上の有機発光層４２０から放出された光の経路上に、有機膜５２０と無機膜５１０とを交互に形成する。
この時、有機膜５２０は複数層であり、有機膜５２０の少なくとも二層は、第１屈折率を有する第１物質５２０−１と、第１屈折率より低い第２屈折率を有する第２物質５２０−２とを含み、第１物質５２０−１は、第２物質５２０−２内に複数個が配置される。
この時、第１屈折率は、１．５以上であり、望ましくは、２．０以上である。また、第１物質５２０−１は、第２物質５２０−２内に複数個が配置され、球形であり、ジルコニウム（Ｚｒ）、タングステン（Ｗ）及びケイ素（Ｓｉ）のうちいずれか一つを含み、ＳｉＮｘ，ＺｒＯｘ，ＷＯｘなどである。また、第１物質５２０−１の直径は、０．１μｍないし５μｍである。
第２物質５２０−２は、アクリル、ポリイミド、ポリカーボネートのような樹脂であり、単量体で構成される。
本実施形態では、二層の無機膜５１０と三層の有機膜５２０とが交互に配置されており、有機膜５２０は、第１物質５２０−１と第２物質５２０−２とを含み、対向電極４３０と接するように配置された第１有機膜５２１と、最外郭に配置された第２有機膜５２２とを備える。この時、第１有機膜５２１と第２有機膜５２２との間には、第３有機膜５２３が配置され、第３有機膜５２３は、第２物質５２０−２を含まず、有機物のみで構成される。
この時、第１有機膜５２１と第２有機膜５２２それぞれに含まれた第１物質５２０−１及び第２物質５２０−２は、同じ物質であっても、異なる物質であってもよい。
また、本発明の無機膜５１０と有機膜５２０との形成手順や、無機膜５１０と有機膜５２０とが交互に形成される回数は、前記実施形態に限定されない。
図６を参照すれば、基板２００から支持基板１００を除去する。支持基板１００は、エッチングのような通常の方法により、基板２００から分離される。
図７は、本発明の他の実施形態による有機発光表示装置２を概略的に示す断面図である。図７を参照すれば、他の構成は、図１及び図２の実施形態による有機発光表示装置１と同じであり、透光層５００’の構成に差がある。以下、図１及び図２の実施形態による有機発光表示装置１との相違点を中心に、本実施形態による有機発光表示装置２について説明する。
透光層５００’は、交互に配置された複数層の無機膜５１０’と有機膜５２０’とを備え、複数層の有機膜５２０’は、第１屈折率を有する第１物質５２０−１’と、第１屈折率より低い第２屈折率を有する第２物質５２０−２’とを含む。本実施形態の無機膜５１０’は、互いに離隔して配置された三層の無機膜５１１’，５１２’，５１３’で構成され、有機膜５２０’は、前記無機膜５１０’により分離されている四層の有機膜５２１’，５２２’，５２３’，５２４’で構成される。
この時、第１屈折率は、１．５以上であり、望ましくは、２．０以上である。また、第１物質５２０−１’は、第２物質５２０−２’内に複数個が配置され、球形であり、ジルコニウム（Ｚｒ）、タングステン（Ｗ）及びケイ素（Ｓｉ）のうちいずれか一つを含み、ＳｉＮｘ，ＺｒＯｘ，ＷＯｘなどである。第１物質５２０−１’の直径は、０．１μｍないし５μｍである。
第２物質５２０−２’は、アクリル、ポリイミド、ポリカーボネートのような樹脂であり、単量体で構成される。
本実施形態では、透光層５００’に備えられたあらゆる有機膜５２０’が、第２物質５２０−２’と、第２物質５２０−２’内に複数個が含まれた第１物質５２０−１’とを含むことで、有機発光表示装置２の光効率を向上させ、側面で発生する色ずれを減少させることができる。
この時、それぞれの有機膜５２０’に含まれた第１物質５２０−１’と第２物質５２０−２’とは、同じ物質であっても、異なる物質であってもよい。
他の構成は、図１及び図２の実施形態による有機発光表示装置１と同じであるので、その説明を省略する。
図８は、本発明のさらに他の実施形態による有機発光表示装置３を概略的に示す断面図である。図８を参照すれば、他の構成は、図１及び図２の実施形態による有機発光表示装置１と同じであり、有機発光素子４００と透光層５００との間に、第１保護層６００がさらに備えられ、透光層５００上に第２保護層７００と光学部材８００とがさらに備えられるという点で差がある。
透光層５００は、交互に配置された複数層の無機膜５１０と、複数層の有機膜５２０とを備え、有機膜５２０は、有機発光素子４００と接するように配置された第１有機膜５２１と、透光層５００の最外郭に配置された第２有機膜５２２と、第１有機膜５２１と第２有機膜５２２との間に配置された第３有機膜５２３とを備える。
ここで、第１有機膜５２１と第２有機膜５２２とは、第１屈折率を有する第１物質５２０−１と、第１屈折率より低い第２屈折率を有する第２物質５２０−２とを含む。
この時、第１屈折率は、１．５以上であり、望ましくは、２．０以上である。また、第１物質５２０−１は、第２物質５２０−２内に複数個が配置され、球形であり、ジルコニウム（Ｚｒ）、タングステン（Ｗ）及びケイ素（Ｓｉ）のうちいずれか一つを含み、直径が０．１μｍないし５μｍである。
第２物質５２０−２は、アクリル、ポリイミド、ポリカーボネートのような樹脂であり、単量体で構成される。
本実施形態の透光層５００は、第１有機膜５２１と第２有機膜５２２との間に配置された無機膜５１１，５１２及び第３有機膜５２３を備え、対向電極４３０と透光層５００との間には、第１保護層６００が配置される。
第１保護層６００は、キャッピング層６１０と無機層６２０とで構成され、キャッピング層６１０は、８−キノリノラトリチウム、Ｎ，Ｎ−ジフェニル−Ｎ，Ｎ−ビス（９−フェニル−９Ｈ−カルバゾール−３−イル）ビフェニル−４，４’−ジアミン、Ｎ（ジフェニル−４−イル）９，９−ジメチル−Ｎ−（４（９−フェニル−９Ｈ−カルバゾール−３−イル）フェニル）−９Ｈ−フルオレン−２−アミン、または２−（４−（９，１０−ジ（ナフタレン−２−イル）アントラセン−２−イル）フェニル）−１−フェニル−１Ｈ−ベンゾ−［Ｄ］イミダゾールなどを含み、無機層６２０は、ＬｉＦなどを含む。
第１保護層６００は、有機発光表示装置３の使用中または製造過程で、対向電極４３０が損傷されることを防止する役割を行う。
透光層５００上には、第２保護層７００と光学部材８００とが配置される。第２保護層７００は、無機物を含み、第２有機膜５２２と類似した屈折率を有する。第２保護層７００は、外部の水分及び／または酸素が、透光層５００及び有機発光素子４００に浸透することを防止する役割を行う。
光学部材８００は、位相遅延板８１０と偏光板８２０とを備え、位相遅延板８１０は、１／４波長板（λ／４ plate）である。
本実施形態の光学部材８００は、外光の反射を抑制して、有機発光表示装置３の視認性とコントラストとを向上させる役割を行う。
他の構成は、図１及び図２の実施形態による有機発光表示装置１と同じであるので、その説明を省略する。
図９は、図１の有機発光表示装置１から放出される光の輝度を示すグラフである。前記グラフにおいて、横軸は、第１物質５２０−１が第１有機膜５２１及び第２有機膜５２２で占める体積を表し、縦軸は、放出される光の輝度を表す。縦軸の放出される光の輝度は、任意の単位を有し、１は、第１物質５２０−１がない場合の輝度値を表す。
この時、第１物質５２０−１は、ＺｒＯ２で構成され、屈折率が２．２であり、サイズが１５４．４ｎｍである。
図９のグラフを参照すれば、第１物質５２０−１の体積比が増加するにつれて、輝度値が増加していて、ある点で減少する。
第１物質５２０−１の体積比［％］が０．０１と０．１との間の値を有する場合、輝度値は最大となり、この時、輝度値、すなわち、放出される光の効率は、第１物質５２０−１を含まない場合より約７０％増加した値を有する。
図１０は、図１の有機発光表示装置１の側面での色ずれの値を示すグラフである。前記グラフにおいて、縦軸は、正面での色座標値に対する、正面に対して側面に６０°傾いた領域での色座標値の差Δｕ’ｖ’、すなわち、側面での色ずれを表す。
図１０を参照すれば、第１物質５２０−１が含まれない場合（Ｒｅｆ）に対して、ヘイズ値が８０％及び８８％である時に色ずれが減少するということを確認できる。
前述したような実施形態による有機発光表示装置１，２，３は、側面視野角で発生する色ずれを減少させ、取り出される光の効率を向上させることができる。
図面に示した構成要素は、説明の便宜上、拡大または縮小して示されるので、図面に示した構成要素のサイズや形状に本発明が拘束されるものではなく、当業者ならば、これから多様な変形及び均等な他の実施形態が可能であるという点を理解できるであろう。したがって、本発明の真の技術的保護範囲は、特許請求の範囲の技術的思想により決まらねばならない。
本発明は、例えば、表示装置関連の技術分野に適用可能である。
１ 有機発光表示装置
２００ 基板
３００ 素子／配線層
３１０ 活性層
３３０ ゲート電極
３５０ａ ソース電極
３５０ｂ ドレイン電極
４００ 有機発光素子
４１０ 画素電極
４２０ 有機発光層
４３０ 対向電極
５００ 透光層
５１０，５１１，５１２ 無機膜
５２０，５２１，５２２，５２３ 有機膜
５２０−１ 第１物質
５２０−２ 第２物質
２００ 基板
３００ 素子／配線層
３１０ 活性層
３３０ ゲート電極
３５０ａ ソース電極
３５０ｂ ドレイン電極
４００ 有機発光素子
４１０ 画素電極
４２０ 有機発光層
４３０ 対向電極
５００ 透光層
５１０，５１１，５１２ 無機膜
５２０，５２１，５２２，５２３ 有機膜
５２０−１ 第１物質
５２０−２ 第２物質
Claims (20)
- 基板と、
前記基板上に配置された画素電極と、
前記画素電極上に配置され、光透過が可能に備えられた対向電極と、
前記画素電極と前記対向電極との間に介在され、少なくとも前記対向電極に向かって光を放出する有機発光層と、
前記対向電極上であって、前記有機発光層から放出された光の経路上に配置され、少なくとも一層の無機膜と、前記無機膜により分離されている複数層の有機膜とを備え、前記有機膜の少なくとも二層は、第１屈折率を有する第１物質と、第２屈折率を有する第２物質とを含み、前記第１屈折率は、前記第２屈折率より大きく、前記第１物質は、前記第２物質内に複数個が配置されてなる透光層と、を備えることを特徴とする有機発光表示装置。 - 前記透光層は、前記対向電極と接するように配置され、前記第１物質及び前記第２物質を含む第１有機膜と、前記複数層の有機膜のうち最外郭に配置され、前記第１物質及び前記第２物質を含む第２有機膜と、前記第１有機膜と前記第２有機膜との間に位置する前記無機膜と、を備えることを特徴とする請求項１に記載の有機発光表示装置。
- 前記透光層は、交互に配置された複数層の無機膜と、前記第１物質及び前記第２物質を含む複数層の有機膜と、を備えることを特徴とする請求項１に記載の有機発光表示装置。
- 前記第１物質の屈折率は、１．５以上であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の有機発光表示装置。
- 前記第１物質のサイズは、０．１μｍないし５μｍであることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の有機発光表示装置。
- 前記第１物質は、ジルコニウム（Ｚｒ）、タングステン（Ｗ）及びケイ素（Ｓｉ）のうち少なくとも一つを含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の有機発光表示装置。
- 前記透光層の厚さは、５０μｍ以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の有機発光表示装置。
- 前記対向電極と前記透光層との間に配置された保護層をさらに備えることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の有機発光表示装置。
- 前記透光層上に配置された光学部材をさらに備えることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の有機発光表示装置。
- 前記基板は、可撓性基板であることを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載の有機発光表示装置。
- 基板上に画素電極を形成するステップと、
前記画素電極上に有機発光層を形成するステップと、
前記有機発光層上に、光透過が可能に備えられた対向電極を形成するステップと、
前記対向電極上であって、前記有機発光層から放出された光の経路上に、少なくとも一層の無機膜と、前記無機膜により分離されている複数層の有機膜とを備え、前記有機膜の少なくとも二層は、第１屈折率を有する第１物質と、第２屈折率を有する第２物質とを含み、前記第１屈折率は、前記第２屈折率より大きく、前記第１物質は、前記第２物質内に複数個が配置されてなる透光層を形成するステップと、を含むことを特徴とする有機発光表示装置の製造方法。 - 前記透光層を形成するステップは、
前記対向電極上に、前記第１物質及び前記第２物質を含む第１有機膜を形成するステップと、
前記第１有機膜上に無機膜を形成するステップと、
前記無機膜上に、前記第１物質及び前記第２物質を含む第２有機膜を形成するステップと、を含むことを特徴とする請求項１１に記載の有機発光表示装置の製造方法。 - 前記透光層を形成するステップは、複数層の前記無機膜と、前記第１物質及び前記第２物質を含む複数層の前記有機膜とを交互に形成するステップを含むことを特徴とする請求項１１に記載の有機発光表示装置の製造方法。
- 前記透光層を形成するステップで、前記第１物質の屈折率は、１．５以上であることを特徴とする請求項１１〜１３のいずれか一項に記載の有機発光表示装置の製造方法。
- 前記透光層を形成するステップで、前記第１物質のサイズは、０．１μｍないし５μｍであることを特徴とする請求項１１〜１４のいずれか一項に記載の有機発光表示装置の製造方法。
- 前記透光層を形成するステップで、前記第１物質は、ジルコニウム（Ｚｒ）、タングステン（Ｗ）及びケイ素（Ｓｉ）のうち少なくとも一つを含むことを特徴とする請求項１１〜１５のいずれか一項に記載の有機発光表示装置の製造方法。
- 前記透光層を形成するステップで、前記透光層の厚さは、５０μｍ以下であることを特徴とする請求項１１又は１２に記載の有機発光表示装置の製造方法。
- 前記対向電極を形成するステップ後に、前記対向電極上に保護層を形成するステップをさらに含むことを特徴とする請求項１１〜１７のいずれか一項に記載の有機発光表示装置の製造方法。
- 前記透光層を形成するステップ後に、前記透光層上に光学部材を形成するステップをさらに含むことを特徴とする請求項１１〜１８のいずれか一項に記載の有機発光表示装置の製造方法。
- 前記基板は、可撓性基板であり、
前記基板上に画素電極を形成するステップ前に、支持基板上に前記基板を形成するステップをさらに含み、前記透光層を形成するステップ後に、前記支持基板を前記基板から除去するステップをさらに含むことを特徴とする請求項１１〜１９のいずれか一項に記載の有機発光表示装置の製造方法。
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