JP2013136032A - 排ガス浄化用触媒 - Google Patents

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Abstract

【課題】高いNOx浄化能を維持しつつ触媒全体のOSC能が効果的に高められた排ガス浄化用触媒を提供する。
【解決手段】ここで開示される排ガス浄化用触媒は、基材10と、該基材10の表面に形成された触媒コート層30とを備える。触媒コート層30は、基材10の表面に近い方を下層50とし相対的に遠い方を上層40とする上下層を有する積層構造に形成されている。触媒コート層30は、貴金属触媒としてRhとPdとを備えており、担体として酸素吸蔵能を有するOSC材を備えている。Rhは、触媒コート層30の上層40に配置されており、Pdは、触媒コート層30の上層40と下層50の双方に配置されている。上層40および下層50において、Pdの少なくとも一部はOSC材に担持されている。下層50に配置されたPdに対する上層40に配置されたPdの質量比が、0.4以下である。
【選択図】図2

Description

本発明は、内燃機関から排出される排ガスを浄化する排ガス浄化用触媒に関する。
従来から、自動車エンジン等の内燃機関から排出される排ガスを浄化するために、Pt(白金)、Pd(パラジウム)、及びRh(ロジウム)の貴金属のうち少なくとも一種を含む三元触媒がよく用いられている(特許文献1〜3)。かかる三元触媒の一つの典型的な構成では、高耐熱性セラミックス基材の表面にアルミナからなる触媒コート層を形成し、この触媒コート層にPt、Pd、及びRhの貴金属のうち少なくとも一種を担持させている。これらの貴金属のうちPd及びPtは主として一酸化炭素(CO)及び炭化水素(HC)の浄化性能(酸化浄化能)に寄与し、Rhは主としてNOxの浄化性能(還元浄化能)に寄与する。したがって、Pd又はPtと、Rhとを併用することによって、排ガス中の有害成分を一度に効率よく浄化することができる。
このような三元触媒を用いて効率的に排ガス中の上記成分を浄化、即ち酸化または還元によりHO、CO、又はNとするためには、エンジンに供給される空気とガソリンの混合比率である空燃比が理論空燃比(ストイキ)近傍でなければならない。従来、触媒が有効に働くことができる空燃比の雰囲気変動を緩和する目的で、上記貴金属の担体としてセリア−ジルコニア複合酸化物を用いることが広く行われている。セリア−ジルコニア複合酸化物は、排ガスの空燃比がリーンであるとき(即ち酸素過剰側の雰囲気)には排ガス中の酸素を吸蔵し、排ガスの空燃比がリッチであるとき(即ち燃料過剰側の雰囲気)には吸蔵されている酸素を放出するという働きをする。これにより、排ガス中の酸素濃度が変動したときでも安定した触媒性能が得られるようになり、触媒の浄化性能が向上する。
また、近年ではさらなる浄化性能向上のために、触媒コート層を二層構造とし、PdとRhとを分離担持させた排ガス浄化用触媒が提案されている。貴金属触媒の全てを一つの担体層に担持させるのではなく、触媒コート層を少なくとも上下二層を有する積層構造に形成し、一方の層にPdを、他方の層にRhをそれぞれ分離して担持させることにより、Rh及びPdのそれぞれに相性のよい担体を選択することが可能となる。例えばRhを担持する担体としてはZrOが好ましい。特許文献1には、RhをZrOに担持した上層と、PdをCeO−ZrO複合酸化物に担持した下層とからなる二層構造の排ガス浄化用触媒が記載されている。
特開2011−183317号公報 特許第4751916号公報 特開2010−005591号公報
上述のように、上下二層構造を有する排ガス浄化用触媒において、上層のRhを担持する担体としてはZrOが好ましく、下層のPdを担持する担体としてはOSC能を有するCeO−ZrO複合酸化物が好ましいが、より高いOSC能が必要な場合は、上層のRhもCeO−ZrO複合酸化物に担持させる場合がある。しかし、CeO上のRhは触媒活性がZrO上のRhほど高くないため、RhをCeO−ZrO複合酸化物に担持させると、所望のNOx浄化能を発揮できない虞がある。また、近年では、製造コストの軽減や材料の安定供給を目的として、貴金属触媒の使用量を低減した低貴金属排ガス浄化用触媒の開発が進められている。しかし、かかる低貴金属排ガス浄化用触媒では、酸素吸収の仲介を担う貴金属の含有量が少ないため、OSC担体への酸素吸収効率が著しく低下してしまう。このような低貴金属化によるOSC能の低下を補うためにも、触媒全体のOSC能を効率的に向上させる技術が望まれている。
本発明は、かかる事案に鑑みてなされたものであり、その主な目的は、積層構造タイプの触媒コート層を備えた排ガス浄化用触媒において、高いNOx浄化能を維持しつつ触媒全体のOSC能が効果的に高められた排ガス浄化用触媒を提供することである。
本発明者は、OSC材に担持されたPdを下層に配置し、Rhを上層に配置した積層構造タイプの触媒コート層を備えた排ガス浄化用触媒において、下層に配置されたPdの一部を上層に移転することにより触媒全体のOSC能を向上させることに思い至り、さらに上層に配置されたPdと下層に配置されたPdとの質量比を適切に規定することによって、上層におけるRhのNOx浄化能を低下させることなく、触媒全体のOSC能を効果的に向上できることを見出し、本発明を完成した。
即ち、本発明によって提供される排ガス浄化用触媒は、基材と、該基材の表面に形成された触媒コート層とを備える排ガス浄化用触媒である。前記触媒コート層は、前記基材表面に近い方を下層とし相対的に遠い方を上層とする上下層を有する積層構造に形成されている。前記触媒コート層は、貴金属触媒としてRhとPdとを備えている。また、前記触媒コート層は、担体として酸素吸蔵能を有するOSC材を備えている。前記Rhは、前記触媒コート層の上層に配置されており、前記Pdは、前記触媒コート層の上層と下層の双方に配置されている。前記上層および下層において、前記Pdの少なくとも一部は前記OSC材に担持されている。そして、前記下層に配置されたPdに対する前記上層に配置されたPdの質量比が、0.4以下(典型的には0.01〜0.4、好ましくは0.06〜0.32)である。
かかる構成の排ガス浄化用触媒では、OSC材に担持されたPdが上層および下層の双方に配置されている。このようにOSC材に担持されたPdを下層だけでなく、排ガスが拡散しやすい上層にも配置することにより、下層のみにPdを配置しているような従来の触媒コート層と比較して、OSC材と排ガスとの接触機会が多くなる。そのため、触媒全体のOSC能をより良く向上させることができる。
ここで開示される排ガス浄化用触媒としては、上層と下層とのPdの質量比(上層/下層)xが、0.01≦xを満足するものが好ましく、0.06≦xを満足するものがより好ましく、0.15≦xを満足するものがさらに好ましく、0.2≦xを満足するものが特に好ましい。その一方、上記Pdの質量比xが大きすぎると、高温時に上層でRhとPdが反応して合金化し、RhのNOx浄化能が低下する虞があるため好ましくない。RhとPdの合金化を抑制する観点からは概ねx≦0.4である。例えば0.01≦x≦0.4(好ましくは0.06≦x≦0.32)となるようなPdの質量比xで上層および下層の双方にPdを配置することが望ましい。
このことにより、下層のみにPdを配置している若しくはPdの質量比xが上記範囲を満たさないような従来の排ガス浄化用触媒と比較して、上層におけるRhの高いNOx浄化能を維持しつつ、触媒全体のOSC能を効果的に向上させることができる。したがって、本発明によると、従来に比して、NOx浄化能とOSC能とがバランスよく向上した、浄化性能に優れた最適な排ガス浄化用触媒を提供することができる。
ここに開示される排ガス浄化用触媒の好ましい一態様では、前記上層および下層において、前記Pdの少なくとも一部を担持しているOSC材は、CeOまたはCeO−ZrO複合酸化物からなる。CeOまたはCeO−ZrO複合酸化物は高いOSC能を有しており、ここで開示される排ガス浄化用触媒に用いられるOSC材として好適である。
ここに開示される排ガス浄化用触媒の好ましい一態様では、前記上層において、前記Rhを担持している担体は、Yを含むZrO複合酸化物からなる。ZrOにRhを担持させることにより、高いNOx浄化能が発揮され得る。また、ZrOにYを添加することによりZrOの耐熱性が向上し、耐久性のある排ガス浄化用触媒を得ることができる。
ここに開示される排ガス浄化用触媒の好ましい一態様では、前記上層に配置されたPdに対するRhの質量比が、1.25〜5である。かかる構成によると、上層においてRhとPdとの比率が適切なバランスにあるので、RhとPdとの合金化を抑制しつつ、OSC能向上効果を確実に発揮することができる。
本発明の一実施形態に係る排ガス浄化用触媒を模式的に示す図である。 本発明の一実施形態に係る排ガス浄化用触媒におけるリブ壁部分の構成を模式的に示す図である。 本発明の一実施形態に係る排ガス浄化用触媒におけるリブ壁部分の構成を模式的に示す図である。 Pd質量比(上層/下層)と平均酸素吸放出量との関係を示すグラフである。 Pd質量比(上層/下層)とNOx排出量との関係を示すグラフである。
以下、本発明の好適な実施形態を図面に基づいて説明する。なお、本明細書において特に言及している事項以外の事柄であって本発明の実施に必要な事柄(例えば排ガス浄化用触媒の自動車における配置に関するような一般的事項)は、当該分野における従来技術に基づく当業者の設計事項として把握され得る。本発明は、本明細書に開示されている内容と当該分野における技術常識とに基づいて実施することができる。なお、以下の説明において、空燃比がリーン、ストイキおよびリッチの排ガスとは、それぞれリーン、ストイキおよびリッチの混合ガスを内燃機関にて燃焼させた際に、該内燃機関から排出される排ガスの空燃比と同等の空燃比を有する排ガスもしくは該排ガスに炭化水素を後供給した排ガスを指すものである。
ここで開示される排ガス浄化用触媒は、基材と、該基材の表面に形成された多孔質担体からなる触媒コート層と、該触媒コート層の多孔質担体に担持された貴金属触媒とからなり、上記触媒コート層は積層構造に形成されている。
図1は排ガス浄化用触媒の一典型例の模式図である。本実施形態に係る排ガス浄化用触媒100は、複数の規則的に配列されたセル12と、該セル12を構成するリブ壁14を有するハニカム基材10を備える。なお、本明細書において「基材の体積1リットル当たり」とは、基材の純体積にセル通路の容積も含めた全体の嵩容積1L当たりをいう。以下の説明において(g/L)と記載しているものについては、基材の体積1リットルに含まれる量を示すものである。
ここで開示される排ガス浄化用触媒を構成する上記基材としては、従来のこの種の用途に用いられる種々の素材及び形態のものが使用可能である。例えば、コージェライト、炭化ケイ素(SiC)等のセラミックスまたは合金(ステンレス等)から形成されたハニカム構造を備えるハニカム基材などを好適に採用することができる。一例として外形が円筒形状であるハニカム基材であって、その筒軸方向に排ガス通路としての貫通孔(セル)が設けられ、各セルを仕切る隔壁(リブ壁)に排ガスが接触可能となっているものが挙げられる。基材の形状はハニカム形状の他にフォーム形状、ペレット形状などとすることができる。また基材全体の外形については、円筒形に代えて、楕円筒形、多角筒形を採用してもよい。
<触媒コート層>
図2は、図1のハニカム基材10におけるリブ壁14の表面部分の構成を模式的に示す図である。リブ壁14は、基材10と、その表面に形成された二層構造の触媒コート層30を備えている。かかる二層構造の触媒コート層30は、基材10の表面に近い方を下層50とし相対的に遠い方を上層40とする上下層を有する積層構造に形成されている。ここに開示される技術では、触媒コート層30は、貴金属触媒として、RhとPdとを備えている。また、触媒コート層30は、担体として酸素吸蔵能を有するOSC材を備えている。Rhは、触媒コート層30の上層40に配置されており、Pdは、触媒コート層30の上層40と下層50の双方に配置されている。上層40および下層50において、Pdの少なくとも一部はOSC材に担持されている。
本発明によって提供される触媒コート層30では、OSC材に担持されたPdを下層50だけでなく、排ガスが拡散しやすい上層40にも配置する。このことにより、下層50のみにPdを配置しているような従来の触媒コート層と比較して、OSC材と排ガスとの接触機会が多くなる。そのため、触媒全体のOSC能がより良く向上させることができる。下層50に配置されたPdに対する上層40に配置されたPdの質量比(上層/下層)xとしては、0.01≦xを満足するものが好ましく、0.06≦xを満足するものがより好ましく、0.15≦xを満足するものがさらに好ましく、0.2≦xを満足するものが特に好ましい。Pdの質量比(上層/下層)が小さすぎると、上述したOSC能向上効果が不十分になることがある。
その一方、上記Pdの質量比(上層/下層)xが大きすぎると、上層40において高温時にRhとPdとが部分的に反応して合金化し、RhのNOx浄化能が低下する虞があるため好ましくない。RhとPdとの合金化を抑制する観点からは、x≦0.4(例えばx≦0.32、特にはx≦0.25)を満足するものが好ましい。例えば、上記Pdの質量比(上層/下層)が、0.06以上0.32以下(特に0.15以上0.3以下)の触媒コート層30が、OSC能の向上と、Rh及びPdの合金化の抑制を両立するという観点から適当である。
<下層>
ここで開示される触媒コート層30を構成する下層50は、担体と、該担体に担持されている少なくともPdを含む貴金属触媒とを備えている。Pdは、主として排ガス中のHC及びCOを浄化する。
<下層の担体>
下層50のPdを担持する担体は、酸素吸蔵能を有するOSC材を含んでいる。かかるOSC材は、排ガスの空燃比がリーンであるとき(即ち酸素過剰側の雰囲気)には排ガス中の酸素を吸蔵し、排ガスの空燃比がリッチであるとき(即ち燃料過剰側の雰囲気)には吸蔵されている酸素を放出するという働きをする。かかるOSC材としては、例えば、酸化セリウム(セリア:CeO)や該セリアを含む複合酸化物(例えば、セリア−ジルコニア複合酸化物(CeO−ZrO複合酸化物)などが挙げられる。CeOまたはCeO−ZrO複合酸化物を下層のPdの担体として使用することにより、下層の酸素濃度の変動が緩和され、安定した触媒性能が得られるようになる。したがって、より良好な触媒性能を確実に発揮することができる。
上述したOSC材の中でも、CeO−ZrO複合酸化物の使用が好ましい。CeOにZrOを固溶させることにより、CeOの粒成長が抑制され、耐久後のOSC能の低下を抑制することができる。CeO−ZrO複合酸化物におけるCeOとZrOとの混合割合は、CeO/ZrO=0.25〜0.75(好ましくは0.3〜0.6、より好ましくは0.5程度)であるとよい。CeO/ZrOを上記範囲にすると、Pdを含む下層50において高い触媒活性とOSC(酸素吸蔵能)を実現することができる。
上記CeO−ZrO複合酸化物は、副成分として他の化合物(典型的には無機酸化物)が混在するものであってもよい。そのような化合物としては、ランタン等の希土類元素、カルシウムなどのアルカリ土類元素、遷移金属元素などが用いられ得る。上記の中で、触媒機能を阻害せずに高温における比表面積を向上させる観点から、安定化剤としてはランタン等の希土類元素が好適に用いられる。例えば、焼結抑制等の目的で、La、Y、Pr11などの希土類酸化物を混合してもよい。上記希土類酸化物は単独酸化物として担体粉末に物理混合してもよいし、複合酸化物の一成分とすることもできる。これら副成分の含有割合(質量比)が担体全体の2%〜30%(例えば3%〜6%)であることが好ましい。副成分の含有割合が少なすぎると焼結抑制等の効果が低く、多すぎると相対的に担体中のZrOやCeOの量が減るため耐熱性及びOSCが低下する場合がある。
ここで開示される下層50のPdを担持する担体は、OSC材以外の担体材料(非OSC材)が含まれていてもよい。かかる非OSC材としては、多孔質であり、且つ、耐熱性に優れた金属酸化物が好ましく用いられる。例えば、酸化アルミニウム(アルミナ:Al)、酸化ジルコニウム(ジルコニア:ZrO)等が挙げられる。中でもAlの使用が好ましい。Alは、CeO−ZrO複合酸化物に比べて比表面積が小さく、かつ耐久性(特に耐熱性)が高い。そのため、AlにPdを担持させることにより、担体全体としての熱安定性が向上するとともに、担体全体に適量のPdを担持させることができる。AlとCeO−ZrO複合酸化物とは、質量混合比(Al:CeO−ZrO複合酸化物)が80:20〜20:80の範囲内で混合することが好ましい。かかる構成によると、AlとCeO−ZrO複合酸化物との比率が適切なバランスにあるので、AlとCeO−ZrO複合酸化物とを混合することによる効果(例えば、Alが持つ大きな比表面積及び高い耐久性と、CeO−ZrO複合酸化物が持つ酸素吸蔵放出能を合わせ持つことができる効果)をより良く発揮することができる。
ここで開示される下層50のPdを担持する担体には、バリウム(Ba)が添加されてもよい。下層の担体にBaを添加することにより、PdのHC被毒が抑えられ、触媒活性(特に低温活性)の向上が図られる。また、担体に対するPdの分散性が向上し、高温におけるPdの粒成長にともなうシンタリングがより良く抑えられる。ここで開示される担体としては、上記Baの添加量が、担体の全質量に対して5質量%〜10質量%を満足するものが好ましく、5質量%〜8質量%を満足するものが特に好ましい。Baの含有量を上記範囲内とすることにより、PdのHC被毒がより良く抑制され、エンジン始動直後でも高い触媒活性を発揮することができる。また、Pdのシンタリングがより良く抑制され、Pdの耐久性向上が図られる。Baの含有量が10質量%より多すぎる、または5質量%より少なすぎる場合は、上述したBa添加による触媒性能向上効果が十分に発揮されず、高い浄化性能が得られないことがある。
<下層の貴金属触媒>
ここに開示される下層50に含有されるPd(パラジウム)は、上述したOSC材を含む担体に担持されている。Pdの担持量は特に制限されないが、下層50担体の全質量に対して0.01質量%〜1質量%の範囲(例えば0.05質量%〜0.5質量%)とすることが適当である。これより少ないと十分な触媒活性が得られず、これより多く担持させても効果が飽和するとともにコスト面で不利である。下層50の担体にPdを担持させる方法としては特に制限されない。例えば、OSC材を含む担体粉末を、パラジウム塩(例えば硝酸塩)やパラジウム錯体(例えば、テトラアンミン錯体)を含有する水溶液に含浸させた後、乾燥させ、焼成することにより調製することができる。
ここで開示される下層50は、Pdの性能を損なわない程度に他の貴金属触媒を含んでいてもよい。Pd以外の貴金属触媒として、例えば、白金(Pt)、ルテニウム(Ru)、イリジウム(Ir)、オスミウム(Os)等が挙げられる。
下層50の成形量(コート量)は特に制限されないが、例えば、ハニカム基材10の体積1リットル当たり、40g〜200g程度であることが好ましい。下層50の成形量が少なすぎる場合は、触媒コート層としての機能が弱く担持されているPdの粒成長を招く虞がある。また、下層50の成形量が多すぎると、ハニカム基材10のセル内を排気ガスが通過する際の圧力損失の上昇を招く虞がある。
<上層>
ここで開示される触媒コート層30を構成する上層40は、担体と、該担体に担持されている少なくともRh及びPdを含む貴金属触媒とを備えている。Rhは、主として排ガス中のNOxを浄化する。
<上層の担体>
上層40のRhを担持する担体は、ジルコニア(ZrO)、アルミナ(Al)、これらの固溶体または複合酸化物など、従来この種の担体として用いられている物質を含有することができる。例えば、ZrOを含む担体であることが好ましい。ZrOに担持されたRhは、排ガス中のHCから水素改質反応によって水素を発生させる。この水素の還元力によって排ガス中のNOxがより良く浄化される。上層40のRhを担持する担体には、セリア(CeO)が含まれていないことが好ましい。
上層40のRhを担持する担体は、Yを含むZrO複合酸化物であることが好ましい。ZrOにYを含有させることにより、ZrOの耐熱性が向上し、高温耐久後の浄化性能の低下を抑制することができる。Yの含有量は、Yを含むZrO複合酸化物の全質量に対して概ね5質量%〜20質量%が適当であり、好ましくは6質量%〜10質量%である。Yの含有量を上記範囲にすると、Rhを含む上層40において高い触媒活性と高温耐久性を実現することができる。
上記ZrO複合酸化物は、副成分として他の化合物(典型的には無機酸化物)が混在するものであってもよい。そのような化合物としては、ランタン等の希土類元素、カルシウムなどのアルカリ土類元素、遷移金属元素などが用いられ得る。上記の中で、触媒機能を阻害せずに高温における比表面積を向上させる観点から、安定化剤としてはランタン等の希土類元素が好適に用いられる。例えば、焼結抑制等の目的で、La、Ndなどの希土類酸化物を混合してもよい。上記希土類酸化物は単独酸化物として担体粉末に物理混合してもよいし、複合酸化物の一成分とすることもできる。これら副成分の含有割合(質量比)が担体全体の2質量%〜30質量%(例えば5質量%〜15質量%)であることが好ましい。副成分の含有割合が2質量%より少なすぎると焼結抑制等の効果が低く、30質量%より多すぎると相対的に担体中のZrOの量が減るため触媒活性が低下する場合がある。
ここで開示される上層40のRhを担持する担体は、ZrO複合酸化物以外の担体材料が含まれていてもよい。かかる担体材料としては、多孔質であり、且つ、耐熱性に優れた金属酸化物が好ましく用いられる。例えば、Alの使用が好ましい。Alは、ZrO複合酸化物に比べて比表面積が小さく、かつ耐久性(特に耐熱性)が高い。そのため、AlにRhを担持させることにより、担体全体としての熱安定性が向上するとともに、担体全体に適量のRhを担持させることができる。AlとZrO複合酸化物とは、質量混合比(Al:ZrO複合酸化物)が80:20〜20:80の範囲内で混合することが好ましい。
<上層の貴金属触媒>
ここに開示される上層40に含有されるRhは、上述したZrO複合酸化物を含む担体に担持されている。Rhの担持量は特に制限されないが、上層のRhを担持する担体の全質量に対して0.01質量%〜1質量%の範囲(例えば0.05質量%〜0.5質量%)とすることが適当である。これより少ないと十分な触媒活性が得られず、これより多く担持させても効果が飽和するとともにコスト面で不利である。上層40の上記担体にRhを担持させる方法としては特に制限されない。例えば、ZrO複合酸化物からなる担体粉末を、ロジウム塩(例えば硝酸塩)やロジウム錯体(例えば、テトラアンミン錯体)を含有する水溶液に含浸させた後、乾燥させ、焼成することにより調製することができる。
ここで開示される触媒コート層30の上層40は、前述のように、RhのほかにPdを含有している。上層40のPdを担持する担体としては、前記下層50のPdを担持する担体と同じものを用いることができ、CeO−ZrO複合酸化物等のOSC材を含む担体である。このうち、特に好適なものについては、前記下層50のPdの担体と同等であるため、その詳細な説明は省略する。
上層40に含まれるRhとPdとの質量比(Rh/Pd)としては、概ね1.25〜5の範囲内が適当であり、好ましくは1.25〜4であり、さらに好ましくは1.25〜3であり、特に好ましくは1.25〜2である。かかる構成によると、上層40においてRhとPdとの比率が適切なバランスにあるので、RhとPdとの合金化を抑制しつつ、OSC能向上効果を確実に発揮することができる。Pdの割合が多すぎると、RhとPdとの合金化によりRhの十分なNOx浄化効果が得られないことがあり、一方、Pdの割合が多すぎると、上述したOSC能向上効果が不十分となることがある。
ここで開示される上層40は、Rh及びPdの性能を損なわない程度に他の貴金属触媒を含んでいてもよい。Rh及びPd以外の貴金属触媒として、例えば、白金(Pt)、ルテニウム(Ru)、イリジウム(Ir)、オスミウム(Os)等が挙げられる。
上層40の成形量(コート量)は特に制限されないが、例えば、ハニカム基材10の体積1リットル当たり、20g〜200g程度であることが好ましい。上層40の成形量が20gよりも少なすぎる場合は、触媒コート層としての機能が弱く担持されているRh及びPdの粒成長を招く虞がある。また、上層40の成形量が200gを超えると、ハニカム基材10のセル内を排気ガスが通過する際の圧力損失の上昇を招く虞がある。
<触媒コート層の形成方法>
触媒コート層30の下層50を形成するにあたっては、担体粉末を含むスラリーを基材(例えばハニカム基材)10の表面にウォッシュコートし、それにPdを担持させてもよいし、担体粉末に予めPdを担持した触媒粉末を含むスラリーを基材10の表面にウォッシュコートしてもよい。触媒コート層30の上層40を形成するにあたっては、Rhを予め担持した担体粉末と、Pdを予め担持した担体粉末とを混合したスラリーを調製し、このスラリーを下層50の表面にウォッシュコートするとよい。
触媒コート層30をウォッシュコートにより形成するプロセスにおいて、基材10の表面、あるいは下層50の表面にスラリーを適当に密着させるため、スラリーにはバインダーを含有させることが好ましい。バインダーとしては、例えばアルミナゾル、シリカゾル等の使用が好ましい。スラリーの粘度は、該スラリーが基材(例えばハニカム基材)のセル内へ容易に流入し得るように適宜調整するとよい。基材10の表面にウォッシュコートされたスラリーの乾燥条件は基材または担体の形状及び寸法により左右されるが、典型的には80℃〜120℃程度(例えば100℃〜110℃)で1時間〜10時間程度であり、焼成条件は約400℃〜1000℃程度(例えば500℃〜700℃)で約2時間〜4時間程度である。
なお、触媒コート層30の積層構造は、上層40として上述したようなRh及びPdを含む触媒層があり、下層50として上述したようなPdを含む触媒層があればよく、当該二つの層に加えて他の層(例えば基材に近接した別の層)を有する3層以上であってもよい。さらに、触媒コート層30は、上層40と下層50とが基材(例えばハニカム基材)10の全域にわたって上下二層構造になっている必要はなく、上層40の一部と下層50の一部とが部分的に積層されたものでもよい。例えば、図3に示すように、一方の層の端部が他方の層の端部からはみ出すように上層40と下層50とを積層してもよい。図3の例では、排ガスの流通方向において、上層40の下流側の端部40Aが下層50の下流側の端部50Aからはみ出すように積層されている。また、下層50の上流側の端部50Bが上層40の上流側の端部40Bからはみ出すように積層されている。上層40と下層50とは、基材10の全域の50%を上回る(例えば70%〜80%又はそれ以上)領域(範囲)において上下二層構造を形成していることが好ましい。
図3に示した例では、下層50のはみ出し部分52の表面であって上層40の上流側には、前段上層60が形成されている。この実施形態では、前段上層60は、担体と、該担体に担持されている少なくともPdを含む貴金属触媒とを備えている。このように、上層40の上流側にPdを担持する前段上層60を設けることにより、排ガス中の有害物質(特にHC)を効率よく浄化することができる。すなわち、前段上層60は、HCが拡散しやすい上側(表面側)であって、しかも高温になりやすい基材10の上流側に配置されているので、Pdと排ガスとの接触機会が多くなり、また高温下において高効率で排ガスを浄化することができる。
前段上層60のPdを担持する担体は、OSC材を含んでいることが好ましい。この実施形態では、前段上層60のPdを担持する担体は、CeO−ZrO複合酸化物を含んでいる。CeO−ZrO複合酸化物は、副成分として他の化合物(典型的には無機酸化物)が混在するものであってもよい。そのような化合物としては、ランタン等の希土類元素、カルシウムなどのアルカリ土類元素、遷移金属元素などが用いられ得る。例えば、焼結抑制等の目的で、La、Y、Pr11などの希土類酸化物を混合してもよい。また、前段上層60のPdを担持する担体は、Alを含んでいてもよい。さらに、前段上層60のPdを担持する担体には、バリウム(Ba)が添加されてもよい。
前段上層60は、基材10の上流側の端部10Bから下流側に向かって基材10の全長の10%〜40%(例えば15%〜25%)に当たる部分に形成されていることが好ましい。下層50は、基材10の上流側の端部10Bから下流側に向かって基材10の全長の70%〜100%(例えば85%〜95%)に当たる部分に形成されていることが好ましい。上層40は、基材10の下流側の端部10Aから上流側に向かって基材10の全長の70%〜100%(例えば75%〜85%)に当たる部分に形成されていることが好ましい。
以下、本発明に関するいくつかの実施例につき説明するが、本発明をかかる具体例に示
すものに限定することを意図したものではない。
本例の排ガス浄化用触媒は、図1に示すように、複数の規則的に配列されたセル12と、該セル12を構成するリブ壁14を有するハニカム基材10を備える。ハニカム基材10は、長さ105mm、容積0.875Lの円筒体であり、コージェライト製である。セル12を構成するリブ壁14の表面には、図3に示すように、触媒コート層30が形成されており、その表面の空間部にガス流路が形成されている。触媒コート層30は、下層50と、上層40と、前段上層60とから構成されている。
下層50は、Pdと、Alと、CeO−ZrO複合酸化物と、バリウムとを含んでいる。上層40は、Rhと、Pdと、Alと、ZrO複合酸化物とを含んでいる。前段上層60は、Pdと、Alと、CeO−ZrO複合酸化物と、バリウムとを含んでいる。
前段上層60は、図1及び図3に示すように、ハニカム基材の上流側の端部から下流側に向かってハニカム基材の全長の20%に当たる部分に形成されている。下層50は、ハニカム基材の上流側の端部から下流側に向かってハニカム基材の全長の90%に当たる部分に形成されている。上層40は、ハニカム基材の下流側の端部から上流側に向かってハニカム基材の全長の80%に当たる部分に形成されている。
次に、本例の排ガス浄化用触媒の形成方法について説明する。
<例1>
例1では、Rhを上層に配置し、Pdを下層のみに配置した排ガス浄化用触媒を作製した。
(1)下層の形成
0.82g/LのPdを含む硝酸系Pd薬液に、75g/Lのアルミナ(Al)粉末を懸濁させて分散液を調製した。そして、該分散液に、OSC材であるCeO−ZrO複合酸化物の粉末(ZrO:80wt%、Y:8wt%、Nd:12wt%)と、5wt%の酢酸バリウムと、5wt%のAlバインダーと、蒸留水とを混合して、スラリーを得た。このスラリーを120℃の温度条件下で30分乾燥させ、更に500℃の温度条件下で2時間焼成することによって下層用触媒材料を得た。
次に、上記下層用触媒材料を酸性水溶液に分散させ、下層形成用スラリー(A)を調製した。この下層形成用スラリー(A)を用いて、ハニカム基材の上流側の一端から全長の90%に当たる部分にウォッシュコートを施し、乾燥、焼成することによって基材の表面に下層50を形成した。
(2)上層の形成
0.2g/LのRhを含む硝酸系Rh薬液に、65g/LのZrO複合酸化物の粉末(ZrO:80wt%、Y:8wt%、Nd:12wt%)を懸濁させて分散液を調製した。そして、該分散液に、25g/LのAl粉末と、5wt%のAlバインダーと、蒸留水とを混合して、上層形成用スラリー(B)を調製した。この上層形成用スラリー(B)を用いて、ハニカム基材10の下流側の他端(下層を形成した方の端部とは逆の端部)から全長の80%に当たる部分にウォッシュコートを施し、乾燥、焼成することによって基材の表面に上層40を形成した。
(3)前段上層の形成
1.0g/LのPdを含む硝酸系Pd薬液に、50g/Lのアルミナ(Al)粉末を懸濁させて分散液を調製した。そして、該分散液に、OSC材であるCeO−ZrO複合酸化物の粉末(CeO:60wt%、ZrO:30wt%、La:3wt%、Pr11:7wt%)と、5wt%の酢酸バリウムと、5wt%のAlバインダーと、蒸留水とを混合して、スラリーを得た。このスラリーを120℃の温度条件下で30分乾燥させ、更に500℃の温度条件下で2時間焼成することによって前段上層用の触媒材料を得た。
次に、上記前段上層用の触媒材料を酸性水溶液に分散させ、前段上層形成用スラリー(C)を調製した。この前段上層形成用スラリー(C)を用いて、ハニカム基材の上流側の一端から全長の20%に当たる部分にウォッシュコートを施し、乾燥、焼成することによって基材の表面に前段上層60を形成した。
<例2〜例5>
例2〜例5では、Rhを上層に配置し、Pdを上層および下層の双方に配置した排ガス浄化用触媒を作製した。具体的には、前述した下層形成用スラリー(A)から所量の下層用触媒材料を差し引き、その分、同量の下層用触媒材料を上層形成用スラリー(B)に混合した。前段上層形成用スラリー(C)は例1と同様に調製した。そして、上記の3種のスラリー(A)、(B)、(C)を例1と同様に基材にウォッシュコートし、乾燥、焼成することによって排ガス浄化用触媒を作製した。ここでは例2〜例5の順に、上層全体に含まれるPd量がそれぞれ0.04g、0.08g、0.16g、0.24gとなるように調整した。また、触媒全体に含まれるPd量は、0.65gで一定とした。
<例6>
例6では、Rhを上層に配置し、Pdを上層および下層の双方に配置した排ガス浄化用触媒を作製した。ただし、本例では上層のPdを担体に担持させずに配置した。具体的には、前述した下層形成用スラリー(A)から所量のPd(担体なし)を差し引き、その分、同量のPd(担体なし)を上層形成用スラリー(B)に混合した。前段上層形成用スラリー(C)は例1と同様に調製した。そして、上記の3種のスラリー(A)、(B)、(C)を例1と同様に基材にウォッシュコートし、乾燥、焼成することによって排ガス浄化用触媒を作製した。ここでは上層全体に含まれるPd量が0.16gとなるように調整した。
例1〜例6に係る排ガス浄化用触媒の上層のPd量及びAl量、下層のPd量及びAl量、下層のPd量に対する上層のPd量の質量比を表1に示す。
Figure 2013136032
(4)耐久試験
上記得られた例1〜6の排ガス浄化用触媒について、耐久試験を行った。耐久試験は、各例の排ガス浄化用触媒をV型8気筒エンジンの排気系にそれぞれ設置し、V8エンジンを稼働させ、触媒床温度1000℃で50時間保持することにより行った。
(5)OSC評価試験
上記耐久試験後の各例1〜6の排ガス浄化用触媒の酸素吸放出能(OSC)を評価した。具体的には、上記耐久試験後の排ガス浄化用触媒をV型8気筒エンジンから取り外し、直列4気筒エンジンの排気系に取り付けた。また、各々のサンプルの下流にOセンサを取り付けた。そして、直列4気筒エンジンに供給する混合ガスの空燃比A/Fをリッチとリーンの間で所定時間ごとに周期的に切り替えながら、Oセンサの挙動遅れから各排ガス浄化用触媒の平均酸素吸放出量を算出した。結果を図4に示す。図4は、Pdの質量比(上層/下層)と酸素吸放出量との関係を示すグラフである。
図4に示すように、Pdを上層および下層の双方に配置した例2〜例5の排ガス浄化用触媒は、Pdを下層のみに配置した例1の排ガス浄化用触媒に比べて酸素吸放出量が明らかに増大していた。また、例2〜例5の比較から、上層と下層とのPd質量比(上層/下層)が増大するに従い酸素吸放出量が増大傾向になることが分かった。ここで供試した排ガス浄化用触媒の場合、Pd質量比(上層/下層)を0.06以上にすることによって、0.5g以上という高い酸素吸放出量を実現できた。特にPd質量比(上層/下層)を0.3以上にすることによって、0.53g以上という極めて高い酸素吸放出量を実現できた。触媒のOSC能向上の観点からは、Pd質量比(上層/下層)は概ね0.06以上が適当であり、好ましくは0.15以上であり、特に好ましくは0.2以上である。なお、Pdを担体に担持させずに上層に配置した例6の排ガス浄化用触媒では、例2〜例5に比べて十分なOSC能向上効果が得られなかった。Pdは担体に担持させた状態で上層に配置することが好ましい。
(6)NOx浄化試験
上記耐久試験後の例1〜例6の排ガス浄化用触媒のNOx浄化能を評価した。具体的には、耐久試験後の排ガス浄化用触媒を直列4気筒エンジンの排気系に取り付け、触媒に対し入りガス温度550℃(触媒床温600℃〜630℃)で排ガスを流通させ、A/F=15.1のリーン制御を行った後、A/F=14.1のリッチ制御に切り替えた。そして、A/F=14.1のリッチ制御に切り替えてから2分後のNOx排出量を測定した。結果を図5に示す。図5は、Pd質量比(上層/下層)とNOx排出量との関係を示すグラフである。
図5に示すように、Pd質量比(上層/下層)を0.58とした例5の排ガス浄化用触媒は、他のサンプルに比べてNOx排出量が増大した。例5の排ガス浄化用触媒では、上層においてPdとRhとが合金化したため、RhのNOx浄化能が低下したものと推測される。Rhの高いNOx浄化能を維持する観点からは、Pd質量比(上層/下層)は概ね0.4以下が適当であり、好ましくは0.32以下であり、特に好ましくは0.25以下である。NOx浄化能およびOSC能の双方を満足させる観点からは、Pd質量比(上層/下層)は概ね0.01以上0.4以下が適当であり、好ましくは0.06以上0.32以下であり、より好ましくは0.15以上0.35以下であり、特に好ましくは0.2以上0.3以下である。
以上、本発明の具体例を詳細に説明したが、これらは例示にすぎず、請求の範囲を限定するものではない。請求の範囲に記載の技術には、以上に例示した具体例を様々に変形、変更したものが含まれる。
10 基材
12 セル
14 リブ壁
30 触媒コート層
40 上層
50 下層
60 前段上層
100 排ガス浄化用触媒

Claims (5)

  1. 基材と、該基材の表面に形成された触媒コート層と、を備える排ガス浄化用触媒であって、
    前記触媒コート層は、前記基材表面に近い方を下層とし相対的に遠い方を上層とする上下層を有する積層構造に形成されており、
    前記触媒コート層は、貴金属触媒としてRhとPdとを備えており、
    前記触媒コート層は、担体として酸素吸蔵能を有するOSC材を備えており、
    前記Rhは、前記触媒コート層の上層に配置されており、
    前記Pdは、前記触媒コート層の上層と下層の双方に配置されており、
    前記上層および下層において、前記Pdの少なくとも一部は前記OSC材に担持されており、
    前記下層に配置されたPdに対する前記上層に配置されたPdの質量比が、0.4以下である、排ガス浄化用触媒。
  2. 前記上層および下層において、前記Pdの少なくとも一部を担持しているOSC材は、CeOまたはCeO−ZrO複合酸化物からなる、請求項1に記載の排ガス浄化用触媒。
  3. 前記上層において、前記Rhを担持している担体は、Yを含むZrO複合酸化物からなる、請求項1または2に記載の排ガス浄化用触媒。
  4. 前記上層に配置されたPdに対するRhの質量比が、1.25〜5である、請求項1〜3の何れか一つに記載の排ガス浄化用触媒。
  5. 前記下層に配置されたPdに対する前記上層に配置されたPdの質量比が、0.06〜0.32である、請求項1〜4の何れか一つに記載の排ガス浄化用触媒。









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