JP2013115401A5 - - Google Patents
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ところで上記(数2)で示したように、熱安定性指標KV/kBTは実効的な異方性磁界Hkを使って表現されるが、一般に、同一の記憶層を用いる場合、実効的な異方性磁界Hkと保磁力Hcは対応した関係にあるため、保磁力Hcの増大は実効的な異方性磁界Hkの増大も意味している。
通常、記憶層の保磁力:Hc_MTJは環境温度の上昇とともに減少してしまう。
このため、環境温度が上昇すると熱安定性指標KV/kBTは室温で得られていた値より、小さくなってしまう。
従って、環境温度が上昇すると、ST−MRAMを安定して動作させることが難しくなる。
通常、記憶層の保磁力:Hc_MTJは環境温度の上昇とともに減少してしまう。
このため、環境温度が上昇すると熱安定性指標KV/kBTは室温で得られていた値より、小さくなってしまう。
従って、環境温度が上昇すると、ST−MRAMを安定して動作させることが難しくなる。
また、界面磁気異方性を起源とする垂直磁気異方性は、酸化物に含まれる酸素とCoあるいはFeとが界面において結合することで生じると言われているが、規則合金が示す結晶磁気異方性や希土類系が示す一イオン異方性等と比較し、異方性エネルギー自体が小さい上に、磁性層厚が厚くなるに従って低下するという課題を有する。
この課題を解決するために、発明者は、酸化物を磁性金属の両側に配置し、酸化物と磁性金属の界面の数を増やすことで、記憶層17の垂直磁気異方性を高められることを見出した。
例えば、基板/下地層14/磁化固定層15/中間層16(酸化物によるトンネルバリア層)/記憶層17/少なくとも界面が酸化物のキャップ層という構造を採用することで、記憶層17の異方性を高めることができる。
また、酸化物層、Co−Fe−B磁性層、非磁性層(非磁性添加材料)が積層された積層構造部をすくなくとも一つ含む層構造を採用することも、記憶層17の異方性を高めることができる。
この課題を解決するために、発明者は、酸化物を磁性金属の両側に配置し、酸化物と磁性金属の界面の数を増やすことで、記憶層17の垂直磁気異方性を高められることを見出した。
例えば、基板/下地層14/磁化固定層15/中間層16(酸化物によるトンネルバリア層)/記憶層17/少なくとも界面が酸化物のキャップ層という構造を採用することで、記憶層17の異方性を高めることができる。
また、酸化物層、Co−Fe−B磁性層、非磁性層(非磁性添加材料)が積層された積層構造部をすくなくとも一つ含む層構造を採用することも、記憶層17の異方性を高めることができる。
また、記憶層17の磁化の向きを、小さい電流で容易に反転できるように、記憶素子3を小さくすることが望ましい。
従って、好ましくは、記憶素子3の面積を0.01μm 2 以下とする。
従って、好ましくは、記憶素子3の面積を0.01μm 2 以下とする。
記憶層17は、磁化M17の方向が層面垂直方向に自由に変化する磁気モーメントを有する強磁性体から構成されている。磁化固定層15は、磁化M15が膜面垂直方向に固定された磁気モーメントを有する強磁性体から構成されている。
情報の記憶は一軸異方性を有する記憶層17の磁化の向きにより行う。書込みは、膜面垂直方向に電流を印加し、スピントルク磁化反転を起こすことにより行う。このように、スピン注入により磁化の向きが反転する記憶層17に対して、下層に磁化固定層15が設けられ、記憶層17の記憶情報(磁化方向)の基準とされる。
本実施の形態では、記憶層17、磁化固定層15は、磁歪定数が正であるCo−Fe−Bをベースとする垂直磁化膜である。
また記憶層17は、Co−Fe−B磁性層に加え、非磁性層が含まれていてもよい。例えばTa層である。この非磁性層はV、Nb、Cr、W、Mo、Ti、Zr、Hfのいずれかでもよい。
情報の記憶は一軸異方性を有する記憶層17の磁化の向きにより行う。書込みは、膜面垂直方向に電流を印加し、スピントルク磁化反転を起こすことにより行う。このように、スピン注入により磁化の向きが反転する記憶層17に対して、下層に磁化固定層15が設けられ、記憶層17の記憶情報(磁化方向)の基準とされる。
本実施の形態では、記憶層17、磁化固定層15は、磁歪定数が正であるCo−Fe−Bをベースとする垂直磁化膜である。
また記憶層17は、Co−Fe−B磁性層に加え、非磁性層が含まれていてもよい。例えばTa層である。この非磁性層はV、Nb、Cr、W、Mo、Ti、Zr、Hfのいずれかでもよい。
図4Bは、キャップ層18が、記憶層17側からみて、酸化物層18c、負熱膨張金属層18dから成る例を示している。
酸化物層18cは、例えばMgOなどの層である。
負熱膨張金属層18dは、例えばMn3(Zn−Sn)N、Mn3(Cu−Ge)N、Mn3(Cu−Sn)N等である。
酸化物層18cは、例えばMgOなどの層である。
負熱膨張金属層18dは、例えばMn3(Zn−Sn)N、Mn3(Cu−Ge)N、Mn3(Cu−Sn)N等である。
各試料の熱安定性指標KV/kBTと測定環境温度の関係を図8に示す。
図8より、比較例の試料1と、実施の形態の試料2,試料3では、熱安定性指標KV/kBTの温度上昇に対する減少率に違いが生じていることが分かる。
一般に、記憶層17の磁性の保磁力(異方性磁界)Msは、温度の上昇とともに減少するため、熱安定性指標KV/kBTも温度の上昇と共に減少する。
ここで、実施例の形態の試料2,試料3では、正の磁歪定数を持った記憶層17の近傍に負熱膨張材料が存在し、環境温度の上昇とともに記憶層17に磁化容易軸に沿って引張応力を付与することにより、KV/kBTの温度依存性を緩和する。
図8より、比較例の試料1と、実施の形態の試料2,試料3では、熱安定性指標KV/kBTの温度上昇に対する減少率に違いが生じていることが分かる。
一般に、記憶層17の磁性の保磁力(異方性磁界)Msは、温度の上昇とともに減少するため、熱安定性指標KV/kBTも温度の上昇と共に減少する。
ここで、実施例の形態の試料2,試料3では、正の磁歪定数を持った記憶層17の近傍に負熱膨張材料が存在し、環境温度の上昇とともに記憶層17に磁化容易軸に沿って引張応力を付与することにより、KV/kBTの温度依存性を緩和する。
以上のような磁気抵抗効果型磁気ヘッドの上に積層形成されたインダクティブ型磁気ヘッドは、第2の磁気シールド127及び上層コア132によって構成される磁気コアと、当該磁気コアを巻回するように形成された薄膜コイル133とを備えている。
上層コア132は、第2の磁気シールド127と共に閉磁路を形成して、このインダクティブ型磁気ヘッドの磁気コアとなるものであり、Ni−Fe等のような軟磁性材からなる。ここで、第2の磁気シールド127及び上層コア132は、それらの前端部が磁気記録媒体対向面に露呈し、且つ、それらの後端部において第2の磁気シールド127及び上層コア132が互いに接するように形成されている。ここで、第2の磁気シールド127及び上層コア132の前端部は、磁気記録媒体対向面において、第2の磁気シールド127及び上層コア132が所定の間隙gをもって離間するように形成されている。
すなわち、この複合型磁気ヘッド100において、第2の磁気シールド127は、磁気抵抗効果素子101の上層側を磁気的にシールドするだけでなく、インダクティブ型磁気ヘッドの磁気コアも兼ねており、第2の磁気シールド127と上層コア132によってインダクティブ型磁気ヘッドの磁気コアが構成されている。そして間隙gが、インダクティブ型磁気ヘッドの記録用磁気ギャップとなる。
上層コア132は、第2の磁気シールド127と共に閉磁路を形成して、このインダクティブ型磁気ヘッドの磁気コアとなるものであり、Ni−Fe等のような軟磁性材からなる。ここで、第2の磁気シールド127及び上層コア132は、それらの前端部が磁気記録媒体対向面に露呈し、且つ、それらの後端部において第2の磁気シールド127及び上層コア132が互いに接するように形成されている。ここで、第2の磁気シールド127及び上層コア132の前端部は、磁気記録媒体対向面において、第2の磁気シールド127及び上層コア132が所定の間隙gをもって離間するように形成されている。
すなわち、この複合型磁気ヘッド100において、第2の磁気シールド127は、磁気抵抗効果素子101の上層側を磁気的にシールドするだけでなく、インダクティブ型磁気ヘッドの磁気コアも兼ねており、第2の磁気シールド127と上層コア132によってインダクティブ型磁気ヘッドの磁気コアが構成されている。そして間隙gが、インダクティブ型磁気ヘッドの記録用磁気ギャップとなる。
また、第2の磁気シールド127上には、絶縁層123に埋設された薄膜コイル133が形成されている。ここで、薄膜コイル133は、第2の磁気シールド127及び上層コア132からなる磁気コアを巻回するように形成されている。図示していないが、この薄膜コイル133の両端部は、外部に露呈するようになされ、薄膜コイル133の両端に形成された端子が、このインダクティブ型磁気ヘッドの外部接続用端子となる。すなわち、磁気記録媒体への磁気信号の記録時には、これらの外部接続用端子から薄膜コイル133に記録電流が供給されることとなる。
以上のような複合型磁気ヘッド100は、再生用ヘッドとして磁気抵抗効果型磁気ヘッドを搭載しているが、当該磁気抵抗効果型磁気ヘッドは、磁気記録媒体からの磁気信号を検出する感磁素子として、本開示の技術を適用した磁気抵抗効果素子101を備えている。そして、本開示の技術を適用した磁気抵抗効果素子101は、上述したように非常に優れた特性を示すので、この磁気抵抗効果型磁気ヘッドは、磁気記録の更なる高記録密度化に対応することができる。
Claims (13)
- 膜面に垂直な磁化を有し、情報に対応して磁化の向きが変化される記憶層と、
上記記憶層に記憶された情報の基準となる、膜面に垂直な磁化を有する磁化固定層と、
上記記憶層と上記磁化固定層の間に設けられる非磁性体による中間層と、
を有する層構造を備え、
上記層構造の積層方向に電流を流すことで上記記憶層の磁化の向きが変化して、上記記憶層に対して情報の記録が行われるとともに、
上記記憶層は、正の磁歪定数を持つ磁性層を有し、
上記層構造に加えてさらに、負熱膨張材料層が設けられる記憶素子。 - 上記記憶層に接する上記中間層と、該中間層とは反対側で上記記憶層が接する他方の層は、少なくとも上記記憶層と接する界面が酸化物層とされている請求項1に記載の記憶素子。
- 上記他方の層の上記酸化物層が、上記負熱膨張材料層である請求項2に記載の記憶素子。
- 上記他方の層の、上記記憶層と接する界面以外の層として、上記負熱膨張材料層が設けられている請求項2又は請求項3に記載の記憶素子。
- さらに、上記記憶層における上記磁性層のヤング率よりも高いヤング率の材料による高ヤング率層が設けられる請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の記憶素子。
- 上記負熱膨張材料層は、導電材料であるMn3(x)Nを有して形成されている請求項1乃至請求項5のいずれかに記載の記憶素子。
- 上記xは、Zn−Sn、Cu−Ge、又はCu−Snのいずれかである請求項6に記載の記憶素子。
- 上記負熱膨張材料層は、ZrW2O8、BiNiO3、Li2O−Al2O3−nSiO2のいずれか1つを少なくとも有して形成されている請求項1乃至請求項7のいずれかに記載の記憶素子。
- 上記正の磁歪定数を持つ磁性層は、Co−Fe−B磁性層である請求項1乃至請求項8のいずれかに記載の記憶素子。
- 上記記憶層は、Co−Fe−B磁性層と、少なくとも1つの非磁性層を有し、
上記記憶層の上記Co−Fe−B磁性層及び上記非磁性層を含んで、酸化物層、上記Co−Fe−B磁性層、上記非磁性層が積層された積層構造部が形成されている請求項1乃至請求項9のいずれかに記載の記憶素子。 - 上記中間層の酸化物層と、上記記憶層の上記Co−Fe−B磁性層と、上記記憶層の上記非磁性層により、上記積層構造部が形成されている請求項10に記載の記憶素子。
- 上記他方の層の酸化物層と、上記記憶層の上記Co−Fe−B磁性層と、上記記憶層の上記非磁性層により、上記積層構造部が形成されている請求項10又は請求項11に記載の記憶素子。
- 情報を磁性体の磁化状態により保持する記憶素子と、
互いに交差する2種類の配線とを備え、
上記記憶素子は、
膜面に垂直な磁化を有し、情報に対応して磁化の向きが変化される記憶層と、
上記記憶層に記憶された情報の基準となる、膜面に垂直な磁化を有する磁化固定層と、
上記記憶層と上記磁化固定層の間に設けられる非磁性体による中間層と、
を有する層構造を備え、
上記層構造の積層方向に電流を流すことで上記記憶層の磁化の向きが変化して、上記記憶層に対して情報の記録が行われるとともに、
上記記憶層は、正の磁歪定数を持つ磁性層を有し、
上記層構造に加えてさらに、負熱膨張材料層が設けられる構成とされ、
上記2種類の配線の間に上記記憶素子が配置され、
上記2種類の配線を通じて、上記記憶素子に上記積層方向の電流が流れる記憶装置。
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