JP2013102060A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014116518A (ja) * 2012-12-11 2014-06-26 Canon Inc 描画装置及び物品の製造方法
JP2016009738A (ja) * 2014-06-24 2016-01-18 株式会社東芝 半導体記憶装置の製造方法
JP2016207925A (ja) * 2015-04-27 2016-12-08 株式会社アドバンテスト 素子、製造方法、および露光装置
JP6883478B2 (ja) 2017-06-22 2021-06-09 東芝デバイス＆ストレージ株式会社 半導体装置
EP3893264A1 (en) * 2020-04-06 2021-10-13 ASML Netherlands B.V. Charged particle assessment tool, inspection method

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH097538A (ja) 1995-06-26 1997-01-10 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 荷電ビーム描画装置
US6327087B1 (en) 1998-12-09 2001-12-04 Canon Kabushiki Kaisha Optical-thin-film material, process for its production, and optical device making use of the optical-thin-film material
JP2001283756A (ja) * 2000-03-31 2001-10-12 Canon Inc 電子光学系アレイ、これを用いた荷電粒子線露光装置ならびにデバイス製造方法
WO2003065763A1 (en) * 2002-01-30 2003-08-07 The Johns Hopkins University Gating grid and method of making same
JP3862623B2 (ja) 2002-07-05 2006-12-27 キヤノン株式会社 光偏向器及びその製造方法
JP4387755B2 (ja) 2003-10-14 2009-12-24 キヤノン株式会社 偏向器アレイおよびその製造方法、ならびに該偏向器アレイを用いた荷電粒子線露光装置
EP1530229B1 (en) * 2003-11-04 2012-04-04 ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH Beam optical component for charged particle beams
JP2005173411A (ja) 2003-12-12 2005-06-30 Canon Inc 光偏向器
US7045794B1 (en) * 2004-06-18 2006-05-16 Novelx, Inc. Stacked lens structure and method of use thereof for preventing electrical breakdown
JP4574396B2 (ja) 2005-03-02 2010-11-04 キヤノン株式会社 光偏向器
JP2007316443A (ja) 2006-05-26 2007-12-06 Canon Inc 光偏向器、及びそれを用いた光学機器
JP4881073B2 (ja) 2006-05-30 2012-02-22 キヤノン株式会社 光偏向器、及びそれを用いた光学機器
JP5170983B2 (ja) 2006-05-30 2013-03-27 キヤノン株式会社 光偏向器、及びそれを用いた光学機器
JP2007322466A (ja) 2006-05-30 2007-12-13 Canon Inc 光偏向器、及びそれを用いた光学機器
JP2008191537A (ja) 2007-02-07 2008-08-21 Canon Inc 振動素子、及び振動素子を備える光偏向器
JP5491704B2 (ja) * 2007-05-14 2014-05-14 イーエムエス ナノファブリカツィオン アーゲー 対向電極アレイ板を有するパターン定義装置
JP2009025617A (ja) 2007-07-20 2009-02-05 Canon Inc 揺動体装置、光偏向器およびそれを用いた光学機器
JP2009122383A (ja) 2007-11-14 2009-06-04 Canon Inc 揺動体装置の製造方法、該製造方法により製造された揺動体装置によって構成される光偏向器及び光学機器
JP2009128463A (ja) 2007-11-21 2009-06-11 Canon Inc 揺動体装置の製造方法、該製造方法により製造された揺動体装置によって構成される光偏向器及び光学機器
NL1036912C2 (en) 2009-04-29 2010-11-01 Mapper Lithography Ip Bv Charged particle optical system comprising an electrostatic deflector.
TWI497557B (zh) * 2009-04-29 2015-08-21 Mapper Lithography Ip Bv 包含靜電偏轉器的帶電粒子光學系統
US8362441B2 (en) * 2009-10-09 2013-01-29 Mapper Lithography Ip B.V. Enhanced integrity projection lens assembly
JP5335654B2 (ja) 2009-12-04 2013-11-06 キヤノン株式会社 モード変換素子

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