JP2017152276A - 荷電粒子線装置、及び荷電粒子線装置用制振ダンパ - Google Patents
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Abstract
Description
図5(B)の電子光学系鏡筒501の変位をX1、図5(C)の結像系鏡筒502の変位をX2として、X1およびX2が、それぞれ図5(D)および図5(E)に示されるような正弦波で振動しているとすると、X1およびX2は、X1=A×sin(2π×fa×t)、X2=B×sin(2π×fb×t)のように表わされる。ただし、Aは電子光学系鏡筒502の振幅、Bは結像系鏡筒501の振幅、faは電子光学系鏡筒502の固有振動数、fbは結像系鏡筒501の固有振動数を表す。ここから、二つの鏡筒間の相対変位X3は、X3=X1−X2=A×sin(2π×fa×t)−B×sin(2π×fb×t)=A(sin(2π×fa×t)-sin(2π×fb×t))−(B−A)×sin(2π×fb×t)=2Acos(π(fa+fb)t)・sin(π(fa−fb)t)−(B−A)sin(2π×fb×t)のように表わされる。
102 CCDカメラ
103 電子光学系鏡筒
104 イオンポンプ
105 ステージ
106 ウェハ
107 ガイド
108 ホルダ
109 コントローラ
110 リニアスケール
111 エンコーダヘッド
112 試料室
113 除振マウント
114 天板
201 イオンポンプ支持構造
202 電子光学系支持構造
203 結像系支持構造
221 支持構造
301 結像系鏡筒
302 電子光学系鏡筒
303 粘弾性シート
304 固定部A
305 固定部B
306 支持板
307 方向
308 方向
309 拡大範囲
310 スペーサ
311 接続部材
400 範囲A
401 ビーム照射点
402 観察点
403 対物レンズ先端
404 像揺れ量
501 結像系鏡筒
502 電子光学系鏡筒
503 支持構造
504 電子光学系鏡筒の中心軸
505 結像系鏡筒の中心軸
506 電子光学系鏡筒の振動波形
507 結像系鏡筒の振動波形
601 制振構造がない場合の電子光学系の固有値
602 制振構造がない場合の結像系の固有値
603 制振構造を付加した場合の電子光学系の固有値
604 制振構造を付加した場合の結像系の固有値
701 鏡筒A
702 鏡筒B
703 粘弾性シート
704 ダンパ模式図
710 断熱材
1001 鏡筒A
1002 鏡筒B
1003 粘弾性シート
1004 断熱材
1005 支持板
1101 鏡筒A
1102 鏡筒B
1103 鏡筒C
1104 制振構造a
1105 制振構造b
1106 制振構造c
1301 接続部材
Claims (8)
- 荷電粒子が通過する第1の荷電粒子通過軌道を包囲する第1の荷電粒子線装置用カラムを備えた荷電粒子線装置において、
前記第1の荷電粒子通過軌道とは異なる位置に位置する第2の荷電粒子通過軌道を包囲する第2の荷電粒子線装置用カラムと、一端が前記第1の荷電粒子線装置用カラムに取り付けられ、他端が前記第2の荷電粒子線装置用カラムに取り付けられる接続部材を備え、当該接続部材は、複数の板状部材と、複数の板状部材間に介在する粘弾性シートを含むことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1において、
前記第1の荷電粒子線装置用カラムと、前記第2の荷電粒子線装置用カラムは、相対的に傾斜していることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1において、
前記粘弾性シートは、そのシート面の法線と、前記カラム外面の法線が、交差或いはねじれの関係となるように配置されることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1において、
前記粘弾性シートのシート面の法線が、前記第1の荷電粒子軌道と平行、前記第2の荷電粒子軌道と平行、或いは前記第1の荷電粒子軌道と第2の荷電粒子軌道のなす角に含まれるように、前記粘弾性シートが配置されることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1において、
前記接続部材は、前記第1の荷電粒子線装置用カラムに固定される第1の板状部材と、前記第2の荷電粒子線装置用カラムに固定される第2の板状部材と、前記第1の板状部材と前記第2の板状部材との間で、当該第1の板状部材と第2の板状部材に接着される前記粘弾性シートを含むことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項5において、
接続部材は、複数の粘弾性シートを含み、当該粘弾性シートを挟むように、前記第1の板状部材と前記第2の板状部材が交互に配置されることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1において、
前記第1の荷電粒子線装置用カラムと前記接続部材、或いは前記第2の荷電粒子線装置用カラムと前記接続部材の少なくとも一方に、前記接続部材に対して相対的に熱伝導率の低い部材を配置したことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 第1の荷電粒子線装置用カラムと第2の荷電粒子線装置用カラムとの間を接続する荷電粒子線装置用制振ダンパであって、一端が前記第1の荷電粒子線装置用カラムに取り付けられ、他端が前記第2の荷電粒子線装置用カラムに取り付けられる接続部材を備え、当該接続部材は、複数の板状部材と、複数の板状部材間に介在する粘弾性シートを含むことを特徴とする荷電粒子線装置用制振動ダンパ。
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KR20200001530A (ko) * | 2018-06-27 | 2020-01-06 | 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지 | 하전 입자 빔 화상 취득 장치 |
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1999027570A1 (fr) * | 1997-11-25 | 1999-06-03 | Nikon Corporation | Dispositif d'exposition par projection |
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WO2004077082A1 (ja) * | 1992-01-20 | 2004-09-10 | Tsuguo Kurata | Eb型icテスタ |
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1999027570A1 (fr) * | 1997-11-25 | 1999-06-03 | Nikon Corporation | Dispositif d'exposition par projection |
WO2011043391A1 (ja) * | 2009-10-07 | 2011-04-14 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
US20120193550A1 (en) * | 2009-10-07 | 2012-08-02 | Hitachi High-Technologies Corporation | Charged particle radiation device |
JP2016018621A (ja) * | 2014-07-07 | 2016-02-01 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019212465A (ja) * | 2018-06-04 | 2019-12-12 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 真空装置 |
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KR20200001530A (ko) * | 2018-06-27 | 2020-01-06 | 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지 | 하전 입자 빔 화상 취득 장치 |
JP2020004586A (ja) * | 2018-06-27 | 2020-01-09 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム画像取得装置 |
KR102295312B1 (ko) * | 2018-06-27 | 2021-08-31 | 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지 | 하전 입자 빔 화상 취득 장치 |
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