JP5524229B2 - 荷電粒子線装置 - Google Patents
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Description
本実施形態では、制振機能を有する支持部材を荷電粒子光学鏡筒に対して傾斜して配置し、当該支持部材の一端を荷電粒子光学鏡筒に固定し、もう一端を試料室の上面に対して固定した荷電粒子線装置の実施形態について説明する。
図7は、実施の形態2に係る荷電粒子線装置100の荷電粒子光学鏡筒1の周辺構成図である。
本実施形態では、矩形状の支持部材を荷電粒子光学鏡筒の側方に配置した構成の荷電粒子線装置について説明する。
図9は、制振部材19の構造を示す分解図である。ここでは実施の形態1〜2で説明した制振部材19の構造を示すが、実施の形態3で説明した制振部材19についても、取り付け部分の部材個数を除いて同様の構成を有することを付言しておく。
以上の実施の形態1〜4では、2枚の粘弾性体シート16A、16Bを3枚の金属支持板17A、17B、18で挟む構成を説明したが、これらの枚数は必ずしも上記に限られるものではない。荷電粒子光学鏡筒1の傾きや振動に対して粘弾性体シート16にせん断歪みが発生するように構成されていれば、粘弾性体シート16と金属支持板の枚数、挟み方などは任意でよい。
本実施形態は、実施の形態1〜5における制振部材19と比較するため、制振部材19の構成を変更した参考実施形態である。
実施の形態6では、制振部材19の制振性能を定義する数式を導出し、具体的なパラメータを当てはめて制振性能の数値を求める。
θ:鏡筒の傾き角(微小角度では、sinθ≒θとする)
I:鏡筒の慣性モーメント
C:鏡筒の取付部の傾き方向の減衰係数
K:鏡筒の取付部の傾き方向のバネ定数
上記(数式1)は下記(数式2)のように変形することができる。
1実施形態として、下記のパラメータを(数式14)に代入すると、振動吸収体の吸収エネルギーは、荷電粒子光学鏡筒1の振動エネルギーの12倍となり、振動振幅の低減や減衰時間の短縮において十分な効果が期待できることがわかる。
(2)貯蔵弾性率 G’= 450×103(Pa)
(3)損失係数 η=0.7
(4)粘弾性体シートの面積 S=0.01(m 2 )
(5)粘弾性体シートの枚数 n=2(枚)×2(セット)
(6)粘弾性体シートの厚さ T=0.0005(m)
(7)荷電粒子線光学鏡筒の半径 r=0.1(m)
(8)荷電粒子線光学鏡筒の高さ 2h=0.6(m)
(9)固有角振動数 ωn=320(rad/s)
本実施形態では、実施の形態1で説明した荷電粒子線装置にイオンポンプを取り付けた荷電粒子線装置の実施形態について説明する。
Claims (6)
- 試料を内部に配置する試料室と、
荷電粒子線を前記試料に照射する荷電粒子光学系を含む荷電粒子光学鏡筒と、
一端が前記試料室に固定され、もう一端が前記荷電粒子光学鏡筒に固定された制振部材とを備え、
前記制振部材は、粘弾性シートと、該粘弾性シートを保持する複数の支持板とを備え、
更に、前記制振部材は、前記粘弾性シートのシート面が前記荷電粒子光学鏡筒の中心軸に対して直交しないようにかつ前記制振部材の取り付け位置における荷電粒子光学鏡筒の円筒面の法線と粘弾性シートのシート面の法線とが少なくとも平行でないように配置されており、かつ、
前記制振部材は前記粘弾性シートのシート面が前記試料室の上面に対して垂直になるように配置されることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 試料を内部に配置する試料室と、
荷電粒子線を前記試料に照射する荷電粒子光学系を含む荷電粒子光学鏡筒と、
一端が前記試料室に固定され、もう一端が前記荷電粒子光学鏡筒に固定された制振部材とを備え、
前記制振部材は、粘弾性シートと、該粘弾性シートを保持する複数の支持板とを備え、
更に、前記粘弾性シートのシート面が、前記荷電粒子光学鏡筒の中心軸に対して直交しないようにかつ荷電粒子光学鏡筒の円筒面に対して対向しないように配置されており、かつ、
前記制振部材は前記粘弾性シートのシート面が前記試料室の上面に対して垂直になるように配置されることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1または2に記載の荷電粒子線装置において、
前記制振部材は、前記荷電粒子光学鏡筒の長手方向に対して斜傾する向きに配置されていることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1または2に記載の荷電粒子線装置において、
前記制振部材は、矩形状であり、
更に前記制振部材を、
当該矩形の第1の辺が前記荷電粒子光学鏡筒に固定され、当該矩形の第2の辺が前記試料室に固定されるよう配置したことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1または2に記載の荷電粒子線装置において、
前記制振部材は、
前記荷電粒子光学鏡筒側に固定される第1の支持板と、
前記試料室側に固定される第2の支持板と、
前記第1の支持板および第2の支持板に接着された粘弾性シートにより構成されることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項5に記載の荷電粒子線装置において、
前記制振部材は、前記第1の支持板と前記第2の支持板との間隔を一定に保つスペーサを備えていることを特徴とする荷電粒子線装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011535432A JP5524229B2 (ja) | 2009-10-07 | 2010-10-06 | 荷電粒子線装置 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009233747 | 2009-10-07 | ||
JP2009233747 | 2009-10-07 | ||
JP2011535432A JP5524229B2 (ja) | 2009-10-07 | 2010-10-06 | 荷電粒子線装置 |
PCT/JP2010/067569 WO2011043391A1 (ja) | 2009-10-07 | 2010-10-06 | 荷電粒子線装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2011043391A1 JPWO2011043391A1 (ja) | 2013-03-04 |
JP5524229B2 true JP5524229B2 (ja) | 2014-06-18 |
Family
ID=43856841
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011535432A Active JP5524229B2 (ja) | 2009-10-07 | 2010-10-06 | 荷電粒子線装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8729467B2 (ja) |
JP (1) | JP5524229B2 (ja) |
WO (1) | WO2011043391A1 (ja) |
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-
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- 2010-10-06 WO PCT/JP2010/067569 patent/WO2011043391A1/ja active Application Filing
- 2010-10-06 US US13/500,592 patent/US8729467B2/en active Active
- 2010-10-06 JP JP2011535432A patent/JP5524229B2/ja active Active
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S531 | Written request for registration of change of domicile |
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