JP2013082612A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013082612A5 JP2013082612A5 JP2012218563A JP2012218563A JP2013082612A5 JP 2013082612 A5 JP2013082612 A5 JP 2013082612A5 JP 2012218563 A JP2012218563 A JP 2012218563A JP 2012218563 A JP2012218563 A JP 2012218563A JP 2013082612 A5 JP2013082612 A5 JP 2013082612A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass substrate
- mask blank
- thin film
- polishing
- producing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012218563A JP6002528B2 (ja) | 2011-09-28 | 2012-09-28 | マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及びマスクの製造方法、並びにインプリントモールドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011212208 | 2011-09-28 | ||
| JP2011212208 | 2011-09-28 | ||
| JP2012218563A JP6002528B2 (ja) | 2011-09-28 | 2012-09-28 | マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及びマスクの製造方法、並びにインプリントモールドの製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2013082612A JP2013082612A (ja) | 2013-05-09 |
| JP2013082612A5 true JP2013082612A5 (enExample) | 2015-10-15 |
| JP6002528B2 JP6002528B2 (ja) | 2016-10-05 |
Family
ID=48528217
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2012218563A Active JP6002528B2 (ja) | 2011-09-28 | 2012-09-28 | マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及びマスクの製造方法、並びにインプリントモールドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6002528B2 (enExample) |
Families Citing this family (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5989394B2 (ja) * | 2012-05-07 | 2016-09-07 | Hoya株式会社 | マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法 |
| JP5989393B2 (ja) * | 2012-05-07 | 2016-09-07 | Hoya株式会社 | マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法 |
| JP6328502B2 (ja) * | 2013-07-04 | 2018-05-23 | Hoya株式会社 | 基板の製造方法、マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、及び基板製造装置 |
| JP6534506B2 (ja) * | 2013-07-05 | 2019-06-26 | Hoya株式会社 | 基板の製造方法、多層反射膜付き基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、及び基板加工装置 |
| JP6055732B2 (ja) * | 2013-07-26 | 2016-12-27 | Hoya株式会社 | マスクブランク用基板、マスクブランク、およびそれらの製造方法、並びにインプリントモールドの製造方法 |
| WO2015115653A1 (ja) * | 2014-01-31 | 2015-08-06 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
| JP2016215342A (ja) * | 2015-05-22 | 2016-12-22 | 信越半導体株式会社 | ウェーハの回収方法及び両面研磨装置 |
| JP6515737B2 (ja) * | 2015-08-24 | 2019-05-22 | Agc株式会社 | Euvlマスクブランク用ガラス基板、およびその製造方法 |
| JP6094708B1 (ja) | 2015-09-28 | 2017-03-15 | 旭硝子株式会社 | マスクブランク |
| JP6628646B2 (ja) * | 2016-03-11 | 2020-01-15 | Hoya株式会社 | 基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、および転写用マスクの製造方法 |
| US20180126485A1 (en) * | 2016-11-10 | 2018-05-10 | Goodrich Corporation | Surface finishing for glass components using a laser |
| CN106630553B (zh) * | 2017-01-17 | 2023-04-07 | 江西晨航照明科技有限公司 | 一种灯头玻璃绝缘体剪切装置 |
| JP6862859B2 (ja) * | 2017-01-30 | 2021-04-21 | Agc株式会社 | マスクブランク用のガラス基板、マスクブランクおよびフォトマスク |
| JP6506785B2 (ja) * | 2017-02-02 | 2019-04-24 | 株式会社Kokusai Electric | リソグラフィ用テンプレートの製造方法、プログラム及び基板処理装置 |
| SG11201907771TA (en) * | 2017-02-27 | 2019-09-27 | Hoya Corp | Mask blank, method for manufacturing transfer mask, and method for manufacturing semiconductor device |
| US11988807B2 (en) | 2019-02-18 | 2024-05-21 | Mitsui Chemicals, Inc. | Optical member, method of producing optical member, and apparatus for transmitting optical information |
| CN111251078B (zh) * | 2019-04-23 | 2021-09-14 | 新昌浙江工业大学科学技术研究院 | GCr15轴承钢圆柱滚子圆柱面超精密抛光用半固着磨粒抛光盘 |
| JP2019201224A (ja) * | 2019-08-19 | 2019-11-21 | 大日本印刷株式会社 | インプリントモールド用基材及びインプリントモールド |
| CN114105464A (zh) * | 2021-12-09 | 2022-03-01 | 扬州市宝余光电有限公司 | 基于光学棱镜冷加工用固定工装及其使用方法 |
| JP2023181638A (ja) * | 2022-06-13 | 2023-12-25 | 信越化学工業株式会社 | 基板およびその製造方法 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000356849A (ja) * | 1999-06-15 | 2000-12-26 | Mito Asahi Fine Glass Co Ltd | フォトマスク用基板 |
| WO2005085951A1 (ja) * | 2004-03-09 | 2005-09-15 | Hoya Corporation | マスク作製支援方法、マスクブランク提供方法、マスクブランク取引システム |
| JP4339214B2 (ja) * | 2004-09-13 | 2009-10-07 | Hoya株式会社 | マスクブランク用透明基板とその製造方法及びマスクブランクとその製造方法 |
| JP4979941B2 (ja) * | 2005-03-30 | 2012-07-18 | Hoya株式会社 | マスクブランクス用ガラス基板の製造方法、マスクブランクスの製造方法 |
| JP4968720B2 (ja) * | 2006-09-21 | 2012-07-04 | Hoya株式会社 | 電子デバイス用基板形状検査装置及び電子デバイス用基板形状検査方法、並びにマスクブランク用ガラス基板の製造方法 |
| JP5161017B2 (ja) * | 2007-09-27 | 2013-03-13 | Hoya株式会社 | マスクブランク、マスクブランクの製造方法、及びインプリント用モールドの製造方法 |
| JP5399109B2 (ja) * | 2009-03-25 | 2014-01-29 | Hoya株式会社 | マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及びマスクの製造方法 |
| JP5221495B2 (ja) * | 2009-11-30 | 2013-06-26 | Hoya株式会社 | マスクブランクの製造方法 |
-
2012
- 2012-09-28 JP JP2012218563A patent/JP6002528B2/ja active Active
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2013082612A5 (enExample) | ||
| MY168317A (en) | Layered product for fine pattern formation and method of manufacturing layered product for fine pattern formation | |
| JP2011148227A5 (ja) | マスクブランク用基板とその製造方法、インプリントモールド用マスクブランクとその製造方法、及びインプリントモールドとその製造方法 | |
| SG169292A1 (en) | Semiconductor device and production method thereof | |
| JP2013028104A5 (enExample) | ||
| JP2009177146A5 (enExample) | ||
| TW201339111A (zh) | 強化玻璃的切割方法 | |
| PH12012501893A1 (en) | Method for manufacturing glass blank for magnetic recording medium glass substrate, method of manufacturing magnetic recording medium glass substrate, and method of manufacturing magnetic recording medium | |
| WO2008087763A1 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
| WO2008087837A1 (ja) | ガラス基板成形用金型、ガラス基板の製造方法、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体の製造方法 | |
| JP2006235321A5 (enExample) | ||
| JP2011102001A5 (enExample) | ||
| CN204036559U (zh) | 折线压痕的裁切刀模装置 | |
| TW200619856A (en) | Printing plate and method for fabricating the same | |
| WO2013012466A3 (en) | Process for making nanocone structures and using the structures to manufacture nanostructured glass | |
| TW200833598A (en) | Process for manufacturing ordered nano-particles | |
| KR101704587B1 (ko) | 복합패턴의 구현방법 및 그 복합패턴이 구현된 시트 | |
| CN102963201A (zh) | 运动鞋面层立体图案的加工工艺 | |
| CN202507187U (zh) | 一种单镶嵌层无蜡研磨抛光模板 | |
| KR20090128680A (ko) | 몰드 제조용 마스터, 이를 이용한 표시 장치 제조용 몰드및 그 제조 방법, 그리고 이를 이용한 표시 장치의 제조방법 | |
| JP2013125855A5 (enExample) | ||
| TW201802151A (zh) | 研磨層及其製造方法以及研磨方法 | |
| CN206690634U (zh) | 一种网格纸 | |
| CN103640073B (zh) | 强化地板的制造方法 | |
| JP2012245775A5 (ja) | 成形型の製造方法及び光学素子 |