JP6002528B2 - マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及びマスクの製造方法、並びにインプリントモールドの製造方法 - Google Patents

マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及びマスクの製造方法、並びにインプリントモールドの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6002528B2
JP6002528B2 JP2012218563A JP2012218563A JP6002528B2 JP 6002528 B2 JP6002528 B2 JP 6002528B2 JP 2012218563 A JP2012218563 A JP 2012218563A JP 2012218563 A JP2012218563 A JP 2012218563A JP 6002528 B2 JP6002528 B2 JP 6002528B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glass substrate
polishing
manufacturing
mask blank
pattern
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2012218563A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2013082612A5 (enExample
JP2013082612A (ja
Inventor
佐々木　達也
達也 佐々木
貴仁 西村
貴仁 西村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hoya Corp
Original Assignee
Hoya Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hoya Corp filed Critical Hoya Corp
Priority to JP2012218563A priority Critical patent/JP6002528B2/ja
Publication of JP2013082612A publication Critical patent/JP2013082612A/ja
Publication of JP2013082612A5 publication Critical patent/JP2013082612A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6002528B2 publication Critical patent/JP6002528B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Drying Of Semiconductors (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
JP2012218563A 2011-09-28 2012-09-28 マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及びマスクの製造方法、並びにインプリントモールドの製造方法 Active JP6002528B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012218563A JP6002528B2 (ja) 2011-09-28 2012-09-28 マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及びマスクの製造方法、並びにインプリントモールドの製造方法

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011212208 2011-09-28
JP2011212208 2011-09-28
JP2012218563A JP6002528B2 (ja) 2011-09-28 2012-09-28 マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及びマスクの製造方法、並びにインプリントモールドの製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2013082612A JP2013082612A (ja) 2013-05-09
JP2013082612A5 JP2013082612A5 (enExample) 2015-10-15
JP6002528B2 true JP6002528B2 (ja) 2016-10-05

Family

ID=48528217

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012218563A Active JP6002528B2 (ja) 2011-09-28 2012-09-28 マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及びマスクの製造方法、並びにインプリントモールドの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6002528B2 (enExample)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110039381A (zh) * 2019-04-23 2019-07-23 新昌浙江工业大学科学技术研究院 圆柱滚子的超精密抛光方法
JPWO2020170801A1 (enExample) * 2019-02-18 2020-08-27

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5989394B2 (ja) * 2012-05-07 2016-09-07 Hoya株式会社 マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法
JP5989393B2 (ja) * 2012-05-07 2016-09-07 Hoya株式会社 マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法
JP6328502B2 (ja) * 2013-07-04 2018-05-23 Hoya株式会社 基板の製造方法、マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、及び基板製造装置
JP6534506B2 (ja) * 2013-07-05 2019-06-26 Hoya株式会社 基板の製造方法、多層反射膜付き基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、及び基板加工装置
JP6055732B2 (ja) * 2013-07-26 2016-12-27 Hoya株式会社 マスクブランク用基板、マスクブランク、およびそれらの製造方法、並びにインプリントモールドの製造方法
WO2015115653A1 (ja) * 2014-01-31 2015-08-06 Hoya株式会社 磁気ディスク用基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法
JP2016215342A (ja) * 2015-05-22 2016-12-22 信越半導体株式会社 ウェーハの回収方法及び両面研磨装置
JP6515737B2 (ja) * 2015-08-24 2019-05-22 Ａｇｃ株式会社 Ｅｕｖｌマスクブランク用ガラス基板、およびその製造方法
JP6094708B1 (ja) 2015-09-28 2017-03-15 旭硝子株式会社 マスクブランク
JP6628646B2 (ja) * 2016-03-11 2020-01-15 Hoya株式会社 基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、および転写用マスクの製造方法
US20180126485A1 (en) * 2016-11-10 2018-05-10 Goodrich Corporation Surface finishing for glass components using a laser
CN106630553B (zh) * 2017-01-17 2023-04-07 江西晨航照明科技有限公司 一种灯头玻璃绝缘体剪切装置
JP6862859B2 (ja) * 2017-01-30 2021-04-21 Ａｇｃ株式会社 マスクブランク用のガラス基板、マスクブランクおよびフォトマスク
JP6506785B2 (ja) * 2017-02-02 2019-04-24 株式会社Ｋｏｋｕｓａｉ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ リソグラフィ用テンプレートの製造方法、プログラム及び基板処理装置
SG11201907771TA (en) * 2017-02-27 2019-09-27 Hoya Corp Mask blank, method for manufacturing transfer mask, and method for manufacturing semiconductor device
JP2019201224A (ja) * 2019-08-19 2019-11-21 大日本印刷株式会社 インプリントモールド用基材及びインプリントモールド
CN114105464A (zh) * 2021-12-09 2022-03-01 扬州市宝余光电有限公司 基于光学棱镜冷加工用固定工装及其使用方法
JP2023181638A (ja) * 2022-06-13 2023-12-25 信越化学工業株式会社 基板およびその製造方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000356849A (ja) * 1999-06-15 2000-12-26 Mito Asahi Fine Glass Co Ltd フォトマスク用基板
WO2005085951A1 (ja) * 2004-03-09 2005-09-15 Hoya Corporation マスク作製支援方法、マスクブランク提供方法、マスクブランク取引システム
JP4339214B2 (ja) * 2004-09-13 2009-10-07 Ｈｏｙａ株式会社 マスクブランク用透明基板とその製造方法及びマスクブランクとその製造方法
JP4979941B2 (ja) * 2005-03-30 2012-07-18 Ｈｏｙａ株式会社 マスクブランクス用ガラス基板の製造方法、マスクブランクスの製造方法
JP4968720B2 (ja) * 2006-09-21 2012-07-04 Ｈｏｙａ株式会社 電子デバイス用基板形状検査装置及び電子デバイス用基板形状検査方法、並びにマスクブランク用ガラス基板の製造方法
JP5161017B2 (ja) * 2007-09-27 2013-03-13 Ｈｏｙａ株式会社 マスクブランク、マスクブランクの製造方法、及びインプリント用モールドの製造方法
JP5399109B2 (ja) * 2009-03-25 2014-01-29 Ｈｏｙａ株式会社 マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及びマスクの製造方法
JP5221495B2 (ja) * 2009-11-30 2013-06-26 Ｈｏｙａ株式会社 マスクブランクの製造方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2020170801A1 (enExample) * 2019-02-18 2020-08-27
JP7292689B2 (ja) 2019-02-18 2023-06-19 三井化学株式会社 光学部材、光学部材の製造方法及び光情報伝達装置
US11988807B2 (en) 2019-02-18 2024-05-21 Mitsui Chemicals, Inc. Optical member, method of producing optical member, and apparatus for transmitting optical information
CN110039381A (zh) * 2019-04-23 2019-07-23 新昌浙江工业大学科学技术研究院 圆柱滚子的超精密抛光方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2013082612A (ja) 2013-05-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6002528B2 (ja) マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及びマスクの製造方法、並びにインプリントモールドの製造方法
JP6420383B2 (ja) マスクブランク用ガラス基板、多層反射膜付き基板、マスクブランク及びマスク
JP5073835B2 (ja) マスクブランク用基板
TWI522727B (zh) 光罩基底用基板套件之製造方法、光罩基底套件之製造方法、光罩套件之製造方法及半導體裝置之製造方法
JP6678269B2 (ja) 反射型マスクブランク及び反射型マスク
JP4786899B2 (ja) マスクブランクス用ガラス基板の製造方法，マスクブランクスの製造方法、反射型マスクブランクスの製造方法、露光用マスクの製造方法、反射型マスクの製造方法、及び半導体装置の製造方法
TW202013057A (zh) 反射型光罩基底、反射型光罩、及半導體裝置之製造方法
JP4761901B2 (ja) マスクブランクス用基板の製造方法、マスクブランクスの製造方法、露光用マスクの製造方法、反射型マスクの製造方法及び半導体装置の製造方法
JP7662511B2 (ja) マスクブランク用基板、導電膜付き基板、多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク、及び半導体装置の製造方法
JP6628646B2 (ja) 基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、および転写用マスクの製造方法
JP2011207757A (ja) マスクブランクス用ガラス基板の製造方法、マスクブランクスの製造方法、反射型マスクブランクスの製造方法、露光用マスクの製造方法、反射型マスクの製造方法、及び、半導体装置の製造方法
JP5455143B2 (ja) マスクブランク用基板の製造方法、多層反射膜付き基板の製造方法、及び反射型マスクブランクの製造方法、並びに反射型マスクの製造方法
JP4647967B2 (ja) マスクブランクス用ガラス基板の製造方法，マスクブランクスの製造方法，露光用マスクの製造方法，及び，半導体装置の製造方法
JP2018054960A (ja) マスクブランク用基板、多層反射膜付き基板、マスクブランク、転写用マスク及び半導体デバイスの製造方法
JP6823376B2 (ja) 基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、および転写用マスクの製造方法
JP5306644B2 (ja) マスクブランク用基板の製造方法、多層反射膜付き基板の製造方法、及び反射型マスクブランクの製造方法、並びに反射型マスクの製造方法
JP6297321B2 (ja) 機能膜付き基板の製造方法、多層膜付き基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及び転写用マスクの製造方法
JP2014109670A (ja) リソグラフィー用部材の製造方法、反射型マスクブランクの製造方法、マスクブランクの製造方法、反射型マスクの製造方法、マスクの製造方法、及び洗浄装置

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150828

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20150828

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20160420

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20160524

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160725

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20160816

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20160905

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6002528

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250