JP2013074248A - 基板処理装置および基板処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板処理装置1は、基板Wの処理に用いた処理液L中から金属イオンを除去することができ、基板処理装置1は、基板Wに処理液Lを供給する基板処理機構部2と、基板Wの処理に用いた処理液Lを回収する貯留槽3と、貯留槽3内に配置されて基板Wの処理に用いた処理液Lから金属イオンを除去する処理液再生部5と、処理液再生部5により金属イオンを除去した処理液Lを基板処理機構部2に送る送液部29を備える。
【選択図】図1
Description
これらのキレート剤20,21とイオン交換樹脂22,23は、金属イオン除去部材の例であり、好ましくはブロック状に作られている。これにより、作業者は、キレート剤20,21とイオン交換樹脂22,23を、仕切り部材10,11,12,13,14の複数の流路10R,11R,12R,13Rから容易に取り出して交換することができる。
2 基板処理機構部
3 貯留槽
5 処理液再生部
7 処理液の溜め部
10R、11R、12R、13R、14R 流路
20,21 キレート剤
22,23 イオン交換樹脂
29 送液部
L 処理液
W 基板
Claims (5)
- 基板を処理液で処理する基板処理装置であって、
前記基板に前記処理液を供給する基板処理機構部と、
前記基板の処理に用いた前記処理液を回収する貯留槽と、
前記貯留槽内に配置されて、前記基板の処理に用いた前記処理液から金属イオンを除去する処理液再生部と、
前記処理液再生部により前記金属イオンを除去した前記処理液を前記基板処理機構部に送る送液部と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。 - 前記処理液再生部には、前記処理液を通すための複数の流路が積み重ねて形成されており、各前記流路には前記処理液から前記金属イオンを除去するための金属イオン除去部材が配置されていることを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。
- 前記金属イオン除去部材は、キレート剤とイオン交換樹脂であることを特徴とする請求項2記載の基板処理装置。
- 前記処理液再生部は、前記貯留槽内から取り外し可能に前記貯留槽内に配置され、前記キレート剤とイオン交換樹脂は、ブロック状になっていることを特徴とする請求項3記載の基板処理装置。
- 基板を処理液で処理する基板処理方法であって、
基板処理機構部が前記基板に前記処理液を供給して、前記基板の処理に用いた前記処理液を貯留槽に回収して、
前記貯留槽内に配置された処理液再生部が、前記基板の処理に用いた前記処理液から金属イオンを除去し、
前記処理液再生部により前記金属イオンを除去した前記処理液を前記基板処理機構部に送ることを特徴とする基板処理方法。
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KR101553365B1 (ko) | 2013-07-02 | 2015-09-16 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 및 약액 재생 방법 |
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2011
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