JP2013074248A5 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
本発明の実施形態は、例えば液晶ディスプレイのような液晶ガラス基板等の処理に用いられる基板処理装置に関する。
本発明が解決しようとする課題は、処理液から金属イオンを除去でき、小型化による設置スペースの減少とコストの低減が可能な基板処理装置を提供することである。
本発明の一態様によれば、 基板を処理液で処理する基板処理装置であって、前記基板を搬送する基板搬送部と、前記基板搬送部によって搬送される基板の主面に前記処理液を供給するための複数の供給ノズルと、前記基板搬送部によって搬送される前記基板の下方に配置され前記基板の主面の処理に使用された前記処理液を全量回収する処理液回収受け部とを有する基板処理機構部と、前記基板処理機構部の下部に配置され、前記基板の処理に用いた前記処理液を前記処理液回収受け部から回収する貯留槽と、前記貯留槽内に配置されて、前記基板の処理に用いた前記処理液から金属イオンを除去する処理液再生部と、前記処理液再生部により前記金属イオンを除去した前記処理液を前記基板処理機構部に送る送液部と、を備えることを特徴とする。
本発明によれば、処理液から金属イオンを除去でき、小型化による設置スペースの減少とコストの低減が可能な基板処理装置を提供することができる。
Claims (3)
- 基板を処理液で処理する基板処理装置であって、
前記基板を搬送する基板搬送部と、前記基板搬送部によって搬送される基板の主面に前記処理液を供給するための複数の供給ノズルと、前記基板搬送部によって搬送される前記基板の下方に配置され前記基板の主面の処理に使用された前記処理液を全量回収する処理液回収受け部とを有する基板処理機構部と、
前記基板処理機構部の下部に配置され、前記基板の処理に用いた前記処理液を前記処理液回収受け部から回収する貯留槽と、
前記貯留槽内に配置されて、前記基板の処理に用いた前記処理液から金属イオンを除去する処理液再生部と、
前記処理液再生部により前記金属イオンを除去した前記処理液を前記基板処理機構部に送る送液部と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。 - 前記処理液再生部には、前記処理液を通すための複数の流路が積み重ねて形成されており、各前記流路には前記処理液から前記金属イオンを除去するための金属イオン除去部材が配置されていることを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
- 前記処理液再生部は、前記貯留槽内から取り外し可能に前記貯留槽内に配置され、前記金属イオン除去部材は、ブロック状のキレート剤とイオン交換樹脂であることを特徴とする請求項２記載の基板処理装置。
Priority Applications (1)
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Applications Claiming Priority (1)
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| JP2011214350A JP5871542B2 (ja) | 2011-09-29 | 2011-09-29 | 基板処理装置 |
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| JP2014201405A Division JP5913512B2 (ja) | 2014-09-30 | 2014-09-30 | 基板処理装置 |
Publications (3)
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| JP5871542B2 JP5871542B2 (ja) | 2016-03-01 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP2011214350A Active JP5871542B2 (ja) | 2011-09-29 | 2011-09-29 | 基板処理装置 |
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