JP5913512B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
これらのキレート剤20,21とイオン交換樹脂22,23は、金属イオン除去部材の例であり、好ましくはブロック状に作られている。これにより、作業者は、キレート剤20,21とイオン交換樹脂22,23を、仕切り部材10,11,12,13,14の複数の流路10R,11R,12R,13Rから容易に取り出して交換することができる。
本発明の実施形態の基板処理方法は、基板を処理液で処理する基板処理方法であって、基板処理機構部が基板に処理液を供給して、基板の処理に用いた処理液を貯留槽に回収して、貯留槽内に配置された処理液再生部が、基板の処理に用いた処理液から金属イオンを除去し、処理液再生部により金属イオンを除去した処理液を基板処理機構部に送る。これにより、処理液から金属イオンを除去でき、処理液再生部は貯留槽内に配置されているので、処理液再生部を別途設置するためにスペースは不要であるので、小型化による設置スペースの減少とコストの低減が可能である。しかも、流路を積み重ねることで、スペース効率だけでなく、流路の長さを稼ぐことができる。このことで、処理液中の金属イオン除去やイオン交換を確実に処理することができる。
2 基板処理機構部
3 貯留槽
5 処理液再生部
7 処理液の溜め部
10R、11R、12R、13R、14R 流路
20,21 キレート剤
22,23 イオン交換樹脂
29 送液部
L 処理液
W 基板
Claims (2)
- 複数の供給ノズルから処理液を供給することによって基板の処理を行う基板処理装置において、
前記基板の処理に用いた前記処理液を回収する貯留槽と、
この貯留槽に回収された前記処理液を前記ノズルに供給する送液部と、
前記貯留槽内に着脱可能に設けられ、前記処理液を再生する処理液再生部と、を有し、
前記処理液再生部は、
前記処理液再生部の側面を形成する側部仕切り部材と、
前記側部仕切り部材に対し、前記貯留槽の底部と平行となるように固定された複数の仕切り部材と、
前記複数の仕切り部材同士の間の端部に設けられた複数の処理液案内部材とを有し、
前記複数の仕切り部材によって形成されている空間内に、ブロック状の、キレート剤およびイオン交換樹脂が配置され、
前記処理液再生部は、前記貯留槽内に設置することによって前記貯留槽内に流路が形成されるように構成される基板処理装置。 - 前記処理液再生部は、前記貯留槽内に設置することによって、前記側部仕切り部材と、前記貯留槽の側壁部と、の間に、前記処理液の溜め部を形成し、前記送液部は、前記溜め部に溜まった処理液を前記ノズルに供給することを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。
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