JP5871542B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
これらのキレート剤20,21とイオン交換樹脂22,23は、金属イオン除去部材の例であり、好ましくはブロック状に作られている。これにより、作業者は、キレート剤20,21とイオン交換樹脂22,23を、仕切り部材10,11,12,13,14の複数の流路10R,11R,12R,13Rから容易に取り出して交換することができる。
2 基板処理機構部
3 貯留槽
5 処理液再生部
7 処理液の溜め部
10R、11R、12R、13R、14R 流路
20,21 キレート剤
22,23 イオン交換樹脂
29 送液部
L 処理液
W 基板
Claims (3)
- 基板を処理液で処理する基板処理装置であって、
前記基板を搬送する基板搬送部と、前記基板搬送部によって搬送される基板の主面に前記処理液を供給するための複数の供給ノズルと、前記基板搬送部によって搬送される前記基板の下方に配置され前記基板の主面の処理に使用された前記処理液を全量回収する処理液回収受け部とを有する基板処理機構部と、
前記基板処理機構部の下部に配置され、前記基板の処理に用いた前記処理液を前記処理液回収受け部から回収する貯留槽と、
前記貯留槽内に配置されて、前記基板の処理に用いた前記処理液から金属イオンを除去する処理液再生部と、
前記処理液再生部により前記金属イオンを除去した前記処理液を前記基板処理機構部に送る送液部と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。 - 前記処理液再生部には、前記処理液を通すための複数の流路が積み重ねて形成されており、各前記流路には前記処理液から前記金属イオンを除去するための金属イオン除去部材が配置されていることを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。
- 前記処理液再生部は、前記貯留槽内から取り外し可能に前記貯留槽内に配置され、前記金属イオン除去部材は、ブロック状のキレート剤とイオン交換樹脂であることを特徴とする請求項2記載の基板処理装置。
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Applications Claiming Priority (1)
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JP2011214350A JP5871542B2 (ja) | 2011-09-29 | 2011-09-29 | 基板処理装置 |
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