TW201302647A - 玻璃薄形化系統 - Google Patents

Abstract

本發明的玻璃薄形化系統，具備：腔室裝置(具備清洗玻璃的清洗腔室和向玻璃表面噴灑蝕刻液的蝕刻腔室，按次序實施對垂直排列多塊玻璃的清洗工藝、蝕刻工藝、清洗工藝來將玻璃薄形化)、暗盒裝置(垂直的收容多塊玻璃，向腔室裝置中放入和引出玻璃)、清洗液循環裝置(被排置在比腔室裝置低的位置，將清洗液儲存罐中存儲的清洗液供應給清洗腔室，並回收完成玻璃清洗的清洗液)，以及蝕刻液循環裝置(被排置在比腔室裝置低的位置，將蝕刻液儲存罐中存儲的蝕刻液供應給清洗腔室，並回收完成玻璃蝕刻的蝕刻液)。通過本發明，可將玻璃厚度變薄，並將玻璃厚度製作一致。

Description

玻璃薄形化系统

本發明涉及一種玻璃薄形化系統，其將玻璃垂直排列後，在玻璃表面噴灑蝕刻液，將玻璃的厚度制作地很薄。

近來，手攜終端、電視、顯示器主要使用液晶顯示器LCD(Liquid Crystal Display)、等離子顯示器面板PDP(Plasma Display Panel)、電致發光顯示器ELD(Electroluminescent Display)、真空螢光顯示器(Vacuum Fluorescent Display)等顯示裝置。

尤其是手機、筆記本電腦等，作為用戶經常隨身攜帶的平板顯示裝置，其需要日益劇增，因此，削薄或減輕此類隨身攜帶顯示裝置的厚度和重量，進來正作為重要的成功開發議題被進行。

為削薄或減輕顯示裝置，可應用多種方法，但若要減少其結構或顯示裝置的必要結構要素，以目前的技術依舊有一定的困難。此外，由於這些必要結構要素重量很輕，所以實際上要減輕其大小或重量非常不容易。不過顯示器裝置中最基本的結構要素，也就是玻璃，隨著技術的發展，仍有需要來減輕其重量。尤其是玻璃在構成顯示裝置的結構要素中重量最重，所以人們在一直進行減輕玻璃重量的研究。

減輕玻璃的重量，就意味著削薄玻璃的厚度。但是，玻璃的厚度越薄，玻璃越容易破損，此外，在玻璃的加工過程中，玻璃的表面如果不平滑，會導致畫質產生重大的缺陷，所以這一點是既困難又重要的。為削薄玻璃的厚度，即減輕玻璃的重量，現在最經常使用的方法是將玻璃放入乘有蝕刻液的容器中，由蝕刻液來蝕刻玻璃的表面。

現有的玻璃蝕刻裝置，在蝕刻腔室中排放玻璃之後，向玻璃表面噴灑蝕刻液來進行玻璃的蝕刻，完成玻璃蝕刻的蝕刻液被回收入蝕刻液儲存罐後，會被再次噴灑到玻璃上。

但是，在這個過程中，蝕刻液蝕刻玻璃之後生成的副產物會混在蝕刻液中，造成蝕刻液的濃度不同，而導致無法將玻璃的表面蝕刻的又薄又均勻。

此外，玻璃蝕刻裝置原本應讓蝕刻液的溫度保持一樣，但是現有的玻璃蝕刻裝置常由於不同的外部條件，造成蝕刻液的溫度出現不穩定的問題。另外，現有的玻璃蝕刻裝置，在蝕刻玻璃之前先實施清洗玻璃表面的清洗工藝，在清洗工藝中清洗液從清洗液儲存罐中循環入清洗腔室，會因為用過一次的清洗液中混入蝕刻液而導致清洗效果低下。此外，由於玻璃蝕刻裝置一次蝕刻多塊玻璃，所以需要將多塊玻璃合理擺放的結構。

本發明的目的在於，提供一種玻璃薄形化系統，將多塊玻璃豎直排放之後，向玻璃表面噴灑蝕刻液，來使玻璃的厚度變薄，並讓每塊玻璃厚度相同。

本發明的另一個目的在於，提供一種玻璃薄形化系統，具備過濾裝置，來從循環蝕刻液的蝕刻液裝置中除去包含在蝕刻液中的各種副產物，只向玻璃噴灑淨化過的蝕刻液，由此可提高蝕刻效果。

本發明的另一個目的在於，提供一種玻璃薄形化系統，具備將多塊玻璃以一定間隔排列的暗盒裝置，來將多塊玻璃以一定的間隔擺放，在一次蝕刻多塊玻璃時可以讓多塊玻璃厚度一致。

為解決上述課題而提議出的本發明，即玻璃薄形化系統的構成裝置包括了腔室裝置(具備清洗玻璃的清洗腔室，和向玻璃表面噴灑蝕刻液的蝕刻腔室，並按次序對豎直排列的多塊玻璃實施清洗工藝、蝕刻工藝和清洗工藝，達到將玻璃薄形化的目的)、暗盒裝置(可以垂直的存放多塊玻璃，並向腔室裝置中放入和引出玻璃)、清洗液循環裝置(被排置在比腔室裝置低的位置，將清洗液儲存罐中存儲的清洗液供應給清洗腔室，並回收完成玻璃清洗的清洗液)，以及蝕刻液循環裝置(被排置在比腔室裝置低的位置，將蝕刻液儲存罐中存儲的蝕刻液供應給清洗腔室，並回收完成玻璃蝕刻的蝕刻液)。

腔室裝置包括了加載腔室(排置在清洗腔室的前方，加載收容多塊玻璃的暗盒裝置)。加載腔室和清洗腔室之間安裝有開關兩個腔室的第一門，清洗腔室和蝕刻腔室之間安裝有開關兩個腔室的第二門。

蝕刻液循環裝置包括了噴嘴(排列在蝕刻腔室的上側，向玻璃上噴灑蝕刻液)、蝕刻液儲存罐(被排置在比蝕刻腔室低的位置，儲存蝕刻液)、供應管(連接在蝕刻液儲存罐與噴嘴之間，安裝有泵浦，向噴嘴供應蝕刻液)，以及回流管(連接在蝕刻腔室與蝕刻液儲存罐之間，將完成玻璃蝕刻的蝕刻液回流至蝕刻液儲存罐)。

此外，蝕刻液儲存罐安裝在上側，使門可以開關，內部則安裝有將儲存罐劃分為多個區域的、高度互不相同的、具有一定間隔的多個擋板(Baffle)，並具備讓蝕刻液保持一定溫度的加熱/冷卻裝置。上述擋板從回收蝕刻液的回流管到蝕刻腔室供應蝕刻液的供應管，按照高度排列，越靠近供應管側，擋板的高度越低。

蝕刻液儲存罐的上側具備開口裝置，開口裝置的周圍具備乘放液體的溝槽，沿門的下側方向則有彎曲的邊緣插入溝槽中，由液體來執行門的密封作用。

蝕刻液儲存罐中也包括了壓濾機，用來過濾蝕刻液儲存罐中的蝕刻液。壓濾機安裝在蝕刻液儲存罐上，蝕刻液儲存罐中的蝕刻液被注入壓濾機，通過壓濾機的同時，已過濾的蝕刻液會被再度回收至蝕刻液儲存罐。

另外，蝕刻液儲存罐中還包括盤式過濾器，過濾被供應給蝕刻液腔室的蝕刻液。盤式過濾器包括了出口(裝配有與蝕刻腔室連接的供應管)、盒(具有入口，該入口裝配有連接蝕刻液儲存罐的流入管)、盤式過濾器積層群(排置在盒內部，由多個盤積層而成)，以及加壓裝置(安裝在盤式過濾器積層群的上部，對盤式過濾器積層群加壓或解除加壓)。

盤式過濾器則包括了漿料罐，執行去除盤之間夾雜漿料的反向沖洗過程。漿料罐安裝有泵浦，來將漿料罐中儲存的反向沖洗液引入出口，再依被引入反向沖洗液的壓力，使盤式過濾器積層群的加壓狀態解除，讓反向沖洗液與盤式過濾器積層群中夾雜的漿料，一起通過盒的出口被回收入漿料罐。

暗盒裝置包括構架、下面支持裝置(成雙分布於構架的底面，支持玻璃的下面)、夾具(安裝在構架的側面，夾持玻璃的兩側末端)，以及支持條(接觸玻璃的兩側表面，在構架上以一定間隔排列，來保持玻璃之間的間隔)。

下面支持裝置包括第一支持杆(垂直的固定在構架的底面上)和第二支持杆(裝配在第一支持杆上，可以調整長度，同時具備凹陷且固定間隔的插入孔，更穩定的支撐玻璃底面)。

根據本發明實施例的玻璃薄形化系統，能執行將多塊玻璃垂直排列後，向玻璃表面噴灑蝕刻液來使玻璃厚度變薄的工藝，並將玻璃的厚度調整一致。

此外，玻璃薄形化系統具備過濾裝置，從循環蝕刻液的蝕刻液裝置中去除包含在蝕刻液中的各種副產物，只向玻璃噴灑淨化過的蝕刻液，提高蝕刻效果。

另外，玻璃薄形化系統具備暗盒裝置，能將多塊玻璃以一定的間隔排列後放入或引出腔室，因此一次蝕刻多塊玻璃時，可以將多塊玻璃的厚度調整一致。

以下將參照附圖來詳細說明本發明的實施例。

圖1是根據本發明一個實施例的玻璃薄形化系統結構圖；圖2是根據本發明一個實施例的清洗液循環裝置結構圖；圖3是根據本發明一個實施例的蝕刻液循環裝置結構圖。

參照圖1至圖3，根據一個實施例的玻璃薄形化系統包括：腔室裝置10，其具備清洗玻璃100的清洗腔室14，和向清洗過的玻璃100表面上噴灑蝕刻液來將其薄形化的蝕刻腔室16；清洗液循環裝置20，其向清洗腔室14供應清洗液；蝕刻液循環裝置30，其向蝕刻腔室16供應蝕刻液；和蝕刻液過濾裝置，其將向蝕刻裝置16供應的蝕刻液過濾。

此外，玻璃薄形化系統還包括：暗盒裝置15，其將多塊玻璃100垂直排列，移送至腔室裝置10。

腔室裝置16包括：加載腔室12，暗盒裝置50中垂直收容的玻璃100被放入其中；清洗腔室14，其被排置在加載腔室12的後方，清洗垂直排列的多塊玻璃100的表面；蝕刻腔室16，其被排置在清洗腔室14的後方，實施向完成清洗的玻璃100上噴灑蝕刻液來將玻璃薄形化。

此外，加載腔室12和清洗腔室14之間安裝有第一門62，來開關兩個腔室12、14的中間，清洗腔室14和蝕刻腔室16之間安裝有第二門64，來開關兩個腔室14、16。

第一門62和第二門64被排置為可在腔室之間垂直的進行升降，由驅動裝置來上下升降並開關腔室中間。此外，驅動裝置根據控制裝置中施加來的信號進行操作。

此腔室裝置10的作用是，當加載腔室12中放入玻璃時，第一門62打開，連通加載腔室12和清洗腔室14的中間。此外，垂直排列有玻璃的暗盒裝置50被放入清洗腔室14中。此外，當第一門關閉62時，清洗腔室14為密封狀態，當清洗腔室14中玻璃100的清洗結束時，第二門64打開，暗盒裝置500被放入蝕刻腔室16。此外，當在蝕刻腔室16中玻璃100的蝕刻完成時，暗盒裝置50移動至清洗腔室14，實施玻璃100的清洗，然後通過加載腔室12被引出。

腔室裝置10除了上述結構之外，還可以是加載腔室、第一清洗腔室、蝕刻腔室、第二清洗腔室的順序排列。其中第一清洗腔室清洗從加載腔室放進來的玻璃，蝕刻腔室向在第一清洗腔室中清洗完的玻璃表面噴灑蝕刻液，第二清洗腔室清洗完成蝕刻的玻璃。

清洗液循環裝置，如圖2所示，具備：噴嘴28(在清洗腔室14上安裝有多個，向玻璃100上噴灑清洗液)、清洗液儲存罐25(被排置在比清洗腔室14低的位置，存儲清洗液)、清洗液供應管22(連接在清洗液儲存罐25與噴嘴28之間)、清洗液回流管24(連接在清洗腔室14的底面與清洗液儲存罐25之間)、泵浦27(被安裝在清洗液供應管22上，用來取清洗液)。

此類清洗液循環裝置20，由於完成玻璃100清洗的清洗液再次返回清洗液儲存罐25，所以在清洗液供應管22中有安裝清洗液過濾器26，將包含在清洗液中的各種異物去除之後，再供應至清洗腔室14。

在這裡的清洗液過濾器26，也可以使用可去除清洗液中異物的任何形式過濾器。

蝕刻液循環裝置30，如圖3所示，包括：噴嘴35(排列在蝕刻腔室16的上側，向玻璃100上噴灑蝕刻液)、蝕刻液儲存罐34(被排置在比蝕刻腔室16低的位置，存儲蝕刻液)、供應管32(連接在蝕刻液儲存罐34與噴嘴35之間，向噴嘴35供應蝕刻液)，以及回流管36(連接在蝕刻腔室16與蝕刻液儲存罐34之間，將完成玻璃蝕刻的蝕刻液回流至蝕刻液儲存罐34)。

此外，還具備：蝕刻液過濾裝置40，在去除蝕刻液儲存罐34所儲存蝕刻液中包含的各種異物之後，向蝕刻腔室16供應。

噴嘴35，水平排列在蝕刻腔室16的上側，與供應管32連接，與蝕刻液流入的分配管37相隔一定的距離，向垂直立著的玻璃100上面噴灑蝕刻液。

蝕刻液儲存罐34，如圖4所示，在上面安裝有可以開關的門85，該門85在供應蝕刻液或清理儲存罐內部時開放，並在內部安裝有將儲存罐34內部劃分為多個區域的、高度互不相同的、具有一定間隔的多個擋板74、76、78。此外，在蝕刻液儲存罐34中，具備用於將蝕刻液溫度保持一定的加熱/冷卻裝置150，如圖5所示。

蝕刻液儲存罐34的上面具備開口裝置84，開口裝置84上安裝有可開關的門85。在這裡，門85應該關閉成密封開口裝置84的狀態，為此，沿開口裝置84的周長方向具備凹陷形態的溝槽86，在此溝槽86中盛滿了液體。此外，門84的邊緣沿下側方向折曲，浸入溝槽86中盛有的液體。

如上所述，由液體來密封門85和開口裝置84之間，可防止空氣或其他異物流入蝕刻液內部。

此外，在蝕刻液儲存罐34的上側具備流入口70，從蝕刻液16中排出的蝕刻液通過該流入口70流入蝕刻液儲存罐34，在流入口70的相對側側面安裝有用於排出蝕刻液的排出口72。

擋板74、76、78從蝕刻液儲存罐34的流入口70向排出口72方向隔著一定的距離排放，離流入口70越近，擋板的高度越高，離排出口72越近，擋板的高度越低。

例如，由擋板的高度最高的第一擋板74、中間高度的第二擋板76、高度最低的第三擋板78構成，將儲存罐34的內部分為第一區域90、第二區域92、第三區域94、第四區域96。

通過儲存罐34的流入口70流入的蝕刻液中，由於經過了玻璃蝕刻工藝而包含有異物。由此，通過流入口70流入的蝕刻液，在流入第一區域90時，由於第一擋板74的高度很高，所以異物會沉積在底面上，經過了此沉積的蝕刻液跨過第一擋板74流入第二區域92，在第二區域92中進行了第二輪沉積之後跨過第二擋板76流入第三區域94。此外，在第三區域94中進行了第三次沉積之後跨過第三擋板78流入第四區域96，這樣通過排出口72排出的蝕刻液比較乾淨。

加熱/冷卻裝置150，如圖5所示，包括：溫度傳感器152(安裝在儲存罐34上，測定儲存罐34中存儲的蝕刻液溫度，與控制裝置連接)、熱交換裝置(在儲存罐34內部以線圈形式捲繞，與儲存罐34內存儲的蝕刻液進行熱交換)、加熱裝置102(向熱交換裝置80供應加熱水)，以及冷卻裝置104(向熱交換裝置供應冷卻水)。

熱交換裝置80以線圈形式捲繞，在儲存罐34內部分多個排列，安裝為加熱水/冷卻水流入的流入線128和排出加熱水/冷卻水的排出線126向儲存罐34外部印出。

流入線128分為兩個分支，與加熱裝置102以加熱線122連接，與冷卻裝置104以冷卻線134連接。

此外，排出線126分為兩個分支，與加熱裝置102以第一回流線124連接，與冷卻裝置104以第二回流線130連接。

此外，加熱裝置122上安裝有開關加熱線122的第一開關閥116，冷卻線134上安裝有開關冷卻線134的第二開關閥110，第一回流線124上安裝有開關第一回流線124的第三開關閥114，第二回流線130上安裝有開關第二回流線130的第四開關閥112。

觀察此加熱/冷卻裝置150的作用，控制裝置根據從溫度傳感器152施加來的信號，來掌握儲存罐34中蝕刻液的溫度是否處於設定的範圍之內。

當控制裝置判斷蝕刻液的溫度比設定值低時，第一開關閥116和第三開關閥114執行打開動作。之後，在驅動加熱裝置102的同時，驅動安裝在加熱裝置102上的泵浦120，通過加熱裝置102的過程中被加熱的熱水，經由流入線122供應到熱交換裝置80，通過熱交換裝置80的加熱水和儲存罐34中存儲的蝕刻液進行熱交換，由此蝕刻液的溫度上升，完成熱交換的加熱水通過第一回流線124回流至加熱裝置102。

此外，當控制裝置判斷蝕刻液的溫度比設定值高時，在關閉第一開關閥116和第三開關閥114的同時，打開第二開關閥110和第四開關閥112。

此外，驅動冷卻裝置104，將冷卻水冷卻後進行循環。這樣一來，冷卻水通過流入線134供應至熱交換裝置80，在通過熱交換裝置80的同時，與儲存罐中存儲的蝕刻液進行熱交換，由此蝕刻液的溫度下降。此外，完成熱交換的冷卻水通過第二回流線130回流至冷卻裝置104。

由此，重複進行加熱和冷卻，使蝕刻液一直保持在一定的溫度。

蝕刻液過濾裝置40，可以使用可過濾蝕刻液的任何結構的過濾裝置，在本實施例中，將對使用壓濾機42和盤式過濾器200的情況進行說明。

壓濾機42，由插入了過濾布的多張過濾板構成，當從儲存罐34流來含有異物的蝕刻液時，在蝕刻液滲入過濾布之後，通過液壓缸的驅動來移動的驅動板對過濾板加壓，使蝕刻液中含有的異物遺留在過濾布的表面，之後將淨化過的蝕刻液重新流入儲存罐34。

也就是說，壓濾機42如圖3所示，與儲存罐34中蝕刻液所流入的第一清洗線44連接，並與在通過壓濾機42的同時得到淨化的蝕刻液重新流入儲存罐34的第二清晰線46連接。

此類壓濾機，在經過了一定的使用時間之後，過濾布的汙染比較嚴重的話，可替換為新的過濾布。此類壓濾機是一般廣泛使用的結構，在此省略其詳細說明。

盤式過濾器200，如圖6所示，過濾原理是將板狀的盤形過濾器積層，實施高速旋轉，使含有汙染物質的蝕刻液成分經過盤表面上形成的過濾器凹凸空隙，包括：盤式過濾器積層群(未示出)，具備聚積異物的細小溝槽，並以多個積層；加壓裝置(未示出)，形成在盤式過濾器上部，進行盤式過濾器積層群的加壓或解除加壓；盒230，收容盤式過濾器積層群和加壓裝置；入口212，安裝在盒230上，與連接到蝕刻液儲存罐34的流入管31相連，使含有異物的蝕刻液流入盒內部；出口210，與供應管32連接，將淨化完的蝕刻液供應給蝕刻腔室16。

在這裡，此盤式過濾器積層群與加壓裝置是盤式過濾器中一般廣泛使用的結構，在此省略其詳細說明。

此外，盤式過濾器200與漿料罐218相連，漿料罐218用於去除盤式過濾器積層群的細小溝槽中夾有的漿料。

漿料罐218上連接有供應線216和回收線214，該供應線216從供應管32中分支出來，將反向沖洗液供應至盤式過濾器200內部，回收線214從流入管31中分支出來，從盤式過濾器200中回收反向沖洗液。此外，供應線216中安裝有取反向沖洗液的泵浦260。

此外，在供應線216與供應管32分支的地方安裝有第一三向閥224用於轉換流路，在回收線214和流入管31分支的地方安裝有第二三向閥220用於轉換流路。

在這裡，漿料罐218上連接有壓濾機250，可將漿料罐218內存儲的反向沖洗液進行過濾。在這裡，壓濾機250通過第一線252和第二線254連接到漿料罐218，由於其與上面所述的壓濾機42的結構相同，因而在此省略其詳細說明。

觀察此盤式過濾器的作用，當含有異物的蝕刻液從儲存罐34中通過流入管31流入盤式過濾器200內部時，驅動加壓裝置來對盤式過濾器積層群加壓，在去除蝕刻液中含有的漿料等異物之後，通過供應管32供應至蝕刻腔室16。

此時，第一三向閥224打開為連通供應管32和出口210的位置，第二三向閥220打開為連通流入管31和入口212。在執行此類蝕刻液過濾操作的過程中，在盤式過濾器積層群的細小溝槽中聚積很多漿料時，實施去除漿料的反向沖洗工藝。

觀察盤式過濾器的反向沖洗工藝，第一三向閥進行連接出口和供應線216的操作，且第二三向閥220進行連接入口212和回收線216的操作。

在這種狀態下，漿料罐218的泵浦進行運作，漿料罐218中存儲的反向沖洗液通過供應線216被供應，通過盒230的出口210，清洗液被壓入盒的內部。這樣一來，盤式過濾器積層群的盤之間的間隔被打開，漿料被反向沖洗液沖洗掉，完成反向沖洗操作之後的反向沖洗液通過盒230的入口排出，通過回收線214回收至漿料罐218內部。

在此，反向沖洗液使用和儲存罐34中存儲的相同蝕刻液，來防止蝕刻液的濃度變化。

此外，漿料罐218，與壓濾機250連接，漿料罐218中存儲的反向沖洗液在通過壓濾機的同時被淨化。

圖7是示出根據本發明一個實施例的暗盒裝置立體圖；圖8是示出根據本發明一個實施例的暗盒裝置側視圖。

暗盒裝置50，負責移送玻璃100，其將多塊玻璃100以一定的間隔放置並垂直排列收容，用於將玻璃向腔室裝置10中放入和引出。

此暗盒裝置50包括：構架300，其具有上側、前面、後面均為開放的四角箱的形態；第一導軌318，其連接到構架300的前面及後面中央；第二導軌316，其連接到構架300的前面和後面上端；下面支持裝置330，其分多個排列在構架300的底面上，支持玻璃100的下面；第一夾具326、328，其排置在第一導軌318上，可進行直線移動，抓持玻璃100的兩端中央；第二夾具322、324，其排置在第二導軌316上，可進行直線移動，抓持玻璃100的上端兩側。

下面支持裝置330，沿構架300的前後方向垂直的固定，在構架300的側方向上以一定間隔排列。此外，玻璃100沿構架300的前後方向以一定間隔排列。

下面支持裝置330包括：第一支持條334，其在構架300的底面上垂直的固定；第二支持條332，其裝配在第一支持條334上，長度可以調整，上有相隔一定間隔的凹進的插入槽336，以支持玻璃100的底面。

在此，下面支持裝置330，第一支持杆334和第二支持杆332安裝成可以相互調整長度，根據玻璃100的高度適當地對應。也就是當玻璃100的上下方向長度較短時，將第一支持杆334和第二支持杆332的長度調長，當玻璃100的上下方向長度較長時，將第一支持杆334和第二支持杆332的長度調短。

第一夾具326、328包括：移動部件326，其兩端插入構架300的前面和後面安裝有的第一導軌318之間，沿第一導軌318移動；箝位(clamping)部件328，其在上述移動部件326上以一定的間隔排列，各自合頁(hinge)連接到移動部件326上，抓持玻璃100的中央側兩面。

第二夾具322、324包括：移動部件322，其兩端插入構架100的前面和後面安裝有的第二導軌316之間，可沿第二導軌316移動；箝位部件324，其在上述移動部件326上以一定的間隔排列，各自抓持玻璃100的上端側兩面。

在此，箝位部件324、328，依合頁軸325，可旋轉的結合在移動部件322、326上，排列成一列的多個箝位部件相互連接，一列側箝位部件可以一體旋轉。也就是箝位部件之間互相連接，旋轉一個箝位部件的話，其他箝位部件也會一起旋轉。

在此，第一夾具326、328和第二夾具322、324，具有在構架的側方向以一個或一個以上的組合排置、沿構架的側方向玻璃被排列為一列或兩列以上的結構。

此外，第一夾具326、328和第二夾具322、324，被排置為各自可沿第一導軌318和第二導軌316的長度方向移動，可根據玻璃100兩邊側方向的長度變化來調整夾具之間的間隔。

此外，沿構架300的側方向，固定有間隔一定間隔來支持玻璃側面的支持條350，支持條350上安裝有可旋轉的在插入和引出玻璃100時抓持玻璃100的輥36。

在這裡，支持條350，除上述結構以外，還可以應用以下結構，即沿構架的豎直方向，以一定間隔排列並在支持條的側面安裝彈性針來支持玻璃的側面。

此外，在構架300的下側，裝配有固定托架(bracket)312，該固定托架以螺栓314等裝配到額外的移送裝置上，移送裝置與驅動裝置連接，當驅動裝置運作時，移送裝置直線移動，來帶動暗盒裝置50直線移動。

以上對根據本發明的實施例進行了說明，但這不過是個範本。只要是對本領域有著一定了解的一般技術人員，都可從此進行各種變形，也可在等同的範圍內實施其他實施例。由此，本發明的真正技術保護範圍由後附的申請專利範圍定義。

10．．．腔室裝置

12．．．加載腔室

14．．．清洗腔室

16．．．蝕刻腔室，

20．．．清洗液循環裝置

25．．．清洗液儲存罐

26．．．過濾器

27．．．泵浦

28．．．噴嘴

30．．．蝕刻液循環裝置

34．．．蝕刻液儲存罐

35．．．噴嘴

38．．．泵浦

40．．．蝕刻液過濾裝置

50．．．暗盒裝置

62．．．第一門

64．．．第二門

74、76、78．．．擋板

80．．．熱交換裝置

84．．．開口裝置

85．．．門

86．．．溝槽

100．．．玻璃

102．．．加熱裝置

104．．．冷卻裝置

150．．．加熱/冷卻裝置

200．．．盤式過濾器

230．．．盒

220、224．．．三向閥

218．．．漿料罐

300．．．構架

316．．．第一導軌

318．．．第二導軌

322、324．．．第一夾具

326、328．．．第二夾具

330．．．下部支持裝置

圖1是根據本發明一個實施例的玻璃薄形化系統結構圖；

圖2是根據本發明一個實施例的清洗液循環裝置結構圖；

圖3是根據本發明一個實施例的蝕刻液循環裝置結構圖；

圖4是根據本發明一個實施例的清洗液儲存罐截面圖；

圖5是根據本發明一個實施例的清洗液加熱/冷卻裝置結構圖；

圖6是根據本發明一個實施例的蝕刻液過濾裝置結構圖；

圖7是根據本發明一個實施例的暗盒裝置立體圖；

圖8是根據本發明一個實施例的暗裝置側視圖。

10．．．腔室裝置

12．．．加載腔室

14．．．清洗腔室

16．．．蝕刻腔室

30．．．蝕刻液循環裝置

40．．．蝕刻液過濾裝置

50．．．暗盒裝置

62．．．第一門

64．．．第二門

Claims (10)

1. 一種玻璃薄形化系統，包括：腔室裝置，具備清洗玻璃的清洗腔室和向玻璃表面噴灑蝕刻液的蝕刻腔室，按次序實施對垂直排列多塊玻璃的清洗工藝、蝕刻工藝、清洗工藝來將玻璃薄形化；暗盒裝置，垂直的收容多塊玻璃，向腔室裝置中放入和引出玻璃；清洗液循環裝置，被排置在比腔室裝置低的位置，將清洗液儲存罐中存儲的清洗液供應給清洗腔室，並回收完成玻璃清洗的清洗液；以及蝕刻液循環裝置，被排置在比腔室裝置低的位置，將蝕刻液儲存罐中存儲的蝕刻液供應給清洗腔室，並回收完成玻璃蝕刻的蝕刻液。
2. 如請求項1所述的玻璃薄形化系統，其中，腔室裝置進一步包括：加載腔室，排置在清洗腔室的前方，加載收容多塊玻璃的暗盒裝置。加載腔室和清洗腔室之間安裝有開關兩個腔室中間的第一門，清洗腔室和蝕刻腔室之間安裝有開關兩個腔室中間的第二門。
3. 如請求項1所述的玻璃薄形化系統，其中，蝕刻液循環裝置包括：噴嘴，排列在蝕刻腔室的上側，向玻璃上噴灑蝕刻液；蝕刻液儲存罐，被排置在比蝕刻腔室低的位置，存儲蝕刻液；供應管，連接在蝕刻液儲存罐與噴嘴之間，安裝有泵浦，向噴嘴供應蝕刻液；以及回流管，連接在蝕刻腔室與蝕刻液儲存罐之間，將完成玻璃蝕刻的蝕刻液回流至蝕刻液儲存罐。
4. 如請求項3所述的玻璃薄形化系統，其中，蝕刻液儲存罐，安裝為在上面門可以開關，並在內部安裝有將儲存罐內部劃分為多個區域的、高度互不相同的、具有一定間隔的多個擋板，並具備用於將蝕刻液溫度保持一定的加熱/冷卻裝置，上述擋板從回收蝕刻液的回流管到蝕刻腔室供應蝕刻液的供應管，按照高度排列，越靠近供應管側，擋板的高度越低。
5. 如請求項4所述的玻璃薄形化系統，其中，蝕刻液儲存罐的上側具備開口裝置，開口裝置的周圍具備乘放液體的溝槽，沿門的下側方向則有彎曲的邊緣插入溝槽中，由液體來執行門的密封作用。
6. 如請求項3所述的玻璃薄形化系統，其進一步包括：壓濾機，用來過濾蝕刻液儲存罐中的蝕刻液，上述壓濾機安裝在蝕刻液儲存罐上，蝕刻液儲存罐中的蝕刻液被注入壓濾機，通過壓濾機的同時，已過濾的蝕刻液會被再度回收至蝕刻液儲存罐。
7. 如請求項3所述的玻璃薄形化系統，其進一步包括：盤式過濾器，過濾被供應給蝕刻液腔室的蝕刻液。上述盤式過濾器包括：出口，裝配有與蝕刻腔室連接的供應管；盒，具有入口，該入口裝配有連接蝕刻液儲存罐的流入管；盤式過濾器積層群，排置在盒內部，由多個盤積層而成；以及加壓裝置，安裝在盤式過濾器積層群的上部，對盤式過濾器積層群加壓或解除加壓。
8. 如請求項7所述的玻璃薄形化系統，其中，盤式過濾器進一步包括：漿料罐，執行去除盤之間夾雜漿料的反向沖洗過程，上述漿料罐安裝有泵浦，來將漿料罐中儲存的反向沖洗液引入出口，再依被引入反向沖洗液的壓力，使盤式過濾器積層群的加壓狀態解除，讓反向沖洗液與盤式過濾器積層群中夾雜的漿料，一起通過盒的出口被回收入漿料罐。
9. 如請求項1所述的玻璃薄形化系統，其中，暗盒裝置包括：構架；下面支持裝置，成雙分布於構架的底面，支持玻璃的下面；夾具，安裝在所述構架的側面，夾持玻璃的兩側末端；以及支持條，接觸玻璃的兩側表面，在構架上以一定間隔排列來保持玻璃之間的間隔。
10. 如請求項9所述的玻璃薄形化系統，其中，所述下面支持裝置包括：第一支持杆，垂直的固定在所述構架的底面上；以及第二支持杆，裝配在第一支持杆上，可以調整長度，同時具備凹陷且固定間隔的插入孔，更穩定的支撐玻璃底面。