CN102863153A - 玻璃薄形化系统 - Google Patents

Abstract

本发明的玻璃薄形化系统，具备：腔室单元，其具备清洗玻璃的清洗腔室和向玻璃表面喷洒蚀刻液的蚀刻腔室，按次序实施对竖直地排列的多块玻璃的清洗工艺、蚀刻工艺、清洗工艺来将玻璃薄形化；暗盒单元，其竖直地收容多块玻璃，向腔室单元中放入和引出玻璃；清洗液循环单元，其被排置在比所述腔室单元低的位置，将清洗液存储罐中存储的清洗液供应给清洗腔室，并回收完成玻璃清洗的清洗液；和蚀刻液循环单元，其被排置在比所述腔室单元低的位置，将蚀刻液存储罐中存储的蚀刻液供应给清洗腔室，并回收完成玻璃蚀刻的蚀刻液。通过本发明可以将玻璃的厚度制作地很薄，并将玻璃的厚度制作地很均匀。

Description

玻璃薄形化系统

技术领域

本发明涉及一种玻璃薄形化系统，其将玻璃竖直地排列后，在玻璃表面喷洒蚀刻液，将玻璃的厚度制作地很薄。

背景技术

近来，手携终端、电视、显示器主要使用液晶显示器LCD(Liquid CrystalDisplay)、等离子显示器面板PDP(Plasma Display Panel)、电致发光显示器ELD(Electroluminescent Display)、真空荧光显示屏(Vacuum Fluorescent Display)等显示装置。

尤其是，手机、笔记本电脑等，作为用户经常随身携带的平板显示装置，其需要日益剧增，因此，削薄或减轻此类随身携带的显示装置的厚度和重量，进来正作为重要的成功开发议题被进行。

为削薄或减轻显示装置，可应用多种方法，但是在减少其结构或现有技术上显示装置的必要结构要素上上存在限制。此外，由于这些必要结构要素重量很轻，所以当下的实情是，减轻其大小或重量非常难。但是，显示装置的最基本的结构要素即玻璃，随着技术的发展，仍有余地来根据感觉来减轻其重量。尤其是，玻璃在构成显示装置的结构要素中重量最重，所以人们在一直进行减轻玻璃的重量的研究。

减轻玻璃的重量，就意味着削薄玻璃的厚度。但是，玻璃的厚度越薄，玻璃越容易破损，此外，在玻璃的加工过程中，玻璃的表面如果不平滑，会导致画质产生重大的缺陷，所以这一点是非常难并非常重要的。为削薄玻璃的厚度，即减轻玻璃的重量，现在最经常使用的方法是将玻璃放入乘有蚀刻液的容器中，由蚀刻液来蚀刻玻璃的表面。

现有的玻璃蚀刻装置，在蚀刻腔室中排放玻璃之后，向玻璃表面上喷洒蚀刻液来进行玻璃的蚀刻，完成玻璃蚀刻的蚀刻液被回收入蚀刻液存储罐，并被再次喷洒到玻璃上。

但是，在这个过程中，蚀刻液蚀刻玻璃之后生成的副产物会混在蚀刻液中，造成蚀刻液的浓度不同，而导致无法将玻璃的表面蚀刻地又薄又均匀。

此外，本应将蚀刻液的稳定一直保持为一定的温度，但是，现有的玻璃蚀刻装置，存在由于外部条件的不同会造成蚀刻液的温度不稳定的问题。此外，现有的玻璃蚀刻装置，在蚀刻玻璃之前先实施清洗玻璃表面的清洗工艺，在清洗工艺中清洗液从清洗液存储罐中循环入清洗腔室，会因为用过一次的清洗液中混入蚀刻液而导致清洗效果低下。此外，由于玻璃蚀刻装置一次蚀刻多块玻璃，所以其需要将多块玻璃合理摆放的结构。

发明内容

技术课题

本发明的目的在于，提供一种玻璃薄形化系统，其将多块玻璃竖直地立放之后向玻璃表面喷洒蚀刻液，来使玻璃的厚度变薄，并制造地玻璃厚度均匀。

本发明的另一个目的在于，提供一种玻璃薄形化系统，其具备过滤单元，来从循环蚀刻液的蚀刻液装置中除去包含在蚀刻液中的各种副产物，只向玻璃喷洒净化过的蚀刻液，由此可提高蚀刻效果。

本发明的另一个目的在于，提供一种玻璃薄形化系统，其具备将多块玻璃以一定间隔排列的暗盒装置，来将多块玻璃以一定的间隔摆放，在一次蚀刻多块玻璃时可以可以将多块玻璃制作地厚度一致。

技术手段

用于构成解决上述课题而提议出的本发明即玻璃薄形化系统的手段，包括：腔室单元，其具备清洗玻璃的清洗腔室和向玻璃表面喷洒蚀刻液的蚀刻腔室，按次序实施对竖直地排列的多块玻璃的清洗工艺、蚀刻工艺、清洗工艺来将玻璃薄形化；暗盒单元，其竖直地收容多块玻璃，向腔室单元中放入和引出玻璃；清洗液循环单元，其被排置在比所述腔室单元低的位置，将清洗液存储罐中存储的清洗液供应给清洗腔室，并回收完成玻璃清洗的清洗液；和蚀刻液循环单元，其被排置在比所述腔室单元低的位置，将蚀刻液存储罐中存储的蚀刻液供应给清洗腔室，并回收完成玻璃蚀刻的蚀刻液。

此外，所述腔室单元进一步包括：加载腔室，其排置在所述清洗腔室的整体上，加载收容多块玻璃的暗盒单元。所述加载腔室和所述清洗腔室之间安装有开闭两个腔室中间的第一门，所述清洗腔室和所述蚀刻腔室之间安装有开闭两个腔室中间的第二门。

此外，所述蚀刻液循环单元包括：喷嘴，其排列在所述蚀刻腔室的上侧，向玻璃上喷洒蚀刻液；蚀刻液存储罐，其被排置在比所述蚀刻腔室低的位置，存储蚀刻液；供应管，其连接在蚀刻液存储罐与喷嘴之间，安装有泵，向喷嘴供应蚀刻液；和回流管，其连接在蚀刻腔室与蚀刻液存储罐之间，将完成玻璃蚀刻的蚀刻液回流至蚀刻液存储罐。

此外，所述蚀刻液存储罐，安装为在上面门可以开闭，并在内部安装有将存储罐内部划分为多个区域的、高度互不相同的、具有一定间隔的多个挡板，并具备用于将蚀刻液的温度保持一定的加热/冷却装置，所述挡板被形成为，从安装回收蚀刻液的回流管的部分到安装向蚀刻腔室供应蚀刻液的供应管的位置顺序排列，越靠近供应管侧，挡板的高度越低。

此外，所述蚀刻液存储罐的上面具备开口单元，所述开口单元的周长面上具备乘放液体的沟槽，沿所述门的下侧方向，折曲的边缘插入沟槽中，由液体来执行门密封作用。

此外，其进一步包括：压滤机，其过滤所述蚀刻液存储罐中存储的蚀刻液，所述压滤机安装在蚀刻液存储罐上，蚀刻液存储罐中存储的蚀刻液被注入压滤机，通过所述压滤机的同时被过滤的蚀刻液被回收至蚀刻液存储罐。

此外，其进一步包括：盘式过滤器，其过滤被供应给所述蚀刻液腔室的蚀刻液。所述盘式过滤器包括：出口，其装配有与蚀刻腔室连接的供应管；盒，其具有入口，该入口装配有连接蚀刻液存储罐的流入管；盘式过滤器积层群，其排置在盒内部，由多个盘积层而成；和加压单元，其安装在所述盘式过滤器积层群的上部，对所述盘式过滤器积层群加压或解除加压。

此外，所述盘式过滤器进一步包括：浆料罐，其执行去除盘之间夹着的浆料的反冲洗过程，所述浆料罐，安装有泵来将浆料罐中存储的反冲洗液引入所述出口，在依所述被引入的反冲洗液的压力使所述盘式过滤器积层群的加压被解除的状态下，所述反冲洗液与所述盘式过滤器积层群中夹着的浆料一起，通过所述盒的出口被回收入浆料罐。

此外，所述暗盒单元包括：构架；下面支持单元，其多个排列在所述构架的底面上，支持玻璃的下面；夹具，其安装在所述构架的侧面，夹持玻璃的两侧末端；和支持条，其接触玻璃的两侧表面，在所述构架上以一定间隔排列来保持玻璃之间的间隔。

此外，所述下面支持单元包括：第一支持杆，其竖直地固定在所述构架的底面上；和第二支持杆，其装配在所述第一支持杆上，可以调整长度，具备凹入并具有一定间隔的插入孔，来支持所述玻璃的底面。

技术效果

根据本发明的一个实施例的玻璃薄形化系统，其执行将多块玻璃竖直地立放之后向玻璃表面喷洒蚀刻液来使玻璃的厚度变薄的工艺，制造地玻璃厚度均匀。

此外，玻璃薄形化系统具备过滤单元，其从循环蚀刻液的蚀刻液装置中去除包含在蚀刻液中的各种副产物，只向玻璃喷洒净化过的蚀刻液，由此可提高蚀刻效果。

此外，玻璃薄形化系统，具备将多块玻璃以一定间隔排列的暗盒装置，其将多块玻璃以一定的间隔摆放，在一次蚀刻多块玻璃时可以可以将多块玻璃制作地厚度一致。

附图说明

图1是示出根据本发明的一个实施例的玻璃薄形化系统的结构图；

图2是示出根据本发明的一个实施例的清洗液循环单元的结构图；

图3是示出根据本发明的一个实施例的蚀刻液循环单元的结构图；

图4是示出根据本发明的一个实施例的清洗液存储罐的截面图；

图5是示出根据本发明的一个实施例的清洗液加热/冷却装置的结构图；

图6是示出根据本发明的一个实施例的蚀刻液过滤单元的结构图；

图7是示出根据本发明的一个实施例的暗盒单元的立体图；和

图8是示出根据本发明的一个实施例的暗合单元的侧视图。

具体实施方式

以下将参照附图来详细说明本发明的实施例。

图1是示出根据本发明的一个实施例的玻璃薄形化系统的结构图；图2是示出根据本发明的一个实施例的清洗液循环单元的结构图；图3是示出根据本发明的一个实施例的蚀刻液循环单元的结构图。

参照图1至图3，根据一个实施例的玻璃薄形化系统包括：腔室单元10，其具备清洗玻璃100的清洗腔室14，和向清洗过的玻璃100的表面上喷洒蚀刻液来将其薄形化的蚀刻腔室16；清洗液循环单元20，其向清洗腔室14供应清洗液；蚀刻液循环单元30，其向蚀刻腔室16供应蚀刻液；和蚀刻液过滤单元，其将向蚀刻单元16供应的蚀刻液过滤。

此外，玻璃薄形化系统还包括：暗合单元15，其将多块玻璃100竖直地排列，移送至腔室单元10。

腔室单元16包括：加载腔室12，暗盒单元50中竖直地收容的玻璃100被放入其中；清洗腔室14，其被排置在加载腔室12的后方，清洗竖直地排列的多块玻璃100的表面；蚀刻腔室16，其被排置在清洗腔室14的后方，实施向完成清洗的玻璃100上喷洒蚀刻液来将玻璃薄形化。

此外，加载腔室12和清洗腔室14之间安装有第一门62，来开闭两个腔室12、14的中间，清洗腔室14和蚀刻腔室16之间安装有第二门64，来开闭两个腔室14、16。

第一门62和第二门64被排置为可在腔室之间竖直地进行升降，由驱动装置来上下升降的同时开闭腔室中间。此外，驱动装置根据控制单元中施加来的信号进行操作。

此腔室单元10的作用是，当加载腔室12中放入玻璃时，第一门62打开，连通加载腔室12和清洗腔室14的中间。此外，竖直地排列有玻璃的暗合单元50被放入清洗腔室14中。此外，当第一门关闭62时，清洗腔室14为密封状态，当清洗腔室14中玻璃100的清洗结束时，第二门64打开，暗盒单元500被放入蚀刻腔室16。此外，当在蚀刻腔室16中玻璃100的蚀刻完成时，暗盒单元50移动至清洗腔室14，实施玻璃100的清洗，然后通过加载腔室12被引出。

腔室单元10除了上述结构之外，还可以是加载腔室、第一清洗腔室、蚀刻腔室、第二清洗腔室的顺序排列。其中第一清洗腔室清洗从加载腔室放进来的玻璃，蚀刻腔室向在第一清洗腔室中清洗完的玻璃的表面喷洒蚀刻液，第二清洗腔室清洗完成蚀刻的玻璃。

清洗液循环单元，如图2所示，具备：喷嘴28，其在清洗腔室14上安装有多个，向玻璃100上喷洒清洗液；清洗液存储罐25，其被排置在比所述清洗腔室14低的位置，存储清洗液；清洗液供应管22，其连接在清洗液存储罐25与喷嘴28之间；清洗液回流管24，其连接在清洗腔室14的底面与清洗液存储罐25之间；泵27，其被安装在清洗液供应管22上，泵取清洗液。

此类清洗液循环单元20，由于完成玻璃100的清洗的清洗液再次返回清洗液存储罐25，所以安装有清洗液过滤器26，在清洗液供应管中，将包含在清洗液中的各种异物去除之后，再将向清洗腔室14供应。

在这里，清洗液过滤器26，可以使用可去除清洗液中的异物的任何形式的过滤器。

蚀刻液循环单元30，如图3所示，包括：喷嘴35，其排列在所述蚀刻腔室16的上侧，向玻璃100上喷洒蚀刻液；蚀刻液存储罐34，其被排置在比所述蚀刻腔室16低的位置，存储蚀刻液；供应管32，其连接在蚀刻液存储罐34与喷嘴35之间，向喷嘴35供应蚀刻液；和回流管36，其连接在蚀刻腔室16与蚀刻液存储罐34之间，将完成玻璃蚀刻的蚀刻液回流至蚀刻液存储罐34。

此外，还具备：蚀刻液过滤单元40，在去除蚀刻液存储罐34中存储的蚀刻液中包含的各种异物之后向蚀刻腔室16供应。

喷嘴35，水平排列在蚀刻腔室16的上侧，与供应管32连接，与蚀刻液流入的分配管37相隔一定的距离，向竖直地立着的玻璃100的上面喷洒蚀刻液。

蚀刻液存储罐34，如图4所示，在上面安装有可以开闭的门85，该门85在供应蚀刻液或清理存储罐内部时开放，并在内部安装有将存储罐34内部划分为多个区域的、高度互不相同的、具有一定间隔的多个挡板74、76、78。此外，在蚀刻液存储罐34中，具备用于将蚀刻液的温度保持一定的加热/冷却装置150，如图5所示。

蚀刻液存储罐34的上面具备开口单元84，所述开口单元84上安装有可开闭的门85。在这里，门85应该关闭成密封开口单元84的状态，为此，沿开口单元84的周长方向具备凹下去的形态的沟槽86，在此沟槽86中盛满了液体。此外，门84的边缘沿下侧方向折曲，浸入沟槽86中盛有的液体。

如上所述，由液体来密封门85和开口单元84之间，可防止空气或其他异物流入蚀刻液内部。

此外，在蚀刻液存储罐34的上侧具备流入口70，从蚀刻液16中排出的蚀刻液通过该流入口70流入蚀刻液存储罐34，在流入口70的相对侧侧面安装有用于排出蚀刻液的排出口72。

挡板74、76、78从蚀刻液存储罐34的流入口70向排出口72方向隔着一定的距离排放，离流入口70越近，挡板的高度越高，离排出口72越近，挡板的高度越低。

例如，由挡板的高度最高的第一挡板74、中间高度的第二挡板76、高度最低的第三挡板78构成，将存储罐34的内部分为第一区域90、第二区域92、第三区域94、第四区域96。

通过存储罐34的流入口70流入的蚀刻液中，由于经过了玻璃蚀刻工艺而包含有异物。由此，通过流入口70流入的蚀刻液，在流入第一区域90时，由于第一挡板74的高度很高，所以异物会沉积在底面上，经过了此沉积的蚀刻液跨过第一挡板74流入第二区域92，在第二区域92中进行了第二轮沉积之后跨过第二挡板76流入第三区域94。此外，在第三区域94中进行了第三次沉积之后跨过第三挡板78流入第四区域96，这样通过排出口72排出的蚀刻液比较干净。

加热/冷却装置150，如图5所示，包括：温度传感器152，其安装在存储罐34上，测定存储罐34中存储的蚀刻液的温度，与控制单元连接；热交换单元，其在存储罐34内部以线圈形式卷绕，与存储罐34内存储的蚀刻液进行热交换；加热单元102，其向热交换单元80供应加热水；和冷却单元104，其向热交换单元供应冷却水。

热交换单元80以线圈形式卷绕，在存储罐34内部分多个排列，安装为加热水/冷却水流入的流入线128和排出加热水/冷却水的排出线126向存储罐34外部印出。

流入线128分为两个分支，与加热单元102以加热线122连接，与冷却单元104以冷却线134连接。

此外，排出线126分卫两个分支，与加热单元102以第一回流线124连接，与冷却单元104以第二回流线130连接。

此外，加热单元122上安装有开闭加热线122的第一开闭阀116，冷却线134上安装有开闭冷却线134的第二开闭阀110，第一回流线124上安装有开闭第一回流线124的第三开闭阀114，第二回流线130上安装有开闭第二回流线130的第四开闭阀112。

观察此加热/冷却装置150的作用，控制单元根据从温度传感器152施加来的信号，来掌握存储罐34中存储的蚀刻液的温度是否处于设定温度的范围之内。

当控制单元判断为蚀刻液的温度比设定温度低时，第一开闭阀116和第三开闭阀114执行打开动作。之后，在驱动加热单元102的同时驱动安装在加热单元102上的泵120，通过加热单元102的过程中被加热的加热水，经由流入线122供应到热交换单元80，通过热交换单元80的加热水和存储罐34中存储的蚀刻液进行热交换，由此蚀刻液的温度上升，完成热交换的加热水通过第一回流线124回流至加热单元102。

此外，当控制单元判断为蚀刻液的温度比设定温度高时，在关闭第一开闭阀116和第三开闭阀114的同时，打开第二开闭阀110和第四开闭阀112。

此外，驱动冷却单元104，将冷却水冷却后进行循环。这样一来，冷却水通过流入线134供应至热交换单元80，在通过热交换单元80的同时与存储罐中存储的蚀刻液进行热交换，由此蚀刻液的温度下降。戏外，完成热交换的冷却水通过第二回流线130回流至冷却单元104。

由此，重复进行加热和冷却，使蚀刻液一直保持在一定的温度。

蚀刻液过滤单元40，可以使用可过滤蚀刻液的任何结构的过滤装置，在本实施例中，将对使用压滤机42和盘式过滤器200的情况进行说明。

压滤机42，由插入了过滤布的多张过滤板构成，当从存储罐34流来含有异物的蚀刻液时，在蚀刻液渗入过滤布之后，通过液压缸的驱动来移动的驱动板对过滤板加压，使蚀刻液中含有的异物遗留在过滤布的表面，之后将净化过的蚀刻液重新流入存储罐34。

即，压滤机42，如图3所示，与存储罐34中存储的蚀刻液所流入的第一清洗线44连接，并与在通过压滤机42的同时得到净化的蚀刻液重新流入存储罐34的第二清晰线46连接。

此类压滤机，在经过了一定的使用时间之后，过滤布的污染比较严重的话，可替换为新的过滤布。此类压滤机是一般广泛地使用的结构，在此省略其详细说明。

盘式过滤器200，如图6所示，过滤原理是，将板状的盘形过滤器积层，实施高速旋转，使含有污染物质的蚀刻液的成分经过盘表面上形成的过滤器凹凸空隙，包括：盘式过滤器积层群(未示出)，其具备聚积异物的细小沟槽，并以多个积层；加压单元(未示出)，其形成在盘式过滤器上部，进行盘式过滤器积层群的加压或解除加压；盒230，其收容盘式过滤器积层群和加压单元；入口212，其安装在盒230上，与连接到蚀刻液存储罐34的流入管31相连，使含有异物的蚀刻液流入盒内部；出口210，其与供应管32连接，将净化完的蚀刻液供应给蚀刻腔室16。

在这里，此盘式过滤器积层群与加压单元是盘式过滤器中一般广泛地使用的结构，在此省略其详细说明。

此外，盘式过滤器200与浆料罐218相连，所述浆料罐218用于去除盘式过滤器积层群的细小沟槽中夹有的浆料。

浆料罐218上连接有供应线216和回收线214，该供应线216从供应管32中分支出来，将反冲洗液供应至盘式过滤器200内部，回收线214从流入管31中分支出来，从盘式过滤器200中回收反冲洗液。此外，供应线216中安装有泵取反冲洗液的泵260。

此外，在供应线216与供应管32分支的地方安装有第一三向阀224用于转换流路，在回收线214和流入管31分支的地方安装有第二三向阀220用于转换流路。

在这里，浆料罐218上连接有压滤机250，可将浆料罐218内存储的反冲洗液进行过滤。在这里，压滤机250通过第一线252和第二线254连接到浆料罐218，由于其与上面所述的压滤机42的结构相同，因而在此省略其详细说明。

观察此盘式过滤器的作用，当含有异物的蚀刻液从存储罐34中通过流入管31流入盘式过滤器200内部时，驱动加压单元来对盘式过滤器积层群加压，在去除蚀刻液中含有的浆料等异物之后，通过供应管32供应至蚀刻腔室16。

此时，第一三向阀224打开为连通供应管32和出口210的位置，第二三向阀220打开为连通流入管31和入口212。在执行此类蚀刻液过滤操作的过程中，在盘式过滤器积层群的细小沟槽中聚积很多浆料时，实施去除浆料的反冲洗工艺。

观察盘式过滤器的反冲洗工艺，第一三向阀进行连接出口和供应线216的操作，且第二三向阀220进行连接入口212和回收线216的操作。

在这种状态下，浆料罐218的泵进行运作，浆料罐218中存储的反冲洗液通过供应线216被供应，通过盒230的出口210，清洗液被压入盒的内部。这样一来，盘式过滤器积层群的盘之间的间隔被打开，浆料被反冲洗液冲洗掉，完成反冲洗操作之后的反冲洗液通过盒230的入口排出，通过回收线214回收至浆料罐218内部。

在此，反冲洗液使用和存储罐34中存储的蚀刻液相同的蚀刻液，来防止蚀刻液的浓度变化。

此外，浆料罐218，与压滤机250连接，浆料罐218中存储的反冲洗液在通过压滤机的同时被净化。

图7是示出根据本发明的一个实施例的暗盒单元的立体图；图8是示出根据本发明的一个实施例的暗合单元的侧视图。

暗盒单元50，负责移送玻璃100，其将多块玻璃100以一定的间隔放置并竖直排列收容，用于将玻璃向腔室单元10中放入和引出。

此暗盒单元50包括：构架300，其具有上侧、前面、后面均为开放的四角箱的形态；第一导轨318，其连接到构架300的前面及后面中央；第二导轨316，其连接到构架300的前面和后面上端；下面支持单元330，其分多个排列在构架300的底面上，支持玻璃100的下面；第一夹具326、328，其排置在第一导轨318上，可进行直线移动，抓持玻璃100的两端中央；第二夹具322、324，其排置在第二导轨316上，可进行直线移动，抓持玻璃100的上端两侧。

下面支持单元330，沿构架300的前后方向竖直地固定，在构架300的侧方向上以一定间隔排列。此外，玻璃100沿构架300的前后方向以一定间隔排列。

下面支持单元330包括：第一支持条334，其在构架300的底面上竖直地固定；第二支持条332，其装配在第一支持条334上，长度可以调整，上有相隔一定间隔的凹进的插入槽336，以支持玻璃100的底面。

在此，下面支持单元330，第一支持杆334和第二支持杆332安装地可以相互调整长度，根据玻璃100的高度适当地对应。即，当玻璃100的上下方向长度较短时，将第一支持杆334和第二支持杆332的长度调长，当玻璃100的上下方向长度较长时，将第一支持杆334和第二支持杆332的长度调短。

第一夹具326、328包括：移动部件326，其两端插入构架300的前面和后面安装有的第一导轨318之间，沿第一导轨318移动；箝位(clamping)部件328，其在上述移动部件326上以一定的间隔排列，各自合页(hinge)连接到移动部件326上，抓持玻璃100的中央侧两面。

第二夹具322、324包括：移动部件322，其两端插入构架100的前面和后面安装有的第二导轨316之间，可沿第二导轨316移动；箝位部件324，其在上述移动部件326上以一定的间隔排列，各自抓持玻璃100的上端侧两面。

在此，筘位部件324、328，依合页轴325，可旋转地结合在移动部件322、326上，排列成一列的多个筘位部件相互连接，一列侧筘位部件可以一体旋转。即，箝位部件之间互相连接，旋转一个筘位部件的话其他箝位部件也会一起旋转。

在此，第一夹具326、328和第二夹具322、324，具有在构架的侧方向以一个或一个以上的组合排置、沿构架的侧方向玻璃被排列为一列或两列以上的结构。

此外，第一夹具326、328和第二夹具322、324，被排置为各自可沿第一导轨318和第二导轨316的长度方向移动，可根据玻璃100的两边侧方向的长度变化来调整夹具之间的间隔。

此外，沿构架300的侧方向，固定有间隔一定间隔来支持玻璃的侧面的支持条350，支持条350上安装有可旋转的在插入和引出玻璃100时抓持玻璃100的辊36。

在这里，支持条350，除上述结构以外，还可以应用以下结构，即，沿构架的竖直方向以一定间隔排列并在支持条的侧面安装弹性针来支持玻璃的侧面。

此外，在构架300的下侧，装配有固定托架(bracket)312，该固定托架以螺栓314等装配到额外的移送装置上，移送装置与驱动装置连接，当驱动装置运作时，移送装置直线移动，来带动暗盒单元50直线移动。

以上对根据本发明的实施例进行了说明，但其只不过是在距离，本领域一般技术人员应该理解，可从该记载中进行各种变形，也可在等同范围内实施其他实施例。由此，本发明的真正技术保护范围由后附的权利要求范围定义。

[附图标号说明]

10：腔室单元          64：第二门，

12：加载腔室          74、76、78：挡板

14：清洗腔室          30 80：热交换单元

16：蚀刻腔室，        84：开口单元

20：清洗液循环单元    85：门

25：清洗液存储罐      86：沟槽

26：过滤器            100：玻璃

27：泵                35 102：加热单元

28：喷嘴，            104：冷却单元

30：蚀刻液循环单元    150：加热/冷却装置

34：蚀刻液存储罐      200：盘式过滤器

35：喷嘴              230：盒

38：泵                40 220、224：三向阀

40：蚀刻液过滤装置    218：浆料罐

50：暗盒单元，        300：构架

62：第一门            316：第一导轨

318：第二导轨                 326、328：第二夹具

322、324：第一夹具            330：下部支持单元

Claims (10)

1.一种玻璃薄形化系统，包括：

腔室单元，其具备清洗玻璃的清洗腔室和向玻璃表面喷洒蚀刻液的蚀刻腔室，按次序实施对竖直地排列的多块玻璃的清洗工艺、蚀刻工艺、清洗工艺来将玻璃薄形化；

暗盒单元，其竖直地收容多块玻璃，向腔室单元中放入和引出玻璃；

清洗液循环单元，其被排置在比所述腔室单元低的位置，将清洗液存储罐中存储的清洗液供应给清洗腔室，并回收完成玻璃清洗的清洗液；和

蚀刻液循环单元，其被排置在比所述腔室单元低的位置，将蚀刻液存储罐中存储的蚀刻液供应给清洗腔室，并回收完成玻璃蚀刻的蚀刻液。

2.如权利要求1所述的玻璃薄形化系统，其中，所述腔室单元进一步包括：

加载腔室，其排置在所述清洗腔室的整体上，加载收容多块玻璃的暗盒单元，

所述加载腔室和所述清洗腔室之间安装有开闭两个腔室中间的第一门，所述清洗腔室和所述蚀刻腔室之间安装有开闭两个腔室中间的第二门。

3.如权利要求1所述的玻璃薄形化系统，其中，所述蚀刻液循环单元包括：

喷嘴，其排列在所述蚀刻腔室的上侧，向玻璃上喷洒蚀刻液；

蚀刻液存储罐，其被排置在比所述蚀刻腔室低的位置，存储蚀刻液；

供应管，其连接在蚀刻液存储罐与喷嘴之间，安装有泵，向喷嘴供应蚀刻液；和

回流管，其连接在蚀刻腔室与蚀刻液存储罐之间，将完成玻璃蚀刻的蚀刻液回流至蚀刻液存储罐。

4.如权利要求3所述的玻璃薄形化系统，其中，

所述蚀刻液存储罐，安装为在上面门可以开闭，并在内部安装有将存储罐内部划分为多个区域的、高度互不相同的、具有一定间隔的多个挡板，并具备用于将蚀刻液的温度保持一定的加热/冷却装置，

所述挡板被形成为，从安装回收蚀刻液的回流管的部分到安装向蚀刻腔室供应蚀刻液的供应管的位置顺序排列，越靠近供应管侧，挡板的高度越低。

5.如权利要求4所述的玻璃薄形化系统，其中，所述蚀刻液存储罐的上面具备开口单元，所述开口单元的周长面上具备乘放液体的沟槽，沿所述门的下侧方向，折曲的边缘插入沟槽中，由液体来执行门密封作用。

6.如权利要求3所述的玻璃薄形化系统，其进一步包括：

压滤机，其过滤所述蚀刻液存储罐中存储的蚀刻液，

所述压滤机安装在蚀刻液存储罐上，蚀刻液存储罐中存储的蚀刻液被注入压滤机，通过所述压滤机的同时被过滤的蚀刻液被回收至蚀刻液存储罐。

7.如权利要求3所述的玻璃薄形化系统，其进一步包括：

盘式过滤器，其过滤被供应给所述蚀刻液腔室的蚀刻液，

所述盘式过滤器包括：

出口，其装配有与蚀刻腔室连接的供应管；

盒，其具有入口，该入口装配有连接蚀刻液存储罐的流入管；

盘式过滤器积层群，其排置在盒内部，由多个盘积层而成；和

加压单元，其安装在所述盘式过滤器积层群的上部，对所述盘式过滤器积层群加压或解除加压。

8.如权利要求7所述的玻璃薄形化系统，其中，

所述盘式过滤器进一步包括：

浆料罐，其执行去除盘之间夹着的浆料的反冲洗过程，

所述浆料罐，安装有泵来将浆料罐中存储的反冲洗液引入所述出口，在依所述被引入的反冲洗液的压力使所述盘式过滤器积层群的加压被解除的状态下，所述反冲洗液与所述盘式过滤器积层群中夹着的浆料一起，通过所述盒的出口被回收入浆料罐。

9.如权利要求1所述的玻璃薄形化系统，其中，所述暗盒单元包括：

构架；

下面支持单元，其多个排列在所述构架的底面上，支持玻璃的下面；

夹具，其安装在所述构架的侧面，夹持玻璃的两侧末端；和

支持条，其接触玻璃的两侧表面，在所述构架上以一定间隔排列来保持玻璃之间的间隔。

10.如权利要求9所述的玻璃薄形化系统，其中，所述下面支持单元包括：

第一支持杆，其竖直地固定在所述构架的底面上；和

第二支持杆，其装配在所述第一支持杆上，可以调整长度，具备凹入并具有一定间隔的插入孔，来支持所述玻璃的底面。

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