CN207641303U - 可改善处理均度的膜组件清洗装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种可改善处理均度的膜组件清洗装置，其包括有清洗药槽，其内部填充有清洗药液，清洗药槽的内壁之上设置有采用环形结构的支撑端架，清洗药槽的内壁之上设置有多个在竖直方向上进行延伸的导向槽体，支撑端架之上设置有延伸至导向槽体内部的导向端体，导向槽体与导向端体均采用“T”形结构；所述支撑端架之上连接有升降丝杆；上述可改善处理均度的膜组件清洗装置较于传统的膜组件清洗装置，其可避免液流直接对于膜组件形成冲击，进而有效避免膜组件在清洗过程中受到损坏；与此同时，膜组件在进行清洗过程中的任意位置均可与清洗药液之间产生均匀的冲刷，进而使其整体清洗均度得以显著改善。
Description
技术领域
本发明涉及污水处理领域，尤其是一种可改善处理均度的膜组件清洗装置。
背景技术
膜组件是污水过滤处理过程中常见的设备之一，其可对于待处理污水中的污物进行高效的过滤处理；然而，膜组件进行长时间清洁处理后其往往会积累大量的污物，以使其过滤效果受到严重影响。针对上述情形，现有的处理方式是采用水流直喷的方式对于膜组件进行清洗，但上述清洗方式在清洗过程中一方面易于对膜组件本身造成损伤，同时由于其清洗位置相对固定，故难以确保良好的清洁均度。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种膜组件清洗装置，其可使得膜组件的清洗均度得以显著改善，同时确保膜组件在清洗过程中不受损坏。
为解决上述技术问题，本发明涉及一种可改善处理均度的膜组件清洗装置，其包括有清洗药槽，其内部填充有清洗药液，清洗药槽的内壁之上设置有采用环形结构的支撑端架，清洗药槽的内壁之上设置有多个在竖直方向上进行延伸的导向槽体，支撑端架之上设置有延伸至导向槽体内部的导向端体，导向槽体与导向端体均采用“T”形结构；所述支撑端架之上连接有升降丝杆。
作为本发明的一种改进，所述升降丝杆与支撑端架的连接端部设置有振动电机，其可对于支撑端架以及清洁处理过程中的膜组件进行实时振动处理，进而使得膜组件与清洁药液相对运动过程中的清洁效果得以进一步的改善。
作为本发明的一种改进，所述清洗药槽之中，支撑端架的上端与下端分别设置有一个扰流装置，扰流装置包括有扰流轴，其通过设置在清洗药槽外部的扰流电机进行驱动，扰流轴之上设置有多个扰流叶片，扰流叶片相对于竖直平面呈倾斜延伸。采用上述技术方案，其可通过扰流装置的设置以使其形成相对于膜组件呈竖直方向的液流，进而使得液流对于膜组件的冲刷效果得以进一步的改善。
作为本发明的一种改进，所述清洗药槽之中，支撑端架的上端与下端分别设置有多个过滤管道，过滤管道包括有溢流端部与回流端部，过滤管道的溢流端部与支撑端板之间的距离小于回流端部与支撑端板之间的距离，过滤管道的溢流端部与回流端部之间设置有采用“U”形结构的过滤腔，过滤腔内部设置有滤网；所述过滤管道的溢流端部位于支撑端架以及扰流装置之间。采用上述技术方案，其可使得膜组件在清洁构成中剥离而下的污物可在液流作用下朝向个过滤管道内进行流动，由于过滤管道内部“U”形过滤腔以及滤网的设置，上述污物会堆积在过滤腔底部，而清洁药液则可经由过滤管道的回流端部回到清洗药槽内部，进而使得清洁药槽内的污物可得以实时清除处理。
采用上述技术方案的可改善处理均度的膜组件清洗装置，其可将待进行清洗处理的膜组件放置在清洗药槽内部，并使其搭载在支撑端架之上；支撑端架可在升降丝杆的作用下带动膜组件在清洗药槽内部沿竖直方向进行运动，进而使得膜组件可在其升降过程中与清洗药槽内的清洗药液形成相对运动，以通过清洗药液对于膜组件的冲刷处理完成对于膜组件的清洗。上述可改善处理均度的膜组件清洗装置较于传统的膜组件清洗装置，其可避免液流直接对于膜组件形成冲击，进而有效避免膜组件在清洗过程中受到损坏；与此同时，膜组件在进行清洗过程中的任意位置均可与清洗药液之间产生均匀的冲刷，进而使其整体清洗均度得以显著改善。
附图说明
图1为本发明示意图；
图2为本发明中导向槽体示意图；
附图标记列表：
1—清洗药槽、2—支撑端架、3—导向槽体、4—导向端体、5—升降丝杆、6—振动电机、7—扰流轴、8—扰流电机、9—扰流叶片、10—过滤管道、1001—过滤腔、11—溢流端板、12—回流端部、13—滤网。
具体实施方式
下面结合具体实施方式与附图，进一步阐明本发明，应理解下述具体实施方式仅用于说明本发明而不用于限制本发明的范围。需要说明的是，下面描述中使用的词语“前”、“后”、“左”、“右”、“上”和“下”指的是附图中的方向，词语“内”和“外”分别指的是朝向或远离特定部件几何中心的方向。
实施例1
如图1与图2所示的一种可改善处理均度的膜组件清洗装置，其包括有清洗药槽1，其内部填充有清洗药液，清洗药槽1的内壁之上设置有采用环形结构的支撑端架2，清洗药槽1的内壁之上设置有多个在竖直方向上进行延伸的导向槽体3，支撑端架2之上设置有延伸至导向槽体3内部的导向端体4，导向槽体3与导向端体4均采用“T”形结构；所述支撑端架2之上连接有升降丝杆5。
采用上述技术方案的可改善处理均度的膜组件清洗装置，其可将待进行清洗处理的膜组件放置在清洗药槽内部，并使其搭载在支撑端架之上；支撑端架可在升降丝杆的作用下带动膜组件在清洗药槽内部沿竖直方向进行运动，进而使得膜组件可在其升降过程中与清洗药槽内的清洗药液形成相对运动，以通过清洗药液对于膜组件的冲刷处理完成对于膜组件的清洗。上述可改善处理均度的膜组件清洗装置较于传统的膜组件清洗装置，其可避免液流直接对于膜组件形成冲击，进而有效避免膜组件在清洗过程中受到损坏；与此同时，膜组件在进行清洗过程中的任意位置均可与清洗药液之间产生均匀的冲刷，进而使其整体清洗均度得以显著改善。
实施例2
作为本发明的一种改进，所述升降丝杆5与支撑端架2的连接端部设置有振动电机6，其可对于支撑端架以及清洁处理过程中的膜组件进行实时振动处理，进而使得膜组件与清洁药液相对运动过程中的清洁效果得以进一步的改善。
本实施例其余特征与优点均与实施例1相同。
实施例3
作为本发明的一种改进，所述清洗药槽1之中，支撑端架的2上端与下端分别设置有一个扰流装置，扰流装置包括有扰流轴7，其通过设置在清洗药槽1外部的扰流电机8进行驱动，扰流轴7之上设置有多个扰流叶片8，扰流叶片相对于竖直平面呈倾斜延伸。采用上述技术方案，其可通过扰流装置的设置以使其形成相对于膜组件呈竖直方向的液流，进而使得液流对于膜组件的冲刷效果得以进一步的改善。
本实施例其余特征与优点均与实施例2相同。
实施例4
作为本发明的一种改进，所述清洗药槽1之中，支撑端架2的上端与下端分别设置有多个过滤管道10，过滤管道10包括有溢流端部11与回流端部12，过滤管道10的溢流端部11与支撑端板2之间的距离小于回流端部12与支撑端板2之间的距离，过滤管道10的溢流端部11与回流端部12之间设置有采用“U”形结构的过滤腔1001，过滤腔1001内部设置有滤网13；所述过滤管道10的溢流端部11位于支撑端架2以及扰流装置之间。采用上述技术方案，其可使得膜组件在清洁构成中剥离而下的污物可在液流作用下朝向个过滤管道内进行流动，由于过滤管道内部“U”形过滤腔以及滤网的设置，上述污物会堆积在过滤腔底部，而清洁药液则可经由过滤管道的回流端部回到清洗药槽内部，进而使得清洁药槽内的污物可得以实时清除处理。
本实施例其余特征与优点均与实施例3相同。
Claims (4)
1.一种可改善处理均度的膜组件清洗装置，其特征在于，所述可改善处理均度的膜组件清洗装置包括有清洗药槽，其内部填充有清洗药液，清洗药槽的内壁之上设置有采用环形结构的支撑端架，清洗药槽的内壁之上设置有多个在竖直方向上进行延伸的导向槽体，支撑端架之上设置有延伸至导向槽体内部的导向端体，导向槽体与导向端体均采用“T”形结构；所述支撑端架之上连接有升降丝杆。
2.按照权利要求1所述的可改善处理均度的膜组件清洗装置，其特征在于，所述升降丝杆与支撑端架的连接端部设置有振动电机。
3.按照权利要求1所述的可改善处理均度的膜组件清洗装置，其特征在于，所述清洗药槽之中，支撑端架的上端与下端分别设置有一个扰流装置，扰流装置包括有扰流轴，其通过设置在清洗药槽外部的扰流电机进行驱动，扰流轴之上设置有多个扰流叶片，扰流叶片相对于竖直平面呈倾斜延伸。
4.按照权利要求3所述的可改善处理均度的膜组件清洗装置，其特征在于，所述清洗药槽之中，支撑端架的上端与下端分别设置有多个过滤管道，过滤管道包括有溢流端部与回流端部，过滤管道的溢流端部与支撑端板之间的距离小于回流端部与支撑端板之间的距离，过滤管道的溢流端部与回流端部之间设置有采用“U”形结构的过滤腔，过滤腔内部设置有滤网；所述过滤管道的溢流端部位于支撑端架以及扰流装置之间。
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| CN201721323255.7U CN207641303U (zh) | 2017-10-16 | 2017-10-16 | 可改善处理均度的膜组件清洗装置 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107617341A (zh) * | 2017-10-16 | 2018-01-23 | 陈永石 | 可改善处理均度的膜组件清洗装置 |
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2017
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Granted publication date: 20180724 Termination date: 20181016 |