JP2013012639A - パターン描画装置およびパターン描画方法 - Google Patents
パターン描画装置およびパターン描画方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013012639A JP2013012639A JP2011145325A JP2011145325A JP2013012639A JP 2013012639 A JP2013012639 A JP 2013012639A JP 2011145325 A JP2011145325 A JP 2011145325A JP 2011145325 A JP2011145325 A JP 2011145325A JP 2013012639 A JP2013012639 A JP 2013012639A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- state
- light
- substrate
- optical path
- pattern drawing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 26
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 94
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 109
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 34
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 11
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 18
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 12
- 238000013461 design Methods 0.000 description 9
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 9
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 8
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 7
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
【解決手段】1組の固定リボンと可動リボンとの組み合わせである格子要素5を配列した回折格子型の空間光変調器にて空間変調された光を生成し、格子要素5の配列方向に垂直な方向に基板を移動することにより基板上にパターンを描画するパターン描画装置において、格子要素5が、可動反射面を経由する光路と固定反射面を経由する光路との光路長差が光の波長の0倍以上の整数倍に半波長を加えた長さとなるOFF状態、光路長差が光の波長の上記整数倍となるON状態、ON状態とOFF状態との間の中間状態、および、中間状態とON状態との間の不完全ON状態になることが可能である。パターンの描画時には、OFF状態、中間状態および不完全ON状態の格子要素5がこの順で並ぶ。
【選択図】図15
Description
9 基板
10 ステージ
20 ステージ移動機構
40 光学ユニット
62 描画データ生成部
100 パターン描画装置
412 レーザ発振器
422 空間光変調器
511 可動反射面
521 固定反射面
S11〜S18 ステップ
Claims (10)
- パターン描画装置であって、
基板を支持する支持部と、
前記基板に空間変調された光を照射する光照射部と、
前記基板を前記光照射部に対して相対的に移動する移動機構と、
前記光照射部および前記移動機構を制御するためのデータを生成する描画データ生成部と、
を備え、
前記光照射部が、
光源と、
複数の格子要素が一列に配列された回折格子型かつ反射型の空間光変調器と、
を備え、
前記基板の前記移動機構による相対移動方向が、前記複数の格子要素の配列方向に対応する前記基板上の方向に対して交差する方向であり、
前記複数の格子要素のそれぞれが、前記配列方向に垂直な方向に延びる1つの固定反射面と1つの可動反射面との組み合わせであり、前記可動反射面が、前記可動反射面に垂直な方向に移動可能であり、
前記複数の格子要素のそれぞれが、前記可動反射面を経由する光路と前記固定反射面を経由する光路との光路長差が前記光の波長の0倍以上の整数倍に半波長を加えた長さとなる第1の状態、前記光路長差が前記光の波長の前記整数倍となる第2の状態、前記第2の状態と前記第1の状態との間の第3の状態、および、前記第3の状態と前記第2の状態との間の第4の状態になることが可能であり、
前記描画データ生成部が、前記複数の格子要素にそれぞれ対応づけられた複数の指示値において、前記第1の状態を格子要素に指示する指示値と、前記第3の状態を格子要素に指示する指示値と、前記第2の状態を格子要素に指示する指示値とがこの順に並ぶ場合に、前記第3の状態を指示する前記指示値に連続する少なくとも1つの前記第2の状態を指示する指示値を、前記第4の状態を指示する指示値へと変更することを特徴とするパターン描画装置。 - 請求項1に記載のパターン描画装置であって、
前記第3の状態と前記第2の状態との間における前記可動反射面を経由する光路の光路長差が、前記波長の1/4であることを特徴とするパターン描画装置。 - 請求項2に記載パターン描画装置であって、
前記第4の状態を指示する指示値に変更される指示値の数が、3であることを特徴とするパターン描画装置。 - 請求項3に記載のパターン描画装置であって、
前記第4の状態と前記第2の状態との間における前記可動反射面を経由する光路の光路長差が、前記波長の1/6であることを特徴とするパターン描画装置。 - 請求項1ないし4のいずれかに記載のパターン描画装置であって、
前記基板が半導体基板であることを特徴とするパターン描画装置。 - パターン描画方法であって、
a)基板を光照射部に対して相対的に移動する工程と、
b)前記a)工程と並行して、前記光照射部から前記基板に空間変調された光を照射する工程と、
を備え、
前記光照射部が、
光源と、
複数の格子要素が一列に配列された回折格子型かつ反射型の空間光変調器と、
を備え、
前記基板の前記光照射部に対する相対移動方向が、前記複数の格子要素の配列方向に対応する前記基板上の方向に対して交差する方向であり、
前記複数の格子要素のそれぞれが、前記配列方向に垂直な方向に延びる1つの固定反射面と1つの可動反射面との組み合わせであり、前記可動反射面が、前記可動反射面に垂直な方向に移動可能であり、
前記複数の格子要素のそれぞれが、前記可動反射面を経由する光路と前記固定反射面を経由する光路との光路長差が前記光の波長の0倍以上の整数倍に半波長を加えた長さとなる第1の状態、前記光路長差が前記光の波長の前記整数倍となる第2の状態、前記第2の状態と前記第1の状態との間の第3の状態、および、前記第3の状態と前記第2の状態との間の第4の状態になることが可能であり、
前記b)工程において、前記第1の状態の格子要素と、前記第3の状態の格子要素と、前記第4の状態の格子要素とがこの順で並ぶことを特徴とするパターン描画方法。 - 請求項6に記載のパターン描画方法であって、
前記第3の状態と前記第2の状態との間における前記可動反射面を経由する光路の光路長差が、前記波長の1/4であることを特徴とするパターン描画方法。 - 請求項7に記載パターン描画方法であって、
前記第4の状態の3つの格子要素が連続して並ぶことを特徴とするパターン描画方法。 - 請求項8に記載のパターン描画方法であって、
前記第4の状態と前記第2の状態との間における前記可動反射面を経由する光路の光路長差が、前記波長の1/6であることを特徴とするパターン描画方法。 - 請求項6ないし9のいずれかに記載のパターン描画方法であって、
前記基板が半導体基板であることを特徴とするパターン描画方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011145325A JP5722136B2 (ja) | 2011-06-30 | 2011-06-30 | パターン描画装置およびパターン描画方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011145325A JP5722136B2 (ja) | 2011-06-30 | 2011-06-30 | パターン描画装置およびパターン描画方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013012639A true JP2013012639A (ja) | 2013-01-17 |
JP5722136B2 JP5722136B2 (ja) | 2015-05-20 |
Family
ID=47686270
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011145325A Active JP5722136B2 (ja) | 2011-06-30 | 2011-06-30 | パターン描画装置およびパターン描画方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5722136B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20160038790A (ko) * | 2014-09-30 | 2016-04-07 | 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 | 패턴 형성 장치 및 패턴 형성 방법 |
CN109952538A (zh) * | 2016-11-10 | 2019-06-28 | Asml荷兰有限公司 | 测量系统、光刻系统和测量目标的方法 |
WO2022038683A1 (ja) * | 2020-08-18 | 2022-02-24 | 株式会社ニコン | 露光装置、計測装置、計測方法、およびデバイス製造方法 |
WO2023282205A1 (ja) * | 2021-07-05 | 2023-01-12 | 株式会社ニコン | 露光装置及びデバイス製造方法 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004284348A (ja) * | 2003-03-06 | 2004-10-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成方法および装置 |
JP2005244239A (ja) * | 2004-02-27 | 2005-09-08 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
JP2006309243A (ja) * | 2005-04-28 | 2006-11-09 | Asml Holdings Nv | スーパーピクセル形式の可傾ミラーを用いた光パターン形成装置 |
JP2007121881A (ja) * | 2005-10-31 | 2007-05-17 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 画像記録装置 |
JP2007310263A (ja) * | 2006-05-22 | 2007-11-29 | Fujifilm Corp | 画像記録方法及び装置並びにその調整方法 |
JP2009086032A (ja) * | 2007-09-27 | 2009-04-23 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 画像記録装置 |
JP2009237917A (ja) * | 2008-03-27 | 2009-10-15 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | データ変換方法、描画システムおよびプログラム |
JP2010015176A (ja) * | 1998-03-02 | 2010-01-21 | Micronic Laser Syst Ab | アドレス・レゾリューションが改善されたパターン・ジェネレータ |
JP2011065223A (ja) * | 2009-09-15 | 2011-03-31 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | データ変換方法、描画システムおよびプログラム |
-
2011
- 2011-06-30 JP JP2011145325A patent/JP5722136B2/ja active Active
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010015176A (ja) * | 1998-03-02 | 2010-01-21 | Micronic Laser Syst Ab | アドレス・レゾリューションが改善されたパターン・ジェネレータ |
JP2004284348A (ja) * | 2003-03-06 | 2004-10-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成方法および装置 |
JP2005244239A (ja) * | 2004-02-27 | 2005-09-08 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
JP2006309243A (ja) * | 2005-04-28 | 2006-11-09 | Asml Holdings Nv | スーパーピクセル形式の可傾ミラーを用いた光パターン形成装置 |
JP2007121881A (ja) * | 2005-10-31 | 2007-05-17 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 画像記録装置 |
JP2007310263A (ja) * | 2006-05-22 | 2007-11-29 | Fujifilm Corp | 画像記録方法及び装置並びにその調整方法 |
JP2009086032A (ja) * | 2007-09-27 | 2009-04-23 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 画像記録装置 |
JP2009237917A (ja) * | 2008-03-27 | 2009-10-15 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | データ変換方法、描画システムおよびプログラム |
JP2011065223A (ja) * | 2009-09-15 | 2011-03-31 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | データ変換方法、描画システムおよびプログラム |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20160038790A (ko) * | 2014-09-30 | 2016-04-07 | 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 | 패턴 형성 장치 및 패턴 형성 방법 |
KR102218136B1 (ko) | 2014-09-30 | 2021-02-19 | 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 | 패턴 형성 장치 및 패턴 형성 방법 |
CN109952538A (zh) * | 2016-11-10 | 2019-06-28 | Asml荷兰有限公司 | 测量系统、光刻系统和测量目标的方法 |
WO2022038683A1 (ja) * | 2020-08-18 | 2022-02-24 | 株式会社ニコン | 露光装置、計測装置、計測方法、およびデバイス製造方法 |
WO2023282205A1 (ja) * | 2021-07-05 | 2023-01-12 | 株式会社ニコン | 露光装置及びデバイス製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5722136B2 (ja) | 2015-05-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5722136B2 (ja) | パターン描画装置およびパターン描画方法 | |
JP5697188B2 (ja) | 露光装置および露光方法 | |
KR100875361B1 (ko) | 패턴 묘화 장치 및 패턴 묘화 방법 | |
KR101506388B1 (ko) | 묘화 장치, 및, 묘화 방법 | |
JP5703069B2 (ja) | 描画装置および描画方法 | |
JP6117593B2 (ja) | 描画装置および描画方法 | |
KR101802561B1 (ko) | 노광 장치용의 gui 장치, 노광 시스템, 노광 조건 설정 방법 및 프로그램 | |
TWI645255B (zh) | 描繪方法 | |
KR102269979B1 (ko) | 묘화 장치, 및 묘화 방법 | |
KR101917014B1 (ko) | 직접 묘화 장치용의 gui 장치, 직접 묘화 시스템, 묘화 영역 설정 방법 및 프로그램 | |
JP2013190505A (ja) | 描画装置および描画方法 | |
JP2012079740A (ja) | パターン描画装置 | |
JP2017067888A (ja) | 描画装置および位置情報取得方法 | |
KR101800990B1 (ko) | 패턴 묘화 장치용의 gui 장치, 패턴 묘화 시스템, 잡 티켓 갱신 방법 및 프로그램 | |
JP5872310B2 (ja) | 描画装置、テンプレート作成装置、および、テンプレート作成方法 | |
JP2013138100A (ja) | 描画装置および描画方法 | |
JP2015022067A (ja) | パターン描画装置およびパターン描画方法 | |
TW202234475A (zh) | 描繪裝置、描繪系統以及描繪方法 | |
JP2013003534A (ja) | 描画装置および描画方法 | |
JP2010021409A (ja) | 露光方法、露光装置および基板製造方法。 | |
JP2014067844A (ja) | 描画装置および描画方法 | |
JP2012208341A (ja) | パターン描画装置、パターン描画方法 | |
JP2012169356A (ja) | 描画装置、光学ユニット及び描画方法 | |
JP2014235342A (ja) | 露光描画装置、露光描画方法およびプログラム | |
JP2009300912A (ja) | 画像記録装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140303 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20141120 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20141125 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150114 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150305 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150325 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5722136 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |