JP2007121881A - 画像記録装置 - Google Patents
画像記録装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007121881A JP2007121881A JP2005316731A JP2005316731A JP2007121881A JP 2007121881 A JP2007121881 A JP 2007121881A JP 2005316731 A JP2005316731 A JP 2005316731A JP 2005316731 A JP2005316731 A JP 2005316731A JP 2007121881 A JP2007121881 A JP 2007121881A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- photosensitive material
- image recording
- recording apparatus
- state
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70791—Large workpieces, e.g. glass substrates for flat panel displays or solar panels
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/435—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
- B41J2/465—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using masks, e.g. light-switching masks
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70283—Mask effects on the imaging process
- G03F7/70291—Addressable masks, e.g. spatial light modulators [SLMs], digital micro-mirror devices [DMDs] or liquid crystal display [LCD] patterning devices
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Sustainable Development (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Printers Or Recording Devices Using Electromagnetic And Radiation Means (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
Abstract
【解決手段】回折格子型の光変調素子33は、それぞれが可撓リボン331および固定リボン332の組合せである複数の格子要素333を有する。複数の格子要素333は回折状態と反射状態との間で個別に遷移可能とされ、光変調素子33からの0次光のみが感光材料上へと導かれる。感光材料上の光の照射位置は格子要素333の配列方向に対応する幅方向に垂直な方向に走査する。感光材料上の最小描画線幅は、光変調素子33上における2以上の所定個数分の格子要素333の幅に対応し、描画時に常に、所定個数以上の格子要素333が連続して回折状態とされ、かつ、所定個数以上の格子要素333が連続して反射状態とされる。これにより、幅方向に関して格子要素333の幅に対応する感光材料上の幅をアドレス分解能としつつ、感光材料上に画像を適切に記録することができる。
【選択図】図3
Description
9 感光材料
9a ガラス基板
22 ドラム回転機構
25 テーブル移動機構
30 描画制御部
31,31a 光源
33 光変調素子
34 ドライバ回路
36 投影光学系
331 可撓リボン
332 固定リボン
333,333a 格子要素
Claims (5)
- 光の照射により感光材料上に画像を記録する画像記録装置であって、
光を出射する光源と、
所定の配列方向に垂直な方向に伸びる複数の格子要素が前記配列方向に配列された回折格子型の光変調素子と、
前記光源からの光が照射される前記光変調素子からの0次光または(±1)次回折光のいずれかを感光材料上へと導く光学系と、
前記感光材料上における前記光変調素子からの光の照射位置を前記配列方向に対応する幅方向に垂直な走査方向に走査する走査機構と、
前記照射位置の走査に同期して、前記複数の格子要素のそれぞれを個別に回折状態と反射状態との間で遷移させる描画制御部と、
を備え、
前記感光材料上の最小描画線幅が、前記光変調素子上において2以上の所定個数分の格子要素の幅に対応し、
描画時に、常に、前記所定個数以上の格子要素が連続して回折状態とされ、かつ、前記所定個数以上の格子要素が連続して反射状態とされ、
各格子要素において状態の遷移が行われてから次の状態の遷移が行われるまでの間に前記照射位置が前記感光材料上を移動する距離が、前記最小描画線幅以上であり、かつ、前記最小描画線幅以下の距離の整数倍であることを特徴とする画像記録装置。 - 請求項1に記載の画像記録装置であって、
1つの格子要素が、前記配列方向に垂直な方向に伸びる帯状の固定反射面および帯状の可撓反射面を1組のみ有することを特徴とする画像記録装置。 - 請求項2に記載の画像記録装置であって、
前記所定個数が3以上であることを特徴とする画像記録装置。 - 請求項1ないし3のいずれかに記載の画像記録装置であって、
各格子要素において状態の遷移が行われてから次の状態の遷移が行われるまでの間に前記照射位置が前記感光材料上を移動する距離が、前記最小描画線幅を前記所定個数にて除した長さの整数倍であることを特徴とする画像記録装置。 - 請求項4に記載の画像記録装置であって、
前記照射位置が前記最小描画線幅に等しい距離を移動する際に各格子要素が回折状態と反射状態との間で遷移する時刻または遷移の不存在を示す情報が、前記照射位置が前記最小描画線幅の距離だけ移動する毎に前記描画制御部から前記光変調素子の駆動回路に入力されることを特徴とする画像記録装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005316731A JP4553313B2 (ja) | 2005-10-31 | 2005-10-31 | 画像記録装置 |
US11/544,745 US7589755B2 (en) | 2005-10-31 | 2006-10-10 | Apparatus and method for recording image on photosensitive material |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005316731A JP4553313B2 (ja) | 2005-10-31 | 2005-10-31 | 画像記録装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007121881A true JP2007121881A (ja) | 2007-05-17 |
JP4553313B2 JP4553313B2 (ja) | 2010-09-29 |
Family
ID=38016886
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005316731A Expired - Fee Related JP4553313B2 (ja) | 2005-10-31 | 2005-10-31 | 画像記録装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7589755B2 (ja) |
JP (1) | JP4553313B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009169879A (ja) * | 2008-01-21 | 2009-07-30 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | データ変換方法、描画システムおよびプログラム |
US7710628B2 (en) | 2006-09-07 | 2010-05-04 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Method and apparatus for correcting output light-amounts of spatial light modulator, image recording apparatus, and image recording method |
US8175422B2 (en) | 2008-12-26 | 2012-05-08 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Optical modulator |
JP2013012639A (ja) * | 2011-06-30 | 2013-01-17 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | パターン描画装置およびパターン描画方法 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5215018B2 (ja) * | 2008-03-28 | 2013-06-19 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 画像記録装置 |
US8390781B2 (en) * | 2008-09-23 | 2013-03-05 | Pinebrook Imaging Technology, Ltd. | Optical imaging writer system |
US8395752B2 (en) * | 2008-09-23 | 2013-03-12 | Pinebrook Imaging Technology, Ltd. | Optical imaging writer system |
JP5438448B2 (ja) * | 2009-09-24 | 2014-03-12 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 空間変調光生成装置および画像記録装置 |
KR20140061995A (ko) * | 2011-04-15 | 2014-05-22 | 인포바이오닉, 인크. | 멀티-티어 방식으로 분석하는 원격 데이터 모니터링 및 수집 시스템 |
TWI481967B (zh) * | 2011-05-24 | 2015-04-21 | Applied Materials Inc | 光學圖像寫成系統 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000168136A (ja) * | 1998-12-03 | 2000-06-20 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 露光記録装置 |
JP2001162866A (ja) * | 1999-10-18 | 2001-06-19 | Agfa Corp | 多書込み用ビーム源を有する光学式画像化ヘッド |
JP2002351086A (ja) * | 2001-03-22 | 2002-12-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | 露光装置 |
JP2003140355A (ja) * | 2001-11-08 | 2003-05-14 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 画像記録装置および出力光量補正方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4879605A (en) | 1988-02-29 | 1989-11-07 | Ateq Corporation | Rasterization system utilizing an overlay of bit-mapped low address resolution databases |
DE60120079T8 (de) * | 2000-10-31 | 2007-06-28 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Laserbestrahlungsgerät und Bildaufzeichnungsgerät |
DE10126676A1 (de) * | 2001-06-01 | 2002-12-05 | Bosch Gmbh Robert | Vorrichtung zur Bestimmung zumindest eines Parameters eines in einer Leitung strömenden Mediums mit einem Filter zur Aufnahme von Schadstoffen in der Leitung |
JP3530157B2 (ja) | 2001-08-16 | 2004-05-24 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 露光記録装置 |
DE60217034T2 (de) * | 2001-09-17 | 2007-10-11 | Fujifilm Corp. | Bildaufzeichnungsverfahren und -Vorrichtung |
JP4401658B2 (ja) * | 2002-03-25 | 2010-01-20 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 画像記録装置 |
US6728023B1 (en) * | 2002-05-28 | 2004-04-27 | Silicon Light Machines | Optical device arrays with optimized image resolution |
US7057795B2 (en) | 2002-08-20 | 2006-06-06 | Silicon Light Machines Corporation | Micro-structures with individually addressable ribbon pairs |
US20060033806A1 (en) * | 2004-08-16 | 2006-02-16 | Konica Minolta Business Technologies, Inc. | Optical signal generating apparatus, optical signal generating method, and image forming apparatus |
-
2005
- 2005-10-31 JP JP2005316731A patent/JP4553313B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-10-10 US US11/544,745 patent/US7589755B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000168136A (ja) * | 1998-12-03 | 2000-06-20 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 露光記録装置 |
JP2001162866A (ja) * | 1999-10-18 | 2001-06-19 | Agfa Corp | 多書込み用ビーム源を有する光学式画像化ヘッド |
JP2002351086A (ja) * | 2001-03-22 | 2002-12-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | 露光装置 |
JP2003140355A (ja) * | 2001-11-08 | 2003-05-14 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 画像記録装置および出力光量補正方法 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7710628B2 (en) | 2006-09-07 | 2010-05-04 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Method and apparatus for correcting output light-amounts of spatial light modulator, image recording apparatus, and image recording method |
JP2009169879A (ja) * | 2008-01-21 | 2009-07-30 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | データ変換方法、描画システムおよびプログラム |
US8175422B2 (en) | 2008-12-26 | 2012-05-08 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Optical modulator |
JP2013012639A (ja) * | 2011-06-30 | 2013-01-17 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | パターン描画装置およびパターン描画方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20070097387A1 (en) | 2007-05-03 |
JP4553313B2 (ja) | 2010-09-29 |
US7589755B2 (en) | 2009-09-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4553313B2 (ja) | 画像記録装置 | |
US7167296B2 (en) | Continuous direct-write optical lithography | |
TWI497231B (zh) | 以超越繞射極限光子直接寫入之裝置及方法 | |
US8395752B2 (en) | Optical imaging writer system | |
US8335999B2 (en) | System and method for optical shearing | |
JP6756989B2 (ja) | 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法 | |
JP5004279B2 (ja) | 空間光変調器における出力光量の補正方法、補正装置、画像記録装置および画像記録方法 | |
US8390781B2 (en) | Optical imaging writer system | |
JP5215018B2 (ja) | 画像記録装置 | |
KR100844262B1 (ko) | 패턴 묘화 장치 및 패턴 묘화 방법 | |
JP2011049296A (ja) | マスクレス露光方法 | |
JP2004326076A (ja) | パターン描画装置 | |
JP4212487B2 (ja) | レーザー・パターン・ジェネレータ | |
JP4273291B2 (ja) | 多重露光描画装置および多重露光描画方法 | |
JP2009086032A (ja) | 画像記録装置 | |
JP2009521108A (ja) | Slm直接描画装置 | |
JP2007003934A (ja) | マルチヘッド露光装置および露光方法 | |
JP2005353927A (ja) | パターン描画装置 | |
WO2022220211A1 (ja) | 描画装置および描画方法 | |
TWI529496B (zh) | 光學圖像寫成系統 | |
JP2010182934A (ja) | 描画装置および描画方法 | |
WO2022138079A1 (ja) | 描画装置、描画システムおよび描画方法 | |
TWI481967B (zh) | 光學圖像寫成系統 | |
TWI440991B (zh) | 光學圖像寫成系統 | |
JP2003059804A (ja) | パターン形成装置及びパターン製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071218 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100205 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100405 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100709 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100709 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130723 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130723 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130723 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |