JP2012505533A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102008050446B4 (de) 2008-10-08 2011-07-28 Carl Zeiss SMT GmbH, 73447 Verfahren und Vorrichtungen zur Ansteuerung von Mikrospiegeln
CN102349026B (zh) 2009-03-13 2015-07-29 卡尔蔡司Smt有限责任公司 微光刻投射曝光设备
DE102010062720B4 (de) 2010-12-09 2012-07-12 Carl Zeiss Smt Gmbh EUV-Lithographiesystem
WO2012169089A1 (ja) 2011-06-07 2012-12-13 株式会社ニコン 照明光学系、露光装置、デバイス製造方法、および偏光ユニット
TWI587002B (zh) 2011-06-13 2017-06-11 尼康股份有限公司 照明方法
WO2013061858A1 (ja) 2011-10-24 2013-05-02 株式会社ニコン 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
US9732934B2 (en) 2011-10-28 2017-08-15 Nikon Corporation Illumination device for optimizing polarization in an illumination pupil
JP5918858B2 (ja) 2011-11-15 2016-05-18 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー マイクロリソグラフィ投影露光装置の光変調器及び照明系
DE102013201506A1 (de) 2012-02-17 2013-08-22 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches Bauelement
DE102013201509A1 (de) 2012-02-17 2013-08-22 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches Bauelement
JPWO2013164997A1 (ja) 2012-05-02 2015-12-24 株式会社ニコン 瞳輝度分布の評価方法および改善方法、照明光学系およびその調整方法、露光装置、露光方法、並びにデバイス製造方法
DE102012011202A1 (de) * 2012-06-06 2013-09-12 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektor und Verfahren zum Erzeugen eines Bildes
JP6246907B2 (ja) * 2013-05-22 2017-12-13 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 光学素子及び当該光学素子に対する放射の影響を低減する手段を備えた光学コンポーネント
DE102013212613B4 (de) * 2013-06-28 2015-07-23 Carl Zeiss Sms Gmbh Beleuchtungsoptik für ein Metrologiesystem sowie Metrologiesystem mit einer derartigen Beleuchtungsoptik
JP6273109B2 (ja) * 2013-08-28 2018-01-31 株式会社ミツトヨ 光干渉測定装置
DE102014203188A1 (de) * 2014-02-21 2015-08-27 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zur Beleuchtung eines Objektfeldes einer Projektionsbelichtungsanlage
CN104111592B (zh) * 2014-08-06 2016-06-08 中国科学院光电技术研究所 一种基于微反射镜阵列实现可变自由照明光瞳的方法
CN105573061B (zh) * 2014-10-16 2018-03-06 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 Euv光源和曝光装置
DE102017217164B4 (de) 2017-09-27 2020-10-15 Continental Automotive Gmbh Projektionsvorrichtung zum Erzeugen eines pixelbasierten Beleuchtungsmusters
DE102018202421B3 (de) 2018-02-16 2019-07-11 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Vielstrahl-Teilchenstrahlsystem
DE102018216344A1 (de) * 2018-09-25 2020-03-26 Carl Zeiss Smt Gmbh Abstützung eines optischen elements
CN110347082B (zh) * 2019-07-12 2021-07-27 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 一种驱动电路、驱动方法及微反射镜阵列
CN110954142B (zh) * 2019-12-10 2021-12-28 京东方科技集团股份有限公司 一种光学微电机传感器、基板及电子设备
CN114660880A (zh) * 2022-04-11 2022-06-24 长沙沃默科技有限公司 一种反射式投影成像装置及其设计方法
CN116698367A (zh) * 2023-05-23 2023-09-05 上海镭望光学科技有限公司 微反射镜阵列反射光光斑位置标定方法、装置及标定设备
DE102023207368A1 (de) * 2023-08-01 2025-02-06 Carl Zeiss Smt Gmbh Ansteuervorrichtung, optisches system und lithographieanlage

Family Cites Families (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6312134B1 (en) * 1996-07-25 2001-11-06 Anvik Corporation Seamless, maskless lithography system using spatial light modulator
JP2863502B2 (ja) * 1996-10-23 1999-03-03 防衛庁技術研究本部長 マルチディザー方式補償光学装置
US7006595B2 (en) * 1998-05-05 2006-02-28 Carl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technologies Ag Illumination system particularly for microlithography
KR100716946B1 (ko) 2000-07-20 2007-05-10 삼성전자주식회사 마이크로미러 액추에이터를 이용한 광결합 구조체
KR100332888B1 (ko) 2000-08-25 2002-04-15 이형도 마이크로 미러를 이용한 광 픽업 액츄에이터
US6300665B1 (en) 2000-09-28 2001-10-09 Xerox Corporation Structure for an optical switch on a silicon on insulator substrate
JP2002189176A (ja) * 2000-12-20 2002-07-05 Mitsubishi Electric Corp ミラー駆動装置
KR100389865B1 (ko) * 2001-03-02 2003-07-04 삼성전자주식회사 마이크로미러 디바이스 및 이를 채용한 프로젝터
US6735004B1 (en) * 2001-03-15 2004-05-11 Nanogear, Inc. Rotatable counterbalanced actuator
JP3724432B2 (ja) * 2001-04-19 2005-12-07 株式会社ニコン 薄膜弾性構造体及びその製造方法並びにこれを用いたミラーデバイス及び光スイッチ
JP3908503B2 (ja) * 2001-10-30 2007-04-25 富士通株式会社 光スイッチ
US6643053B2 (en) * 2002-02-20 2003-11-04 The Regents Of The University Of California Piecewise linear spatial phase modulator using dual-mode micromirror arrays for temporal and diffractive fourier optics
US6717325B2 (en) * 2002-03-06 2004-04-06 Glimmerglass Networks, Inc. Method and apparatus for actuation of a two-axis MEMS device using three actuation elements
US6707534B2 (en) * 2002-05-10 2004-03-16 Anvik Corporation Maskless conformable lithography
EP1367446A1 (en) * 2002-05-31 2003-12-03 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus
KR100464320B1 (ko) * 2002-11-19 2004-12-31 삼성전자주식회사 마이크로미러 액츄에이터 및 그 제조방법
US6906848B2 (en) * 2003-02-24 2005-06-14 Exajoule, Llc Micromirror systems with concealed multi-piece hinge structures
JP4244156B2 (ja) * 2003-05-07 2009-03-25 富士フイルム株式会社 投影露光装置
JP4357317B2 (ja) * 2003-05-13 2009-11-04 富士通株式会社 ティルトミラーの制御装置及び制御方法
US7714983B2 (en) * 2003-09-12 2010-05-11 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system for a microlithography projection exposure installation
DE10343333A1 (de) * 2003-09-12 2005-04-14 Carl Zeiss Smt Ag Beleuchtungssystem für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage
US7646528B2 (en) * 2006-12-26 2010-01-12 Silicon Quest Kabushiki-Kaisha Deformable mirror device with oscillating states
US7304783B2 (en) * 2003-11-01 2007-12-04 Fusao Ishii Control of micromirrors with intermediate states
WO2005085125A1 (ja) * 2004-03-08 2005-09-15 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. マイクロアクチュエータ、およびマイクロアクチュエータを備えた装置
US7855825B2 (en) 2005-04-15 2010-12-21 Panasonic Corporation Micromachine structure system and method for manufacturing same
JP2007264305A (ja) * 2006-03-28 2007-10-11 Fujitsu Ltd 光スイッチシステム
DE102006020734A1 (de) * 2006-05-04 2007-11-15 Carl Zeiss Smt Ag Beleuchtungssystem für die EUV-Lithographie sowie erstes und zweites optisches Element zum Einsatz in einem derartigen Beleuchtungssystem
US9250536B2 (en) * 2007-03-30 2016-02-02 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and method
CN101796460B (zh) * 2007-08-30 2013-05-01 卡尔蔡司Smt有限责任公司 微光刻投射曝光设备中用于照明掩模的照明系统
CN103034075B (zh) * 2007-12-21 2015-07-08 卡尔蔡司Smt有限责任公司 微光刻投射曝光设备的照明系统
DE102008050446B4 (de) 2008-10-08 2011-07-28 Carl Zeiss SMT GmbH, 73447 Verfahren und Vorrichtungen zur Ansteuerung von Mikrospiegeln

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