JP2012502479A - 電磁干渉抑制ハイブリッドシート - Google Patents
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Abstract
【選択図】図1
Description
MnxZnyFezO4(x+y+z=3)
Mg1−xZnxFe2O4(0≦x≦0.9)
Ni1−xZnxFe2O4(0≦x≦0.9)
1−1フェライト粒子の調製
溶媒としての蒸留水300L中に、酸化鉄(Fe2O3)、酸化ニッケル(NiO)、及び酸化亜鉛(ZnO)をモル比1:0.25:0.65で加え、均一に混合した後、300℃で乾燥させた。乾燥させた混合物を約880℃で焼成して、焼成材料を得た。焼成した材料をボールミル機(NANOINTECH,Ball mill)内でステンレス鋼球(直径=約20mm)とともに約24rpmの回転速度で24時間機械的に粉砕し、微粉を得た(焼成材料のステンレス鋼球に対する重量比は0.2:1)。次いで、(溶媒としての)メチルエチルケトン中に(バインダー樹脂としての)ポリビニルアルコールを100重量部、溶解させることによって調製した溶液中に、微粉を500重量部加え、均一に混合して混合溶液を形成した。次に、混合溶液をポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムの表面上に、約18μmの厚さにコーティングし、乾燥させてコーティング層を形成した。その後、形成されたコーティング層をPETフィルムから分離し、分離したコーティング層を約1150℃で焼成して焼成材料を得た。焼成した材料をボールミル機(NANOINTECH,Ball mill)内でステンレス鋼球(直径=約20mm)とともに約24rpmの回転速度で8時間、機械的に粉砕し、フェライト粒子を得た(焼成材料のステンレス鋼球に対する重量比は0.2:1)。上述のようにして得られたフェライト粒子は、厚さが約5μmで長手方向の長さが約70μmの板状の形状を有する。
ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム上に、Alターゲットをスパッタリングすることにより第1の表面上に厚さが約7μmのアルミニウムの薄いフィルムを堆積させた。
溶媒としてのメチルエチルケトンに、(バインダー樹脂としての)ポリビニルアルコールを100重量部溶解させた。実施例1から調製されたフェライト粒子をこの溶液に加え、攪拌して混合溶液を得た。次に、形成された混合溶液をPETフィルムの表面上に80μmの厚さにコーティングし、乾燥させて電磁波吸収シートを得た。
ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム上に、Alターゲットをスパッタリングすることにより、厚さが約7μmのアルミニウムの薄いフィルムを堆積させ、電磁波遮蔽シートを得た。
本発明の電磁干渉抑制ハイブリッドシートの電磁波遮蔽能を測定するため、以下のような試験を行った。
ASTM D 4935に従い、実施例1から得られた電磁干渉抑制ハイブリッドシートの遮蔽効果(SE)を試験した。試験システムは10MHz〜1GHzの周波数帯域において用いた。ここで、対照群として、比較例1及び2から得られたシートにおける遮蔽効果を試験した。試験結果を表1及び図9に示す。
SE=10log(P1/P2)(デジベル、dB)
SE=20log(V1/V2)(デジベル、dB)
本発明の電磁干渉抑制ハイブリッドシートの電磁波吸収能を測定するために、実施例1から得られた電磁干渉抑制ハイブリッドシートの電力損失の程度を試験した。また、対照群として、比較例1のシートにおける電力損失の程度を試験した。ここで、試料は50mm(L)及び50mm(w)の寸法を有し、試験システムは30MHz〜2GHzの周波数帯域において用いた。試験結果を表1及び図10に示す。
ASTM D 257に従い、実施例1から得られた電磁干渉抑制ハイブリッドシートの体積抵抗率を試験した。ここで、対照群として、比較例1及び2のシートにおける体積抵抗率を試験した。試験結果を表1記載する。
実施例1から得られた電磁干渉抑制ハイブリッドシートにおける複素透磁率(μ’:実部、μ”:虚部)を試験した。試験結果を図11に示す。ここで、対照群として、比較例1から得られたシートの複素透磁率を試験した。試験結果を表1に示す。使用した試料は内径6mm、外形28mm、厚さ8mmのトロイダル形状を有し、試験システムは1MHz〜1GHzの周波数帯域で用いた。
実施例1から得られた電磁干渉抑制ハイブリッドシートを用いたUSB 2.0データケーブル内における電磁雑音抑制効果を測定するために、以下の試験を行った。
Claims (14)
- 導電性材料を含む電磁波遮蔽層と、
前記電磁波遮蔽層の片面上に積層された、フェライト粒子を含む電磁波吸収層と、を含む、電磁干渉抑制ハイブリッドシート。 - 前記フェライト粒子が、プレート型形状又は針状の形状を有し、厚さ(長手方向に対して垂直な断面の長さ)が2〜10μmの範囲内で、長手方向の長さが30〜100μmの範囲内にある、請求項1に記載の電磁干渉抑制ハイブリッドシート。
- 前記プレート型形状又は針状の形状のフェライト粒子が、30〜400の範囲内の透磁率を有する、請求項2に記載の電磁干渉抑制ハイブリッドシート。
- 前記フェライト粒子が、
酸化鉄をフェライトを形成するための金属酸化物と混合する混合工程と、
前記混合物を焼成して第1の焼成材料を得る第1の焼成工程と、
前記第1の焼成材料を粉砕してフェライト微粉にする第1の粉砕工程と、
バインダー樹脂を溶媒に溶解させることにより調製した溶液に、前記フェライト微粉を分散させて分散溶液を調製する工程と、
前記分散溶液を剥離フィルムの表面上にコーティングし、乾燥させてコーティング層を形成した後、前記コーティング層を前記剥離フィルムの表面から分離する工程と、
前記分離した前記コーティング層を焼成して第2の焼成材料を得る第2の焼成工程と、
前記第2の焼成材料を粉砕する第2の機械的粉砕工程と、によって調製される、請求項2に記載の電磁干渉抑制ハイブリッドシート。 - 前記フェライトを形成するための金属酸化物が、ニッケル酸化物、マンガン酸化物、亜鉛酸化物、及びこれらの混合物を含む群から選択される、請求項4に記載の電磁干渉抑制ハイブリッドシート。
- 前記フェライト粒子が、Ni−Zn系フェライト、Mn−Zn系フェライト、Mg−Zn系フェライト、及びNi−Mn−Zn系フェライトを含む群から選択される、請求項1に記載の電磁干渉抑制ハイブリッドシート。
- 前記導電性材料が、Al、Cu、Ni、Ag、Au、非晶質金属合金、Ni−Fe合金、Fe−Ni−Mo合金、Fe−Si−Al合金、Fe−Si合金、及びFe−Co合金を含む群から選択される、請求項1に記載の電磁干渉抑制ハイブリッドシート。
- 前記電磁波遮蔽層と前記電磁波吸収層との間に第1の絶縁層を含む、請求項1に記載の電磁干渉抑制ハイブリッドシート。
- 前記電磁波遮蔽層及び前記電磁波吸収層の少なくとも1つの表面上に積層された、第2の絶縁層を含む、請求項1又は8に記載の電磁干渉抑制ハイブリッドシート。
- 前記電磁波遮蔽層及び前記電磁波吸収層の少なくとも1つの表面上に積層された、接着層を含む、請求項1又は8に記載の電磁干渉抑制ハイブリッドシート。
- 前記電磁波遮蔽層の表面上に積層された前記接着層が、導電性接着層である、請求項10に記載の電磁干渉抑制ハイブリッドシート。
- 前記第2の絶縁層上に積層された接着層を含む、請求項9に記載の電磁干渉抑制ハイブリッドシート。
- 電磁干渉抑制ハイブリッドシートを製造する方法であって、前記方法が、
(i)導電性材料の剥離フィルム上への堆積又はめっきにより、電磁波遮蔽層を形成する工程と、
(ii)バインダー樹脂を溶媒中に溶解させることによって調製したポリマー溶液に、フェライト粒子を付加及び混合する工程と、
(iii)乾燥プロセスの実施しながら、工程(i)の電磁波遮蔽層上へ、工程(ii)のバインダー樹脂及びフェライト粒子の混合物を、コーティングする工程と、を含む、方法。 - 前記シートが電気ケーブルの内部又は外部を覆う、請求項1に記載の電磁干渉抑制ハイブリッドシートを含む、ケーブル。
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