JP2012187757A5 - - Google Patents

Description

本発明は、
シリコン基板に液体供給口を形成することを含む液体吐出ヘッド用基板の製造方法であって、
（ａ）前記シリコン基板の表面であって前記液体供給口を形成する部分にエッチングストップ層を形成する工程と、
（ｂ）前記シリコン基板の裏面に形成されたエッチングマスクを用いて、前記シリコン基板の裏面側からエッチングとデポジションによるボッシュプロセスを用いたドライエッチングを前記エッチングストップ層に到達するまで実施することにより、前記液体供給口を形成する工程と、
（ｃ）前記エッチングストップ層と前記デポジションにより前記液体供給口内に形成された堆積膜とを一括して除去する工程と、
を含む液体吐出ヘッド用基板の製造方法である。

Claims (7)

1. シリコン基板に液体供給口を形成することを含む液体吐出ヘッド用基板の製造方法であって、
   （ａ）前記シリコン基板の表面であって前記液体供給口を形成する部分にエッチングストップ層を形成する工程と、
   （ｂ）前記シリコン基板の裏面に形成されたエッチングマスクを用いて、前記シリコン基板の裏面側からエッチングとデポジションによるボッシュプロセスを用いたドライエッチングを前記エッチングストップ層に到達するまで実施することにより、前記液体供給口を形成する工程と、
   （ｃ）前記エッチングストップ層と前記デポジションにより前記液体供給口内に形成された堆積膜とを一括して除去する工程と、
   を含む液体吐出ヘッド用基板の製造方法。
2. 前記（ｃ）工程において、前記シリコン基板を除去溶液に浸漬させることにより前記エッチングストップ層と前記堆積膜とを一括して除去する請求項１に記載の液体吐出ヘッド用基板の製造方法。
3. 前記除去溶液は、前記エッチングストップ層を溶解し、前記シリコン基板をエッチングする溶液である請求項２に記載の液体吐出ヘッド用基板の製造方法。
4. 前記エッチングストップ層としてアルミニウムを形成し、前記エッチングストップ層と前記堆積膜とを同時に除去する液としてＴＭＡＨを用いる請求項１乃至３のいずれかに記載の液体吐出ヘッド用基板の製造方法。
5. 前記（ｂ）工程を実施する前に、
   前記シリコン基板の裏面に共通液体供給口用マスクを形成する工程と、
   該共通液体供給口用マスクを用いて結晶異方性エッチングを実施することにより共通液体供給口を形成する工程と、
   該共通液体供給口の底部に開口を有する前記エッチングマスクを前記シリコン基板の裏面に形成する工程と、
   を有する請求項１乃至４のいずれかに記載の液体吐出ヘッド用基板の製造方法。
6. 前記（ｃ）工程で形成される前記液体供給口が前記エッチングストップ層の内側に到達するように、前記エッチングマスクを形成する請求項１乃至５のいずれかに記載の液体吐出ヘッド用基板の製造方法。
7. 前記（ｂ）工程の後であって前記（ｃ）工程の前に、前記液体供給口内の前記堆積膜をエッチングすることにより減少させる工程を有する請求項１乃至６のいずれかに記載の液体吐出ヘッド用基板の製造方法。